JPH09205153A - 基板電位検出回路 - Google Patents
基板電位検出回路Info
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- JPH09205153A JPH09205153A JP8011529A JP1152996A JPH09205153A JP H09205153 A JPH09205153 A JP H09205153A JP 8011529 A JP8011529 A JP 8011529A JP 1152996 A JP1152996 A JP 1152996A JP H09205153 A JPH09205153 A JP H09205153A
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- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
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- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05F—SYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
- G05F3/00—Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
- G05F3/02—Regulating voltage or current
- G05F3/08—Regulating voltage or current wherein the variable is dc
- G05F3/10—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics
- G05F3/16—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
- G05F3/20—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
- G05F3/205—Substrate bias-voltage generators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0214—Particular design considerations for integrated circuits for internal polarisation, e.g. I2L
- H01L27/0218—Particular design considerations for integrated circuits for internal polarisation, e.g. I2L of field effect structures
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電力消費が少なく、小さいパターン面積でレ
イアウトを可能にする。 【解決手段】 各々基板端子がソース端子に接続されか
つゲート端子がドレイン端子に接続された同一導電型の
複数のMOSトランジスタが直列に接続された直列回路
を有し、前記複数のMOSトランジスタの全てのチャネ
ル幅は同一であって前記複数のMOSトランジスタがサ
ブスレッショルド領域で動作するように選択されている
ことを特徴とする。
イアウトを可能にする。 【解決手段】 各々基板端子がソース端子に接続されか
つゲート端子がドレイン端子に接続された同一導電型の
複数のMOSトランジスタが直列に接続された直列回路
を有し、前記複数のMOSトランジスタの全てのチャネ
ル幅は同一であって前記複数のMOSトランジスタがサ
ブスレッショルド領域で動作するように選択されている
ことを特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は基板電位検出回路に
関する。
関する。
【0002】
【従来の技術】一般に基板電位検出回路は、基板電位に
応じて基板電位発生回路をオン・オフ制御するときなど
に使われる。従来の基板電位検出回路は図9に示すよう
にn個の抵抗R1 ,R2 ,…Rn を直列に接続した直列
回路からなっており、この直列回路の一端V1を駆動電
源に他端V2を基板に接続し、上記直列回路の中間の接
続ノードから出力Vout を取りだすものである。
応じて基板電位発生回路をオン・オフ制御するときなど
に使われる。従来の基板電位検出回路は図9に示すよう
にn個の抵抗R1 ,R2 ,…Rn を直列に接続した直列
回路からなっており、この直列回路の一端V1を駆動電
源に他端V2を基板に接続し、上記直列回路の中間の接
続ノードから出力Vout を取りだすものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の基板
電位検出回路においては、電力消費を小さくするために
は高い抵抗値を使用するのが望ましい。例えば、基板電
位検出回路を5V電源電位と0Vのp型基板電位の間で
接続し、抵抗での消費電流を0.01μAにするために
は、抵抗値は500MΩ必要である。このため一般にシ
ート抵抗の高いウェルが抵抗として使われるが、それで
も大きなパターン面積を必要とするのが問題であった。
例えばウェルのシート抵抗が1kΩとすると、幅1μ
m、長さ500mmのレイアウトパターンが必要にな
り、およそ1mm角のパターン面積が必要である。デバ
イスを微細化するほどウェルのシート抵抗値は低くなる
傾向があり、この問題はますます深刻になっている。
電位検出回路においては、電力消費を小さくするために
は高い抵抗値を使用するのが望ましい。例えば、基板電
位検出回路を5V電源電位と0Vのp型基板電位の間で
接続し、抵抗での消費電流を0.01μAにするために
は、抵抗値は500MΩ必要である。このため一般にシ
ート抵抗の高いウェルが抵抗として使われるが、それで
も大きなパターン面積を必要とするのが問題であった。
例えばウェルのシート抵抗が1kΩとすると、幅1μ
m、長さ500mmのレイアウトパターンが必要にな
り、およそ1mm角のパターン面積が必要である。デバ
イスを微細化するほどウェルのシート抵抗値は低くなる
傾向があり、この問題はますます深刻になっている。
【0004】また、基板電位のような非常にゆっくりと
変化する信号を入力すると、ノイズによるわずかな電位
の変動にも出力が応答してしまうので、ノイズに対する
耐性をつける必要がある。
変化する信号を入力すると、ノイズによるわずかな電位
