JPH09267233A - ウェハ保持部材 - Google Patents
ウェハ保持部材Info
- Publication number
- JPH09267233A JPH09267233A JP7790896A JP7790896A JPH09267233A JP H09267233 A JPH09267233 A JP H09267233A JP 7790896 A JP7790896 A JP 7790896A JP 7790896 A JP7790896 A JP 7790896A JP H09267233 A JPH09267233 A JP H09267233A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating resistor
- plasma generating
- generating electrode
- wafer
- holding member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Jigs For Machine Tools (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
れ電流が発熱抵抗体14に伝わることを防止する。 【解決手段】ウェハ20の載置面11aを備えたセラミ
ック製板状体11の内部に発熱抵抗体14とプラズマ発
生用電極12を埋設し、両者の間に漏れ電流防止層を備
えてウェハ保持部材を構成する。
Description
造装置において、半導体ウェハや液晶用ガラス等のウェ
ハを保持・搬送するために使用する静電チャックやサセ
プター等のウェハ保持部材に関する。
を施すCVD装置やそのウェハに微細加工処理を施すド
ライエッチング装置において、半導体ウェハの保持部材
としてサセプターが用いられている。
製の板状体11の表面にウェハ20の載置面11aを形
成してサセプターを構成し、この板状体11の内部には
プラズマ発生用電極12とその通電端子13、発熱抵抗
体14とその通電端子15、15を埋設した構造となっ
ている。
ておいて、プラズマ発生用電極12とウェハ20の上部
に備えた上部電極(不図示)との間に高周波電圧を印加
すれば、プラズマを発生させることができる。また、発
熱抵抗体14に電圧を印加してウェハ20を所定温度に
加熱することもできる。
内部に静電電極を埋設しておいて、ウェハ20を静電吸
着するようにした静電チャックとすることもできる。
は、セラミックグリーンシートにプラズマ発生用電極1
2や発熱抵抗体14を成すW,Mo等の金属ペーストを
塗布し、他のセラミックグリーンシートを積層すること
によって得ることができる。なお、上記セラミックスと
しては、さまざまなものを用いることができるが、特に
耐プラズマ性に優れた窒化アルミニウムを主成分とする
セラミックスが用いられている(特開平6−15133
2号公報等参照)。
セラミックスは常温では極めて絶縁性の高いものである
が、高温では抵抗値が低下する傾向があり、しかも焼成
時にW,Mo等の金属成分がセラミックス中に拡散する
ことによって、さらに抵抗値が低下しやすいものであっ
た。そのため、セラミックスの抵抗値が低下することに
よって、プラズマ発生用電極12や発熱抵抗体14に印
加した電圧から漏れ電流が生じるという問題があった。
た高周波電圧の漏れ電流が発熱抵抗体14に伝わると、
発熱抵抗体14への通電が制御できなくなったり、遮断
されてしまうなどの問題があった。また、発熱抵抗体1
4からの漏れ電流が板状体11の下面11bに伝わる
と、この下面11bが接する金属板等に漏れ電流が流れ
てしまい、発熱抵抗体14の温度制御が困難となってし
まうという問題があった。
ミックスは、300℃の体積固有抵抗が1×1010Ω・
cm、400℃の体積固有抵抗が8.7×108 Ω・c
mと他のセラミックスに比べて体積固有抵抗が低いた
め、上記問題が顕著であった。
20Aの大きな電流を流すため、通電端子13の抵抗を
小さくするために、直径10mm以上の大きな通電端子
13を用いる必要があった。そのため、金属製の通電端
子13とセラミックス製の板状体11との熱膨張差によ
る応力が大きくなり、通電端子13のロウ付け後や使用
時の温度変化に伴ってセラミックス製板状体11側にク
ラックが入りやすいという問題もあった。
の載置面を備えたセラミック製板状体の内部に発熱抵抗
体とプラズマ発生用電極を埋設し、両者の間に漏れ電流
防止層を備えてウェハ保持部材を構成したことを特徴と
する。
セラミック製板状体の内部に発熱抵抗体を埋設し、該発
熱抵抗体と板状体の表面との間に漏れ電流防止層を備え
てウェハ保持部材を構成したことを特徴とする。
