JPH1044616A - 感熱記録体 - Google Patents
感熱記録体Info
- Publication number
- JPH1044616A JPH1044616A JP8199937A JP19993796A JPH1044616A JP H1044616 A JPH1044616 A JP H1044616A JP 8199937 A JP8199937 A JP 8199937A JP 19993796 A JP19993796 A JP 19993796A JP H1044616 A JPH1044616 A JP H1044616A
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- JP
- Japan
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- group
- bis
- heat
- sensitive recording
- phenylsulfonyl
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高感度でしかも経時の地肌かぶりが少なく、
記録像の保存性とりわけ耐熱性、耐湿性及び耐可塑剤性
に優れた感熱記録体を提供する。 【解決手段】 顕色剤として式(1)のスルホニル化合
物及びその多価金属塩を含有せしめ、更に顔料として水
酸化アルミニウムを含有せしめた感熱記録体。 【化10】 [XはH又は低級アルキル基を表し、R1 ,R2 ,R3
はH、ハロゲン、ヒドロキシル基、低級アルキル基又は
シクロアルキル基を表し、R4 ,R5 ,R6 はH、ハロ
ゲン、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、R
7 はH又は式(A)を表す。]
記録像の保存性とりわけ耐熱性、耐湿性及び耐可塑剤性
に優れた感熱記録体を提供する。 【解決手段】 顕色剤として式(1)のスルホニル化合
物及びその多価金属塩を含有せしめ、更に顔料として水
酸化アルミニウムを含有せしめた感熱記録体。 【化10】 [XはH又は低級アルキル基を表し、R1 ,R2 ,R3
はH、ハロゲン、ヒドロキシル基、低級アルキル基又は
シクロアルキル基を表し、R4 ,R5 ,R6 はH、ハロ
ゲン、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、R
7 はH又は式(A)を表す。]
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は感熱記録体に関し、
更に詳しくは、該感熱記録層中に顕色剤として特定のス
ルホニル化合物及びその多価金属塩を含有せしめ、顔料
として水酸化アルミニウムを含有せしめた場合、高感度
でしかも地肌かぶりが少なく、記録像の保存安定性、と
りわけ耐湿性、耐熱性及び耐可塑剤性に優れた記録特性
が得られる感熱記録体に関するものである。
更に詳しくは、該感熱記録層中に顕色剤として特定のス
ルホニル化合物及びその多価金属塩を含有せしめ、顔料
として水酸化アルミニウムを含有せしめた場合、高感度
でしかも地肌かぶりが少なく、記録像の保存安定性、と
りわけ耐湿性、耐熱性及び耐可塑剤性に優れた記録特性
が得られる感熱記録体に関するものである。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、電子供与性塩基性染料前駆体と電子受容性顕色剤と
の熱発色反応を利用した感熱記録体はよく知られてい
る。中でも、顕色剤として、2,2−ビス(4−ヒドロ
キシ−フェニル)プロパン及び4−ヒドロキシ−4′−
イソプロポキシ−ジフェニルスルホンはよく知られてい
る(例えば、特公平3−54655号等)。
り、電子供与性塩基性染料前駆体と電子受容性顕色剤と
の熱発色反応を利用した感熱記録体はよく知られてい
る。中でも、顕色剤として、2,2−ビス(4−ヒドロ
キシ−フェニル)プロパン及び4−ヒドロキシ−4′−
イソプロポキシ−ジフェニルスルホンはよく知られてい
る(例えば、特公平3−54655号等)。
【0003】しかしながら、これらを使用した感熱記録
体は、発色像の保存安定性、特に耐湿性、耐熱性及び耐
可塑剤性について更に改良が求められている。かかる問
題解決のため、本発明者等は、先に顕色剤として一般式
(1)
体は、発色像の保存安定性、特に耐湿性、耐熱性及び耐
可塑剤性について更に改良が求められている。かかる問
題解決のため、本発明者等は、先に顕色剤として一般式
(1)
【0004】
【化4】 [一般式(1)において、Xは水素原子又は低級アルキ
ル基を表し、R1 ,R2及びR3 は同一でも異っていて
もよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ
ル基、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、R
4 ,R5 及びR6は同一でも異っていてもよく、それぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はシクロ
アルキル基を表し、R7 は水素原子又は
ル基を表し、R1 ,R2及びR3 は同一でも異っていて
もよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ
ル基、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、R
4 ,R5 及びR6は同一でも異っていてもよく、それぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はシクロ
アルキル基を表し、R7 は水素原子又は
【0005】
【化5】 を表し、ここでR4 ,R5 及びR6 は上記の定義の通り
である。]で示されるスルホニル化合物及びその多価金
属塩を見い出し、本化合物に関する特許を出願した。
である。]で示されるスルホニル化合物及びその多価金
属塩を見い出し、本化合物に関する特許を出願した。
【0006】しかし、本顕色剤の中には粉砕を、極めて
微粒子にしたり、水性顕色剤スラリーを40℃で長期保
存した場合などに顕色剤が水和する場合がある。このよ
うに水和した顕色剤を用いた場合、得られる感熱記録体
は60℃に保管した時、地肌かぶりを発生する。本顕色
剤の水和を防止するために本発明者等は鋭意研究を行っ
た結果、一般式(2)
微粒子にしたり、水性顕色剤スラリーを40℃で長期保
存した場合などに顕色剤が水和する場合がある。このよ
うに水和した顕色剤を用いた場合、得られる感熱記録体
は60℃に保管した時、地肌かぶりを発生する。本顕色
剤の水和を防止するために本発明者等は鋭意研究を行っ
た結果、一般式(2)
【0007】
【化6】 [一般式(2)において、X,R1 ,R2 ,R3 ,
R4 ,R5 及びR6 は一般式(1)におけると同じ意義
を有し、Yはアルキル基、アラルキル基、アリル基、シ
クロヘキシル基、アルキルアリール基、アルキルスルホ
ニル基、ベンゼンスルホニル基、アルキルベンゼンスル
