JPH09213763A - 基板処理装置 - Google Patents

基板処理装置

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JPH09213763A
JPH09213763A JP8016882A JP1688296A JPH09213763A JP H09213763 A JPH09213763 A JP H09213763A JP 8016882 A JP8016882 A JP 8016882A JP 1688296 A JP1688296 A JP 1688296A JP H09213763 A JPH09213763 A JP H09213763A
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Tsugio Nakamura
次雄 中村
Tsutomu Hirooka
努 広岡
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板を収納するカセットの移動距離を小さく
でき、カセットの自動搬送装置のレイアウトを容易にで
きる基板処理装置を提供する。 【解決手段】 基板搬送部１８と処理部１２とが平行に
配置され、基板受入部１０と基板排出部１４とが隣接し
た位置に一体的に配置される。基板受入部１０に搬入さ
れたカセットから取り出された基板２０は、基板受渡手
段２２ａを介して基板搬送部１８に受け入れられ、基板
搬送部１８の他端まで搬送され、基板搬送部１８の他端
において搬送方向が１８０度変更された上で処理部１２
に投入される。処理部１２で搬送されつつ所定の処理が
なされた基板２０は基板受渡手段２２ｂを介して基板排
出部１４に排出されてカセットに収納され、基板排出部
１４から次の工程に搬送される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は基板処理装置、特に
液晶表示装置製造用の装置において、現像工程、エッチ
ング工程、剥離工程などのウエット処理部に使用される
基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より液晶表示装置（ＬＣＤ）などを
製造する装置において、基板上にフォトレジスト膜を形
成したり、そのフォトレジスト膜を露光し現像した後に
エッチングを行ったりあるいはフォトレジスト膜を剥離
したりする工程のために、基板処理装置が使用されてい
る。図５には、このような基板処理装置の例が示され
る。
【０００３】図５に示されるように、従来は、未処理の
基板を受入れ、装置に投入するための基板受入部１０と
基板受入部１０が受け入れた未処理の基板を所定の工程
に基づいて処理する処理部１２と処理済みの基板を装置
外に排出する基板排出部１４とが直線上に配列されてい
る。
【０００４】また、基板はカセットに収納されて前工程
から基板受入部１０まで運ばれ、基板処理装置で所定の
処理がなされた後、基板排出部１４から再度カセットに
収納されて次工程に運ばれていく。
【０００５】このような基板は近年大型化しており、上
述した基板が収納されているカセットを人手によって運
搬することは少なくなっている。これに代わってカセッ
トを自動搬送装置（ＡＧＶ）によって基板受入部１０ま
で運び込みかつ基板排出部１４から運び出している。従
って、基板処理装置を設置するクリーンルーム内におい
ては、基板処理装置の配置に合わせてこのＡＧＶの軌道
１６のレイアウトを決定する必要がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した処理
部１２の内容としては、フォトレジスト膜の形成工程で
あったり、この露光工程であったりあるいは現像、エッ
チング、剥離などのウエット処理工程であったりするの
で、その長さは実施される処理工程によって異なってい
る。従って、基板受入部１０と基板排出部１４との位置
は処理部１２の長さによって装置ごとに異なってくる。
【０００７】また、基板受入部１０及び基板排出部１４
は、それぞれ処理部１２の両端すなわち基板処理装置の
両端部に配置されている。
【０００８】このため、上記従来の基板処理装置におい
ては、図５に示されるように、装置の長さに応じてＡＧ
Ｖの軌道１６を複雑な形にレイアウトする必要があり、
クリーンルーム内のＡＧＶのレイアウトが難しくなると
いう問題があった。
【０００９】さらに、上述のように、基板受入部１０と
基板排出部１４とが基板処理装置の両端に配置されてい
ることにより、これらの間で基板を収納するカセットを
移動させるためには、ＡＧＶの軌道を長くする必要があ
り、このためクリーンルーム内の面積のうち他の装置を
設置することができる有効面積が減少するという問題も
あった。