ズマ発生用電極との間や、発熱抵抗体と板状体の表面と
の間に漏れ電流防止層を備えて、上記漏れ電流を防止す
るようにしたものである。なお、ここで漏れ電流防止層
を備えるとは、漏れ電流が流れないような高抵抗層を備
えることを意味し、具体的にはそれぞれの間の距離をあ
る一定以上に大きくしたり、あるいは別材質の絶縁層を
備えることを言う。
セラミック製板状体の内部にプラズマ発生用電極を埋設
し、該プラズマ発生用電極への通電端子に応力緩和部を
備えてウェハ保持部材を構成したことを特徴とする。
たセラミック製板状体の内部にプラズマ発生用電極を埋
設し、該プラズマ発生用電極への通電端子と板状体に形
成した座ぐり部との間をロウ付けして接合してウェハ保
持部材を構成したことを特徴とする。
たり、通電端子を座ぐり部でロウ付けしてメニスカスを
形成することによって、セラミックス製板状体と金属製
通電端子との熱膨張による応力を緩和し、クラックの発
生を防止するようにしたものである。
施形態をサセプターを例にとって図によって説明する。
なる円板状の板状体11の表面をウェハの載置面11a
とし、内部にプラズマ発生用電極12とその通電端子1
3、発熱抵抗体14とその通電端子15、15を埋設し
てある。
ェハ20を載置しておいて、プラズマ発生用電極12と
ウェハ20の上側に配置した上部電極(不図示)との間
に高周波電圧を印加すればプラズマを発生させることが
できる。また、発熱抵抗体14に電圧を印加し発熱させ
ることによって、ウェハ20を所定温度に加熱すること
ができる。
プラズマ発生用電極12と発熱抵抗体14の間に漏れ電
流防止層を備えたことを特徴とする。ここで、漏れ電流
防止層とは、プラズマ発生用電極12と発熱抵抗体14
の間の漏れ電流を防止するような高抵抗層のことであ
り、具体的には両者間の距離d1 をある一定値以上とす
るか、または両者の間に板状体11を成すセラミックス
よりも抵抗値の大きい絶縁層16を介在させることをい
う。
体14間の距離d1 (cm)を大きくする場合は、プラ
ズマ発生用電極12に印加する電力Q(W)と板状体1
1を成すセラミックスの使用温度での体積固有抵抗ρ
(Ω・cm)に対して、 d1 ≧3×106 ×Q/ρ を満足するように設定すれば良い。このように距離d1
を大きくしておけば、絶縁層16を備えなくても良い。
せる場合は、板状体11を成すセラミックスよりも抵抗
値の大きいセラミックスを介在させておけば良い。例え
ば板状体11自体は窒化アルミニウム質セラミックスで
形成し、プラズマ発生用電極12と発熱抵抗体14の間
に、窒化アルミニウムよりも抵抗値の大きい窒化珪素質
セラミックスからなる絶縁層16を介在させておけば良
い。
熱抵抗体14の間に漏れ電流防止層を備えることによっ
て、プラズマ発生用電極12に印加した高周波電圧の漏
れ電流が発熱抵抗体14に伝わることを防止することが
できる。
体11の下面11bとの間にも漏れ電流防止層を備えた
ことを特徴とする。この漏れ電流防止層とは、発熱抵抗
体14と下面11bとの間の漏れ電流を防止するような
高抵抗層のことであり、具体的には両者間の距離d2 を
ある一定値以上とするか、または両者の間に板状体11
を成すセラミックスよりも抵抗値の大きい絶縁層を介在
させることをいう。
離d2 を大きくする場合は、この距離d2 を0.1mm
以上、好ましくは0.5mm以上、さらに好ましくは1
mm以上とすれば良い。
せる場合は、板状体11を成すセラミックスよりも抵抗
値の大きいセラミックスを備えておけば良い。この場合
の実施形態を図2に示すように、例えば板状体11を窒
化アルミニウム質セラミックスで形成しておいて、その
下面11b側にアルミナセラミックスや窒化珪素質セラ
ミックス等の体積固有抵抗の大きい絶縁層16を備えれ
ば良い。この絶縁層16は、グリーンシートの段階で積
層し同時焼成したり、あるいは別体で作製しておいて接
合すれば良い。
質セラミックスは焼成時に発熱抵抗体14の金属成分が
拡散して抵抗値が低下することから、このような金属拡
散の生じない窒化アルミニウム質セラミックスを別体で
作製しておいて絶縁層16として接合することもでき
る。
は、室温で50W/m・K以上、500℃で30W/m
・K以上の熱伝導率を有する高熱伝導率の窒化珪素質セ
ラミックスが好適である。
の間に漏れ電流防止層を備えることによって、発熱抵抗
体14に印加した電圧の漏れ電流が下面11bを通じて
保持部材を支持する金属板に伝わることを防止すること
ができる。
ズマ発生用電極を備えず、発熱抵抗体14を下面11b
側に備えたため、下面11b側に漏れ電流防止層を備え
たが、要するに発熱抵抗体14とこれに最も近い板状体