ホニル基、アルキロイル基、ベンゾイル基、アルキルベ
ンゾイル基、アクリロイル基、メタアクリロイル基又は
グリシジル基を表す。]で示されるスルホニル化合物の
併用が有効であることを見い出し、先に、特許を出願し
た。
R4 ,R5 及びR6 は一般式(1)におけると同じ意義
を有し、Yはアルキル基、アラルキル基、アリル基、シ
クロヘキシル基、アルキルアリール基、アルキルスルホ
ニル基、ベンゼンスルホニル基、アルキルベンゼンスル
ホニル基、アルキロイル基、ベンゾイル基、アルキルベ
ンゾイル基、アクリロイル基、メタアクリロイル基又は
グリシジル基を表す。]で示されるスルホニル化合物の
併用が有効であることを見い出し、先に、特許を出願し
た。
【0008】即ち一般式(1)で示される顕色剤が水和
する場合は、一般式(2)で示されるスルホニル化合物
を一般式(1)で示される化合物に含有せしめて顕色剤
として使用すると、顕色剤の水和が防止でき、得られる
感熱記録体の経時の地肌かぶりの発生を防止することが
できる。
する場合は、一般式(2)で示されるスルホニル化合物
を一般式(1)で示される化合物に含有せしめて顕色剤
として使用すると、顕色剤の水和が防止でき、得られる
感熱記録体の経時の地肌かぶりの発生を防止することが
できる。
【0009】しかし、その後、更に厳しい環境下におか
れても、記録体の経時による地肌かぶりが少ない事が要
求されるようになり、具体的には、試験条件を従来の4
0℃、湿度90%の1日間及び60℃、1日間の条件か
ら、50℃、湿度90%の1日間及び60℃、3日間の
条件に厳格化され、この厳格化条件に対応できる記録体
の地肌かぶりの少ない記録体の研究に鋭意努力した。
れても、記録体の経時による地肌かぶりが少ない事が要
求されるようになり、具体的には、試験条件を従来の4
0℃、湿度90%の1日間及び60℃、1日間の条件か
ら、50℃、湿度90%の1日間及び60℃、3日間の
条件に厳格化され、この厳格化条件に対応できる記録体
の地肌かぶりの少ない記録体の研究に鋭意努力した。
【0010】
【課題を解決するための手段】その結果、本発明者等
は、顕色剤として一般式(1)で示される化合物及びそ
の多価金属塩、或いは、一般式(2)で示される化合物
を含有せしめた一般式(1)で示される化合物及びその
多価金属塩と、顔料として水酸化アルミニウムを用いる
ことにより、記録体を50℃、湿度90%の1日間及び
60℃、3日間曝してしても、特徴的に記録体の地肌か
ぶりが少なく、記録体は高感度で、かつ、発色像の保存
安定性、特に耐湿性、耐熱性及び耐可塑剤性に優れるこ
とを見い出し、本発明を完成するに至った。
は、顕色剤として一般式(1)で示される化合物及びそ
の多価金属塩、或いは、一般式(2)で示される化合物
を含有せしめた一般式(1)で示される化合物及びその
多価金属塩と、顔料として水酸化アルミニウムを用いる
ことにより、記録体を50℃、湿度90%の1日間及び
60℃、3日間曝してしても、特徴的に記録体の地肌か
ぶりが少なく、記録体は高感度で、かつ、発色像の保存
安定性、特に耐湿性、耐熱性及び耐可塑剤性に優れるこ
とを見い出し、本発明を完成するに至った。
【0011】即ち、本発明は、電子供与性塩基性染料前
駆体と電子受容性顕色剤との熱発色反応を利用した感熱
記録体において、感熱記録層中に顕色剤として一般式
(1)
駆体と電子受容性顕色剤との熱発色反応を利用した感熱
記録体において、感熱記録層中に顕色剤として一般式
(1)
【0012】
【化7】 [一般式(1)において、Xは水素原子又は低級アルキ
ル基を表し、R1 ,R2及びR3 は同一でも異っていて
もよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ
ル基、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、R
4 ,R5 及びR6は同一でも異っていてもよく、それぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はシクロ
アルキル基を表し、R7 は水素原子又は
ル基を表し、R1 ,R2及びR3 は同一でも異っていて
もよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ
ル基、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、R
4 ,R5 及びR6は同一でも異っていてもよく、それぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はシクロ
アルキル基を表し、R7 は水素原子又は
【0013】
【化8】 を表し、ここでR4 ,R5 及びR6 は上記の定義の通り
である。]で示されるスルホニル化合物及びその多価金
属塩を含有せしめ、更に顔料として、水酸化アルミニウ
ムを含有せしめることを特徴とする感熱記録体である。
である。]で示されるスルホニル化合物及びその多価金
属塩を含有せしめ、更に顔料として、水酸化アルミニウ
ムを含有せしめることを特徴とする感熱記録体である。
【0014】また、本発明は、上記感熱記録体におい
て、感熱記録層中に更に一般式(1)で示されるスルホ
ニル化合物及びその多価金属塩の水和防止剤として、一
般式(2)
て、感熱記録層中に更に一般式(1)で示されるスルホ
ニル化合物及びその多価金属塩の水和防止剤として、一
般式(2)
【0015】
【化9】 [一般式(2)において、X,R1 ,R2 ,R3 ,
R4 ,R5 及びR6 は請求項1記載の一般式(1)にお
けると同じ意義を有し、Yはアルキル基、アラルキル
基、アリル基、シクロヘキシル基、アルキルアリール
基、アルキルスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ア
ルキルベンゼンスルホニル基、アルキロイル基、ベンゾ
イル基、アルキルベンゾイル基、アクリロイル基、メタ
アクリロイル基又はグリシジル基を表す。]で示される
スルホニル化合物を含有せしめることを特徴とする感熱
記録体である。
R4 ,R5 及びR6 は請求項1記載の一般式(1)にお
けると同じ意義を有し、Yはアルキル基、アラルキル
基、アリル基、シクロヘキシル基、アルキルアリール
基、アルキルスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ア
ルキルベンゼンスルホニル基、アルキロイル基、ベンゾ
イル基、アルキルベンゾイル基、アクリロイル基、メタ
アクリロイル基又はグリシジル基を表す。]で示される
スルホニル化合物を含有せしめることを特徴とする感熱
記録体である。
【0016】
【発明の実施の形態】本記録体について更に詳しく説明
する。
する。
【0017】顔料として水酸化アルミニウム単独の使用
が最も好ましいが、その効果を損わない範囲内におい
て、他の一般的に感熱記録体に用いられる顔料、例え
ば、カオリン、シリカ、非晶質シリカ、焼成カオリン、
酸化亜鉛、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化チ