【００１０】本発明は、上記従来の課題に鑑みなされた
ものであり、その目的は、基板を収納するカセットの移
動距離を小さくでき、カセットの自動搬送装置のレイア
ウトを容易にできる基板処理装置を提供することにあ
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本願の第１の発明は、未処理の基板を受け入れる基
板受入部と、基板受入部が受け入れた未処理の基板を搬
送しつつ所定の処理を行う処理部と、処理部により処理
された基板を排出する基板排出部と、処理部と接続さ
れ、基板受入部から受け入れた基板を基板排出部まで搬
送する経路を処理部とともに形成する基板搬送部と、を
含み、基板受入部と基板排出部とが一体的に配置された
ことを特徴とする。
【００１２】また、第２の発明は、第１の発明の基板処
理装置において、基板搬送部が、基板を水平状態のまま
搬送することを特徴とする。
【００１３】また、第３の発明は、第１の発明の基板処
理装置において、基板搬送部が、基板を垂直に立てた状
態で搬送することを特徴とする。
【００１４】また、第４の発明は、第１の発明の基板処
理装置において、処理部と基板搬送部とが上下２段に配
置されたことを特徴とする。
【００１５】また、第５の発明は、第１の発明から第４
の発明のいずれかの基板処理装置において、基板受入部
及び基板排出部に、処理部及び基板搬送部との間で基板
の受け渡しを行う基板受渡手段が接続されていることを
特徴とする。
【００１６】また、第６の発明は、第５の発明の基板処
理装置において、基板受渡手段は前記基板受入部及び前
記基板排出部に共通で１台設けられていることを特徴と
する。
【００１７】また、第７の発明は、第１の発明から第６
の発明のいずれかの基板処理装置が、基板受入部及び基
板排出部を同じ側に配置されるように複数台並んで使用
されることを特徴とする。
【００１８】上記各発明によれば、基板受入部と基板排
出部とが一体的に配置されているので、基板を収納する
カセットの移動距離を短くできる。また、ＡＧＶのレイ
アウトも簡略化することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を図面に基づいて説明する。
【００２０】図１には、本発明に係る基板処理装置の平
面図が示され、図５に示された従来例と同一部材には同
一符号を付してその説明を省略する。
【００２１】図１において、基板受入部１０が、基板を
搬送するための基板搬送部１８の一端に接続されてお
り、この基板搬送部１８の他端は処理部１２の入り口に
接続されている。また、処理部１２の出口側は基板排出
部１４に接続されている。基板搬送部１８は、処理部１
２の入り口側に接続される部分が直角に折れ曲がってい
る。このような構成とすることにより、基板搬送部１８
と処理部１２とを平行に配置できるとともに基板搬送部
１８に基板を投入する基板受入部１０と、処理部１２か
ら出てきた基板を取り出す基板排出部１４とを互いに隣
接する位置に、一体的に配置することが可能になる。
【００２２】上述した本実施形態においては、基板２０
は、基板受入部１０でカセット（図示せず）から取り出
され、基板受入部１０と基板搬送部１８との間で基板受
け渡しを行う基板受渡部２２ａを介して基板搬送部１８
に渡される。基板搬送部１８においては、基板２０は搬
送ローラなどにより水平状態を保たれたまま搬送されて
いき、基板搬送部１８の端部でその搬送方向が９０度変
更され、処理部１２に入る手前でさらにその搬送方向が
９０度変更されて当初から１８０度搬送方向が変えられ
て処理部１２に投入される。
【００２３】その後、基板２０は処理部１２内で図示矢
印の方向に搬送されつつ所定の処理が施され、基板受渡
手段２２ｂを介して基板排出部１４に排出される。ここ
で、処理部１２は、例えば基板２０を矢印方向に搬送す
る多数の搬送ローラと、その搬送ローラによって搬送さ
れる基板の上面もしくは上下両面に向けて現像液、エッ
チング液、剥離液などの所定の処理液を供給する多数の
スプレーノズルとを有する。
【００２４】以上述べたように、処理部１２と基板搬送
部１８とにより、基板受入部１０が受け入れた基板２０
を基板排出部１４まで搬送する経路が形成されている。
【００２５】なお、上述の実施形態においては、基板受
入部１０が基板搬送部１８に、基板排出部１４が処理部
１２にそれぞれ接続されているが、これを逆にし、基板
受入部１０を処理部１２に、基板排出部１４を基板搬送
部１８にそれぞれ接続して基板２０の搬送方向を反対に
することもできる。
【００２６】上述したような本実施形態にかかる基板処
理装置においては、基板受入部１０および基板排出部１
４が互いに隣接する位置に一体的に設けられている。こ
のような基板処理装置を、図１に示されるように複数台