11の表面との間に漏れ電流防止層を備えれば良い。
としては、Al2 O3 、AlN、ZrO2 、SiC、S
i3 N4 等の一種以上を主成分とするセラミックスを用
いる。中でも特に耐プラズマ性の点から、99重量%以
上のAl2 O3 を主成分とし、SiO2 、MgO、Ca
O等の焼結助剤を含有するアルミナセラミックスや、A
lNを主成分とし周期律表第2a族元素酸化物や第3a
族元素酸化物を0.5〜20重量%の範囲で含有する窒
化アルミニウム質セラミックス、あるいは99重量%以
上のAlNを主成分とする高純度窒化アルミニウム質セ
ラミックスのいずれかが好適である。
熱抵抗体14は、W,Mo等の高融点金属からなるもの
であり、例えば上記セラミックスのグリーンシート上に
これらの高融点金属ペーストを塗布して、他のセラミッ
クスグリーンシートを積層し一体焼成することによっ
て、本発明のウェハ保持部材を製造することができる。
なる柱状体であり、板状体11の下面11b側に形成し
た挿入孔に挿入してプラズマ発生用電極12や発熱抵抗
体14に導通させ、ロウ材等で接合したものである。
の通電端子13は、例えば13.56MHzの高周波で
約20Aの大電流を流すが、この電流は主に通電端子1
3の表面を流れることになる。そのため、通電端子13
での抵抗を小さくするためにできるだけ表面積を大きく
し、しかもセラミックス製の板状体11との熱膨張差に
よる悪影響を防止できるように応力緩和部を形成してあ
る。
端子13に貫通孔13aを形成したり、図3(b)に示
すように通電端子13の一方端側にスリット13bを形
成してある。そのため、この保持部材を使用する際に温
度変化が生じて、セラミックス製板状体11との熱膨張
差に基づく応力が生じても、金属製通電端子13の貫通
孔13aやスリット13bが応力緩和部として作用する
ため、セラミックス製板状体11にクラック等が生じる
ことを防止できる。
3bを備えることによって、高周波電流の流れる表面積
を増大できるため、通電端子13自体を小型化しても抵
抗値を小さくできる。例えば、中実の円柱状体の通電端
子13の場合、13.56MHzで20Aの電流を流す
ためには直径10mm以上とする必要があるが、図3
(a)に示す通電端子13の場合は、外径6mm、内径
4mm程度で良く、小型化することができる。
ついても、同様に応力緩和部を形成しておけば好適であ
る。また、これらの通電端子13、15には、給電端子
を接続できるようにネジ孔を形成することもできる。
する。図4(a)に示すように、板状体11の下面11
b側において、通電端子13の挿入孔11dの周囲に座
ぐり11cを形成してある。そして、挿入孔11dに通
電端子13を挿入し、通電端子13と挿入孔11dの間
及び座ぐり11cにロウ材17を介在させてロウ付けに
より接合してある。なお、図4(b)に示すように、座
ぐり11cをテーパ状として、この座ぐり11cにロウ
材17を介在させることもできる。
辺部にむかって厚みが小さくなるような滑らかな円弧状
のメニスカスとなっている。そのため、セラミックス製
板状体11と金属製通電端子13との熱膨張差により生
じた応力を徐々に緩和することができるのである。な
お、このような応力緩和作用を成すためには、上記メニ
スカスを成すロウ材17の周辺部の角度αを60°以下
と小さくしておくことが好ましい。
ついても、上記と同様の接合構造とすることができる。
プター型のウェハ保持部材について説明したが、上記板
状体11に静電電極を埋設して静電チャック型のウェハ
保持部材とすることもできる。
の製造工程におけるプラズマCVD、減圧CVD、PV
D、プラズマエッチング等の高周波プラズマを用いる工
程において半導体ウェハを保持する際に好適に使用する
ことができるが、この他に液晶の製造工程における液晶
用ガラスの保持など、さまざまな用途に使用することが
できる。
装置を部材した。
インダーを添加してスラリーを作製し、ドクターブレー
ド法等のテープ成形法によりグリーンシートを複数枚成
形した。このうち一枚のグリーンシートにスクリーン印
刷法によって、窒化アルミニウム粉末を添加したタング
ステンペーストを印刷してプラズマ発生用電極12や発
熱抵抗体14を形成し、これを覆うように他のグリーン
シートを積層して50℃、30kg/cm2 程度の圧力
で熱圧着することにより積層体を形成した。これを切削
加工して円板状とした後、真空脱脂し、続いて2000
℃程度の温度で還元焼成し、研削加工を施すことによ
り、内部にプラズマ発生用電極12と発熱抵抗体14を
備えた板状体11からなるウェハ保持部材を得た。
抗体14間の距離d1 の異なる試料を作製し、それぞれ
異なる温度で、プラズマ発生用電極12には2kWの電