タン、硫酸バリウム、合成ケイ酸アルミニウム等の無機
系微粉末及びスチレン−メタクリル酸共重合体、ポリス
チレン樹脂、尿素−ホルマリン樹脂等の有機系樹脂微粉
末等と共存せしめてもよい。
が最も好ましいが、その効果を損わない範囲内におい
て、他の一般的に感熱記録体に用いられる顔料、例え
ば、カオリン、シリカ、非晶質シリカ、焼成カオリン、
酸化亜鉛、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化チ
タン、硫酸バリウム、合成ケイ酸アルミニウム等の無機
系微粉末及びスチレン−メタクリル酸共重合体、ポリス
チレン樹脂、尿素−ホルマリン樹脂等の有機系樹脂微粉
末等と共存せしめてもよい。
【0018】一般式(1)で示されるスルホニル化合物
の例としては、2,4−ビス(フェニルスルホニル)フ
ェノール、2,4−ビス(4−メチルフェニルスルホニ
ル)フェノール、2,4−ビス(4−エチルフェニルス
ルホニル)フェノール、2,4−ビス(4−イソプロピ
ルフェニルスルホニル)フェノール、2,4−ビス
(2,5−ジメチルフェニルスルホニル)フェノール、
2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニルスルホニル)
フェノール、2,4−ビス(3,4−ジメチルフェニル
スルホニル)フェノール、2,4−ビス(4−クロロフ
ェニルスルホニル)フェノール、2,4−ビス(フェニ
ルスルホニル)−5−メチルフェノール、2,4−ビス
(4−メチルフェニルスルホニル)−5−メチルフェノ
ール、2,4−ビス(フェニルスルホニル)−5−エチ
ルフェノール、2,4−ビス(4−メチルフェニルスル
ホニル)−5−エチルフェノール、2−(4−メチルフ
ェニルスルホニル)−4−(フェニルスルホニル)フェ
ノール、2−(4−エチルフェニルスルホニル)−4−
(フェニルスルホニル)フェノール、2−(2,5−ジ
メチルフェニルスルホニル)−4−(フェニルスルホニ
ル)フェノール、2−(2,4−ジメチルフェニルスル
ホニル)−4−(フェニルスルホニル)フェノール、2
−(3,4−ジメチルフェニルスルホニル)−4−(フ
ェニルスルホニル)フェノール、2−(4−クロロフェ
ニルスルホニル)−4−(フェニルスルホニル)フェノ
ール、2−(フェニルスルホニル)−4−(4−メチル
フェニルスルホニル)フェノール、2−(フェニルスル
ホニル)−4−(4−エチルフェニルスルホニル)フェ
ノール、2−(フェニルスルホニル)−4−(2,5−
ジメチルフェニルスルホニル)フェノール、2−(フェ
ニルスルホニル)−4−(2,4−ジメチルフェニルス
ルホニル)フェノール、2−(フェニルスルホニル)−
4−(3,4−ジメチルフェニルスルホニル)フェノー
ル、2−(フェニルスルホニル)−4−(4−クロロフ
ェニルスルホニル)フェノール、4,4′−ジヒドロキ
シ−5−(フェニルスルホニル)ジフェニルスルホン、
4,4′−ジヒドロキシ−5,5′−ビス(フェニルス
ルホニル)ジフェニルスルホン、2,4−ビス(2,3
−ジメチルフェニルスルホニル)−5−メチルフェノー
ル、2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニルスルホニ
ル)−5−メチルフェノール、2,4−ビス(2,5−
ジメチルフェニルスルホニル)−5−メチルフェノー
ル、2,4−ビス(3,4−ジメチルフェニルスルホニ
ル)−5−メチルフェノール等が挙げられ、これ等は単
独、或いは二種以上混合して使用してもよい。
の例としては、2,4−ビス(フェニルスルホニル)フ
ェノール、2,4−ビス(4−メチルフェニルスルホニ
ル)フェノール、2,4−ビス(4−エチルフェニルス
ルホニル)フェノール、2,4−ビス(4−イソプロピ
ルフェニルスルホニル)フェノール、2,4−ビス
(2,5−ジメチルフェニルスルホニル)フェノール、
2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニルスルホニル)
フェノール、2,4−ビス(3,4−ジメチルフェニル
スルホニル)フェノール、2,4−ビス(4−クロロフ
ェニルスルホニル)フェノール、2,4−ビス(フェニ
ルスルホニル)−5−メチルフェノール、2,4−ビス
(4−メチルフェニルスルホニル)−5−メチルフェノ
ール、2,4−ビス(フェニルスルホニル)−5−エチ
ルフェノール、2,4−ビス(4−メチルフェニルスル
ホニル)−5−エチルフェノール、2−(4−メチルフ
ェニルスルホニル)−4−(フェニルスルホニル)フェ
ノール、2−(4−エチルフェニルスルホニル)−4−
(フェニルスルホニル)フェノール、2−(2,5−ジ
メチルフェニルスルホニル)−4−(フェニルスルホニ
ル)フェノール、2−(2,4−ジメチルフェニルスル
ホニル)−4−(フェニルスルホニル)フェノール、2
−(3,4−ジメチルフェニルスルホニル)−4−(フ
ェニルスルホニル)フェノール、2−(4−クロロフェ
ニルスルホニル)−4−(フェニルスルホニル)フェノ
ール、2−(フェニルスルホニル)−4−(4−メチル
フェニルスルホニル)フェノール、2−(フェニルスル
ホニル)−4−(4−エチルフェニルスルホニル)フェ
ノール、2−(フェニルスルホニル)−4−(2,5−
ジメチルフェニルスルホニル)フェノール、2−(フェ
ニルスルホニル)−4−(2,4−ジメチルフェニルス
ルホニル)フェノール、2−(フェニルスルホニル)−
4−(3,4−ジメチルフェニルスルホニル)フェノー
ル、2−(フェニルスルホニル)−4−(4−クロロフ
ェニルスルホニル)フェノール、4,4′−ジヒドロキ
シ−5−(フェニルスルホニル)ジフェニルスルホン、
4,4′−ジヒドロキシ−5,5′−ビス(フェニルス
ルホニル)ジフェニルスルホン、2,4−ビス(2,3
−ジメチルフェニルスルホニル)−5−メチルフェノー
ル、2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニルスルホニ
ル)−5−メチルフェノール、2,4−ビス(2,5−
ジメチルフェニルスルホニル)−5−メチルフェノー
ル、2,4−ビス(3,4−ジメチルフェニルスルホニ
ル)−5−メチルフェノール等が挙げられ、これ等は単
独、或いは二種以上混合して使用してもよい。
【0019】尚、上記化合物の多価金属塩において、金
属としては、亜鉛、マグネシウム、ストロンチウム、ア
ルミニウム、鉄、コバルト、ニッケル及びチタンが好ま
しく、それらのうち、亜鉛、マグネシウム、アルミニウ
ム、鉄、ニッケル及びチタンが特に好ましい。
属としては、亜鉛、マグネシウム、ストロンチウム、ア
ルミニウム、鉄、コバルト、ニッケル及びチタンが好ま
しく、それらのうち、亜鉛、マグネシウム、アルミニウ
ム、鉄、ニッケル及びチタンが特に好ましい。
【0020】本発明に係わる一般式(2)で示される化
合物の具体的な例として、以下のような化合物を挙げる
ことができる。
合物の具体的な例として、以下のような化合物を挙げる
ことができる。
【0021】1−メトキシ−2,4−ビス(フェニルス
ルホニル)ベンゼン、1−エトキシ−2,4−ビス(フ
ェニルスルホニル)ベンゼン、1−n−プロポキシ−