並べても、それぞれの基板受入部１０、基板排出部１４
がすべて装置の同一側になるように配置することができ
る。このため、自動搬送装置（ＡＧＶ）の軌道１６を直
線的にレイアウトすることができ、そのレイアウトが容
易になる上に軌道１６の長さを短縮化することも可能と
なる。
【００２７】また、基板受入部１０と基板排出部１４と
が隣接されているので、図５に示された従来例と比べ
て、空になったカセットの移動距離を短くすることがで
き、基板処理装置周辺部での人や物の移動がなくなって
装置環境を改善することもできる。
【００２８】さらに、処理タクトの長い装置において
は、図１に示された基板受渡手段２２ａ，２２ｂを１台
とし、基板受入部１０および基板排出部１４でこの１台
の基板受渡手段を共用させることも可能である。これに
より、基板受渡手段の設置コストを下げることができ
る。
【００２９】図２には、本発明に係る基板処理装置の他
の実施形態が示される。図２において、図１に示された
実施形態と異なる点は、基板搬送部１８が基板２０を搬
送する際に基板２０を垂直に立てて、すなわち直立させ
て搬送することである。このような構成により、図２に
示されるように、基板搬送部１８の設置面積をより少な
くすることができる。
【００３０】図３には、直立させた基板２０を水平に
し、または水平の基板２０を直立させる装置の例が示さ
れる。図３には平面図が示されており、直立した状態で
搬送されてきた基板２０が水平の状態になって排出され
る例が示されている。
【００３１】図３においては、縦搬送ローラ２４によっ
て直立した状態で搬送されてきた基板２０を水平方向に
転回させる６個の転回ローラ２６が設けられており、こ
れによって基板２０が水平方向に転回される。水平方向
になった基板２０は水平搬送ローラ２８により所定の方
向に水平状態で移動させられる。
【００３２】また、上記とは逆に、水平状態で搬送され
てきた基板２０を直立状態に転回して排出することは、
以上に述べた動作と逆の動作により実現することができ
る。なお、以上に述べた縦搬送ローラ２４、転回ローラ
２６、水平搬送ローラ２８は、図示しない駆動装置によ
ってそれぞれ駆動されている。従って、転回ローラ２６
においては、基板２０の向きを直立と水平との間で転回
する場合に、この図示しない駆動手段も転回ローラ２６
とともに転回動作をしている。
【００３３】図３に示された例においては、基板２０の
搬送方向が１８０度変更され、当初の搬送方向とは反対
方向に排出される構成となっているが、これらは各ロー
ラの配置により搬送方向を変えずに基板の向きだけ変え
ることも可能である。例えば図２に示された基板処理装
置においては、基板搬送部１８において基板受入部１０
から受け入れられた基板２０がその入口付近においてま
ず水平状態から直立状態に転回されるが、この場合には
基板の搬送方向は変えられずに同一方向に進んでいる。
一方、処理部１２に投入される直前においては基板が直
立状態から水平状態に転回されるとともにその搬送方向
も１８０度変えられている。図３に示された装置におい
ては上記いずれの場合にも各ローラの配置を変更するこ
とによって対応可能である。
【００３４】図４には、本発明にかかる基板処理装置の
さらに他の実施形態が示される。図４では、基板処理装
置を横方向から見た図が示されている。図４に示される
ように、本実施形態は、処理部１２と基板搬送部１８と
が上下に積層して配置されており、これにともなって基
板受入部１０および基板排出部１４も上下２段に配置さ
れている。
【００３５】基板搬送部１８によって搬送されてきた基
板２０は、エレベータ３０によって上方向に持ち上げら
れ、処理部１２に投入される。このような構成により、
基板の搬送方向が、前述した２つの実施形態と同様に１
８０度変更されることになり、これによって基板受入部
１０と基板排出部１４とが上下に隣接して一体的に配置
されることになる。
【００３６】上述したエレベータ３０は、基板搬送部１
８から受け入れた基板２０を持ち上げて処理部１２に投
入できる構成であれば特に限定はされず、公知の装置を
利用することができる。
【００３７】基板搬送部１８と処理部１２とを上下に積
層して配置したことにより、本実施形態にかかる基板処
理装置においては、その設置面積をさらに減少させるこ
とができる。
【００３８】以上述べてきた各実施形態においては、い
ずれも基板受入部１０および基板排出部を基板処理装置
の一方側に設けることができるので、複数台の基板処理
装置を並べて製造工程を組み立てた場合にも、ＡＧＶの
軌道１６が複雑なレイアウトとなることがない。このた
め、本実施形態にかかる基板処理装置では、複数台の装
置を並べて使用する場合に特に好適である。
【００３９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基板受入部と基板排出部とが基板処理装置の同一側に一
