JPH06120318A - ウェーハ洗浄装置 - Google Patents
ウェーハ洗浄装置Info
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- JPH06120318A JPH06120318A JP26898792A JP26898792A JPH06120318A JP H06120318 A JPH06120318 A JP H06120318A JP 26898792 A JP26898792 A JP 26898792A JP 26898792 A JP26898792 A JP 26898792A JP H06120318 A JPH06120318 A JP H06120318A
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- wafer
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Abstract
(57)【要約】
【目的】従来装置と同等な洗浄処理機能を確保しつつ、
しかも装置全体で小形，コンパクト化の推進が図れるよ
うにしたウェーハ洗浄装置を提供する。 【構成】工程間キャリア１９に収納して前処理工程より
搬入されたウェーハを、該キャリアより取出して洗浄処
理した後、再び工程間キャリアに移載して次の処理工程
へ搬出するウェーハ洗浄装置であり、クリーンブースと
して構成されウエットステーション１を二階建で構築
し、その一階部分には洗浄処理部３，ローダ部６, アン
ローダ部１１を、二階部分には工程間キャリアを一時的
に保管管理するストッカ部１５を配置し、かつ一階と二
階の間に工程間キャリアを上げ下げ移動するエレベータ
を備える。
しかも装置全体で小形，コンパクト化の推進が図れるよ
うにしたウェーハ洗浄装置を提供する。 【構成】工程間キャリア１９に収納して前処理工程より
搬入されたウェーハを、該キャリアより取出して洗浄処
理した後、再び工程間キャリアに移載して次の処理工程
へ搬出するウェーハ洗浄装置であり、クリーンブースと
して構成されウエットステーション１を二階建で構築
し、その一階部分には洗浄処理部３，ローダ部６, アン
ローダ部１１を、二階部分には工程間キャリアを一時的
に保管管理するストッカ部１５を配置し、かつ一階と二
階の間に工程間キャリアを上げ下げ移動するエレベータ
を備える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、多槽バッチ処理方式の
ウエットステーションを対象としたウェーハ洗浄装置に
関する。
ウエットステーションを対象としたウェーハ洗浄装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウェーハの製造工程で用いるウェ
ーハ洗浄装置として、ＲＣＡ洗浄ステーションで代表さ
れるウエット方式のウェーハ洗浄装置が周知である。こ
のウェーハ洗浄装置は、クリーンブースとして構築され
たステーション内にウエット洗浄処理部，ローダ部, ア
ンローダ部, および工程間キャリアを保管管理するスト
ッカ部を備え、工程間キャリアに収納して前処理工程よ
り搬入されたウェーハを、該キャリアより取出してウエ
ット洗浄処理した後、再び工程間キャリアに移載して次
の処理工程に向けて搬出するようにしたものである。
ーハ洗浄装置として、ＲＣＡ洗浄ステーションで代表さ
れるウエット方式のウェーハ洗浄装置が周知である。こ
のウェーハ洗浄装置は、クリーンブースとして構築され
たステーション内にウエット洗浄処理部，ローダ部, ア
ンローダ部, および工程間キャリアを保管管理するスト
ッカ部を備え、工程間キャリアに収納して前処理工程よ
り搬入されたウェーハを、該キャリアより取出してウエ
ット洗浄処理した後、再び工程間キャリアに移載して次
の処理工程に向けて搬出するようにしたものである。
【０００３】また、前記ウエット洗浄処理部での処理方
式としては、ウェーハを工程間キャリアから洗浄キャリ
アに移し替えた上で、洗浄から乾燥までの一連のウエッ
ト洗浄処理を行うキャリア方式、あるいは洗浄キャリア
を用いずにウェーハを工程間キャリアから直接ウェーハ
搬送ロボットに移載して一連のウエット洗浄処理を行う