2,4−ビス(フェニルスルホニル)ベンゼン、1−i
so−プロポキシ−2,4−ビス(フェニルスルホニ
ル)ベンゼン、1−n−ブトキシ−2,4−ビス(フェ
ニルスルホニル)ベンゼン、1−sec−ブトキシ−
2,4−ビス(フェニルスルホニル)ベンゼン、{2,
4−ビス(フェニルスルホニル)フェニル}ベンジルエ
ーテル、{2,4−ビス(フェニルスルホニル)フェニ
ル}アリルエーテル、{2,4−ビス(フェニルスルホ
ニル)フェニル}フェニルエーテル、{2,4−ビス
(フェニルスルホニル)フェニル}メタンスルホネー
ト、{2,4−ビス(フェニルスルホニル)フェニル}
ベンゼンスルホネート、{2,4−ビス(フェニルスル
ホニル)フェニル}4−メチルベンゼンスルホネート、
{2,4−ビス(フェニルスルホニル)フェニル}2,
4−ジメチルベンゼンスルホネート、{2,4−ビス
(フェニルスルホニル)フェニル}2,5−ジメチルベ
ンゼンスルホネート、{2,4−ビス(フェニルスルホ
ニル)フェニル}3,4−ジメチルベンゼンスルホネー
ト、{2,4−ビス(フェニルスルホニル)フェニル}
アセテート、1−ステアロイルオキシ−2,4−ビス
(フェニルスルホニル)ベンゼン、{2,4−ビス(フ
ェニルスルホニル)フェニル}フェニルカルボキシレー
ト、{2,4−ビス(フェニルスルホニル)フェニル}
4−メチルフェニルカルボキシレート、{2,4−ビス
(フェニルスルホニル)フェニル}アクリレート、
{2,4−ビス(フェニルスルホニル)フェニル}メタ
クリレート、1−{2,4−ビス(フェニルスルホニ
ル)フェノキシ}−2,3−エポキシプロパン、{2,
4−ビス(フェニルスルホニル)フェニル}n−ヘキシ
ルエーテル、{2,4−ビス(フェニルスルホニル)フ
ェニル}ステアリルエーテル、{2,4−ビス(フェニ
ルスルホニル)フェニル}シクロヘキシルエーテル、1
−iso−プロポキシ−2,4−ビス(4−メチルフェ
ニルスルホニル)ベンゼン、1−メトキシ−2,4−ビ
ス(4−メチルフェニルスルホニル)ベンゼン、{2,
4−ビス(4−メチルフェニルスルホニル)フェニル}
ベンゼンスルホネート、{2,4−ビス(4−メチルフ
ェニルスルホニル)フェニル}4−メチルベンゼンスル
ホネート、{2,4−ビス(4−メチルフェニルスルホ
ニル)フェニル}フェニルカルボキシレート、1−メト
キシ−2,4−ビス(2,5−ジメチルフェニルスルホ
ニル)ベンゼン、{2,4−ビス(2,5−ジメチルフ
ェニルスルホニル)フェニル}ベンゼンスルホネート、
{2,4−ビス(2,5−ジメチルフェニルスルホニ
ル)フェニル}2,5−ジメチルベンゼンスルホネー
ト、{2,4−ビス(2,5−ジメチルフェニルスルホ
ニル)フェニル}フェニルカルボキシレート、1−is
o−プロポキシ−2,4−ビス(フェニルスルホニル)
−5−メチルベンゼン、1−エトキシ−2,4−ビス
(フェニルスルホニル)−5−メチルベンゼン、{2,
4−ビス(フェニルスルホニル)−5−メチルフェニ
ル}ベンゼンスルホネート、{2,4−ビス(フェニル
スルホニル)−5−メチルフェニル}フェニルカルボキ
シレート、1−iso−プロポキシ−2,4−ビス(フ
ェニルスルホニル)−5−エチルベンゼン、1−エトキ
シ−2,4−ビス(フェニルスルホニル)−5−エチル
ベンゼン、{2,4−ビス(フェニルスルホニル)−5
−エチルフェニル}ベンゼンスルホネート、{1−is
o−プロポキシ−2−(4−メチルフェニルスルホニ
ル)−4−フェニルスルホニル}ベンゼン、{2−(4
−メチルフェニルスルホニル)−4−(フェニルスルホ
ニル)フェニル}アリルエーテル、{2−(4−メチル
フェニルスルホニル)−4−(フェニルスルホニル)フ
ェニル}ベンゼンスルホネート、{2−(4−メチルフ
ェニルスルホニル)−4−(フェニルスルホニル)フェ
ニル}フェニルカルボキシレート、{1−メトキシ−2
−(4−メチルフェニルスルホニル)−4−フェニルス
ルホニル}ベンゼン、{1−iso−プロポキシ−2−
(2,5−ジメチルフェニルスルホニル)−4−フェニ
ルスルホニル}ベンゼン、{2−(2,5−ジメチルフ
ェニルスルホニル)−4−(フェニルスルホニル)フェ
ニル}ベンゼンスルホネート、{2−(2,5−ジメチ
ルフェニルスルホニル)−4−(フェニルスルホニル)
フェニル}フェニルカルボキシレート、{1−メトキシ
−2−(2,5−ジメチルフェニルスルホニル)−4−
フェニルスルホニル}ベンゼン、1−iso−プロポキ
シ−2,4−ビス(3,4−ジメチルフェニルスルホニ
ル)ベンゼン、{2,4−ビス(3,4−ジメチルフェ
ニルスルホニル)フェニル}アリルエーテル、{2,4
−ビス(3,4−ジメチルフェニルスルホニル)フェニ
ル}ベンゼンスルホネート、{2,4−ビス(3,4−
ジメチルフェニルスルホニル)フェニル}3,4−ジメ
チルベンゼンスルホネート、{2,4−ビス(3,4−
ジメチルフェニルスルホニル)フェニル}フェニルカル
ボキシレート、1−メトキシ−2,4−ビス(3,4−
ジメチルフェニルスルホニル)ベンゼン、1−iso−
プロポキシ−2,4−ビス(4−クロロフェニルスルホ
ニル)ベンゼン、{2,4−ビス(4−クロロフェニル
スルホニル)フェニル}ベンゼンスルホネート、{2,
4−ビス(4−クロロフェニルスルホニル)フェニル}
4−クロロベンゼンスルホネート。
ルホニル)ベンゼン、1−エトキシ−2,4−ビス(フ
ェニルスルホニル)ベンゼン、1−n−プロポキシ−
2,4−ビス(フェニルスルホニル)ベンゼン、1−i
so−プロポキシ−2,4−ビス(フェニルスルホニ
ル)ベンゼン、1−n−ブトキシ−2,4−ビス(フェ
ニルスルホニル)ベンゼン、1−sec−ブトキシ−
2,4−ビス(フェニルスルホニル)ベンゼン、{2,
4−ビス(フェニルスルホニル)フェニル}ベンジルエ
ーテル、{2,4−ビス(フェニルスルホニル)フェニ
ル}アリルエーテル、{2,4−ビス(フェニルスルホ
ニル)フェニル}フェニルエーテル、{2,4−ビス
(フェニルスルホニル)フェニル}メタンスルホネー
ト、{2,4−ビス(フェニルスルホニル)フェニル}
ベンゼンスルホネート、{2,4−ビス(フェニルスル
ホニル)フェニル}4−メチルベンゼンスルホネート、
{2,4−ビス(フェニルスルホニル)フェニル}2,
4−ジメチルベンゼンスルホネート、{2,4−ビス
(フェニルスルホニル)フェニル}2,5−ジメチルベ
ンゼンスルホネート、{2,4−ビス(フェニルスルホ
ニル)フェニル}3,4−ジメチルベンゼンスルホネー
ト、{2,4−ビス(フェニルスルホニル)フェニル}
アセテート、1−ステアロイルオキシ−2,4−ビス
(フェニルスルホニル)ベンゼン、{2,4−ビス(フ
ェニルスルホニル)フェニル}フェニルカルボキシレー
ト、{2,4−ビス(フェニルスルホニル)フェニル}
4−メチルフェニルカルボキシレート、{2,4−ビス
(フェニルスルホニル)フェニル}アクリレート、
{2,4−ビス(フェニルスルホニル)フェニル}メタ
クリレート、1−{2,4−ビス(フェニルスルホニ
ル)フェノキシ}−2,3−エポキシプロパン、{2,
4−ビス(フェニルスルホニル)フェニル}n−ヘキシ
