JPH09227502A - スルホニル化合物及びそれを用いた感熱記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高感度で且つ経時の地肌かぶりが少なく、記
録像の保存安定性とりわけ耐熱性、耐湿性及び耐可塑剤
性に優れた感熱記録材料を提供する。 【解決手段】 顕色剤組成物として、一般式（１）及び
一般式（２）で示される化合物を共存せしめる。 【化８】 ［一般式（１）及び（２）において、Ｘは水素原子又は
低級アルキル基を表し、Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅
及びＲ₆ は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素
原子、低級アルキル基を表し、Ｙはアルキル基、ベンゼ
ンスルホニル基、ベンゾイル基等を表す。］

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明は、特定のスルホニル
化合物及び該化合物の用途に関し、更に詳しくは、該化
合物を特定の感熱記録材料の顕色剤と共存せしめた場
合、顕色剤水性スラリーの水和に対する安定性が経時的
に良好で、且つ感熱記録材料は、高感度でしかも地肌か
ぶりが少なく、記録像の保存安定性、とりわけ耐湿性、
耐熱性及び耐可塑剤性に優れた記録特性を与えるスルホ
ニル化合物に関するものである。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、電子供与性塩基性染料前駆体と電子受容性顕色剤と
の熱発色反応を利用した感熱記録材料はよく知られてい
る。中でも、顕色剤として、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシ−フェニル）プロパン及び４−ヒドロキシ−４′−
イソプロポキシ−ジフェニルスルホンはよく知られてい
る（例えば、特公平３−５４６５５号等）。

【０００３】しかしながら、これらを使用した感熱記録
材料は、発色像の保存安定性、特に耐湿性、耐熱性及び
耐可塑剤性について更に改良が求められている。かかる
問題解決のため、本発明者等は、先に顕色剤として一般
式（２）

【０００４】

【化４】 ［一般式（２）において、Ｘは水素原子又は低級アルキ
ル基を表し、Ｒ₁ ，Ｒ₂，Ｒ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ は
同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、低級アルキル基を表す。］で示される化合物
を見い出し、該化合物に関する特許を出願した。その後
の研究により該化合物を顕色剤として使用した感熱記録
材料は、上記の目的に優れるものの、該顕色剤水性スラ
リーを４０℃で保存すると、水和による分散劣化を起こ
し、これを用いた感熱記録材料は６０℃で改良されるべ
き地肌かぶりを生じることを知った。

【０００５】本発明の目的は、感熱記録材料において、
高感度でしかも地肌かぶりが少なく、記録像の保存性と
りわけ耐湿性、耐熱性及び耐可塑剤性に優れた記録特性
を与えることのできる、すなわち一般式（２）で示され
る顕色剤水性スラリーの水和を防止して、分散の経時安
定性を改良することのできるスルホニル化合物及び方法
を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、高感度で
しかも記録像の保存性に優れた感熱記録材料が得られる
一般式（２）

【０００７】

【化５】 ［一般式（２）において、Ｘは水素原子又は低級アルキ
ル基を表し、Ｒ₁ ，Ｒ₂，Ｒ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ は
同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、低級アルキル基を表す。］で示される顕色剤
スラリーの水和を防止するため検討を重ねた結果、一般
式（１）