キャリアレス方式が知られている。
式としては、ウェーハを工程間キャリアから洗浄キャリ
アに移し替えた上で、洗浄から乾燥までの一連のウエッ
ト洗浄処理を行うキャリア方式、あるいは洗浄キャリア
を用いずにウェーハを工程間キャリアから直接ウェーハ
搬送ロボットに移載して一連のウエット洗浄処理を行う
キャリアレス方式が知られている。
【０００４】ここで、従来におけるウェーハ洗浄装置で
は、クリーンルームの室内に据付けたステーションの内
部に、前記のウエット洗浄処理部，ローダ部, アンロー
ダ部, および工程間キャリアのストッカ部が全て同一床
面上に並べて平面的にレイアウトして配置されている。
は、クリーンルームの室内に据付けたステーションの内
部に、前記のウエット洗浄処理部，ローダ部, アンロー
ダ部, および工程間キャリアのストッカ部が全て同一床
面上に並べて平面的にレイアウトして配置されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記従来の
ウェーハ洗浄装置では、ステーション内に全ての機能部
が平面レイアウトされていることからその据付け面積が
大形化し、このために床面積の広いクリーンルームが必
要となって建屋の建設費が嵩む問題がある。そこで、ク
リーンルーム内でウェーハ洗浄装置が占有する床面積を
縮減して単位床面積当たりのウェーハ生産性を高めるた
めにも、ウェーハ洗浄装置の小形，コンパクト化を推し
進めることが大きな課題となっている。
ウェーハ洗浄装置では、ステーション内に全ての機能部
が平面レイアウトされていることからその据付け面積が
大形化し、このために床面積の広いクリーンルームが必
要となって建屋の建設費が嵩む問題がある。そこで、ク
リーンルーム内でウェーハ洗浄装置が占有する床面積を
縮減して単位床面積当たりのウェーハ生産性を高めるた
めにも、ウェーハ洗浄装置の小形，コンパクト化を推し
進めることが大きな課題となっている。
【０００６】本発明は上記の点にかんがみなされたもの
でり、その目的は従来装置と同等な洗浄処理機能を確保
しつつ、しかも装置全体で小形，コンパクト化の推進が
図れるようにしたウェーハ洗浄装置を提供することにあ
る。
でり、その目的は従来装置と同等な洗浄処理機能を確保
しつつ、しかも装置全体で小形，コンパクト化の推進が
図れるようにしたウェーハ洗浄装置を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のウェーハ洗浄装置は、ステーションを二階
建で構築し、一階部分には洗浄処理部，ローダ部, アン
ローダ部を、二階部分には工程間キャリアのストッカ部
を配置し、かつ一階と二階の間には工程間キャリアを上
げ下げ移動するエレベータを備えて構成するものとす
る。
に、本発明のウェーハ洗浄装置は、ステーションを二階
建で構築し、一階部分には洗浄処理部，ローダ部, アン
ローダ部を、二階部分には工程間キャリアのストッカ部
を配置し、かつ一階と二階の間には工程間キャリアを上
げ下げ移動するエレベータを備えて構成するものとす
る。
【０００８】ここで、前記構成においては、エレベータ
をローダ部側，およびアンローダ部側にそれぞれ配備す
るとともに、二階のストッカ部には前記各エレベータの
相互間で工程間キャリアを移送するキャリア移動装置，
およびキャリア移載機を備えるものとする。また、前記
ウェーハ洗浄装置の洗浄処理部には、ウェーハを工程間
キャリアから洗浄キャリアに移し替えた上で、一連のウ
エット洗浄処理を行うキャリア方式、および洗浄キャリ
アを用いずにウェーハを工程間キャリアから直接ウェー
ハ搬送ロボットに移載して一連のウエット洗浄処理を行
うキャリアレス方式を採用して実施することができる。
をローダ部側，およびアンローダ部側にそれぞれ配備す
るとともに、二階のストッカ部には前記各エレベータの
相互間で工程間キャリアを移送するキャリア移動装置，
およびキャリア移載機を備えるものとする。また、前記
ウェーハ洗浄装置の洗浄処理部には、ウェーハを工程間
キャリアから洗浄キャリアに移し替えた上で、一連のウ
エット洗浄処理を行うキャリア方式、および洗浄キャリ
アを用いずにウェーハを工程間キャリアから直接ウェー
ハ搬送ロボットに移載して一連のウエット洗浄処理を行