ルエーテル、{2,4−ビス(フェニルスルホニル)フ
ェニル}ステアリルエーテル、{2,4−ビス(フェニ
ルスルホニル)フェニル}シクロヘキシルエーテル、1
−iso−プロポキシ−2,4−ビス(4−メチルフェ
ニルスルホニル)ベンゼン、1−メトキシ−2,4−ビ
ス(4−メチルフェニルスルホニル)ベンゼン、{2,
4−ビス(4−メチルフェニルスルホニル)フェニル}
ベンゼンスルホネート、{2,4−ビス(4−メチルフ
ェニルスルホニル)フェニル}4−メチルベンゼンスル
ホネート、{2,4−ビス(4−メチルフェニルスルホ
ニル)フェニル}フェニルカルボキシレート、1−メト
キシ−2,4−ビス(2,5−ジメチルフェニルスルホ
ニル)ベンゼン、{2,4−ビス(2,5−ジメチルフ
ェニルスルホニル)フェニル}ベンゼンスルホネート、
{2,4−ビス(2,5−ジメチルフェニルスルホニ
ル)フェニル}2,5−ジメチルベンゼンスルホネー
ト、{2,4−ビス(2,5−ジメチルフェニルスルホ
ニル)フェニル}フェニルカルボキシレート、1−is
o−プロポキシ−2,4−ビス(フェニルスルホニル)
−5−メチルベンゼン、1−エトキシ−2,4−ビス
(フェニルスルホニル)−5−メチルベンゼン、{2,
4−ビス(フェニルスルホニル)−5−メチルフェニ
ル}ベンゼンスルホネート、{2,4−ビス(フェニル
スルホニル)−5−メチルフェニル}フェニルカルボキ
シレート、1−iso−プロポキシ−2,4−ビス(フ
ェニルスルホニル)−5−エチルベンゼン、1−エトキ
シ−2,4−ビス(フェニルスルホニル)−5−エチル
ベンゼン、{2,4−ビス(フェニルスルホニル)−5
−エチルフェニル}ベンゼンスルホネート、{1−is
o−プロポキシ−2−(4−メチルフェニルスルホニ
ル)−4−フェニルスルホニル}ベンゼン、{2−(4
−メチルフェニルスルホニル)−4−(フェニルスルホ
ニル)フェニル}アリルエーテル、{2−(4−メチル
フェニルスルホニル)−4−(フェニルスルホニル)フ
ェニル}ベンゼンスルホネート、{2−(4−メチルフ
ェニルスルホニル)−4−(フェニルスルホニル)フェ
ニル}フェニルカルボキシレート、{1−メトキシ−2
−(4−メチルフェニルスルホニル)−4−フェニルス
ルホニル}ベンゼン、{1−iso−プロポキシ−2−
(2,5−ジメチルフェニルスルホニル)−4−フェニ
ルスルホニル}ベンゼン、{2−(2,5−ジメチルフ
ェニルスルホニル)−4−(フェニルスルホニル)フェ
ニル}ベンゼンスルホネート、{2−(2,5−ジメチ
ルフェニルスルホニル)−4−(フェニルスルホニル)
フェニル}フェニルカルボキシレート、{1−メトキシ
−2−(2,5−ジメチルフェニルスルホニル)−4−
フェニルスルホニル}ベンゼン、1−iso−プロポキ
シ−2,4−ビス(3,4−ジメチルフェニルスルホニ
ル)ベンゼン、{2,4−ビス(3,4−ジメチルフェ
ニルスルホニル)フェニル}アリルエーテル、{2,4
−ビス(3,4−ジメチルフェニルスルホニル)フェニ
ル}ベンゼンスルホネート、{2,4−ビス(3,4−
ジメチルフェニルスルホニル)フェニル}3,4−ジメ
チルベンゼンスルホネート、{2,4−ビス(3,4−
ジメチルフェニルスルホニル)フェニル}フェニルカル
ボキシレート、1−メトキシ−2,4−ビス(3,4−
ジメチルフェニルスルホニル)ベンゼン、1−iso−
プロポキシ−2,4−ビス(4−クロロフェニルスルホ
ニル)ベンゼン、{2,4−ビス(4−クロロフェニル
スルホニル)フェニル}ベンゼンスルホネート、{2,
4−ビス(4−クロロフェニルスルホニル)フェニル}
4−クロロベンゼンスルホネート。
【0022】顕色剤として使用する一般式(1)の化合
物及びその多価金属塩の総量は、塩基性染料100重量
部に対し、50〜600重量部、好ましくは100〜4
00重量部である。更に、本顕色剤の水和防止剤として
の一般式(2)で示される化合物の使用量は、使用する
顕色剤100重量部に対し、0.001〜200重量
部、好ましくは0.002〜100重量部である。又、
上記した顔料の合計使用量は、塩基性染料100重量部
に対し、10〜2,000重量部、好ましくは20〜
1,000重量部である。このうち水酸化アルミニウム
の使用量は該合計使用量の10〜100%、好ましくは
20〜100%程度である。
物及びその多価金属塩の総量は、塩基性染料100重量
部に対し、50〜600重量部、好ましくは100〜4
00重量部である。更に、本顕色剤の水和防止剤として
の一般式(2)で示される化合物の使用量は、使用する
顕色剤100重量部に対し、0.001〜200重量
部、好ましくは0.002〜100重量部である。又、
上記した顔料の合計使用量は、塩基性染料100重量部
に対し、10〜2,000重量部、好ましくは20〜
1,000重量部である。このうち水酸化アルミニウム
の使用量は該合計使用量の10〜100%、好ましくは
20〜100%程度である。
【0023】次に、本発明に使用される塩基性染料、増
感剤、金属セッケン、ワックス、界面活性剤及び分散剤
について述べる。
感剤、金属セッケン、ワックス、界面活性剤及び分散剤
について述べる。
【0024】塩基性染料としては、トリアリールメタン
系化合物、ジアリールメタン系化合物、ピリジン系化合
物、スピロ系化合物、ローダミン−ラクタム系化合物、
フルオラン系化合物、インドリルフタリド系化合物、フ
ルオレン系化合物等が例示される。中でも、3−N,N
−ジブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラ
ン、3−N,N−ジエチルアミノ−6−メチル−7−ア
ニリノフルオラン、3−(N−イソペンチル−N−エチ
ル)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N
−シクロヘキシル−N−メチル)−6−メチル−7−ア
ニリノフルオラン、3−N,N−ジエチル−6−クロロ
−7−アニリノフルオラン、クリスタルバイオレットラ
クトン等が代表的なものとして例示される。これらの塩
基性染料は単独で用いても、あるいは発色画像の色調の
調整や多色感熱記録体を得る等の目的で二種以上混合し
ても良い。
系化合物、ジアリールメタン系化合物、ピリジン系化合
物、スピロ系化合物、ローダミン−ラクタム系化合物、
フルオラン系化合物、インドリルフタリド系化合物、フ
ルオレン系化合物等が例示される。中でも、3−N,N
−ジブチルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラ
ン、3−N,N−ジエチルアミノ−6−メチル−7−ア
ニリノフルオラン、3−(N−イソペンチル−N−エチ
ル)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N
−シクロヘキシル−N−メチル)−6−メチル−7−ア
ニリノフルオラン、3−N,N−ジエチル−6−クロロ
−7−アニリノフルオラン、クリスタルバイオレットラ
クトン等が代表的なものとして例示される。これらの塩
基性染料は単独で用いても、あるいは発色画像の色調の
調整や多色感熱記録体を得る等の目的で二種以上混合し