【０００８】

【化６】 ［一般式（１）において、Ｘ，Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，
Ｒ₄ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ は一般式（２）におけると同じ意義
を有し、Ｙはアルキル基、アラルキル基、アリル基、シ
クロヘキシル基、アルキルアリール基、アルキルスルホ
ニル基、ベンゼンスルホニル基、アルキルベンゼンスル
ホニル基、アルキロイル基、ベンゾイル基、アルキルベ
ンゾイル基、アクリロイル基、メタアクリロイル基、又
はグリシジル基を表す。］で示されるスルホニル化合物
を見い出し、本スルホニル化合物を一般式（２）で示さ
れる顕色剤と共存せしめることにより、顕色剤水性スラ
リーの水和が防止されることを見い出し、本発明に到達
した。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明に係わる一般式（１）で示
される化合物の具体的な例として、以下のような化合物
を挙げることができる。 （１）１−メトキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニ
ル）ベンゼン，（２）１−エトキシ−２，４−ビス（フ
ェニルスルホニル）ベンゼン，（３）１−ｎ−プロポキ
シ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼン，
（４）１−ｉｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（フェニ
ルスルホニル）ベンゼン，（５）１−ｎ−ブトキシ−
２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼン，（６）
１−ｓｅｃ−ブトキシ−２，４−ビス（フェニルスルホ
ニル）ベンゼン，（７）｛２，４−ビス（フェニルスル
ホニル）フェニル｝ベンジルエーテル，（８）｛２，４
−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝アリルエーテ
ル，（９）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェ
ニル｝フェニルエーテル，（１０）｛２，４−ビス（フ
ェニルスルホニル）フェニル｝メタンスルホネート，
（１１）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニ
ル｝ベンゼンスルホネート，（１２）｛２，４−ビス
（フェニルスルホニル）フェニル｝４−メチルベンゼン
スルホネート，（１３）｛２，４−ビス（フェニルスル
ホニル）フェニル｝２，４−ジメチルベンゼンスルホネ
ート，（１４）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）
フェニル｝２，５−ジメチルベンゼンスルホネート，
（１５）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニ
ル｝３，４−ジメチルベンゼンスルホネート，（１６）
｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝アセ
テート，（１７）１−ステアロイルオキシ−２，４−ビ
ス（フェニルスルホニル）ベンゼン，（１８）｛２，４
−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝フェニルカル
ボキシレート，（１９）｛２，４−ビス（フェニルスル
ホニル）フェニル｝４−メチルフェニルカルボキシレー
ト，（２０）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フ
ェニル｝アクリレート，（２１）｛２，４−ビス（フェ
ニルスルホニル）フェニル｝メタクリレート，（２２）
１−｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノキ
シ｝−２，３−エポキシプロパン，（２３）｛２，４−
ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ｎ−ヘキシルエ
ーテル，（２４）｛２，４−ビス（フェニルスルホニ
ル）フェニル｝ステアリルエーテル，（２５）｛２，４
−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝シクロヘキシ
ルエーテル，（２６）１−ｉｓｏ−プロポキシ−２，４
−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）ベンゼン，
（２７）１−メトキシ−２，４−ビス（４−メチルフェ
ニルスルホニル）ベンゼン，（２８）｛２，４−ビス
（４−メチルフェニルスルホニル）フェニル｝アリルエ
ーテル，（２９）｛２，４−ビス（４−メチルフェニル
スルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネート，（３
０）｛２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）
フェニル｝４−メチルベンゼンスルホネート，（３１）
｛２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）フェ
ニル｝アセテート，（３２）｛２，４−ビス（４−メチ
ルフェニルスルホニル）フェニル｝フェニルカルボキシ
レート，（３３）｛２，４−ビス（４−メチルフェニル
スルホニル）フェニル｝アクリレート，（３４）１−
｛２，４−ビス（４−メチルフェニルスルホニル）フェ
ノキシ｝−２，３−エポキシプロパン，（３５）１−ｉ
ｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（２，５−ジメチルフ
ェニルスルホニル）ベンゼン，（３６）１−メトキシ−
２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）
ベンゼン，（３７）｛２，４−ビス（２，５−ジメチル
フェニルスルホニル）フェニル｝アリルエーテル，（３
８）｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホ
ニル）フェニル｝ベンゼンスルホネート，（３９）
｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニ
ル）フェニル｝２，５−ジメチルベンゼンスルホネー
ト，（４０）｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニ
ルスルホニル）フェニル｝アセテート，（４１）｛２，
４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェ
ニル｝フェニルカルボキシレート，（４２）｛２，４−
ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェニ
ル｝アクリレート，（４３）１−｛２，４−ビス（２，
５−ジメチルフェニルスルホニル）フェノキシ｝−２，
３−エポキシプロパン，（４４）１−ｉｓｏ−プロポキ
シ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチル
ベンゼン，（４５）１−エトキシ−２，４−ビス（フェ
ニルスルホニル）−５−メチルベンゼン，（４６）
｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフ
ェニル｝アリルエーテル，（４７）｛２，４−ビス（フ
ェニルスルホニル）−５−メチルフェニル｝ベンゼンス
ルホネート，（４８）｛２，４−ビス（フェニルスルホ
ニル）−５−メチルフェニル｝アセテート，（４９）
｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフ
ェニル｝フェニルカルボキシレート，（５０）｛２，４
−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェニル｝
アクリレート，（５１）１−｛２，４−ビス（フェニル
スルホニル）−５−メチルフェノキシ｝−２，３−エポ
キシプロパン，（５２）１−ｉｓｏ−プロポキシ−２，
４−ビス（フェニルスルホニル）−５−エチルベンゼ
ン，（５３）１−エトキシ−２，４−ビス（フェニルス
ルホニル）−５−エチルベンゼン，（５４）｛２，４−
ビス（フェニルスルホニル）−５−エチルフェニル｝ア
リルエーテル，（５５）｛２，４−ビス（フェニルスル
ホニル）−５−エチルフェニル｝ベンゼンスルホネー
ト，（５６）｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−
５−エチルフェニル｝アセテート，（５７）｛２，４−
ビス（フェニルスルホニル）−５−エチルフェニル｝フ
ェニルカルボキシレート，（５８）｛２，４−ビス（フ
ェニルスルホニル）−５−エチルフェニル｝アクリレー
ト，（５９）１−｛２，４−ビス（フェニルスルホニ
ル）−５−エチルフェノキシ｝−２，３−エポキシプロ
パン，（６０）｛１−ｉｓｏ−プロポキシ−２−（４−
メチルフェニルスルホニル）−４−フェニルスルホニ
ル｝ベンゼン，（６１）｛２−（４−メチルフェニルス
ルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェニル｝ア
リルエーテル，（６２）｛２−（４−メチルフェニルス
ルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェニル｝ベ
ンゼンスルホネート，（６３）｛２−（４−メチルフェ
ニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェニ
ル｝フェニルカルボキシレート，（６４）｛１−メトキ
シ−２−（４−メチルフェニルスルホニル）−４−フェ
ニルスルホニル｝ベンゼン，（６５）｛１−ｉｓｏ−プ
ロポキシ−２−（２，５−ジメチルフェニルスルホニ
ル）−４−フェニルスルホニル｝ベンゼン，（６６）
｛２−（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）−４−
（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネー
ト，（６７）｛２−（２，５−ジメチルフェニルスルホ
ニル）−４−（フェニルスルホニル）フェニル｝フェニ
ルカルボキシレート，（６８）｛１−メトキシ−２−
（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）−４−フェニ
ルスルホニル｝ベンゼン，（６９）１−ｉｓｏ−プロポ
キシ−２，４−ビス（３，４−ジメチルフェニルスルホ
ニル）ベンゼン，（７０）｛２，４−ビス（３，４−ジ
メチルフェニルスルホニル）フェニル｝アリルエーテ
ル，（７１）｛２，４−ビス（３，４−ジメチルフェニ
ルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネート，（７
２）｛２，４−ビス（３，４−ジメチルフェニルスルホ
ニル）フェニル｝３，４−ジメチルベンゼンスルホネー
ト，（７３）｛２，４−ビス（３，４−ジメチルフェニ
ルスルホニル）フェニル｝フェニルカルボキシレート，
（７４）１−メトキシ−２，４−ビス（３，４−ジメチ
ルフェニルスルホニル）ベンゼン，（７５）１−ｉｓｏ
−プロポキシ−２，４−ビス（４−クロロフェニルスル
ホニル）ベンゼン，（７６）｛２，４−ビス（４−クロ
ロフェニルスルホニル）フェニル｝アリルエーテル，
（７７）｛２，４−ビス（４−クロロフェニルスルホニ
ル）フェニル｝ベンゼンスルホネート，（７８）｛２，
４−ビス（４−クロロフェニルスルホニル）フェニル｝
４−クロロベンゼンスルホネート，（７９）｛２，４−
ビス（４−クロロフェニルスルホニル）フェニル｝フェ
ニルカルボキシレート，（８０）１−エトキシ−２，４
−ビス（４−クロロフェニルスルホニル）ベンゼン。