の変動にも出力が応答してしまうので、ノイズに対する
耐性をつける必要がある。
【0005】本発明は、上記事情を考慮してなされたも
のであって、電力消費が小さく、小さいパターン面積で
レイアウトすることのできる基板電位検出回路を提供す
ることを目的とする。
のであって、電力消費が小さく、小さいパターン面積で
レイアウトすることのできる基板電位検出回路を提供す
ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明による基板電位検
出回路の第1の態様は、各々基板端子がソース端子に接
続されかつゲート端子がドレイン端子に接続された同一
導電型の複数のMOSトランジスタが直列に接続された
直列回路を有し、前記複数のMOSトランジスタの全て
のチャネル幅は同一であって前記複数のMOSトランジ
スタがサブスレッショルド領域で動作するように選択さ
れていることを特徴とする。
出回路の第1の態様は、各々基板端子がソース端子に接
続されかつゲート端子がドレイン端子に接続された同一
導電型の複数のMOSトランジスタが直列に接続された
直列回路を有し、前記複数のMOSトランジスタの全て
のチャネル幅は同一であって前記複数のMOSトランジ
スタがサブスレッショルド領域で動作するように選択さ
れていることを特徴とする。
【0007】また本発明による基板電位検出回路の第2
の態様は、各々が、複数の同一導電型のMOSトランジ
スタが直列に接続された第1乃至第n(≧2)の直列回
路を有し、前記第i(i=1,…n)の直列回路を構成
する各MOSトランジスタは基板端子がソース端子に接
続されかつゲート端子がドレイン端子に接続され、前記
第i(i=2,…n)の直列回路は前記第i−1の直列
回路を構成するトランジスタ列の異なる2つの接続ノー
ド間に接続され、前記第i(i=1,…n)の直列回路
を構成する各トランジスタのチャネル幅は同一であって
前記第iの直列回路を構成する全てのトランジスタがサ
ブスレッショルド領域で動作するように選択されている
ことを特徴とする。
の態様は、各々が、複数の同一導電型のMOSトランジ
スタが直列に接続された第1乃至第n(≧2)の直列回
路を有し、前記第i(i=1,…n)の直列回路を構成
する各MOSトランジスタは基板端子がソース端子に接
続されかつゲート端子がドレイン端子に接続され、前記
第i(i=2,…n)の直列回路は前記第i−1の直列
回路を構成するトランジスタ列の異なる2つの接続ノー
ド間に接続され、前記第i(i=1,…n)の直列回路
を構成する各トランジスタのチャネル幅は同一であって
前記第iの直列回路を構成する全てのトランジスタがサ
ブスレッショルド領域で動作するように選択されている
ことを特徴とする。
【0008】また本発明による基板電位検出回路の第3
の態様は、第1の態様の基板電位検出回路において、R
Sフリップフロップ回路と、反転ゲートとを更に有し、
前記RSフリップフロップ回路のセット入力端子は前記
直列回路を構成するトランジスタ列の異なる2つの接続
ノードのうちの一方の接続ノードに接続され、前記RS
フリップフロップ回路のリセット入力端子は前記反転ゲ
ートを介して前記2つの接続ノードのうちの他方の接続
ノードに接続されていることを特徴とする。
の態様は、第1の態様の基板電位検出回路において、R
Sフリップフロップ回路と、反転ゲートとを更に有し、
前記RSフリップフロップ回路のセット入力端子は前記
直列回路を構成するトランジスタ列の異なる2つの接続
ノードのうちの一方の接続ノードに接続され、前記RS
フリップフロップ回路のリセット入力端子は前記反転ゲ
ートを介して前記2つの接続ノードのうちの他方の接続
ノードに接続されていることを特徴とする。
【0009】また本発明による基板電位検出回路の第4
の態様は、第2の態様の基板電位検出回路において、R
Sフリップフロップ回路と、反転ゲートとを更に有し、
前記RSフリップフロップ回路のセット入力端子は前記
第nの直列回路を構成するトランジスタ列の異なる2つ
の接続ノードのうちの一方の接続ノードに接続され、前
記RSフリップフロップ回路のリセット入力端子は前記
反転ゲートを介して前記接続ノードのうちの他方の接続
ノードに接続されていることを特徴とする。
の態様は、第2の態様の基板電位検出回路において、R
Sフリップフロップ回路と、反転ゲートとを更に有し、
前記RSフリップフロップ回路のセット入力端子は前記
第nの直列回路を構成するトランジスタ列の異なる2つ
の接続ノードのうちの一方の接続ノードに接続され、前
記RSフリップフロップ回路のリセット入力端子は前記
反転ゲートを介して前記接続ノードのうちの他方の接続
ノードに接続されていることを特徴とする。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明による基板電位検出回路の
第1の実施の形態の構成を図1に示す。この実施の形態
の基板電位検出回路は、各々基板端子がソース端子に接
続され、ゲート端子がドレイン端子に接続された複数個
のp型MOSトランジスタ21 ,…2n を直列に接続し
た直列回路を有している。即ちトランジスタ2i (i=
1,…n−1)のドレイン端子はトランジスタ2i+1 の
ソース端子に接続されている。そしてトランジスタ21
のソース端子には電位Vx が印加されかつトランジスタ
2n のドレイン端子には電位VY (<Vx )が印加さ
れ、上記直列回路のある接続ノードから出力信号Vout
が取り出される。なお、電位Vx ,VY の一方は駆動電
源の電位であり、他方は検出すべき基板の電位である。
第1の実施の形態の構成を図1に示す。この実施の形態
の基板電位検出回路は、各々基板端子がソース端子に接
続され、ゲート端子がドレイン端子に接続された複数個
のp型MOSトランジスタ21 ,…2n を直列に接続し
た直列回路を有している。即ちトランジスタ2i (i=
1,…n−1)のドレイン端子はトランジスタ2i+1 の
ソース端子に接続されている。そしてトランジスタ21
のソース端子には電位Vx が印加されかつトランジスタ
2n のドレイン端子には電位VY (<Vx )が印加さ
れ、上記直列回路のある接続ノードから出力信号Vout
が取り出される。なお、電位Vx ,VY の一方は駆動電
源の電位であり、他方は検出すべき基板の電位である。
【0011】また、全てのトランジスタ21 ,…2n は
等しいチャネル幅であるが、全てのトランジスタがサブ
スレッショルド領域で動作するようにチャネル幅を選ぶ
必要がある。
等しいチャネル幅であるが、全てのトランジスタがサブ
スレッショルド領域で動作するようにチャネル幅を選ぶ
必要がある。