うキャリアレス方式を採用して実施することができる。
【０００９】
【作用】上記の構成のウェーハ洗浄装置において、ウェ
ーハは工程間キャリアに収納され、製造工程に沿って走
行する無人搬送台車（ＡＧＶ）に搭載して工程間搬送が
行われる。ここで、工程間キャリアが前処理工程から洗
浄装置の一階部分に搬入されると、まずローダ部におい
てウェーハが工程間キャリアから取り出され、続いてウ
ェーハは洗浄キャリアに移し替えるか（キャリア方
式），あるいはキャリア搬送ロボットで直接把持して
（キャリアレス方式）一連のウエット洗浄処理が行われ
る。一方、空になった工程間キャリアはローダ部側に設
置のエレベータに載せて二階に運び上げ、ストッカ部で
一時的に保管管理するとともに、ウエット洗浄処理のタ
クトに合わせて空の工程間キャリアをストッカ部からア
ンローダ部側に設置のエレベータに移して一階のアンロ
ーダ部に降ろし、ここで洗浄処理の済んだウェーハを工
程間キャリアに移載する。そして、工程間キャリアへの
ウェーハ移載が済むと、工程間キャリアは無人搬送台車
のポートへ移動して搬送台車に移載し、次の処理工程に
向けて搬出する。
ーハは工程間キャリアに収納され、製造工程に沿って走
行する無人搬送台車（ＡＧＶ）に搭載して工程間搬送が
行われる。ここで、工程間キャリアが前処理工程から洗
浄装置の一階部分に搬入されると、まずローダ部におい
てウェーハが工程間キャリアから取り出され、続いてウ
ェーハは洗浄キャリアに移し替えるか（キャリア方
式），あるいはキャリア搬送ロボットで直接把持して
（キャリアレス方式）一連のウエット洗浄処理が行われ
る。一方、空になった工程間キャリアはローダ部側に設
置のエレベータに載せて二階に運び上げ、ストッカ部で
一時的に保管管理するとともに、ウエット洗浄処理のタ
クトに合わせて空の工程間キャリアをストッカ部からア
ンローダ部側に設置のエレベータに移して一階のアンロ
ーダ部に降ろし、ここで洗浄処理の済んだウェーハを工
程間キャリアに移載する。そして、工程間キャリアへの
ウェーハ移載が済むと、工程間キャリアは無人搬送台車
のポートへ移動して搬送台車に移載し、次の処理工程に
向けて搬出する。
【００１０】しかも、前記構成においてはステーション
が二階建として構築され、かつ工程間キャリアのストッ
カ部がステーションの二階部分に配備されているので、
その分だけステーション全体の占有床面積が縮減化が図
れることになる。
が二階建として構築され、かつ工程間キャリアのストッ
カ部がステーションの二階部分に配備されているので、
その分だけステーション全体の占有床面積が縮減化が図
れることになる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。なお、図示例はキャリアレス方式のウェーハ洗浄
装置である。図１〜図３において、１はクリーンブース
として構成されたウエットステーションである。該ステ
ーション１は二階建構造に構築されており、各階ごとに
ブース内に清浄空気をダウンフロー式に流す送風機，Ｈ
ＥＰＡフィルタを組合わせたクリーンユニット２を装備
している。
する。なお、図示例はキャリアレス方式のウェーハ洗浄
装置である。図１〜図３において、１はクリーンブース
として構成されたウエットステーションである。該ステ
ーション１は二階建構造に構築されており、各階ごとに
ブース内に清浄空気をダウンフロー式に流す送風機，Ｈ
ＥＰＡフィルタを組合わせたクリーンユニット２を装備
している。
【００１２】ここで、ステーション１の一階部分には、
薬液槽，洗浄槽，リンス槽を交互に並べた多槽バッチ式
のウエット洗浄処理部３，ウェーハ乾燥部４，およびそ
の側方に移動してウェーハをハンドリング操作するウェ
ーハ搬送ロボット５の他に、左側端のローダ部６にはキ
ャリア移載ロボット７，ウェーハ移載ポート８，工程間
でキャリアを搬送する無人搬送台車（ＡＧＶ）の搬入，
搬出ポート９，１０などが配置されており、さらに右側
端のアンローダ部１１にはウェーハ移載ポート８を備え
ている。一方、ステーション１の二階部分には、往路，
復路用のキャリア移動装置１２，１３、およびキャリア
移載ロボット１４を組合わせた工程間キャリアのストッ
カ部１５が装備されている。さらに、ステーション１の
一階部分と二階部分との間には、前記のローダ部６，ア