【００１０】次に、一般式（１）で示されるスルホニル
化合物の製造方法を述べる。

【００１１】即ち、次式により、その製造方法は示され
る。

【００１２】

【化７】 ［上記式中ｎは１又は２を表し、ｎが１の時は、Ｙは一
般式（１）におけると同じ意義を表し、Ａは塩素原子又
は臭素原子を表し、ｎが２の時は、Ｙはメトキシ基又は
エトキシ基を表し、Ａはスルホニル基を表す。］ 本反応における触媒としては、ヨウ化カリウム、塩化亜
鉛、塩化鉄、塩化アルミニウム、塩化マグネシウム、ト
リエチルベンジルアンモニウム等が好ましく、又塩基性
物質としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、ピリ
ジン等が好ましい。

【００１３】次に、単独では顕色剤水性スラリーが水和
化するが、一般式（１）で示される化合物の共存が有効
に作用し、顕色剤水性スラリーの水和化が防止され、優
れた感熱記録材料を提供し得る顕色剤として一般式
（２）で示される化合物の具体的な例として、以下のよ
うな化合物を挙げることができる。 （８１）２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノー
ル、（８２）２，４−ビス（２−メチルフェニルスルホ
ニル）フェノール、（８３）２，４−ビス（４−メチル
フェニルスルホニル）フェノール、（８４）２，４−ビ
ス（４−ブロモフェニルスルホニル）フェノール、（８
５）２，４−ビス（４−クロロフェニルスルホニル）フ
ェノール、（８６）２，４−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニルスルホニル）フェノール、（８７）２，４−ビス
（３，４−ジメチルフェニルスルホニル）フェノール、
（８８）２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスル
ホニル）フェノール、（８９）２，４−ビス（２，４，
６−トリメチルフェニルスルホニル）フェノール、（９
０）２，４−ビス（４−エチルフェニルスルホニル）フ
ェノール、（９１）２，４−ビス（４−ｉｓｏ−プロピ
ルフェニルスルホニル）フェノール、（９２）２，４−
ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノール、
（９３）２，４−ビス（２−メチルフェニルスルホニ
ル）−５−メチルフェノール、（９４）２，４−ビス
（４−メチルフェニルスルホニル）−５−メチルフェノ
ール、（９５）２，４−ビス（４−ｉｓｏ−プロピルフ
ェニルスルホニル）−５−メチルフェノール、（９６）
２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニルスルホニル）
−５−メチルフェノール、（９７）２，４−ビス（２，
５−ジメチルフェニルスルホニル）−５−メチルフェノ
ール、（９８）２，４−ビス（フェニルスルホニル）−
５−エチルフェノール、（９９）２，４−ビス（４−メ
チルフェニルスルホニル）−５−エチルフェノール、
（１００）２，４−ビス（４−エチルフェニルスルホニ
ル）−５−エチルフェノール、（１０１）２，４−ビス
（２，４−ジメチルフェニルスルホニル）−５−エチル
フェノール、（１０２）２，４−ビス（２，５−ジメチ
ルフェニルスルホニル）−５−エチルフェノール、（１
０３）２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−ｉｓ
ｏ−プロピルフェノール、（１０４）２−（４−メチル
フェニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フ
ェノール、（１０５）２−（４−エチルフェニルスルホ
ニル）−４−（フェニルスルホニル）フェノール、（１
０６）２−（４−ｉｓｏ−プロピルフェニルスルホニ
ル）−４−（フェニルスルホニル）フェノール、（１０
７）２−（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）−４
−（フェニルスルホニル）フェノール、（１０８）２−
（２，４−ジメチルフェニルスルホニル）−４−（フェ
ニルスルホニル）フェノール、（１０９）２−（３，４
−ジメチルフェニルスルホニル）−４−（フェニルスル
ホニル）フェノール、（１１０）２−（４−クロロフェ
ニルスルホニル）−４−（フェニルスルホニル）フェノ
ール、（１１１）２−（４−ブロモフェニルスルホニ
ル）−４−（フェニルスルホニル）フェノール、（１１
２）２−（フェニルスルホニル）−４−（４−メチルフ
ェニルスルホニル）フェノール、（１１３）２−（フェ
ニルスルホニル）−４−（４−エチルフェニルスルホニ
ル）フェノール、（１１４）２−（フェニルスルホニ
ル）−４−（４−ｉｓｏ−プロピルフェニルスルホニ
ル）フェノール、（１１５）２−（フェニルスルホニ
ル）−４−（２−メチルフェニルスルホニル）フェノー
ル、（１１６）２−（フェニルスルホニル）−４−
（２，５−ジメチルフェニルスルホニル）フェノール、
（１１７）２−（フェニルスルホニル）−４−（２，４
−ジメチルフェニルスルホニル）フェノール、（１１
８）２−（フェニルスルホニル）−４−（３，４−ジメ
チルフェニルスルホニル）フェノール、（１１９）２−
（フェニルスルホニル）−４−（４−クロロフェニルス
ルホニル）フェノール、（１２０）２−（フェニルスル
ホニル）−４−（４−ブロモフェニルスルホニル）フェ
ノール、（１２１）２−（４−メチルフェニルスルホニ
ル）−４−（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノ
ール、（１２２）２−（４−クロロフェニルスルホニ
ル）−４−（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノ
ール、（１２３）２−（４−ブロモフェニルスルホニ
ル）−４−（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノ
ール、（１２４）２−（フェニルスルホニル）−４−
（４−メチルフェニルスルホニル）−５−メチルフェノ
ール、（１２５）２−（フェニルスルホニル）−４−
（４−クロロフェニルスルホニル）−５−メチルフェノ
ール、（１２６）２−（フェニルスルホニル）−４−
（４−ブロモフェニルスルホニル）−５−メチルフェノ
ール、（１２７）２−（４−メチルフェニルスルホニ
ル）−４−（フェニルスルホニル）−５−エチルフェノ
ール、（１２８）２−（４−クロロフェニルスルホニ
ル）−４−（フェニルスルホニル）−５−エチルフェノ
ール、（１２９）２−（４−ブロモフェニルスルホニ
ル）−４−（フェニルスルホニル）−５−エチルフェノ
ール、（１３０）２−（フェニルスルホニル）−４−
（４−メチルフェニルスルホニル）−５−エチルフェノ
ール、（１３１）２−（フェニルスルホニル）−４−
（４−クロロフェニルスルホニル）−５−エチルフェノ
ール、（１３２）２−（フェニルスルホニル）−４−
（４−ブロモフェニルスルホニル）−５−エチルフェノ
ール、（１３３）２−（４−メチルフェニルスルホニ
ル）−４−（フェニルスルホニル）−５−ｉｓｏ−プロ
ピルフェノール、（１３４）２−（フェニルスルホニ
ル）−４−（４−メチルフェニルスルホニル）−５−ｉ
ｓｏ−プロピルフェノール。