ても良い。
【0025】増感剤としては含窒素化合物、エステル化
合物、炭化水素化合物、エーテル化合物、スルホン化合
物等が例示される。中でも、β−ナフチルベンジルエー
テル、ステアリン酸アミド、4−ベンジルオキシ安息香
酸ベンジルエステル、シュウ酸ジベンジル、シュウ酸−
ジ−P−メチルベンジル、ビス(4−メチルフェニル)
カーボネート、4−ベンジルフェニル、m−タ−フェニ
ル、1,2−ビス(3−メチルフェノキシ)エタン、
1,2−ビス(フェノキシ)エタン、ジフェニルスルホ
ン、3,3′,4,4′−テトラメチル−ジフェニルエ
タン等が代表的なものとして例示される。これらの増感
剤は、単独で用いても、あるいは二種以上混合してもよ
い。更に、これらの増感剤の使用量は、塩基性染料10
0重量部に対し、50〜800重量部好ましくは100
〜400重量部である。
合物、炭化水素化合物、エーテル化合物、スルホン化合
物等が例示される。中でも、β−ナフチルベンジルエー
テル、ステアリン酸アミド、4−ベンジルオキシ安息香
酸ベンジルエステル、シュウ酸ジベンジル、シュウ酸−
ジ−P−メチルベンジル、ビス(4−メチルフェニル)
カーボネート、4−ベンジルフェニル、m−タ−フェニ
ル、1,2−ビス(3−メチルフェノキシ)エタン、
1,2−ビス(フェノキシ)エタン、ジフェニルスルホ
ン、3,3′,4,4′−テトラメチル−ジフェニルエ
タン等が代表的なものとして例示される。これらの増感
剤は、単独で用いても、あるいは二種以上混合してもよ
い。更に、これらの増感剤の使用量は、塩基性染料10
0重量部に対し、50〜800重量部好ましくは100
〜400重量部である。
【0026】金属セッケンとしては、ステアリン酸亜
鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウ
ム等が例示される。
鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウ
ム等が例示される。
【0027】ワックスとしては、パラフィンワックス、
マイクロクリスタリンワックス、ポリエチレンワックス
等が例示される。
マイクロクリスタリンワックス、ポリエチレンワックス
等が例示される。
【0028】界面活性剤としては、スルホコハク酸系の
アルカリ金属塩、アルキルベンゼンスルホン酸のアルカ
リ金属塩、ラウリルアルコール硫酸エステルのナトリウ
ム塩等が例示される。分散剤としては、ポリアクリル酸
ソーダ、ポリビニルアルコール(各種の鹸化度、pH及
び重合度のもの)、カルボキシメチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、ポリアクリルアミド、でんぷ
ん、スチレン−無水マレイン酸共重合体のアンモニウム
塩等が例示される。
アルカリ金属塩、アルキルベンゼンスルホン酸のアルカ
リ金属塩、ラウリルアルコール硫酸エステルのナトリウ
ム塩等が例示される。分散剤としては、ポリアクリル酸
ソーダ、ポリビニルアルコール(各種の鹸化度、pH及
び重合度のもの)、カルボキシメチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、ポリアクリルアミド、でんぷ
ん、スチレン−無水マレイン酸共重合体のアンモニウム
塩等が例示される。
【0029】本発明に係わる感熱記録層は公知の方法に
より製造することができ、何ら特殊な方法を採用する必
要はない。例えば、塩基性染料、顕色剤、増感剤、顔
料、金属セッケン、ワックス等を界面活性剤、消泡剤及
び分散剤等を含む水性媒体中で、ボールミル、サンドミ
ル等の手段により通常5μm以下、好ましくは1.5μ
m以下の粒径にまで粉砕・分散させて塗液を調製するこ
とができる。次に、その感熱記録層は従来より公知の技
術に従って形成することができ、形成方法は特に限定さ
れるものではない。例えば、感熱記録層用の塗液を支持
体面上にエアーナイフコーター、ブレーダーコーター、
バーコーター、ロッドコーター、グラビアコーター、カ
ーテンコーター、ワイヤーバー等の適当な塗布装置で塗
布し、乾燥して記録層を形成することができる。塗液の
塗布量に関しても特に限定するものではなく、支持体面
に対し、一般に乾燥重量で0.5〜50gr/m2 、好
ましくは1.0〜20.0gr/m2 の範囲である。支
持体としては、紙、プラスチックシート、合成紙等が用
いられる。又、更に保存性等を高める目的で、感熱記録
層の上に、保護層を設けてもよい。
より製造することができ、何ら特殊な方法を採用する必
要はない。例えば、塩基性染料、顕色剤、増感剤、顔
料、金属セッケン、ワックス等を界面活性剤、消泡剤及
び分散剤等を含む水性媒体中で、ボールミル、サンドミ
ル等の手段により通常5μm以下、好ましくは1.5μ
m以下の粒径にまで粉砕・分散させて塗液を調製するこ
とができる。次に、その感熱記録層は従来より公知の技
術に従って形成することができ、形成方法は特に限定さ
れるものではない。例えば、感熱記録層用の塗液を支持
体面上にエアーナイフコーター、ブレーダーコーター、
バーコーター、ロッドコーター、グラビアコーター、カ
ーテンコーター、ワイヤーバー等の適当な塗布装置で塗
布し、乾燥して記録層を形成することができる。塗液の
塗布量に関しても特に限定するものではなく、支持体面
に対し、一般に乾燥重量で0.5〜50gr/m2 、好
ましくは1.0〜20.0gr/m2 の範囲である。支
持体としては、紙、プラスチックシート、合成紙等が用
いられる。又、更に保存性等を高める目的で、感熱記録
層の上に、保護層を設けてもよい。
【0030】
【実施例】以下に、本発明を実施例によって説明する。 [実施例1] 塩基性染料分散液の調製 3−N,N−ジブチルアミノ−6−メチル−7−アニリ
ノフルオラン20grを、濃度5%ポリビニルアルコー
ル(商品名;PVA−117、クラレ社製)水溶液80
gr中でサンドグラインダー(イガラシ機械社製 TS
G4H)を用いて粉砕して、平均粒径0.6μmの塩基
性染料分散液を調製した。
ノフルオラン20grを、濃度5%ポリビニルアルコー
ル(商品名;PVA−117、クラレ社製)水溶液80
gr中でサンドグラインダー(イガラシ機械社製 TS
G4H)を用いて粉砕して、平均粒径0.6μmの塩基
性染料分散液を調製した。
【0031】増感剤分散液の調製 1,2−ビス(3−メチルフェノキシ)エタン20gr
を、濃度5%ポリビニルアルコール(PVA−117)
水溶液30gr中でサンドグラインダーを用いて粉砕し
て、平均粒径0.6μmの増感剤分散液を調製した。
を、濃度5%ポリビニルアルコール(PVA−117)
水溶液30gr中でサンドグラインダーを用いて粉砕し
て、平均粒径0.6μmの増感剤分散液を調製した。
【0032】顕色剤分散液の調製 2,4−ビス(2,5−ジメチルフェニルスルホニル)
フェノール20grを、濃度5%メチルセルロース(商
品名;メトローズ60SH−03、信越化学工業社製)
水溶液30gr中でサンドグラインダーを用いて粉砕し
て平均粒径1.1μmの顕色剤分散液を調製した。
フェノール20grを、濃度5%メチルセルロース(商