ンローダ部１１にそれぞれ対応して工程間キャリアを上
げ下げ移動するエレベータ１６，１７，および１８を備
えている。
薬液槽，洗浄槽，リンス槽を交互に並べた多槽バッチ式
のウエット洗浄処理部３，ウェーハ乾燥部４，およびそ
の側方に移動してウェーハをハンドリング操作するウェ
ーハ搬送ロボット５の他に、左側端のローダ部６にはキ
ャリア移載ロボット７，ウェーハ移載ポート８，工程間
でキャリアを搬送する無人搬送台車（ＡＧＶ）の搬入，
搬出ポート９，１０などが配置されており、さらに右側
端のアンローダ部１１にはウェーハ移載ポート８を備え
ている。一方、ステーション１の二階部分には、往路，
復路用のキャリア移動装置１２，１３、およびキャリア
移載ロボット１４を組合わせた工程間キャリアのストッ
カ部１５が装備されている。さらに、ステーション１の
一階部分と二階部分との間には、前記のローダ部６，ア
ンローダ部１１にそれぞれ対応して工程間キャリアを上
げ下げ移動するエレベータ１６，１７，および１８を備
えている。
【００１３】かかる構成で、所定枚数の被洗浄ウェーハ
を収納した工程間キャリア１９が、無人搬送台車（ＡＧ
Ｖ）に載って前処理工程からウエットステーション１の
搬入ポート８に進入して来ると、まずキャリア移載ロボ
ット７が工程間キャリアを搬送台車から引出してウェー
ハ移載ポート８に移し、この位置でウェーハ搬送ロボッ
ト５のハンドリング操作によりキャリアからウェーハを
掴み出す。続いてウェーハ搬送ロボット５はウェーハを
把持したままウェーハ洗浄処理部３の薬液槽，洗浄槽，
リンス槽を間を順に移し替えながら一連のウェーハ洗浄
処理を行い、ファイナルリンスの後にウェーハを乾燥部
４に移して乾燥させる。
を収納した工程間キャリア１９が、無人搬送台車（ＡＧ
Ｖ）に載って前処理工程からウエットステーション１の
搬入ポート８に進入して来ると、まずキャリア移載ロボ
ット７が工程間キャリアを搬送台車から引出してウェー
ハ移載ポート８に移し、この位置でウェーハ搬送ロボッ
ト５のハンドリング操作によりキャリアからウェーハを
掴み出す。続いてウェーハ搬送ロボット５はウェーハを
把持したままウェーハ洗浄処理部３の薬液槽，洗浄槽，
リンス槽を間を順に移し替えながら一連のウェーハ洗浄
処理を行い、ファイナルリンスの後にウェーハを乾燥部
４に移して乾燥させる。
【００１４】一方、ウェーハを取出して空になった工程
間キャリア１９は、キャリア移載ロボット７の操作によ
りウェーハ移載ポート８からエレベータ１６に移されて
二階のストッカ部１５に運び上げ、さらにキャリア移載
ロボット１４の操作でエレベータ１６から往路側のキャ
リア移動装置１２に移し替えて一時保管するとともに、
キャリア移動装置１２は次々に搬入されて来たキャリア
を順に右側（アンローダ側）に移動する。
間キャリア１９は、キャリア移載ロボット７の操作によ
りウェーハ移載ポート８からエレベータ１６に移されて
二階のストッカ部１５に運び上げ、さらにキャリア移載
ロボット１４の操作でエレベータ１６から往路側のキャ
リア移動装置１２に移し替えて一時保管するとともに、
キャリア移動装置１２は次々に搬入されて来たキャリア
を順に右側（アンローダ側）に移動する。
【００１５】また、キャリア移動装置１２の終端まで移
動したキャリアは、前記したウェーハ洗浄処理工程のタ
クトに合わせて、キャリア移載ロボット１４によりキャ
リア移動装置１５からエレベータ１８に移され、一階の
アンローダ部１１に一旦降ろされる。そして、この位置
でウェーハ搬送ロボット５の操作で洗浄，乾燥処理の済
んだウェーハが空の工程間キャリア１９に収納される。
そして工程間キャリアへのウェーハ移載が済むと、エレ
ベータ１８は再び上昇移動してキャリアを二階に運び上
げ、ここでキャリア移載ロボット１４がウェーハの入っ
ているキャリアを復路側のキャリア移動装置１３に移し
て左側の終端位置まで運ばれた後、今度はキャリア移載
ロボット１４によりエレベータ１７に載せて階下に降ろ
す。最後に洗浄済みウェーハを収納した工程間キャリア
１９をエレベータ１７から搬出ポート１０に待機してい
る無人搬送台車（ＡＧＶ）に移し替えた上で、次の処理
工程に向けて搬出する。
動したキャリアは、前記したウェーハ洗浄処理工程のタ
クトに合わせて、キャリア移載ロボット１４によりキャ