【００１４】一般式（１）及び一般式（２）の化合物を
共存させて使用する場合、好ましい一般式（１）及び一
般式（２）の化合物としては前記化合物番号に従って以
下のように挙げることができる。 ［一般式（１）］ （１）〜（２７），（２９），（３０），（３２），
（３５），（３６），（３８），（３９），（４１），
（４４），（４５），（４７），（４９），（５２），
（５３），（５５），（６０）〜（７５），（７７），
（７８）。 ［一般式（２）］ （８１），（８３），（８５）〜（８８），（９０）〜
（９２），（９４），（９５），（９９）〜（１０
５），（１０７）〜（１１０），（１１２）〜（１１
９），（１２１），（１２４），（１２７），（１３
０）。

【００１５】更に好ましい一般式（１）及び一般式
（２）の化合物は以下のように挙げることができる。 ［一般式（１）］ （１）〜（２７），（３０），（３５），（３６），
（３９），（４４），（４５），（４７），（５２），
（５３），（５５），（６０）〜（７５），（７８）。 ［一般式（２）］ （８１），（８３），（８５）〜（８８），（９２），
（１０４），（１０７）〜（１１０），（１１２），
（１１６）〜（１１９），（１２１），（１２４）。

【００１６】尚、一般式（１）で示される化合物、一般
式（２）で示される化合物をそれぞれ二種以上共存させ
て使用してもよい。

【００１７】又一般式（１）で示される化合物の使用量
は一般式（２）で示される化合物に対しあまりにも少な
すぎると効果を失うが、あまりにも多すぎると経済的に
不利になる。従って、好ましくは、一般式（２）に対し
て、重量で１０ｐｐｍから二倍量程度である。更に好ま
しくは２０ｐｐｍから等量程度である。

【００１８】更に、配合調製方法は、（ａ）それぞれの
化合物をそれぞれ粉砕したものを所望の比率で混合調製
する方法、（ｂ）粉砕時に、所望の比率で投入し混合粉
砕する方法、（ｃ）すでに粉砕した一般式（１）の化合
物を、一般式（２）の粉砕時に、所望の比率で投入し混
合粉砕する方法、（ｄ）あらかじめ再結晶法又は混融法
により所望の比率に、混合調製したものを粉砕する方法
のいずれを用いてもよい。

【００１９】又、顕色剤として本組成物を使用する総量
は、一般式（２）で示される化合物基準の換算で、塩基
性染料１００重量部に対し５０〜６００重量部、好まし
くは１００〜４００重量部である。

【００２０】次に、本発明に係わる記録材料に用いられ
る塩基性染料、増感剤について述べる。

【００２１】塩基性染料としては、トリアリールメタン
系化合物、ジアリールメタン系化合物、ピリジン系化合
物、スピロ系化合物、ローダミン−ラクタム系化合物、
フルオラン系化合物、インドリルフタリド系化合物、フ
ルオレン系化合物などが例示される。中でも、３−Ｎ，
Ｎ−ジブチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオ
ラン、３−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ−６−メチル−７−
アニリノフルオラン、３−（Ｎ−イソペンチル−Ｎ−エ
チル）−６−メチル−７−アニリノフルオラン、３−
（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチル）−６−メチル−７
−アニリノフルオラン、３−Ｎ，Ｎ−ジエチル−６−ク
ロロ−７−アニリノフルオラン、クリスタルバイオレッ
トラクトン等が代表的なものとして例示される。これら
の塩基性染料は単独で用いても、あるいは発色画像の色
調の調整や多色感熱記録材料を得るなどの目的で二種以
上混合しても良い。

【００２２】次に、増感剤としては含窒素化合物、エス
テル化合物、炭化水素化合物、エーテル化合物、スルホ
ン化合物等が例示される。中でも、β−ナフチルベンジ
ルエーテル、ステアリン酸アミド、４−ベンジルオキシ
安息香酸ベンジルエステル、シュウ酸ジベンジル、シュ
ウ酸−ジ−Ｐ−メチルベンジル、ビス（４−メチルフェ
ニル）カーボネート、４−ベンジルフェニル、ｍ−ター
フェニル、１，２−ビス（３−メチルフェノキシ）エタ
ン、１，２−ビス（フェノキシ）エタン、ジフェニルス
ルホン、３，３′，４，４′−テトラメチル−ジフェニ
ルエタン等が代表的なものとして例示される。これらの
増感剤は、単独で用いても、あるいは二種以上混合して
もよい。更に、これらの増感剤の使用量は、塩基性染料
１００重量部に対し、５０〜８００重量部好ましくは１
００〜４００重量部である。

【００２３】尚、増感剤の粉砕方法は、（ａ）増感剤単
独で粉砕する方法、（ｂ）増感剤と染料を所望の比率で
混合粉砕する方法、（ｃ）増感剤と先に述べた一般式
（１）及び一般式（２）からなる組成物を、所望の比率
で混合粉砕する方法のいずれを用いてもよい。

【００２４】本発明に係わる感熱記録紙は公知の方法に
より製造することができ、何ら特殊な方法を採用する必
要はない。例えば、塩基性染料、顕色剤、増感剤、顔
料、金属セッケン、ワックス等を界面活性剤、消泡剤及
び分散剤等を含む水性媒体中で、ボールミル、サンドミ
ル等の手段により通常５μｍ以下、好ましくは１．５μ
ｍ以下の粒径にまで粉砕・分散させて塗液を調製するこ
とができる。

【００２５】上記の顔料としては、炭酸カルシウム、炭
酸マグネシウム、酸化チタン、カオリン、シリカ、非晶
質シリカ、酸化亜鉛等が例示される。

【００２６】金属セッケンとしては、ステアリン酸亜
鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウ
ム等が例示される。

【００２７】ワックスとしては、パラフィンワックス、
マイクロクリスタリンワックス、ポリエチレンワックス
等が例示される。

【００２８】界面活性剤としては、スルホコハク酸系の
アルカリ金属塩、アルキルベンゼンスルホン酸のアルカ
リ金属塩、ラウリルアルコール硫酸エステルのナトリウ
ム塩等が例示される。分散剤としては、ポリアクリル酸
ソーダ、ポリビニルアルコール（各種の鹸化度、ｐＨ及
び重合度のもの）、カルボキシメチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、ポリアクリルアミド、でんぷ
ん等が例示される。