体的に配置されているので、自動搬送装置の軌道のレイ
アウトを直線的にすることができ、レイアウトが容易で
あり、自動搬送装置の軌道の長さも短くすることができ
る。また、基板受入部と基板排出部とが隣接されている
ので、基板を収納するカセットの移動距離を短くするこ
ともできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明にかかる基板処理装置の一実施形態の
構成図である。
【図２】 本発明にかかる基板処理装置の他の実施形態
の構成図である。
【図３】 図２にかかる基板処理装置に使用される、基
板を直立状態と水平状態の間で転回させる装置の例を示
す構成図である。
【図４】 本発明にかかる基板処理装置のさらに他の実
施形態の構成図である。
【図５】 従来における基板処理装置の配置例を示す図
である。
【符号の説明】
１０ 基板受入部、１２ 処理部、１４ 基板排出部、
１６ 軌道、１８ 基板搬送部、２０ 基板、２２ａ，
２２ｂ 基板受渡部、２４ 縦搬送ローラ、２６ 転回
ローラ、２８ 水平搬送ローラ、３０ エレベータ。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 未処理の基板を受け入れる基板受入部
    と、 前記基板受入部が受け入れた未処理の基板を搬送しつつ
    所定の処理を行う処理部と、 前記処理部により処理された基板を排出する基板排出部
    と、 前記処理部と接続され、前記基板受入部から受け入れた
    基板を前記基板排出部まで搬送する経路を前記処理部と
    ともに形成する基板搬送部と、 を含み、 前記基板受入部と前記基板排出部とが一体的に配置され
    たことを特徴とする基板処理装置。
  2. 【請求項２】 請求項１記載の基板処理装置において、 前記基板搬送部は、基板を水平状態のまま搬送すること
    を特徴とする基板処理装置。
  3. 【請求項３】 請求項１記載の基板処理装置において、 前記基板搬送部は、基板を垂直に立てた状態で搬送する
    ことを特徴とする基板処理装置。
  4. 【請求項４】 請求項１記載の基板処理装置において、 前記処理部と前記基板搬送部とが上下２段に配置された
    ことを特徴とする基板処理装置。
  5. 【請求項５】 請求項１から請求項４のいずれか一項記
    載の基板処理装置において、 前記基板受入部及び前記基板排出部には、前記処理部及
    び前記基板搬送部との間で基板の受け渡しを行う基板受
    渡手段が接続されていることを特徴とする基板処理装
    置。
  6. 【請求項６】 請求項５記載の基板処理装置において、 前記基板受渡手段は前記基板受入部及び前記基板排出部
    に共通で１台設けられていることを特徴とする基板処理
    装置。
  7. 【請求項７】 請求項１から請求項６のいずれか一項記
    載の基板処理装置は、前記基板受入部及び前記基板排出
    部が同じ側に配置されるように複数台並んで使用される
    ことを特徴とする基板処理装置。
JP8016882A 1996-02-01 1996-02-01 基板処理装置 Pending JPH09213763A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8016882A JPH09213763A (ja) 1996-02-01 1996-02-01 基板処理装置
KR1019970002502A KR100272652B1 (ko) 1996-02-01 1997-01-28 기판처리장치

Applications Claiming Priority (1)

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JP8016882A JPH09213763A (ja) 1996-02-01 1996-02-01 基板処理装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06120318A (ja) * 1992-10-08 1994-04-28 Fuji Electric Co Ltd ウェーハ洗浄装置
JP3151582B2 (ja) * 1993-04-28 2001-04-03 東京エレクトロン株式会社 真空処理装置

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KR100272652B1 (ko) 2000-12-01
KR970063658A (ko) 1997-09-12

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