リア移動装置１５からエレベータ１８に移され、一階の
アンローダ部１１に一旦降ろされる。そして、この位置
でウェーハ搬送ロボット５の操作で洗浄，乾燥処理の済
んだウェーハが空の工程間キャリア１９に収納される。
そして工程間キャリアへのウェーハ移載が済むと、エレ
ベータ１８は再び上昇移動してキャリアを二階に運び上
げ、ここでキャリア移載ロボット１４がウェーハの入っ
ているキャリアを復路側のキャリア移動装置１３に移し
て左側の終端位置まで運ばれた後、今度はキャリア移載
ロボット１４によりエレベータ１７に載せて階下に降ろ
す。最後に洗浄済みウェーハを収納した工程間キャリア
１９をエレベータ１７から搬出ポート１０に待機してい
る無人搬送台車（ＡＧＶ）に移し替えた上で、次の処理
工程に向けて搬出する。
【００１６】なお、上記の実施例では、ウエット洗浄処
理部３でのウェーハ搬送に洗浄キャリアを用いずに、ウ
ェーハ搬送ロボット５がウェーハを直接把持して洗浄工
程での移送を行うようにしたキャリアレス方式を述べた
が、ウエット洗浄処理部３でのウエット移送に工程間キ
ャリア１９と別個な洗浄キャリアを用いて一連の洗浄処
理を行うキャリア方式を採用することもできる。
理部３でのウェーハ搬送に洗浄キャリアを用いずに、ウ
ェーハ搬送ロボット５がウェーハを直接把持して洗浄工
程での移送を行うようにしたキャリアレス方式を述べた
が、ウエット洗浄処理部３でのウエット移送に工程間キ
ャリア１９と別個な洗浄キャリアを用いて一連の洗浄処
理を行うキャリア方式を採用することもできる。
【００１７】また、工程間でキャリアを搬送する無人搬
送台車（ＡＧＶ）の搬出ポートをアンローダ部側に設
け、洗浄済みウェーハを空の工程間キャリアに収納した
後、該キャリアを二階のキャリアストッカ部に運び上げ
ることなく、一階のアンローダ部から搬出ポートに待機
している搬送台車に直接移載して次の処理工程へ搬出す
ることも可能であり、この方式を採用することにより、
図示実施例における復路側のキャリア移動装置１３，エ
レベータ１７などが省略できる。
送台車（ＡＧＶ）の搬出ポートをアンローダ部側に設
け、洗浄済みウェーハを空の工程間キャリアに収納した
後、該キャリアを二階のキャリアストッカ部に運び上げ
ることなく、一階のアンローダ部から搬出ポートに待機
している搬送台車に直接移載して次の処理工程へ搬出す
ることも可能であり、この方式を採用することにより、
図示実施例における復路側のキャリア移動装置１３，エ
レベータ１７などが省略できる。
【００１８】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によるウェー
ハ洗浄装置によれば、ウェーハステーションを二階建に
構築し、工程間の搬送で前処理工程からステーションに
搬入されて来た工程間キャリアのストッカ部をステーシ
ョンの二階部分に配置して構成したことにより、ウェー
ハ洗浄装置が小形，コンパクトな構成となり、装置全体
の占有床面積が従来装置と比べて大幅に縮減できる。し
たがって、ウェーハ洗浄装置を据付けるクリーンルーム
の所要床面積も少なくて済み、単位床面積当たりのウェ
ーハ生産量を高めることができるなどの経済的効果も得
られる。
ハ洗浄装置によれば、ウェーハステーションを二階建に
構築し、工程間の搬送で前処理工程からステーションに
搬入されて来た工程間キャリアのストッカ部をステーシ
ョンの二階部分に配置して構成したことにより、ウェー
ハ洗浄装置が小形，コンパクトな構成となり、装置全体
の占有床面積が従来装置と比べて大幅に縮減できる。し
たがって、ウェーハ洗浄装置を据付けるクリーンルーム
の所要床面積も少なくて済み、単位床面積当たりのウェ
ーハ生産量を高めることができるなどの経済的効果も得
られる。
【図１】本発明の実施例によるウェーハ洗浄装置の構成
を示す縦断面図
を示す縦断面図
【図２】図１における矢視Ａ−Ａ断面図
【図３】図１における矢視Ｂ−Ｂ断面図
【符号の説明】 １ ウエットステーション ３ ウエット洗浄処理部 ５ ウェーハ搬送ロボット ６ ローダ部 １１ アンローダ部 １２ キャリア移動装置（往路用） １３ キャリア移動装置（復路用） １４ キャリア移載ロボット １５ エレベータ １６ エレベータ １８ エレベータ １９ 工程間キャリア