【００２９】本発明の感熱記録材料において、その感熱
記録層は従来より公知の技術に従って形成することがで
き、形成方法は特に限定されるものではない。例えば、
感熱記録層用の塗液を支持体面上にエアーナイフコータ
ー、ブレーダーコーター、バーコーター、ロッドコータ
ー、グラビアコーター、カーテンコーター、ワイヤバー
等の適当な塗布装置で塗布し、乾燥して記録層を形成す
ることができる。塗液の塗布量に関しても特に限定する
ものではなく、支持体面に対し、一般に乾燥重量で０．
５〜５０ｇｒ／ｍ² 、好ましくは１．０〜２０．０ｇｒ
／ｍ² の範囲である。支持体としては、紙、プラスチッ
クシート、合成紙等が用いられる。

【００３０】

【実施例】以下に、本発明を実施例によって説明する。 （実施例１）１リットル容反応機に、２，４−ビス（フ
ェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇｒ、水酸化ナ
トリウム１２ｇｒ、ヨウ化カリウム０．５ｇｒ、イソプ
ロピルアルコール２００ｍｌ及び水１００ｍｌを仕込
み、窒素ガス雰囲気下、攪拌しながら７０℃に加温溶解
した。同温度で１０時間かけてイソプロピルクロライド
２４ｇｒを滴下した。滴下終了後１０時間、同温度で熟
成後、水３００ｍｌを加え、析出した結晶物を濾別し、
結晶物をトルエン３００ｍｌで再結晶精製し、白色結晶
性粉末８５ｇｒを得た。融点１３２℃。このもののＩＲ
分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表１）の結果か
ら、本品は、１−ｉｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス
（フェニルスルホニル）ベンゼンであることが確認され
た。

【００３１】

【００３２】臭化カリウム錠剤法による（以下同じ）こ
のものの赤外線吸収スペクトログラムを図１に示す。
尚、図１〜図１７において縦軸は透過率（％）を示し、
横軸は波数（ｃｍ^-1）を示す。

【００３３】（実施例２）実施例１において、２，４−
ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇｒに
代えて、２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メ
チルフェノール９７ｇｒを使用した以外は、実施例１と
同様に操作した。その結果、白色結晶性粉末８８ｇｒを
得た。融点１７３℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ
分析及び元素分析（表２）の結果から、本品は、１−ｉ
ｓｏ−プロポキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニ
ル）−５−メチルベンゼンであることが確認された。

【００３４】

【００３５】このものの赤外線吸収スペクトログラムを
図２に示す。

【００３６】（実施例３）１リットル容反応機に、２，
４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇ
ｒ、水酸化ナトリウム１０ｇｒ及び水１００ｍｌを仕込
み、窒素ガス雰囲気下、攪拌しながら９０℃に加温溶解
した。同温度で４時間かけてジメチル硫酸４０ｇｒを滴
下した。滴下終了後１０時間、同温度で熟成後、水３０
０ｍｌを加え、析出した結晶物を濾別し、結晶物をトル
エン４００ｍｌで再結晶精製し、白色結晶性粉末８０ｇ
ｒを得た。融点１６９℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−Ｎ
ＭＲ分析及び元素分析（表３）の結果から、本品は、１
−メトキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベン
ゼンであることが確認された。

【００３７】

【００３８】このものの赤外線吸収スペクトログラムを
図３に示す。

【００３９】（実施例４）実施例３において、２，４−
ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇｒに
代えて、２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メ
チルフェノール９７ｇｒを使用した以外は、実施例３と
同様に操作した。その結果、白色結晶性粉末８３ｇｒを
得た。融点２３４℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ
分析及び元素分析（表４）の結果から、本品は、１−メ
トキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メ
チルベンゼンであることが確認された。

【００４０】

【００４１】このものの赤外線吸収スペクトログラムを
図４に示す。

【００４２】（実施例５）１リットル容反応機に、２，
４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇ
ｒ、水酸化ナトリウム１２ｇｒ、トリエチルベンジルア
ンモニウムクロライド１ｇｒ及び水２００ｍｌを仕込
み、窒素ガス雰囲気下、攪拌しながら８０℃に加温溶解
した。同温度で４時間かけて、塩化ベンジル３８ｇｒと
トルエン３８ｇｒの混合液を滴下した。滴下終了後１０
時間、同温度で熟成後、冷却し、析出した結晶物を濾別
し、更に結晶物をメチルイソブチルケトン４００ｍｌで
再結晶精製し、白色結晶性粉末１０３ｇｒを得た。融点
１８１℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元
素分析（表５）の結果から、本品は、｛２，４−ビス
（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンジルエーテルで
あることが確認された。

【００４３】

【００４４】このものの赤外線吸収スペクトログラムを
図５に示す。

【００４５】（実施例６）１リットル容反応機に、２，
４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇ
ｒ、塩化亜鉛０．１ｇｒ及びベンゼンスルホニルクロラ
イド４４．１ｇｒを仕込み、窒素ガス雰囲気下、攪拌し
ながら１００℃に加温溶解した。同温度から徐々に昇温
し１０時間かけて１６０℃まで昇温後、４時間同温度で
熟成した。その後１１０℃まで冷却し、トルエン３００
ｍｌを投入し、７０℃で水１００ｍｌを加え水洗し、水
層を分液分離後、更に水１００ｍｌ加え水洗し、水層を
分液、分離後、油分を共沸脱水し、再結晶法により精製
し、白色結晶性粉末１１６ｇｒを得た。融点１４６℃。
このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表
６）の結果から、本品は、｛２，４−ビス（フェニルス
ルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネートであること
が確認された。

【００４６】

【００４７】このものの赤外線吸収スペクトログラムを
図６に示す。

【００４８】（実施例７）実施例６において、２，４−
ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇｒに
代えて、２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メ
チルフェノール９７ｇｒを使用した以外は、実施例６と
同様に操作した。その結果、白色結晶性粉末１２１ｇｒ
を得た。融点１６３℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭ
Ｒ分析及び元素分析（表７）の結果から、本品は、
｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフ
ェニル｝ベンゼンスルホネートであることが確認され
た。

【００４９】

【００５０】このものの赤外線吸収スペクトログラムを
図７に示す。

【００５１】（実施例８）実施例６において、２，４−
ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇｒに
代えて、２，４−（２，５−ジメチルフェニルスルホニ
ル）フェノール１０７．５ｇｒを、ベンゼンスルホニル
クロライド４４．１ｇｒに代えて、２，５−ジメチルベ
ンゼンスルホニルクロライド５１．１ｇｒを使用した以
外は、実施例６と同様に操作した。その結果、白色結晶
性粉末１２１ｇｒを得た。融点１５７℃。このもののＩ
Ｒ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表８）の結果か
ら本品は、｛２，４−ビス（２，５−ジメチルベンゼン
スルホニル）フェニル｝２，５−ジメチルベンゼンスル
ホネートであることが確認された。

【００５２】

【００５３】このものの赤外線吸収スペクトログラムを
図８に示す。

【００５４】（実施例９）実施例６において、２，４−
ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．５ｇｒに
代えて、２，４−（３，４−ジメチルフェニルスルホニ
ル）フェノール１０７．５ｇｒを、ベンゼンスルホニル
クロライド４４．１ｇｒに代えて、３，４−ジメチルベ
ンゼンスルホニルクロライド５１．１ｇｒを使用した以
外は、実施例６と同様に操作した。その結果、白色結晶
性粉末１１５ｇｒを得た。融点２２３℃。このもののＩ
Ｒ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表９）の結果か
ら本品は、｛２，４−ビス（３，４−ジメチルベンゼン
スルホニル）フェニル｝３，４−ジメチルベンゼンスル
ホネートであることが確認された。

【００５５】

【００５６】このものの赤外線吸収スペクトログラムを
図９に示す。

【００５７】（実施例１０）実施例３において、ジメチ
ル硫酸４０ｇｒに代えて、ジエチル硫酸５０ｇｒを、再
結晶溶媒トルエン４００ｍｌに代えて、トルエン：メチ
ルイソブチルケトン（３００ｍｌ：１００ｍｌ）を用い
た以外は、実施例３と同様に操作した。その結果、白色
結晶性粉末９０ｇｒを得た。融点１９３℃。このものの
ＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表１０）の結
果から、本品は、１−エトキシ−２，４−ビス（フェニ
ルスルホニル）ベンゼンであることが確認された。

【００５８】

【００５９】このものの赤外線吸収スペクトログラムを
図１０に示す。

【００６０】（実施例１１）実施例５において、塩化ベ
ンジル３８ｇｒに代えて、臭化アリル３６ｇｒを、再結
晶溶媒メチルイソブチルケトン４００ｍｌに代えて、ト
ルエン４００ｍｌを用い、更に、反応温度８０℃を６０
℃に変えた以外は、実施例５と同様に操作した。その結
果、白色結晶性粉末８５ｇｒを得た。融点１６８℃。こ
のもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表１
１）の結果から、本品は、｛２，４−ビス（フェニルス
ルホニル）フェニル｝アリルエーテルであることが確認
された。

【００６１】

【００６２】このものの赤外線吸収スペクトログラムを
図１１に示す。

【００６３】（実施例１２）実施例１において、イソプ
ロピルクロライド２４ｇｒに代えて、臭化ｎ−ヘキサン
５０ｇｒを、再結晶溶媒トルエン３００ｍｌに代えて、
エタノール３００ｍｌを用いた以外は、実施例１と同様
に操作した。その結果、白色結晶性粉末９０ｇｒを得
た。融点１１５℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分
析及び元素分析（表１２）の結果から、本品は、｛２，
４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ｎ−ヘキシ
ルエーテルであることが確認された。

【００６４】

【００６５】このものの赤外線吸収スペクトログラムを
図１２に示す。

【００６６】（実施例１３）１リットル容反応機に、
２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール９３．
５ｇｒ、ピリジン３４ｇｒ及びトルエン３００ｍｌを仕
込み、窒素ガス雰囲気下、攪拌しながら６０℃に加温
し、同温度でベンゾイルクロライド４２．１ｇｒを２時
間かけて滴下した。滴下終了後、５時間、同温度で熟成
後、５％希塩酸水１００ｍｌを加え、攪拌水洗し、静置
後下層の水層を分離し更に水１００ｍｌ加え同様な操作
をした。油分を共沸脱水した後再結晶精製し、白色結晶
性粉末９５ｇｒを得た。融点１４１℃。このもののＩＲ
分析、Ｈ−ＮＭＲ分析及び元素分析（表１３）の結果か
ら、本品は、｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フ
ェニル｝フェニルカルボキシレートであることが確認さ
れた。

【００６７】

【００６８】このものの赤外線吸収スペクトログラムを
図１３に示す。

【００６９】（実施例１４）実施例１３において、ベン
ゾイルクロライド４２．１ｇｒに代えてステアロイルク
ロライド９３．５ｇｒを使用した以外は、実施例１３と
同様に操作した。その結果、白色結晶性粉末１２０ｇｒ
を得た。融点８２℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ
分析及び元素分析（表１４）の結果から、本品は、１−
ステアロイルオキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニ
ル）ベンゼンであることが確認された。

【００７０】

【００７１】このものの赤外線吸収スペクトログラムを
図１４に示す。

【００７２】（実施例１５）実施例１３において、ベン
ゾイルクロライド４２．１ｇｒに代えて、アセチルクロ
ライド２４ｇｒを、ピリジン３４ｇｒに代えて、トリエ
チルアミン３８ｇｒを使用した以外は、実施例１３と同
様に操作した。その結果、白色結晶性粉末７８ｇｒを得
た。融点１７３℃。このもののＩＲ分析、Ｈ−ＮＭＲ分
析及び元素分析（表１５）の結果から、本品は、｛２，
４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝アセテート
であることが確認された。

【００７３】

【００７４】このものの赤外線吸収スペクトログラムを
図１５に示す。

【００７５】（実施例１６）２，４−ビス（フェニルス
ルホニル）フェノール４８．５ｇｒ、｛２，４−ビス
（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホネー
ト１．５ｇｒ及びトルエン１００ｇｒから再結晶法によ
り白色結晶性粉末４８ｇｒを得た。融点１５７℃。本品
は、高速液体クロマトグラフ分析結果から、｛２，４−
ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベンゼンスルホ
ネート１．２％を含む２，４−ビス（フェニルスルホニ
ル）フェニル（以後、再結晶法により得た組成物を再結
晶法と記す。）であることが確認された。

【００７６】（実施例１７）２，４−ビス（フェニルス
ルホニル）フェノール４９．５ｇｒ及び１−メトキシ−
２，４−ビス（フェニルスルホニル）ベンゼン０．５ｇ
ｒを混合溶融させ、１３０〜１４０℃で結晶化させ室温
に冷却後粉砕して、白色結晶性粉末４８．５ｇｒを得
た。融点１５７℃。本品は、高速液体クロマトグラフ分
析から１−メトキシ−２，４−ビス（フェニルスルホニ
ル）ベンゼン１．５％を含む２，４−ビス（フェニルス
ルホニル）フェノールであることが確認された。

【００７７】尚、本方法により得られた顕色剤組成物を
以後、溶融法と記す。

【００７８】（実施例１８）２，４−ビス（フェニルス
ルホニル）フェノール４９．０ｇｒ及び｛２，４−ビス
（フェニルスルホニル）フェニル｝フェニルカルボキシ
レート１．０ｇｒをトルエン１００ｇｒに溶解し、該溶
液をヘキサン５００ｇｒ中に攪拌しながらゆっくり滴下
し、析出物を濾取、乾燥して白色結晶性粉末４８ｇｒを
得た。融点１５８℃。本品は、高速液体クロマトグラフ
分析から｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニ
ル｝フェニルカルボキシレート１．５％を含む２，４−
ビス（フェニルスルホニル）フェノールであることが確
認された。

【００７９】（実施例１９） 塩基性染料分散液の調製 ３−Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ−６−メチル−７−アニリ
ノフルオラン２０ｇｒを、濃度５％ポリビニルアルコー
ル（クラレ社製；商品名ＰＶＡ−１１７）水溶液８０ｇ
ｒ中でボールミルを用いて粉砕して、平均粒径０．６μ
ｍの塩基性染料分散液を調製した。

【００８０】増感剤分散液の調製 １，２−ビス（３−メチルフェノキシ）エタン２０ｇｒ
を、濃度５％ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１１７）
水溶液３０ｇｒ中で、ボールミルを用いて粉砕して平均
粒径０．６μｍの増感剤分散液を調製した。

【００８１】顕色剤分散液の調製 ｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベン
ゼンスルホネートを１．２％含有する２，４−ビス（フ
ェニルスルホニル）フェノール２０ｇｒを、濃度５％メ
チルセルロース水溶液３０ｇｒ中で、ボールミルを用い
て粉砕して平均粒径１．１μｍの顕色剤分散液を調製
し、これを４０℃にて３０日間保管したものを顕色剤分
散液として使用した。

【００８２】顔料分散液の調製 炭酸カルシウム（白石工業製；商品名ユニバー７０）３
０ｇｒ、水７０ｇｒ及び濃度１０％ヘキサメタリン酸ソ
ーダ水溶液０．４ｇｒを回転数１５，０００ｒｐｍのホ
モジナイザーで１５分間攪拌して、顔料分散液を調製し
た。

【００８３】感熱記録層塗布液の調製 上記の塩基性染料分散液３ｇｒ、増感剤分散液３ｇｒ、
顕色剤分散液３ｇｒ、及び顔料分散液７ｇｒ、更に濃度
３１％のハイドリンＺ−７（中京油脂社製の商品名）
２．０ｇｒ、濃度３１％のハイドリンＰ（中京油脂社製
の商品名）０．２ｇｒ、濃度５％のポリビニルアルコー
ル（ＰＶＡ−１１７）水溶液６ｇ及び水９ｇｒを混合し
て感熱記録層塗布液を得た。

【００８４】感熱記録紙の作製 紙支持体面上に、乾燥後の感熱記録層重量が５ｇｒ／ｍ
² となるように、ワイヤーバーを用いて感熱記録層塗布
液を塗布し、６０℃のオーブン中で乾燥後、平滑度２０
０秒（ベック法）となるようにキャレンダー処理した。

【００８５】（実施例２０〜３０）実施例１９で用いた
顕色剤｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニ
ル｝ベンゼンスルホネートを１．２％含有する２，４−
ビス（フェニルスルホニル）フェノール２０ｇｒに代え
て表１６に示す顕色剤を用い、更に、実施例２０，２
７，２８及び３０において、顕色剤の粉砕時の分散剤と
して、実施例１９のメチルセルロースに代えて、ポリビ
ニルアルコール（ＰＶＡ−１１７）を用いた以外は実施
例１９と同様に操作した。用いた顕色剤及びその重量を
表１６に示す。

【００８６】

【表１】

【００８７】（実施例３１）実施例１９で用いた顕色剤
｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベン
ゼンスルホネートを１．２％含有する２，４−ビス（フ
ェニルスルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、
｛２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニルスルホニ
ル）フェニル｝２，５−ジメチルベンゼンスルホネート
０．４ｇｒと２，４−ビス（２，５−ジメチルフェニル
スルホニル）フェノール１９．６ｇｒを用いた以外は実
施例１９と同様に操作した。

【００８８】（実施例３２）実施例１９で用いた顕色剤
｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベン
ゼンスルホネートを１．２％含有する２，４−ビス（フ
ェニルスルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、
｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフ
ェニル｝フェニルカルボキシレート１０ｇｒと２，４−
ビス（フェニルスルホニル）−５−メチルフェノール１
０ｇｒを用いて顕色剤分散液を調製した。更に、得られ
た本分散液を感熱記録層塗布液の調製の時に６ｇｒ使用
した以外は、実施例１９と同様に操作した。

【００８９】（比較例１〜２）実施例１９で用いた顕色
剤｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベ
ンゼンスルホネートを１．２％含有する２，４−ビス
（フェニルスルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、
以下の顕色剤を用いた以外は実施例１９と同様に操作し
た。

【００９０】比較例１ ２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェノール ２０ｇｒ 比較例２ ２−（４−メチルフェニルスルホニル）−４（フェニルスルホニル）フェノ ール ２０ｇｒ 実施例１９〜３２及び比較例１〜２で得られた顕色剤分
散液を４０℃に３０日間保存し、分散液の外観を肉眼で
観察した結果、実施例１９〜３２は異状を認められなか
ったが、比較例１及び２は、分散が劣化し下層に粒子が
沈降し、固化していた。

【００９１】（比較例３）実施例１９で用いた顕色剤
｛２，４−ビス（フェニルスルホニル）フェニル｝ベン
ゼンスルホネートを１．２％含有する２，４−ビス（フ
ェニルスルホニル）フェノール２０ｇｒに代えて、２，
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン２０ｇｒ
を用いた。更に、得られた顕色剤水性スラリーは、４０
℃で３０日間の保存試験を省略した以外は実施例１９と
同様に操作した。

【００９２】次に、実施例１９〜３２及び比較例１〜３
で得られた感熱記録紙をＦＵＪＩＴＵ ファクスＦＦ１
７００ＲＸ型機のコピーモード条件で印字テストを行
い、また次の性能比較試験を行った。その結果を表１９
に示す。

【００９３】性能比較試験 印字濃度 マクベス濃度計を用いて測定した。

【００９４】耐熱性試験 地肌；６０℃で２４時間放置した後の地肌かぶりを下記
の基準で肉眼で観察した。

【００９５】 ○：全く変化なし △：わづか着色 ×：着色 印字；印字紙を６０℃で２４時間放置した後、下記の基
準で示される印字濃度残存率（％）を測定した。

【００９６】印字濃度残存率（％）＝（保存後の印字濃
度／保存前の印字濃度）×１００ 耐湿試験 地肌；４０℃、湿度９０％で２４時間放置した後の地肌
かぶりを、耐熱性地肌かぶり試験の基準に準じ表わし
た。

【００９７】印字；印字紙を４０℃、湿度９０％で２４
時間放置した後、印字濃度残存率を耐熱性印字濃度残存
率（％）に準じ表わした。

【００９８】耐可塑剤試験 ガラスビンの外周に印字紙を巻きつけ、その上にハイラ
ップＶ−４５０（三井東圧化学社製の商品名）を３重に
巻きつけ、４０℃で２時間放置した後、印字濃度残存率
を耐熱性印字濃度残存率（％）に準じ表わした。

【００９９】

【表２】

【０１００】尚、比較例１及び２は、６０℃でかぶりが
生じたので、他の性能比較試験は中止した。

【０１０１】以上のように、本発明に係わる顕色剤は水
性スラリー状態で水和することなく長期の保存に耐え、
本顕色剤組成物を用いた感熱記録材料は、発色性に優
れ、且つ経時の地肌かぶりが少なく、記録像の保存安定
性とりわけ耐熱性、耐湿性及び耐可塑剤性に優れている
ことがわかる。

【０１０２】

【発明の効果】本発明により、顕色剤水性スラリーが水
和することなく長期保存安定性に優れ、且つ本顕色剤組
成物を用い、高感度で、しかも経時の地肌かぶりが少な
く、記録像の保存安定性とりわけ耐熱性、耐湿性及び耐
可塑剤性に優れた感熱記録材料が提供される。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１で得られた化合物の赤外線吸収スペク
トログラムである。

【図２】実施例２で得られた化合物の赤外線吸収スペク
トログラムである。

【図３】実施例３で得られた化合物の赤外線吸収スペク
トログラムである。

【図４】実施例４で得られた化合物の赤外線吸収スペク
トログラムである。

【図５】実施例５で得られた化合物の赤外線吸収スペク
トログラムである。

【図６】実施例６で得られた化合物の赤外線吸収スペク
トログラムである。

【図７】実施例７で得られた化合物の赤外線吸収スペク
トログラムである。

【図８】実施例８で得られた化合物の赤外線吸収スペク
トログラムである。

【図９】実施例９で得られた化合物の赤外線吸収スペク
トログラムである。

【図１０】実施例１０で得られた化合物の赤外線吸収ス
ペクトログラムである。

【図１１】実施例１１で得られた化合物の赤外線吸収ス
ペクトログラムである。

【図１２】実施例１２で得られた化合物の赤外線吸収ス
ペクトログラムである。

【図１３】実施例１３で得られた化合物の赤外線吸収ス
ペクトログラムである。

【図１４】実施例１４で得られた化合物の赤外線吸収ス
ペクトログラムである。

【図１５】実施例１５で得られた化合物の赤外線吸収ス
ペクトログラムである。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 ［一般式（１）において、Ｘは水素原子又は低級アルキ
   ル基を表し、Ｒ₁ ，Ｒ₂，Ｒ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ は
   同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロ
   ゲン原子、低級アルキル基を表し、Ｙはアルキル基、ア
   ラルキル基、アリル基、シクロヘキシル基、アルキルア
   リール基、アルキルスルホニル基、ベンゼンスルホニル
   基、アルキルベンゼンスルホニル基、アルキロイル基、
   ベンゾイル基、アルキルベンゾイル基、アクリロイル
   基、メタアクリロイル基、又はグリシジル基を表す。］
   で示されることを特徴とするスルホニル化合物。
2. 【請求項２】 支持体面上に、主として塩基性染料前駆
   体、顕色剤及び増感剤を含有する感熱記録層を設けた感
   熱記録材料において、感熱記録層中に一般式（１） 【化２】 ［一般式（１）において、Ｘは水素原子又は低級アルキ
   ル基を表し、Ｒ₁ ，Ｒ₂，Ｒ₃ ，Ｒ₄ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ は
   同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロ
   ゲン原子、低級アルキル基を表し、Ｙはアルキル基、ア
   ラルキル基、アリル基、シクロヘキシル基、アルキルア
   リール基、アルキルスルホニル基、ベンゼンスルホニル
   基、アルキルベンゼンスルホニル基、アルキロイル基、
   ベンゾイル基、アルキルベンゾイル基、アクリロイル
   基、メタアクリロイル基、又はグリシジル基を表す。］
   で示されるスルホニル化合物の少なくとも１種と、一般
   式（２） 【化３】 ［一般式（２）において、Ｘ，Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，
   Ｒ₄ ，Ｒ₅ 及びＲ₆ は一般式（１）におけると同じ意義
   を表す。］で示されるスルホニル化合物の少なくとも１
   種とからなる顕色剤組成物を共存せしめることを特徴と
   する感熱記録材料。
3. 【請求項３】 一般式（１）で示されるスルホニル化合
   物の一般式（２）で示されるスルホニル化合物に対する
   配合割合が重量で１０ｐｐｍから二倍量である顕色剤組
   成物を共存せしめた請求項２記載の感熱記録材料。