【0012】次に、上記直列回路を構成する全てのトラ
ンジスタ21 ,…2n がサブスレッショルド領域で動作
するようにチャネル幅が選ばれた場合の動作を説明す
る。
ンジスタ21 ,…2n がサブスレッショルド領域で動作
するようにチャネル幅が選ばれた場合の動作を説明す
る。
【0013】サブスレッショルド領域におけるMOSト
ランジスタのドレイン電流IDSは次の式(1)で表わさ
れる。
ランジスタのドレイン電流IDSは次の式(1)で表わさ
れる。
【0014】
【数1】 ここでW及びVGSは上記MOSトランジスタのチャネル
幅及びゲート・ソース間電圧であり、VTCはチャネル幅
WO のトランジスタに、ある一定のドレイン電流が流れ
始めたときのゲート・ソース間電圧である。またSはS
ファクタと呼ばれ、次の式(2)で表される。
幅及びゲート・ソース間電圧であり、VTCはチャネル幅
WO のトランジスタに、ある一定のドレイン電流が流れ
始めたときのゲート・ソース間電圧である。またSはS
ファクタと呼ばれ、次の式(2)で表される。
【0015】
【数2】 ここでkはボルツマン定数、Tは絶対温度、qは電子の
電荷量、Coxはゲート酸化膜の容量、CDPはゲート下の
空乏層の容量である。
電荷量、Coxはゲート酸化膜の容量、CDPはゲート下の
空乏層の容量である。
【0016】基板端子とソース端子を接続し、ゲート端
子とドレイン端子を接続したMOSトランジスタ2
i (i=1,…n)を隣合うMOSトランジスタのドレ
イン端子とソース端子を接続しながらn段直列接続する
と、各トランジスタを流れる電流は等しいので全てのト
ランジスタのチャネル幅が等しいとき、
子とドレイン端子を接続したMOSトランジスタ2
i (i=1,…n)を隣合うMOSトランジスタのドレ
イン端子とソース端子を接続しながらn段直列接続する
と、各トランジスタを流れる電流は等しいので全てのト
ランジスタのチャネル幅が等しいとき、
【0017】
【数3】 となる。ここでVi 及びVi+1 (i=1,…n)は直列
に接続されたMOSトランジスタ2i のソース電位及び
ドレイン電位である。
に接続されたMOSトランジスタ2i のソース電位及び
ドレイン電位である。
【0018】したがって式(3)より V1 −V2 =V2 −V3 =…=Vn −Vn+1 (4) となり、トランジスタ列からなる直列回路の両端にかか
る電圧|V1 −Vn+1 |=|Vx −VY |をn分割した
電位が各中間接続点に発生する。即ち、トランジスタ列
からなる直列回路の両端にかかる電圧|Vx −VY |を
トランジスタ列を構成するトランジスタの個数nで割っ
た値は上記トランジスタ2i のしきい値電圧に比べて等
しいかあるいは小さくなる。
る電圧|V1 −Vn+1 |=|Vx −VY |をn分割した
電位が各中間接続点に発生する。即ち、トランジスタ列
からなる直列回路の両端にかかる電圧|Vx −VY |を
トランジスタ列を構成するトランジスタの個数nで割っ
た値は上記トランジスタ2i のしきい値電圧に比べて等
しいかあるいは小さくなる。
【0019】したがって、上述のように構成されたトラ
ンジスタの直列接続を使えば、消費電流の小さい基板電
位検出回路を小さいパターン面積でレイアウトすること
ができる。
ンジスタの直列接続を使えば、消費電流の小さい基板電
位検出回路を小さいパターン面積でレイアウトすること
ができる。
【0020】次に本発明による基板電位検出回路の第2
の実施の形態の構成を図2に示す。この実施の形態の基
板電位検出回路は、図1に示す第1の実施の形態の基板
電位検出回路において、p型MOSトランジスタ2i を
n型MOSトランジスタ4iに置換えたものである。各
トランジスタ4i (i=1,…n)は基板端子がソース
端子に接続され、ゲート端子がドレイン端子に接続され
ている。そしてトランジスタ41 ,…4n は直列に接続
され、トランジスタ41 のドレインには電位Vx が印加
され、トランジスタ4n のソースには電位VY (<
Vx )が印加され、上記直列に接続されたトランジスタ
のある接続ノードから出力信号Vout が取り出される。
の実施の形態の構成を図2に示す。この実施の形態の基
板電位検出回路は、図1に示す第1の実施の形態の基板
電位検出回路において、p型MOSトランジスタ2i を
n型MOSトランジスタ4iに置換えたものである。各
トランジスタ4i (i=1,…n)は基板端子がソース
端子に接続され、ゲート端子がドレイン端子に接続され
ている。そしてトランジスタ41 ,…4n は直列に接続
され、トランジスタ41 のドレインには電位Vx が印加
され、トランジスタ4n のソースには電位VY (<
Vx )が印加され、上記直列に接続されたトランジスタ
のある接続ノードから出力信号Vout が取り出される。
【0021】なお,トランジスタ41 ,…4n のチャネ
ル幅は全て等しく、全てのトランジスタ41 ,…4n が
サブスレッショルド領域で動作するように選ばれてい
る。
ル幅は全て等しく、全てのトランジスタ41 ,…4n が
サブスレッショルド領域で動作するように選ばれてい
る。
【0022】この第2の実施の形態の基板電位検出回路
も第1の実施の形態の基板電位検出回路と同様の効果を
奏することは云うまでもない。
も第1の実施の形態の基板電位検出回路と同様の効果を
奏することは云うまでもない。
【0023】次に本発明による基板電位検出回路の第3
の実施の形態を図3を参照して説明する。図3(a)に
第3の実施の形態の基板電位検出回路の構成を示し、図
3(b)にその動作の説明図を示す。この実施の形態の
基板電位検出回路は、図1に示す第1の実施の形態の基
板電位検出回路において、反転ゲート5と、2入力NA
NDゲート61 ,62 を交差接続したRSフリップフロ
ップ回路6とを新たに設けたものである。
の実施の形態を図3を参照して説明する。図3(a)に
第3の実施の形態の基板電位検出回路の構成を示し、図
3(b)にその動作の説明図を示す。この実施の形態の
基板電位検出回路は、図1に示す第1の実施の形態の基
板電位検出回路において、反転ゲート5と、2入力NA
NDゲート61 ,62 を交差接続したRSフリップフロ
ップ回路6とを新たに設けたものである。
【0024】RSフリップフロップ回路6のセット端子
Sは、直列接続したn個のp型MOSトランジスタ
21 ,…2n からなる直列回路の異なる2つの接続ノー
ドA,Bのうちの電位の高い方の接続ノードAに接続さ
れ、リセット端子Rは反転ゲート5を介して電位の低い
方の接続ノードBに接続される。
Sは、直列接続したn個のp型MOSトランジスタ
21 ,…2n からなる直列回路の異なる2つの接続ノー