力を印加したときに、プラズマ発生用電極12からの漏
れ電流によって発熱抵抗体14側の制御が不可能になる
かどうかを調べた。
果より、温度が高くなるほど板状体11を成す窒化アル
ミニウム質セラミックスの体積固有抵抗が低下するた
め、距離d1 を大きくしなければ発熱抵抗体14の制御
が不可能となることが判った。そして、発熱抵抗体14
の制御を可能とするためには、プラズマ発生用電極12
に印加する電力Q(W)と板状体11を成すセラミック
スの使用温度での体積固有抵抗ρ(Ω・cm)に対し
て、 d1 ≧3×106 ×Q/ρ とすれば良いことがわかった。
載置面を備えたセラミック製板状体の内部に発熱抵抗体
とプラズマ発生用電極を埋設し、両者の間に漏れ電流防
止層を備えてウェハ保持部材を構成したことによって、
プラズマ発生用電極への印加電圧による漏れ電流が発熱
抵抗体に伝わることを防止し、発熱抵抗体の制御に悪影
響を及ぼすことを防止できる。
セラミック製板状体の内部に発熱抵抗体を埋設し、該発
熱抵抗体と板状体の表面との間に漏れ電流防止層を備え
てウェハ保持部材を構成したことによって、発熱抵抗体
への印加電圧が板状体の表面を通じて外部に漏れること
を防止し、発熱抵抗体の制御に悪影響を及ぼすことを防
止できる。
を備えたセラミック製板状体の内部にプラズマ発生用電
極を埋設し、該プラズマ発生用電極への通電端子に応力
緩和部を備えてウェハ保持部材を構成したことによっ
て、ロウ付け時や使用時において温度変化が生じても、
セラミックス製板状体と金属製通電端子との熱膨張差に
よる応力を緩和し、板状体にクラックが生じることを防
止できる。
セラミック製板状体の内部にプラズマ発生用電極を埋設
し、該プラズマ発生用電極への通電端子と板状体に形成
した座ぐり部との間をロウ付けして接合してウェハ保持
部材を構成したことによって、セラミックス製板状体と
金属製通電端子との熱膨張による応力を緩和し、板状体
にクラックが生じることを防止できる。
断面図である。
る通電端子を示す斜視図である。
る通電端子の接合構造を示す部分断面図である。
Claims (4)
- 【請求項1】ウェハの載置面を備えたセラミック製板状
体の内部に発熱抵抗体とプラズマ発生用電極を埋設し、
両者の間に漏れ電流防止層を備えたことを特徴とするウ
ェハ保持部材。 - 【請求項2】ウェハの載置面を備えたセラミック製板状
体の内部に発熱抵抗体を埋設し、該発熱抵抗体と板状体
の表面との間に漏れ電流防止層を備えたことを特徴とす
るウェハ保持部材。 - 【請求項3】ウェハの載置面を備えたセラミック製板状
体の内部にプラズマ発生用電極を埋設し、該プラズマ発
生用電極への通電端子に応力緩和部を備えたことを特徴
とするウェハ保持部材。 - 【請求項4】ウェハの載置面を備えたセラミック製板状
体の内部にプラズマ発生用電極を埋設し、該プラズマ発
生用電極への通電端子と保持部材に形成した座ぐり部と
の間をロウ付けして接合したことを特徴とするウェハ保
持部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7790896A JP3602908B2 (ja) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | ウェハ保持部材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7790896A JP3602908B2 (ja) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | ウェハ保持部材 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004025546A Division JP4069875B2 (ja) | 2004-02-02 | 2004-02-02 | ウェハ保持部材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09267233A true JPH09267233A (ja) | 1997-10-14 |
JP3602908B2 JP3602908B2 (ja) | 2004-12-15 |
Family
ID=13647180