Claims (4)
- 【請求項１】工程間キャリアに収納して前処理工程より
搬入されたウェーハを、該キャリアより取出して洗浄処
理した後、再び工程間キャリアに移載して次の処理工程
へ搬出するウェーハ洗浄装置であり、クリーンブースと
して構成されたステーション内に洗浄処理部，ローダ
部, アンローダ部, および工程間キャリアを保管するス
トッカ部を備えたものにおいて、ステーションを二階建
で構築し、一階部分には洗浄処理部，ローダ部, アンロ
ーダ部を、二階部分には工程間キャリアのストッカ部を
配置し、かつ一階と二階の間に工程間キャリアを上げ下
げ移動するエレベータを備えたことを特徴とするウェー
ハ洗浄装置。 - 【請求項２】請求項１記載のウェーハ洗浄装置におい
て、エレベータをローダ部側，およびアンローダ部側に
それぞれ配備するとともに、二階のストッカ部には前記
各エレベータの相互間で工程間キャリアを移送するキャ
リア移動装置，およびキャリア移載機を備えたことを特
徴とするウェーハ洗浄装置。 - 【請求項３】請求項１記載のウェーハ洗浄装置におい
て、洗浄処理部では、ウェーハを工程間キャリアから洗
浄キャリアに移し替えた上で、一連のウエット洗浄処理
を行うことを特徴とするウェーハ洗浄装置。 - 【請求項４】請求項１記載のウェーハ洗浄装置におい
て、洗浄処理部では、洗浄キャリアを用いずにウェーハ
を工程間キャリアから直接ウェーハ搬送ロボットに移載
して一連のウエット洗浄処理を行うことを特徴とするウ
ェーハ洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26898792A JPH06120318A (ja) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | ウェーハ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26898792A JPH06120318A (ja) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | ウェーハ洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06120318A true JPH06120318A (ja) | 1994-04-28 |
Family
ID=17466086
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26898792A Pending JPH06120318A (ja) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | ウェーハ洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06120318A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100272652B1 (ko) * | 1996-02-01 | 2000-12-01 | 이시다 아키라 | 기판처리장치 |
| KR100426032B1 (ko) * | 1996-10-16 | 2004-06-11 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 스탁과 공정장비과 직접 연결된 반도체공정장비 |
-
1992
- 1992-10-08 JP JP26898792A patent/JPH06120318A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100272652B1 (ko) * | 1996-02-01 | 2000-12-01 | 이시다 아키라 | 기판처리장치 |
| KR100426032B1 (ko) * | 1996-10-16 | 2004-06-11 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 스탁과 공정장비과 직접 연결된 반도체공정장비 |
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