品名;メトローズ60SH−03、信越化学工業社製)
水溶液30gr中でサンドグラインダーを用いて粉砕し
て平均粒径1.1μmの顕色剤分散液を調製した。
【0033】顔料分散液の調製 水酸化アルミニウム(商品名;ハイジライトH−42、
昭和電工社製)30gr、水69gr及び濃度10%ポ
リアクリル酸ソーダ水溶液1.0grを回転数5,00
0rpmのホモジナイザー(特殊機化社製 TKホモデ
ィスパーL型)で5分間撹拌して、顔料分散液を調製し
た。
昭和電工社製)30gr、水69gr及び濃度10%ポ
リアクリル酸ソーダ水溶液1.0grを回転数5,00
0rpmのホモジナイザー(特殊機化社製 TKホモデ
ィスパーL型)で5分間撹拌して、顔料分散液を調製し
た。
【0034】感熱記録層塗布液の調製 上記の塩基性染料分散液3gr、増感剤分散液3gr、
顕色剤分散液3gr、及び顔料分散液7gr、更に濃度
30%ハイドリンZ−7(中京油脂社製の商品名)2.
0gr、濃度30%ハイドリンP(中京油脂社製の商品
名)1.0gr、濃度5%ポリビニルアルコール(PV
A−117)水溶液6g及び水9grを混合して、感熱
記録層塗布液を得た。
顕色剤分散液3gr、及び顔料分散液7gr、更に濃度
30%ハイドリンZ−7(中京油脂社製の商品名)2.
0gr、濃度30%ハイドリンP(中京油脂社製の商品
名)1.0gr、濃度5%ポリビニルアルコール(PV
A−117)水溶液6g及び水9grを混合して、感熱
記録層塗布液を得た。
【0035】感熱記録紙の作製 紙支持体面上に、乾燥後の感熱記録層重量が5gr/m
2 となるように、ワイヤーバーを用いて感熱記録層塗布
液を塗布し、60℃のオーブン中で乾燥後、平滑度20
0秒(ベック法)となるようにキャレンダー処理した。
2 となるように、ワイヤーバーを用いて感熱記録層塗布
液を塗布し、60℃のオーブン中で乾燥後、平滑度20
0秒(ベック法)となるようにキャレンダー処理した。
【0036】[実施例2]実施例1の顕色剤分散液の調
製において、2,4−ビス(2,5−ジメチルフェニル
スルホニル)フェノール20grに代えて、{2,4−
ビス(フェニルスルホニル)フェニル}ベンゼンスルホ
ネートを1.2%含有する2,4−ビス(フェニルスル
ホニル)フェノール20gを用いた以外はすべて実施例
1と同様に操作した。
製において、2,4−ビス(2,5−ジメチルフェニル
スルホニル)フェノール20grに代えて、{2,4−
ビス(フェニルスルホニル)フェニル}ベンゼンスルホ
ネートを1.2%含有する2,4−ビス(フェニルスル
ホニル)フェノール20gを用いた以外はすべて実施例
1と同様に操作した。
【0037】[実施例3]実施例1の顔料分散液の調製
において、水酸化アルミニウム(ハイジライトH−4
2)30grに代えて、水酸化アルミニウム(ハイジラ
イトH−42)10grと焼成カオリン(商品名;アン
シレックス−93、菱三商事社製)20grを用いた以
外は実施例1と同様に操作した。
において、水酸化アルミニウム(ハイジライトH−4
2)30grに代えて、水酸化アルミニウム(ハイジラ
イトH−42)10grと焼成カオリン(商品名;アン
シレックス−93、菱三商事社製)20grを用いた以
外は実施例1と同様に操作した。
【0038】[実施例4]実施例1の塩基性染料分散液
の調製において、濃度5%ポリビニルアルコール(PV
A−117)水溶液80grに代えて、濃度5%ポリビ
ニルアルコール(PVA−117)水溶液60grと濃
度20%スチレン−無水マレイン酸共重合体のアンモニ
ウム塩(商品名;アラスター703S、荒川化学社製)
水溶液20grを用い、更に、実施例1の顕色剤分散液
の調製において、濃度5%メチルセルロース(メトロー
ズ60SH−03)水溶液30grに代えて、濃度5%
メチルセルロース(メトローズ60SH−03)水溶液
23grと濃度20%スチレン−無水マレイン酸共重合
体のアンモニウム塩(アラスター703S)7grを用
いた以外は実施例1と同様に操作した。
の調製において、濃度5%ポリビニルアルコール(PV
A−117)水溶液80grに代えて、濃度5%ポリビ
ニルアルコール(PVA−117)水溶液60grと濃
度20%スチレン−無水マレイン酸共重合体のアンモニ
ウム塩(商品名;アラスター703S、荒川化学社製)
水溶液20grを用い、更に、実施例1の顕色剤分散液
の調製において、濃度5%メチルセルロース(メトロー
ズ60SH−03)水溶液30grに代えて、濃度5%
メチルセルロース(メトローズ60SH−03)水溶液
23grと濃度20%スチレン−無水マレイン酸共重合
体のアンモニウム塩(アラスター703S)7grを用
いた以外は実施例1と同様に操作した。
【0039】[実施例5]実施例4の顕色剤分散液の調
製において、2,4−ビス(2,5−ジメチルフェニル
スルホニル)フェノール20grに代えて、2,4−ビ
ス(2,5−ジメチルフェニルスルホニル)−5−メチ
ルフェノール20grを用いた以外は実施例4と同様に
操作した。
製において、2,4−ビス(2,5−ジメチルフェニル
スルホニル)フェノール20grに代えて、2,4−ビ
ス(2,5−ジメチルフェニルスルホニル)−5−メチ
ルフェノール20grを用いた以外は実施例4と同様に
操作した。
【0040】[実施例6]実施例4の顕色剤分散液の調
製において、2,4−ビス(2,5−ジメチルフェニル
スルホニル)フェノール20grに代えて、2,4−ビ
ス(フェニルスルホニル)−5−メチルフェノール20
grを用いた以外は実施例4と同様に操作した。
製において、2,4−ビス(2,5−ジメチルフェニル
スルホニル)フェノール20grに代えて、2,4−ビ
ス(フェニルスルホニル)−5−メチルフェノール20
grを用いた以外は実施例4と同様に操作した。
【0041】[比較例1]実施例2の顔料分散液の調製
において、水酸化アルミニウム(ハイジライトH−4
2)30grに代えて、炭酸カルシウム(商品名;ユニ
バー70、白石工業社製)30grを用いた以外は実施
例2と同様に操作した。
において、水酸化アルミニウム(ハイジライトH−4
2)30grに代えて、炭酸カルシウム(商品名;ユニ
バー70、白石工業社製)30grを用いた以外は実施
例2と同様に操作した。
【0042】[比較例2]比較例1の顕色剤分散液の調
製において、2,4−ビス(フェニルスルホニル)フェ
ノール20grに代えて、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)プロパン20grを用いた以外は比較例1
と同様に操作した。
製において、2,4−ビス(フェニルスルホニル)フェ
ノール20grに代えて、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)プロパン20grを用いた以外は比較例1
と同様に操作した。
【0043】[比較例3]比較例2の顔料分散液の調製
において、炭酸カルシウム(ユニバー70)30grに
代えて、水酸化アルミニウム(ハイジライトH−42)
30grを用いた以外は比較例2と同様に操作した。
において、炭酸カルシウム(ユニバー70)30grに
代えて、水酸化アルミニウム(ハイジライトH−42)
30grを用いた以外は比較例2と同様に操作した。
【0044】[比較例4]実施例1の顔料分散液の調製
において、水酸化アルミニウム30grに代えて、炭酸
カルシウム(ユニバー70)30grを用いた以外は実
施例1と同様に操作した。
において、水酸化アルミニウム30grに代えて、炭酸
カルシウム(ユニバー70)30grを用いた以外は実
施例1と同様に操作した。
【0045】次に、実施例1〜6及び比較例1〜3で得
られた感熱記録紙をFUJITUファクスFF1700
RX型機のコピーモード条件で印字テストを行い、又次
の性能比較試験を行った。その結果を表1に示す。
られた感熱記録紙をFUJITUファクスFF1700
RX型機のコピーモード条件で印字テストを行い、又次
の性能比較試験を行った。その結果を表1に示す。
【0046】性能比較試験 印字濃度 マクベス濃度計を用いて測定した。
【0047】耐熱性試験 地肌;60℃で72時間放置した後の地肌かぶりを下記
の基準で肉眼で観察した。
の基準で肉眼で観察した。
【0048】 ○:変化なし △:わずか着色 ×:着色 印字;印字紙を60℃で24時間放置した後、下記の基
準で示される印字濃度残存率(%)を測定した。
準で示される印字濃度残存率(%)を測定した。
【0049】印字濃度残存率(%)=(保存後の印字濃
度/保存前の印字濃度)×100
度/保存前の印字濃度)×100
【0050】耐湿試験 地肌;50℃、湿度90%で24時間放置した後の地肌
かぶりを、耐熱性地肌かぶり試験の基準に準じて表わし
た。
かぶりを、耐熱性地肌かぶり試験の基準に準じて表わし
た。
【0051】印字;印字紙を40℃、湿度90%で24
時間放置した後、印字濃度残存率を耐熱性印字濃度残存
率(%)に準じ表わした。
時間放置した後、印字濃度残存率を耐熱性印字濃度残存
率(%)に準じ表わした。
【0052】耐可塑剤試験 ガラスビンの外周に印字紙を巻きつけ、その上にハイラ
ップV−450(三井東圧化学社製の商品名)を3重に
巻きつけ、40℃で2時間放置した後、印字濃度残存率
を耐熱性印字濃度残存率(%)に準じ表わした。
ップV−450(三井東圧化学社製の商品名)を3重に
巻きつけ、40℃で2時間放置した後、印字濃度残存率
を耐熱性印字濃度残存率(%)に準じ表わした。
【0053】
【表1】
【0054】以上のように、本発明に係わる感熱記録体
は、発色性に優れ、且つ経時の地肌かぶりが少なく、記
録像の保存性とりわけ耐熱性、耐湿性及び耐可塑剤性に
優れていることがわかる。
は、発色性に優れ、且つ経時の地肌かぶりが少なく、記
録像の保存性とりわけ耐熱性、耐湿性及び耐可塑剤性に
優れていることがわかる。
【0055】
【発明の効果】本発明により高感度で、しかも経時の地
肌かぶりが少なく、記録像の保存性とりわけ耐熱性、耐
湿性及び耐可塑剤性に優れた感熱記録体が提供される。
肌かぶりが少なく、記録像の保存性とりわけ耐熱性、耐
湿性及び耐可塑剤性に優れた感熱記録体が提供される。
Claims (2)
- 【請求項1】 電子供与性塩基性染料前駆体と電子受容
性顕色剤との熱発色反応を利用した感熱記録体におい
て、感熱記録層中に顕色剤として一般式(1) 【化1】 [一般式(1)において、Xは水素原子又は低級アルキ
ル基を表し、R1 ,R2及びR3 は同一でも異っていて
もよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ
ル基、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、R
4 ,R5 及びR6は同一でも異っていてもよく、それぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はシクロ
アルキル基を表し、R7 は水素原子又は 【化2】 を表し、ここでR4 ,R5 及びR6 は上記の定義の通り
である。]で示されるスルホニル化合物及びその多価金
属塩を含有せしめ、更に顔料として、水酸化アルミニウ
ムを含有せしめることを特徴とする感熱記録体。 - 【請求項2】 請求項1記載の感熱記録体において、感
熱記録層中に更に一般式(1)で示されるスルホニル化
合物及びその多価金属塩の水和防止剤として、一般式
(2) 【化3】 [一般式(2)において、X,R1 ,R2 ,R3 ,
R4 ,R5 及びR6 は請求項1記載の一般式(1)にお
けると同じ意義を有し、Yはアルキル基、アラルキル
基、アリル基、シクロヘキシル基、アルキルアリール
基、アルキルスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ア
ルキルベンゼンスルホニル基、アルキロイル基、ベンゾ
イル基、アルキルベンゾイル基、アクリロイル基、メタ
アクリロイル基又はグリシジル基を表す。]で示される
スルホニル化合物を含有せしめることを特徴とする感熱
記録体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8199937A JPH1044616A (ja) | 1996-07-30 | 1996-07-30 | 感熱記録体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8199937A JPH1044616A (ja) | 1996-07-30 | 1996-07-30 | 感熱記録体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1044616A true JPH1044616A (ja) | 1998-02-17 |
Family
ID=16416082
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8199937A Pending JPH1044616A (ja) | 1996-07-30 | 1996-07-30 | 感熱記録体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1044616A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6750174B2 (en) | 2000-12-11 | 2004-06-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat sensitive recording material |
-
1996
- 1996-07-30 JP JP8199937A patent/JPH1044616A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6750174B2 (en) | 2000-12-11 | 2004-06-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat sensitive recording material |
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