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7790896A Expired - Fee Related JP3602908B2 (ja) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | ウェハ保持部材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3602908B2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999045577A1 (en) * | 1998-03-06 | 1999-09-10 | Applied Materials, Inc. | Prevention of ground fault interrupts in a semiconductor processing system |
JP2000044345A (ja) * | 1998-07-24 | 2000-02-15 | Ngk Insulators Ltd | 窒化アルミニウム質焼結体、耐蝕性部材、金属埋設品および半導体保持装置 |
JP2006045059A (ja) * | 2005-09-05 | 2006-02-16 | Ngk Insulators Ltd | 窒化アルミニウム質焼結体、耐蝕性部材、金属埋設品および半導体保持装置 |
JP2008141104A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Mitsubishi Materials Corp | 耐割れ性に優れたプラズマエッチング用シリコン電極板 |
JP2010100522A (ja) * | 2010-01-12 | 2010-05-06 | Ngk Insulators Ltd | 金属埋設品 |
JP2011510499A (ja) * | 2008-01-18 | 2011-03-31 | コミコ株式会社 | 基板支持装置及びそれを有する基板処理装置 |
JP2016188424A (ja) * | 2015-01-12 | 2016-11-04 | ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation | 埋め込み電極を伴うガス分配セラミック板 |
JP2018182280A (ja) * | 2017-04-19 | 2018-11-15 | 日本特殊陶業株式会社 | セラミックス部材 |
CN114051765A (zh) * | 2019-12-04 | 2022-02-15 | 日本碍子株式会社 | 陶瓷加热器 |
CN114051765B (zh) * | 2019-12-04 | 2024-05-28 | 日本碍子株式会社 | 陶瓷加热器 |
-
1996
- 1996-03-29 JP JP7790896A patent/JP3602908B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999045577A1 (en) * | 1998-03-06 | 1999-09-10 | Applied Materials, Inc. | Prevention of ground fault interrupts in a semiconductor processing system |
US6110322A (en) * | 1998-03-06 | 2000-08-29 | Applied Materials, Inc. | Prevention of ground fault interrupts in a semiconductor processing system |
JP2000044345A (ja) * | 1998-07-24 | 2000-02-15 | Ngk Insulators Ltd | 窒化アルミニウム質焼結体、耐蝕性部材、金属埋設品および半導体保持装置 |
JP2006045059A (ja) * | 2005-09-05 | 2006-02-16 | Ngk Insulators Ltd | 窒化アルミニウム質焼結体、耐蝕性部材、金属埋設品および半導体保持装置 |
JP2008141104A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Mitsubishi Materials Corp | 耐割れ性に優れたプラズマエッチング用シリコン電極板 |
JP2011510499A (ja) * | 2008-01-18 | 2011-03-31 | コミコ株式会社 | 基板支持装置及びそれを有する基板処理装置 |
JP2010100522A (ja) * | 2010-01-12 | 2010-05-06 | Ngk Insulators Ltd | 金属埋設品 |
JP2016188424A (ja) * | 2015-01-12 | 2016-11-04 | ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation | 埋め込み電極を伴うガス分配セラミック板 |