ドA,Bのうちの電位の高い方の接続ノードAに接続さ
れ、リセット端子Rは反転ゲート5を介して電位の低い
方の接続ノードBに接続される。
【0025】そしてこの実施の形態の基板電位検出回路
の出力信号はRSフリップフロップ回路6のQ出力端子
から取り出される。なお、第1の実施の形態の場合と同
様に全てのトランジスタ21 ,…2n は等しいチャネル
幅であり、このチャネル幅は全てのトランジスタ21 ,
…2n がサブスレッショルド領域で動作するように選ば
れている。したがって上記トランジスタ列からなる直列
回路の両端の端子にかかる電圧を直列回路を構成するト
ランジスタの個数nで割った値は上記トランジスタの2
i (i=1,…n)のしきい値電圧に比べて等しいか、
あるいは小さくなる。
の出力信号はRSフリップフロップ回路6のQ出力端子
から取り出される。なお、第1の実施の形態の場合と同
様に全てのトランジスタ21 ,…2n は等しいチャネル
幅であり、このチャネル幅は全てのトランジスタ21 ,
…2n がサブスレッショルド領域で動作するように選ば
れている。したがって上記トランジスタ列からなる直列
回路の両端の端子にかかる電圧を直列回路を構成するト
ランジスタの個数nで割った値は上記トランジスタの2
i (i=1,…n)のしきい値電圧に比べて等しいか、
あるいは小さくなる。
【0026】次に上記実施の形態の動作を説明する。な
お上記直列回路を構成するトランジスタ21 のソースに
VDD電源(駆動電源)が接続された場合にはトランジス
タ2n のドレインはp型基板に接続され、このp型基板
の電位が入力信号となる。このとき、入力信号がHであ
るとはp型基板の電位が所定値(<0)よりも大きいこ
とを意味し、入力信号がLであるとはp型基板の電位が
上記所定値よりも小さいことを意味する。また、上記直
列回路を構成するトランジスタ2n のドレインに接地電
源が接続された場合にはトランジスタ21 のソースはn
型基板に接続され、このn型基板の電位が入力信号とな
る。このとき入力信号がHであるとはn型基板の電位が
所定値(>VDD)よりも大きいことを意味し、入力信号
がLであるとはn型基板の電位が上記所定値よりも小さ
いことを意味する。
お上記直列回路を構成するトランジスタ21 のソースに
VDD電源(駆動電源)が接続された場合にはトランジス
タ2n のドレインはp型基板に接続され、このp型基板
の電位が入力信号となる。このとき、入力信号がHであ
るとはp型基板の電位が所定値(<0)よりも大きいこ
とを意味し、入力信号がLであるとはp型基板の電位が
上記所定値よりも小さいことを意味する。また、上記直
列回路を構成するトランジスタ2n のドレインに接地電
源が接続された場合にはトランジスタ21 のソースはn
型基板に接続され、このn型基板の電位が入力信号とな
る。このとき入力信号がHであるとはn型基板の電位が
所定値(>VDD)よりも大きいことを意味し、入力信号
がLであるとはn型基板の電位が上記所定値よりも小さ
いことを意味する。
【0027】入力信号がHのとき、RSフリップフロッ
プ回路6のセット入力SはHでリセット入力RはLにな
るので、RSフリップフロップ回路6の出力はHになる
(図3(b)参照)。入力信号がHからLに変化するに
従い、まず接続ノードBのレベルがHからLに変化し、
RSフリップフロップ回路6のリセット入力RがHにな
るので、RSフリップフロップ回路6の2つの入力は共
にHとなり、RSフリップフロップ回路の出力はHのま
ま変化しない(図3(b)参照)。さらに入力信号が下
がって接続点ノードAのレベルもHからLに変化する
と、RSフリップフロップ回路6のセット入力SはLで
リセット入力RはHになるので、出力はLになる(図3
(b)参照)。
プ回路6のセット入力SはHでリセット入力RはLにな
るので、RSフリップフロップ回路6の出力はHになる
(図3(b)参照)。入力信号がHからLに変化するに
従い、まず接続ノードBのレベルがHからLに変化し、
RSフリップフロップ回路6のリセット入力RがHにな
るので、RSフリップフロップ回路6の2つの入力は共
にHとなり、RSフリップフロップ回路の出力はHのま
ま変化しない(図3(b)参照)。さらに入力信号が下
がって接続点ノードAのレベルもHからLに変化する
と、RSフリップフロップ回路6のセット入力SはLで
リセット入力RはHになるので、出力はLになる(図3
(b)参照)。
【0028】逆に、入力信号がHに変化するに従い、ま
ず接続ノードAのレベルがLからHに変化し、フリップ
フロップ回路6のセット入力SがHになるので、RSフ
リップフロップ回路6の2つの入力は共にHとなり、出
力はLのまま変化しない。さらに入力信号が上がって接
続ノードBのレベルもLからHに変化すると、RSフリ
ップフロップ回路6のセット入力SはHでリセット入力
RはLになるので、出力はHになる。
ず接続ノードAのレベルがLからHに変化し、フリップ
フロップ回路6のセット入力SがHになるので、RSフ
リップフロップ回路6の2つの入力は共にHとなり、出
力はLのまま変化しない。さらに入力信号が上がって接
続ノードBのレベルもLからHに変化すると、RSフリ
ップフロップ回路6のセット入力SはHでリセット入力
RはLになるので、出力はHになる。
【0029】したがって、本実施の形態の基板電位検出
回路においては、信号入力がLになったのを検出するの
は接続ノードAの電位になり、信号入力がHになったの
を検出するのは接続ノードBの電位になる。このため本
実施の形態の基板電位検出回路は、二つの接続ノードの
間の電位差に相当するヒステリシス幅を持ったシュミッ
トゲートの特性を有し、ノイズの影響を受けにくいもの
となる。
回路においては、信号入力がLになったのを検出するの
は接続ノードAの電位になり、信号入力がHになったの
を検出するのは接続ノードBの電位になる。このため本
実施の形態の基板電位検出回路は、二つの接続ノードの
間の電位差に相当するヒステリシス幅を持ったシュミッ
トゲートの特性を有し、ノイズの影響を受けにくいもの
となる。
【0030】次に本発明による基板電位検出回路の第3
の実施の形態の構成を図4(a)に示し、その動作説明
図を図4(b)に示す。この実施の形態の基板電位検出
回路は、図3に示す第3の実施の形態の基板電位検出回
路において、p型MOSトランジスタ2i (i=1,…
n)をn型MOSトランジスタ4i に置換えたものであ
る。各トランジスタ4i (i=1,…n)は基板端子が
ソース端子に接続され、ゲート端子がドレイン端子に接
続されている。
の実施の形態の構成を図4(a)に示し、その動作説明
図を図4(b)に示す。この実施の形態の基板電位検出
回路は、図3に示す第3の実施の形態の基板電位検出回
路において、p型MOSトランジスタ2i (i=1,…
n)をn型MOSトランジスタ4i に置換えたものであ
る。各トランジスタ4i (i=1,…n)は基板端子が
ソース端子に接続され、ゲート端子がドレイン端子に接
続されている。
【0031】この第4の実施の形態の基板電位検出回路
の動作は図3に示す第3の実施の形態の基板電位検出回
路と同様であり、また同様の効果を奏することは云うま
でもない。
の動作は図3に示す第3の実施の形態の基板電位検出回
路と同様であり、また同様の効果を奏することは云うま
でもない。
【0032】次に本発明による基板電位検出回路の第5
の実施の形態の構成を図5(a)に示し、その動作説明
図を図5(b)に示す。この実施の形態の基板電位検出
回路は、図3に示す第3の実施の形態の基板電位検出回
路において、反転ゲート5と、2入力NANDゲート6
1 ,62 を交差接続したRSフリップフロップ回路6と
の代わりに反転ゲート7と、2入力NORゲート81 ,
82 を交差接続したRSフリップフロップ回路8とを設
けものである。このRSフリップフロップ回路8のセッ
ト端子Sは、直列接続したn個のp型MOSトランジス
タ21 ,…2nからなる直列回路の異なる2つの接続ノ
ードのうちの電位低い方の接続ノードBに接続され、リ
セット端子Rは反転ゲート8を介して電位の高い方の接
続ノードAに接続される。
の実施の形態の構成を図5(a)に示し、その動作説明
図を図5(b)に示す。この実施の形態の基板電位検出
回路は、図3に示す第3の実施の形態の基板電位検出回
路において、反転ゲート5と、2入力NANDゲート6
1 ,62 を交差接続したRSフリップフロップ回路6と
の代わりに反転ゲート7と、2入力NORゲート81 ,
82 を交差接続したRSフリップフロップ回路8とを設
けものである。このRSフリップフロップ回路8のセッ
ト端子Sは、直列接続したn個のp型MOSトランジス
タ21 ,…2nからなる直列回路の異なる2つの接続ノ
ードのうちの電位低い方の接続ノードBに接続され、リ
セット端子Rは反転ゲート8を介して電位の高い方の接
続ノードAに接続される。
【0033】この実施の形態の基板電位検出回路におい
ては、トランジスタ21 のソースが電源に接続されてか
つトランジスタ2n のドレインに入力信号が加えられる
か、またはトランジスタ21 のソースに入力信号が加え
られてかつトランジスタ2nのドレインは電源に接続さ
れる。そして出力信号はRSフリップフロップ回路8の
Q出力端子から取り出される。
ては、トランジスタ21 のソースが電源に接続されてか
つトランジスタ2n のドレインに入力信号が加えられる
か、またはトランジスタ21 のソースに入力信号が加え
られてかつトランジスタ2nのドレインは電源に接続さ
れる。そして出力信号はRSフリップフロップ回路8の
Q出力端子から取り出される。
【0034】この実施の形態の基板電位検出回路の動作
は図3に示す第3の実施の形態の基板電位検出回路と同
様であり(図5(b)参照)、同様の効果を奏すること
は云うまでもない。
は図3に示す第3の実施の形態の基板電位検出回路と同
様であり(図5(b)参照)、同様の効果を奏すること
は云うまでもない。
【0035】次に本発明による基板電位検出回路の第6
の実施の形態の構成を図6(a)に示し、その動作説明
図を図6(b)に示す。この実施の形態の基本電位検出
回路は図5に示す第5の実施の形態の基板電位検出回路
において、p型MOSトランジスタ2i (i=1,…
n)をn型MOSトランジスタ4i に置換えたものであ
る。各トランジスタ4i (i=1,…n)は基板端子が
ソース端子に接続され、ゲート端子がドレイン端子に接
続されている。
の実施の形態の構成を図6(a)に示し、その動作説明
図を図6(b)に示す。この実施の形態の基本電位検出
回路は図5に示す第5の実施の形態の基板電位検出回路
において、p型MOSトランジスタ2i (i=1,…
n)をn型MOSトランジスタ4i に置換えたものであ
る。各トランジスタ4i (i=1,…n)は基板端子が
ソース端子に接続され、ゲート端子がドレイン端子に接
続されている。
【0036】この第6の実施の形態の基板電位検出回路
の動作は図5に示す第5の実施の形態の基板電位検出回
路と同様であり(図6(b)参照)、また同様の効果を
奏することは云うまでもない。
の動作は図5に示す第5の実施の形態の基板電位検出回
路と同様であり(図6(b)参照)、また同様の効果を
奏することは云うまでもない。
【0037】次に本発明による基板電位検出回路の第7
の実施の形態の構成を図7に示す。この実施の形態の基
板電位検出回路は直列接続されたn(≧2)個のp型M
OSトランジスタ21 ,…2n からなる第1の直列回路
(第1のMOSトランジスタ列ともいう)と、直列接続
されたm(≧2)個のp型MOSトランジスタ121,
…12m からなる第2の直列回路(第2のMOSトラン
ジスタ列ともいう)と、反転ゲート15と、交差接続さ
れた2入力NANDゲート161 ,162 からなるRS
フリップフロップ回路16とを備えている。第1の直列
回路においては図1に示す第1の実施の形態の直列回路
と同様に、直列回路を構成する各トランジスタ2i (i
=1,…n)は、基板端子がソース端子に接続され、ゲ
ート端子がドレイン端子に接続されている。そしてトラ
ンジスタ2i (i=1,…n)のドレイン端子はトラン
ジスタ2i+1 のソース端子に接続され、トランジスタ2
1のソース端子には電源電圧または入力信号が付加さ
れ、トランジスタ2n のドレイン端子には入力信号また
は電源電圧が付加される。
の実施の形態の構成を図7に示す。この実施の形態の基
板電位検出回路は直列接続されたn(≧2)個のp型M
OSトランジスタ21 ,…2n からなる第1の直列回路
(第1のMOSトランジスタ列ともいう)と、直列接続
されたm(≧2)個のp型MOSトランジスタ121,
…12m からなる第2の直列回路(第2のMOSトラン
ジスタ列ともいう)と、反転ゲート15と、交差接続さ
れた2入力NANDゲート161 ,162 からなるRS
フリップフロップ回路16とを備えている。第1の直列
回路においては図1に示す第1の実施の形態の直列回路
と同様に、直列回路を構成する各トランジスタ2i (i
=1,…n)は、基板端子がソース端子に接続され、ゲ
ート端子がドレイン端子に接続されている。そしてトラ
ンジスタ2i (i=1,…n)のドレイン端子はトラン
ジスタ2i+1 のソース端子に接続され、トランジスタ2
1のソース端子には電源電圧または入力信号が付加さ
れ、トランジスタ2n のドレイン端子には入力信号また
は電源電圧が付加される。
【0038】また上記第2の直列回路においては同様
に、この直列回路を構成する各トランジスタ12i (i
=1,…m)は基板端子がソース端子に接続され、ゲー
ト端子がドレイン端子に接続されている。そしてトラン
ジスタ12i (i=1,…m)のドレイン端子はトラン
ジスタ12i+1 のソース端子に接続されている。トラン
ジスタ121 のソース端子は第1の直列回路である第1
のトランジスタ列の異なる2つの中間接続ノードA,B
のうちの電位の高い方の接続ノードAに接続され、トラ
ンジスタ12m のドレイン端子は電位の低い方の接続ノ
ードBに接続されている。
に、この直列回路を構成する各トランジスタ12i (i
=1,…m)は基板端子がソース端子に接続され、ゲー
ト端子がドレイン端子に接続されている。そしてトラン
ジスタ12i (i=1,…m)のドレイン端子はトラン
ジスタ12i+1 のソース端子に接続されている。トラン
ジスタ121 のソース端子は第1の直列回路である第1
のトランジスタ列の異なる2つの中間接続ノードA,B
のうちの電位の高い方の接続ノードAに接続され、トラ
ンジスタ12m のドレイン端子は電位の低い方の接続ノ
ードBに接続されている。
【0039】一方、フリップフロップ回路16のセット
端子Sは第2の直列回路を構成するトランジスタ列の異
なる接続ノードC,Dのうち電位の高い方の接続ノード
Cに接続され、リセット端子Rは反転ゲート15を介し
て電位の低い方の接続ノードDに接続されている。そし
てフリップフロップ回路16のQ出力端子から出力信号
が取り出される。
端子Sは第2の直列回路を構成するトランジスタ列の異
なる接続ノードC,Dのうち電位の高い方の接続ノード
Cに接続され、リセット端子Rは反転ゲート15を介し
て電位の低い方の接続ノードDに接続されている。そし
てフリップフロップ回路16のQ出力端子から出力信号
が取り出される。
【0040】ここで、第1のMOSトランジスタ列を構
成する全てのトランジスタは等しいチャネル幅であり、
また第2のMOSトランジスタ列を構成する全てのトラ
ンジスタは等しいチャネル幅であって、全てのトランジ
スタがサブスレッショルド領域で動作するように、チャ
ネル幅が選ばれている。このようにチャネル幅が設定さ
れたとき、第1のMOSトランジスタ列の両端の端子に
かかる電圧を第1のMOSトランジスタ列を構成するM
OSトランジスタの数で割った値がp型MOSトランジ
スタのしきい値電圧に比べて等しいかあるいは小さくな
り、また、第2のMOSトランジスタ列の両端の端子に
かかる電圧を第2のMOSトランジスタ列を構成するM
OSトランジスタの数で割った値がp型MOSトランジ
スタのしきい値電圧に比べて等しいかあるいは小さくな
る。
成する全てのトランジスタは等しいチャネル幅であり、
また第2のMOSトランジスタ列を構成する全てのトラ
ンジスタは等しいチャネル幅であって、全てのトランジ
スタがサブスレッショルド領域で動作するように、チャ
ネル幅が選ばれている。このようにチャネル幅が設定さ
れたとき、第1のMOSトランジスタ列の両端の端子に
かかる電圧を第1のMOSトランジスタ列を構成するM
OSトランジスタの数で割った値がp型MOSトランジ
スタのしきい値電圧に比べて等しいかあるいは小さくな
り、また、第2のMOSトランジスタ列の両端の端子に
かかる電圧を第2のMOSトランジスタ列を構成するM
OSトランジスタの数で割った値がp型MOSトランジ
スタのしきい値電圧に比べて等しいかあるいは小さくな
る。
【0041】したがって例えば、第1のMOSトランジ
スタ列を10個のトランジスタで構成し(n=10)、
一端から第4番目の接続ノードと第5番目の接続ノード
の間に第2のMOSトランジスタ列を10個のトランジ
スタで構成した場合(m=10)を考える。このとき第
2のMOSトランジスタ列の一端から第3番目の出力電
位を取ると、この出力電位は第1のMOSトランジスタ
列の両端にかかる電圧を100分の43にした電位に等
しくなる。もしこの出力電位を第1のMOSトランジス
タ列だけで発生とようとすると100個のトランジスタ
で構成しなければならない(n=100)。このように
2つのトランジスタ列を階層的に組み込むことで、1つ
のトランジスタ列で発生するよりも細かな出力電位の調
整が少ないトランジスタ数で実現できる。階層化は3階
層以上にも同様にして拡張することができる。
スタ列を10個のトランジスタで構成し(n=10)、
一端から第4番目の接続ノードと第5番目の接続ノード
の間に第2のMOSトランジスタ列を10個のトランジ
スタで構成した場合(m=10)を考える。このとき第
2のMOSトランジスタ列の一端から第3番目の出力電
位を取ると、この出力電位は第1のMOSトランジスタ
列の両端にかかる電圧を100分の43にした電位に等
しくなる。もしこの出力電位を第1のMOSトランジス
タ列だけで発生とようとすると100個のトランジスタ
で構成しなければならない(n=100)。このように
2つのトランジスタ列を階層的に組み込むことで、1つ
のトランジスタ列で発生するよりも細かな出力電位の調
整が少ないトランジスタ数で実現できる。階層化は3階
層以上にも同様にして拡張することができる。
【0042】なお、この第7の実施の形態の基板電位検
出回路も図3に示す実施の形態と同様の効果を奏するこ
とは云うまでもない。
出回路も図3に示す実施の形態と同様の効果を奏するこ
とは云うまでもない。
【0043】また、第7の実施の形態の基板電位検出回
路においてはフリップフロップ回路16は2入力NAN
Dゲートを用いて構成したが、図5に示す第5の実施の
形態の場合と同様に2入力NORゲートを用いて構成し
ても良い。
路においてはフリップフロップ回路16は2入力NAN
Dゲートを用いて構成したが、図5に示す第5の実施の
形態の場合と同様に2入力NORゲートを用いて構成し
ても良い。
【0044】次に本発明による第8の実施の形態の基板
電位検出回路の構成を図8に示す。この実施の形態の基
板電位検出回路は図7に示す第7の実施の形態の基板電
位検出回路において、第1の直列回路を構成するp型M
OSトランジスタ2i (i=1,…n)をn型MOSト
ランジスタ4i に置換えるとともに第2の直列回路を構
成するp型MOSトランジスタ12i (i=1,…m)
をn型MOSトランジスタ14i に置換えたものであ
る。
電位検出回路の構成を図8に示す。この実施の形態の基
板電位検出回路は図7に示す第7の実施の形態の基板電
位検出回路において、第1の直列回路を構成するp型M
OSトランジスタ2i (i=1,…n)をn型MOSト
ランジスタ4i に置換えるとともに第2の直列回路を構
成するp型MOSトランジスタ12i (i=1,…m)
をn型MOSトランジスタ14i に置換えたものであ
る。
【0045】なお、第1及び第2の直列回路を構成する
各トランジスタ4i(i=1,…n)及び14j (j=
1,…m)は各々基板端子がソース端子に接続され、ゲ
ート端子がドレイン端子に接続されている。
各トランジスタ4i(i=1,…n)及び14j (j=
1,…m)は各々基板端子がソース端子に接続され、ゲ
ート端子がドレイン端子に接続されている。
【0046】そして第1の直列回路を構成する全てのト
ランジスタ41 ,…4n は等しいチャネル幅であり、第
2の直列回路を構成する全てのトランジスタ141 ,…
14m は等しいチャネル幅であって、全てのトランジス
タがサブスレッショルド領域で動作するようにチャネル
幅が選ばれている。
ランジスタ41 ,…4n は等しいチャネル幅であり、第
2の直列回路を構成する全てのトランジスタ141 ,…
14m は等しいチャネル幅であって、全てのトランジス
タがサブスレッショルド領域で動作するようにチャネル
幅が選ばれている。
【0047】この第8の実施の形態の基板電位検出回路
は図7に示す第7の実施の形態の基板電位検出回路と同
様の動作を行い、同様の効果を奏することは云うまでも
ない。
は図7に示す第7の実施の形態の基板電位検出回路と同
様の動作を行い、同様の効果を奏することは云うまでも
ない。
【0048】なお、第8の実施の形態の基板電位検出回
路においては、フリップフロップ回路16は2入力NA
NDゲートを用いて形成したが、2入力NORゲートを
用いて構成しても良い。
路においては、フリップフロップ回路16は2入力NA
NDゲートを用いて形成したが、2入力NORゲートを
用いて構成しても良い。
【0049】なお、図7及び図8に示す第7及び第8の
実施の形態の基板電位検出回路においては、第2の直列
回路からフリップフロップ回路16を介して出力を取り
出したが、第2の直列回路から出力を取り出しても良
い。
実施の形態の基板電位検出回路においては、第2の直列
回路からフリップフロップ回路16を介して出力を取り
出したが、第2の直列回路から出力を取り出しても良
い。
【0050】以上述べた上記実施の形態においては、直
列回路の一端に印加される電源電圧をVDDにし、他端に
入力される信号入力をp型基板またはpウェルの電位
(通常接地電位に等しいかもしくはそれより低い電位)
にすると、基板電位検出回路は上記p型基板またはpウ
ェルの電位が、ある電位より高いか低いかを検出するよ
うに動作する。
列回路の一端に印加される電源電圧をVDDにし、他端に
入力される信号入力をp型基板またはpウェルの電位
(通常接地電位に等しいかもしくはそれより低い電位)
にすると、基板電位検出回路は上記p型基板またはpウ
ェルの電位が、ある電位より高いか低いかを検出するよ
うに動作する。
【0051】同様に、上記電源を接地にし、上記信号入
力をn型基板またはnウェルの電位(通常VDDに等しい
かもしくはそれより高い電位)にすると、上記n型基板
またはnウェルの電位が、ある電位より高いか低いかを
検出するように動作する。
力をn型基板またはnウェルの電位(通常VDDに等しい
かもしくはそれより高い電位)にすると、上記n型基板
またはnウェルの電位が、ある電位より高いか低いかを
検出するように動作する。
【0052】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、電力
消費が小さく、小さいパターン面積でレイアウトするこ
とができる。
消費が小さく、小さいパターン面積でレイアウトするこ
とができる。
【図1】本発明による基板電位検出回路の第1の実施の
形態の構成を示す回路図。
形態の構成を示す回路図。
【図2】本発明の第2の実施の形態の構成を示す回路
図。
図。
【図3】本発明の第3の実施の形態の構成を示す構成
図。
図。
【図4】本発明の第4の実施の形態の構成を示す構成
図。
図。
【図5】本発明の第5の実施の形態の構成を示す構成
図。
図。
【図6】本発明の第6の実施の形態の構成を示す構成
図。
図。
【図7】本発明の第7の実施の形態の構成を示す構成
図。
図。
【図8】本発明の第8の実施の形態の構成を示す構成
図。
図。
【図9】従来の基板電位検出回路の構成を示す構成図。
2i (i=1,…n) p型MOSトランジスタ 4i (i=1,…n) n型MOSトランジスタ 5 反転ゲート 6 RSフリップフロップ回路 7 反転ゲート 8 RSフリップフロップ回路 8i (i=1,2) NORゲート 12i (i=1,…m) p型MOSトランジスタ 14i (i=1,…m) p型MOSトランジスタ 16 RSフリップフロップ回路 16i (i=1,2) NANDゲート
Claims (10)
- 【請求項1】各々基板端子がソース端子に接続されかつ
ゲート端子がドレイン端子に接続された同一導電型の複
数のMOSトランジスタが直列に接続された直列回路を
有し、 前記複数のMOSトランジスタの全てのチャネル幅は同
一であって前記複数のMOSトランジスタがサブスレッ
ショルド領域で動作するように選択されていることを特
徴とする基板電位検出回路。 - 【請求項2】各々が、複数の同一導電型のMOSトラン
ジスタが直列に接続された第1乃至第n(≧2)の直列
回路を有し、前記第i(i=1,…n)の直列回路を構
成する各MOSトランジスタは基板端子がソース端子に
接続されかつゲート端子がドレイン端子に接続され、 前記第i(i=2,…n)の直列回路は前記第i−1の
直列回路を構成するトランジスタ列の異なる2つの接続
ノード間に接続され、前記第i(i=1,…n)の直列
回路を構成する各トランジスタのチャネル幅は同一であ
って前記第iの直列回路を構成する全てのトランジスタ
がサブスレッショルド領域で動作するように選択されて
いることを特徴とする基板電位検出回路。 - 【請求項3】RSフリップフロップ回路と、反転ゲート
とを更に有し、前記RSフリップフロップ回路のセット
入力端子は前記直列回路を構成するトランジスタ列の異
なる2つの接続ノードのうちの一方の接続ノードに接続
され、前記RSフリップフロップ回路のリセット入力端
子は前記反転ゲートを介して前記2つの接続ノードのう
ちの他方の接続ノードに接続されていることを特徴とす
る請求項1記載の基板電位検出回路。 - 【請求項4】RSフリップフロップ回路と、反転ゲート
とを更に有し、前記RSフリップフロップ回路のセット
入力端子は前記第nの直列回路を構成するトランジスタ
列の異なる2つの接続ノードのうちの一方の接続ノード
に接続され、前記RSフリップフロップ回路のリセット
入力端子は前記反転ゲートを介して前記接続ノードのう
ちの他方の接続ノードに接続されていることを特徴とす
る請求項2記載の基板電位検出回路。 - 【請求項5】前記直列回路の一端は電源に接続され、他
端に基板電位またはウェル電位が入力され、前記直列回
路を構成するトランジスタ列の中間接続ノードから出力
信号が取り出されることを特徴とする請求項1記載の基
板電位検出回路。 - 【請求項6】前記第1の直列回路の一端は電源に接続さ
れ、他端に基板電位またはウェル電位が入力され、前記
第nの直列回路を構成するトランジスタ列の中間接続ノ
ードから出力信号が取り出されることを特徴とする請求
項2記載の基板電位検出回路。 - 【請求項7】前記直列回路の一端は電源に接続され、他
端に基板電位またはウェル電位が入力され、前記RSフ
リップフロップ回路のQ出力端子から出力が取り出され
ることを特徴とする請求項3記載の基板電位検出回路。 - 【請求項8】前記第1の直列回路の一端は電源に接続さ
れ、他端に基板電位またはウェル電位が入力され、前記
RSフリップフロップ回路のQ出力端子から出力が取り
出されることを特徴とする請求項4記載の基板電位検出
回路。 - 【請求項9】前記RSフリップフロップ回路は交差接続
された2入力NANDゲートから構成され、前記一方の
接続ノードは前記他方の接続ノードに比べて電位が高い
ことを特徴とする請求項3,4,7,8のいずれかに記
載の基板電位検出回路。 - 【請求項10】前記RSフリップフロップ回路は交差接
続された2入力NORゲートから構成され、前記一方の
接続ノードは前記他方の接続ノードに比べて電位が低い
ことを特徴とする請求項3,4,7,8のいずれかに記
載の基板電位検出回路。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8011529A JPH09205153A (ja) | 1996-01-26 | 1996-01-26 | 基板電位検出回路 |
KR1019970001884A KR100261955B1 (ko) | 1996-01-26 | 1997-01-23 | 기판전위검출회로 |
DE69714486T DE69714486T2 (de) | 1996-01-26 | 1997-01-24 | Detektorschaltung für Substrat-Potential |
US08/787,711 US5936436A (en) | 1996-01-26 | 1997-01-24 | Substrate potential detecting circuit |
EP97101113A EP0786810B1 (en) | 1996-01-26 | 1997-01-24 | Substrate potential detecting circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8011529A JPH09205153A (ja) | 1996-01-26 | 1996-01-26 | 基板電位検出回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09205153A true JPH09205153A (ja) | 1997-08-05 |
Family
ID=11780505
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8011529A Pending JPH09205153A (ja) | 1996-01-26 | 1996-01-26 | 基板電位検出回路 |
Country Status (5)
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---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (6)
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---|---|---|---|---|
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US20070068337A1 (en) * | 2005-09-06 | 2007-03-29 | Matthew Mincer | Ergonomic, adjustable handle for microtomes and cryostats |
JP5225013B2 (ja) * | 2008-10-15 | 2013-07-03 | 株式会社東芝 | 電位検知回路及びbgr電位検知回路 |
CN111176361B (zh) * | 2020-01-09 | 2021-03-26 | 电子科技大学 | 一种基于衬底偏置调控的亚阈值带隙基准电压源 |
Family Cites Families (9)
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US4874967A (en) * | 1987-12-15 | 1989-10-17 | Xicor, Inc. | Low power voltage clamp circuit |
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KR910004737B1 (ko) * | 1988-12-19 | 1991-07-10 | 삼성전자 주식회사 | 백바이어스전압 발생회로 |
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KR0137857B1 (ko) * | 1992-06-02 | 1998-06-01 | 사또오 후미오 | 반도체 장치 |
US5302861A (en) * | 1992-11-25 | 1994-04-12 | National Semiconductor Corporation | Power on reset circuit with sharply sloped voltage transfer function |
-
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100454539C (zh) * | 2005-06-22 | 2009-01-21 | 恩益禧电子股份有限公司 | 半导体集成电路装置 |
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