JP2018182280A (ja) * | 2017-04-19 | 2018-11-15 | 日本特殊陶業株式会社 | セラミックス部材 |
CN114051765A (zh) * | 2019-12-04 | 2022-02-15 | 日本碍子株式会社 | 陶瓷加热器 |
CN114051765B (zh) * | 2019-12-04 | 2024-05-28 | 日本碍子株式会社 | 陶瓷加热器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3602908B2 (ja) | 2004-12-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4040284B2 (ja) | プラズマ発生用電極内蔵型サセプタ及びその製造方法 | |
US6108190A (en) | Wafer holding device | |
KR102508959B1 (ko) | 정전 척 장치 | |
JP2009087932A (ja) | 加熱装置 | |
KR20020079552A (ko) | 기판처리장치 | |
KR20010076379A (ko) | 반도체 제조 장치용 웨이퍼 보유체 및 그것을 이용한반도체 제조 장치 | |
JP3447495B2 (ja) | ウエハ保持装置の給電構造 | |
JP2001203257A (ja) | 半導体製造装置用ウェハ保持体 | |
JP2003178937A (ja) | 半導体製造装置およびそれに使用される給電用電極部材 | |
JPH09267233A (ja) | ウェハ保持部材 | |
JPH08274147A (ja) | ウェハ保持装置 | |
JP2006186351A (ja) | 半導体製造装置 | |
JPH11176919A (ja) | 静電チャック | |
JPH09270454A (ja) | ウエハ保持装置 | |
JP2003124299A (ja) | 電極内蔵型サセプタ及びその製造方法 | |
JP2004349666A (ja) | 静電チャック | |
JP2003086519A (ja) | 被処理物保持体およびその製造方法ならびに処理装置 | |
JP3728078B2 (ja) | プラズマ発生用部材 | |
JP4069875B2 (ja) | ウェハ保持部材 | |
JP2004071647A (ja) | 複合ヒータ | |
JP2004146566A (ja) | 半導体製造装置用セラミックスヒーター | |
JP3370489B2 (ja) | 静電チャック | |
JP2001077185A (ja) | 静電チャック及びその製造方法 | |
JP2006245610A (ja) | 半導体製造装置用保持体 | |
JP3821075B2 (ja) | セラミックスヒータ及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040601 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040802 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040921 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040927 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071001 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081001 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091001 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101001 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101001 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111001 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121001 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131001 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |