JP2671808B2 - インタフェース回路 - Google Patents

インタフェース回路

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JP2671808B2
JP2671808B2 JP6170605A JP17060594A JP2671808B2 JP 2671808 B2 JP2671808 B2 JP 2671808B2 JP 6170605 A JP6170605 A JP 6170605A JP 17060594 A JP17060594 A JP 17060594A JP 2671808 B2 JP2671808 B2 JP 2671808B2
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清伸 日野岡
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はインタフェース回路に係
わり、特に相補型半導体集積回路(CMOS)装置にお
ける電源電圧3V系の回路および5V系の回路間の信号
レベルを変換する際に使用するインタフェース回路に関
する。
【0002】
【従来の技術】近年、大規模集積回路(LSI)の微細
化技術が著しく進歩してきており、これに伴ないLSI
に供給される電源電圧も従来の5V電圧から3V電圧へ
とスケールダウンされてきた。しかしながら、まだ電源
電圧5Vが主流を占ているのが現状であり、そのため電
源電圧5VのLSIと電源電圧3VのLSIが同一のシ
ステムに使用される場合が多い。従って、電源電圧5V
を使用するLSIと電源電圧3Vを使用するLSIとの
間で信号の送受信をする、いわゆる入出力インタフェー
ス回路が必要になってくる。
【0003】電源電圧3Vを使用するLSIの出力を電
源電圧5Vを使用するLSIのバスにデータを出力する
場合、これらのバスは一般的に外部抵抗で5V電源にプ
ルアップ(不図示)されていたり、あるいは他の電源電
圧5Vを使用するLSIの出力端子に接続される場合が
多い。そのため、電源電圧3Vを使用するLSIの出力
端子に5Vの電圧が加わることがある。
【0004】ここで、電源電圧3Vを使用するLSIの
MOSトランジスタのゲート酸化膜は10nm程度であ
るため、この酸化膜の信頼性から考えてゲートとソー
ス、およびゲートとドレインとの間へそれぞれ供給され
る電圧は、4.5V程度が最大となる。
【0005】従来のこの種のインタフェース回路の一例
が特開平5−327465号公報に記載されている。同
公報記載の電源電圧5V系および3V系間の信号のレベ
ル変換をするインタフェース回路における出力部の回路
図を示した図3を参照すると、この出力回路は、電源電
圧VDD端子および接地電位GND端子の間にゲート電
極を入力端子I1に接続するpチャネル型絶縁ゲート電
界効果トランジスタ(以下、pチャネル型トランジスタ
と称す)M1およびゲート電極を入力端子I2に接続す
るnチャネル型絶縁ゲート電界効果トランジスタ(以
下、nチャネル型トランジスタと称す)M2が直列接続
で挿入され、この直列接続点Aおよび出力端子Bの間に
nチャネル型トランジスタM3が接続され、そのゲート
電極は電源電圧VDD端子に接続されて構成されてい
る。ここで、これらのpチャネル型トランジスタおよび
nチャネル型トランジスタの基板電位はそれぞれ電源電
位および接地電位にあるものとする。また、nチャネル
型トランジスタM3はノンドープ・トランジスタからな
り、ゲート電極にバイアスが供給されていないとドレイ
ン電流が流れない構造を有するものである。
【0006】一方、この出力回路の一部の構造を断面図
で示した図4を参照すると、p型半導体基板41上にn
ウェル領域42とn+ 拡散層43および44の領域が設
けられ、これらn+ 拡散層43および44領域はnチャ
ネル型トランジスタM3のソース電極およびドレイン電
極を形成するとともに、これらの層間のチャネル領域上
面に形成されたゲート電極は電源電圧VDD端子に接続
される。nウェル領域42上にはp+ 拡散層45および
46とn+ 拡散層47が形成され、p+ 拡散層45およ
び46の領域はpチャネル型トランジスタM1のドレイ
ン電極およびソース電極を形成し、n+ 拡散層47は電
源電圧VDD端子にp+ 拡散層46とともに接続され
る。さらにp+ 拡散層45およびn+ 拡散層44は共通
接続されて形成されている。
【0007】この出力端子Bに5Vの信号電圧が供給さ
れた場合、nチャネル型トランジスタM3によって直列
接続点Aの電位VA は、 VA ≦(VDD−VTM3 )………………………………………………(1) で表わされる。但し、VTM3 はトランジスタM3のしき
い値電圧である。
【0008】ここで、電源電圧VDDを3Vとすると、
その電圧は電源電圧の規格上においては最大3.6Vま
で許容されるため、VTM3 を約0Vに設定しておけば直
列接続点Aの電位VA が3.6V以上になることはな
い。
【0009】さらに、nチャネル型トランジスタM3自
身もゲート電極が電源電圧VDD端子に接続されている
から、ゲートとソース間およびゲートとドレイン間の電
位差がそれぞれ5Vになることはない。
【0010】ここで、VT =0Vのトランジスタは、一
般的に使用される濃度1015(cm-3)のp型基板にチ
ャネルドープをせずにトランジスタを形成することによ
り容易に実現できる。
【0011】従って、前述したように、直列接続点Aお
よび出力端子Bの間にnチャネル型トランジスタM3を
付加することにより、出力端子に5Vの電圧が加わって
も出力回路のトランジスタのゲート酸化膜に4.5V以
上の電圧が加わることはない。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のインタ
フェース回路では、出力回路の直列接続点Aおよび出力
端子Bの間にnチャネル型トランジスタM3からなるノ
ンドープ・トランジスタが必要であるため、次のような
問題が生じる。すなわち、nチャネル型トランジスタM
3のしきい値電圧VT は、チャネルの長さおよび製造上
のばらつきにより負電圧(VT =−0.5V)になるこ
とがある。
【0013】出力端子Bに電圧5Vが加わった場合、出
力回路の直列接続点Aの電圧VA は前述したように、V
A =VDD−VTM3 となる。したがって、電源電圧VD
D=3VのときはVA =3.5Vになってしまうことに
なる。
【0014】ここで再び図4を参照すると、p+ 拡散層
45およびnウェル42の間に形成されるp+ −nウェ
ルダイオード(不図示)には順方向電圧0.5Vが供給
されることになり、nウェル42からp+ 拡散層45に
対してリーク電流が発生する。
【0015】特に、出力回路を構成するpチャネル型ト
ランジスタM1およびnチャネル型トランジスタM2が
共に非導通状態にある、いわゆるハイインピーダンス状
態ではこのリーク電流が大きな問題となっていた。
【0016】本発明の目的は、上述の欠点に鑑みなされ
たものであり、電源電圧5Vおよび3Vのインタフェー
ス回路の出力部におけるハイインピーダンス時のリーク
電流を低減することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明のインタフェース
回路の特徴は、相補型半導体集積回路からなり、ゲート
電極を第1の入力端子に接続する第1のpチャネル型ト
ランジスタおよびゲート電極を第2の入力端子に接続す
る第1のnチャネル型トランジスタを、第1の高位電源
および低位電源の間に直列接続で挿入して構成する出力
回路と、この出力回路の信号を外部に出力させかつ第1
の高位電源よりも高い第2の高位電源の電圧を外部から
加えるための出力端子と、この出力端子と前記出力回路
の直列接続点との間に第2のnチャネル型トランジスタ
を接続し、この第2のnチャネル型トランジスタのゲー
ト電極を第1の高位電源に接続して構成するレベルシフ
タとを備え、前記レベルシフタにより、第2の高位電源
の電圧が前記出力回路に直接加わらないように所定の電
圧にレベル低下させるインタフェース回路において、第
1の高位電源に接続した前記第1のpチャネル型トラン
ジスタ形成する半導体基板の電位とこのトランジスタ
ドレイン電極の電位とを等電位にしてこれら2つの電
間のリーク電流の発生を抑える制御手段が、ゲート電
極およびドレイン電極を第1の高位電源に接続する第3
のnチャネル型トランジスタを介して前記半導体基板に
バイアス電圧を供給する構成からなり、前記第1、第2
および第3のnチャネル型トランジスタを形成する半導
体基板はそれぞれ低位電源でバイアスすることにある。
【0018】
【0019】さらに、前記第2のnチャネル型トランジ
スタおよび前記第3のnチャネル型トランジスタのトラ
ンジスタサイズを同一のチャネル長および同一のチャネ
ル幅に設定してそれぞれのしきい値電圧を等電位に設定
することができる。
【0020】さらにまた、前記第2のnチャネル型トラ
ンジスタおよび前記第3のnチャネル型トランジスタの
前記しきい値電圧をそれぞれ0V近辺に設定することが
できる。
【0021】
【実施例】本発明のインタフェース回路の一実施例を図
面を参照しながら説明する。
【0022】図1は本発明の一実施例によるインタフェ
ース回路の回路図である。同図を参照すると、このイン
タフェース回路は、電源電圧VDD端子および接地電位
GND端子の間にゲート電極を入力端子I1に接続する
pチャネル型トランジスタM1およびゲート電極を入力
端子I2に接続するnチャネル型トランジスタM2が直
列接続で挿入され、この直列接続点Aおよび出力端子B
の間にnチャネル型トランジスタM3が接続され、その
ゲート電極は電源電圧VDD端子に接続される。pチャ
ネル型トランジスタM1の半導体基板および電源電圧V
DD端子の間にはnチャネル型トランジスタM4が接続
され、そのゲート電極は電源電圧VDD端子に接続され
る。これらのトランジスタのうちnチャネル型トランジ
スタM1〜3の半導体基板はそれぞれ接地電位に接続さ
れて構成されている。
【0023】一方、この出力回路の一部の構造を断面図
で示した図2を参照すると、p型半導体基板21上にn
ウェル22とn+ 拡散層23および24とn+ 拡散層2
5および26との領域が設けられ、これらn+ 拡散層2
3および24の領域はnチャネル型トランジスタM3の
ソース電極およびドレイン電極を形成するとともにこれ
ら層間のチャネル領域上面のゲート電極は電源電圧VD
D端子に接続され、n+ 拡散層25および26の領域は
nチャネル型トランジスタM4のソース電極およびドレ
イン電極を形成するとともに、これらの層間のチャネル
領域上面のゲート電極およびn+ 拡散層26はVDD端
子に接続される。nウェル22上にはp+ 拡散層27お
よび28とn+ 拡散層29が形成され、p+ 拡散層27
および28の領域はpチャネル型トランジスタM1のド
レイン電極およびソース電極を形成し、n+ 拡散層29
はnチャネルトランジスタM4のn+ 拡散層26に接続
され、n+ 拡散層25はこのトランジスタのゲート電極
とともに電源電圧VDD端子に接続される。さらにp+
拡散層27およびn+ 拡散層24は共通接続されて形成
されている。なお、この構造図ではnチャネル型トラン
ジスタM2は図示されていない。
【0024】上述した構成において、直列接続点Aおよ
び出力端子Bの間に接続されたnチャネル型トランジス
タM3はレベルシフタとして動作し、電源電圧5V系お
よび3V系のインタフェース回路を実現する点は従来例
と同様である。
【0025】そこで本発明では、pチャネル型トランジ
スタM1が形成されるnウェル領域の電位がnチャネル
型トランジスタM3のしきい値電圧VT と等しい電位を
有し、nチャネル型トランジスタM4でその電位が設定
される。
【0026】ここで、従来技術の説明で述べた不具合、
すなわち、この回路がハイインピーダンス状態のときに
nチャネル型トランジスタM3および4のしきい値電圧
が負電圧である場合、すなわち一例として電源電圧VD
Dが3Vの場合にnチャネル型トランジスタM3および
4のしきい値電圧VT が−0.5Vの場合について検討
する。
【0027】この状態で、出力端子Bに電圧5Vが加え
られると、nチャネル型トランジスタM3はゲート電極
に3Vが供給されているから導通状態となるが、そのド
レイン電極側、すなわち直列接続点Aの電位はnチャネ
ル型トランジスタM3のしきい値電圧VT −0.5V
によって、VDD−VT =3.5Vになる。
【0028】したがって、pチャネル型トランジスタM
1のドレイン電極であるp+ 拡散層27の電圧も3.5
Vにバイアスされることになる。このとき、pチャネル
型トランジスタM1が形成されているnウェル22は、
+ 拡散層29によってnチャネル型トランジスタM4
のソース電極のn+ 拡散層26に接続され、かつnチャ
ネル型トランジスタM4はゲート電極およびドレイン電
極に電源電圧の3Vが供給されているから導通状態にあ
り、そのしきい値電圧VT −0.5Vによって、VD
D−VT =3.5Vがドレイン電極n+ 拡散層26をバ
イアスしている。
【0029】よって、p+ 拡散層およびnウェル層間の
ダイオードの両端には電位差がなくなり、従来技術で問
題となっていたp+ 拡散層およびnウェル層間のリーク
電流は流れなくなる。
【0030】nチャネル型トランジスタM3および4は
それぞれp型半導体基板21をチャネルとしたトランジ
スタであり、同一のチャネル長および同一のチャネル幅
を有するように配置配線のレイアウトをすれば、同一の
しきい値電圧VT を得ることができる。
【0031】また、電源電圧VDDを3Vとすると、そ
の電圧は電源電圧の規格上においては最大3.6Vまで
許容されるため、nチャネル型トランジスタM3のしき
い値電圧VTM3 を約0Vに設定しておけば直列接続点A
の電位VA が3.6V以上になることはなく、かつnチ
ャネル型トランジスタM4のしきい値電圧VTM4 も同様
に約0Vに設定しておけば、前述したようにこれら両方
のトランジスタが同一のしきい値電圧VT を得ることが
できp+ 拡散層およびnウェル層間のリーク電流は流れ
なくなる。
【0032】したがって、本実施例によれば、製造上の
ばらつきを考慮してもリーク電流は10-6[A]以下で
あり、従来の回路構成での10-4と比較して大きく低減
されていることが分る。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のインタフ
ェース回路は、出力回路を構成するpチャネル型トラン
ジスタの半導体基板電位を、ゲート電極およびソース電
極が電源電位に接続されて導通状態にあるpチャネル型
トランジスタを介して電源電位に接続するので、nチャ
ネル型トランジスタのしきい値分だけ電源電圧よりも低
い電圧でpチャネル型トランジスタのnウェル層をバイ
アスし、そのドレイン電極に加わるバイアス電圧と等し
くする。したがって、p+ 拡散層およびnウェル層間の
ダイオードの両端には電位差がなくなり、従来技術で問
題となっていたp+ 拡散層およびnウェル層間のリーク
電流は流れなくなるので、出力回路がハイインピーダン
ス状態にあってもリーク電流の発生を低減できる効果を
有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のインタフェース回路の一実施例を示す
回路図である。
【図2】本実施例の出力回路の一部の構造をを示す断面
図である。
【図3】従来のインタフェース回路の一例を示す回路図
である。
【図4】従来施の出力回路の一部の構造をを示す断面図
である。
【符号の説明】
M1 pチャネル型トランジスタ M2,M3,M4 nチャネル型トランジスタ 21 p型半導体基板 22 nウェル 23,24,25,26,29 n+ 拡散層 27,28 p+ 拡散層

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 相補型半導体集積回路からなり、ゲート
    電極を第1の入力端子に接続する第1のpチャネル型ト
    ランジスタおよびゲート電極を第2の入力端子に接続す
    る第1のnチャネル型トランジスタを、第1の高位電源
    および低位電源の間に直列接続で挿入して構成する出力
    回路と、この出力回路の信号を外部に出力させかつ第1
    の高位電源よりも高い第2の高位電源の電圧を外部から
    加えるための出力端子と、この出力端子と前記出力回路
    の直列接続点との間に第2のnチャネル型トランジスタ
    を接続し、この第2のnチャネル型トランジスタのゲー
    ト電極を第1の高位電源に接続して構成するレベルシフ
    タとを備え、前記レベルシフタにより、第2の高位電源
    の電圧が前記出力回路に直接加わらないように所定の電
    圧にレベル低下させるインタフェース回路において、第
    1の高位電源に接続した前記第1のpチャネル型トラン
    ジスタ形成する半導体基板の電位とこのトランジスタ
    ドレイン電極の電位とを等電位にしてこれら2つの電
    間のリーク電流の発生を抑える制御手段が、ゲート電
    極およびドレイン電極を第1の高位電源に接続する第3
    のnチャネル型トランジスタを介して前記半導体基板に
    バイアス電圧を供給する構成からなり、前記第1、第2
    および第3のnチャネル型トランジスタを形成する半導
    体基板はそれぞれ低位電源でバイアスすることを特徴と
    するインタフェース回路。
  2. 【請求項2】 前記第2のnチャネル型トランジスタお
    よび前記第3のnチャネル型トランジスタのトランジス
    タサイズを同一のチャネル長および同一のチャネル幅に
    設定してそれぞれのしきい値電圧を等電位に設定する請
    求項1記載のインタフェース回路。
  3. 【請求項3】 前記第2のnチャネル型トランジスタお
    よび前記第3のnチャネル型トランジスタの前記しきい
    値電圧をそれぞれ0V近辺に設定する請求項1または2
    記載のインタフェース回路。
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JPH04329024A (ja) * 1991-04-30 1992-11-17 Toshiba Corp 入出力バッファ回路

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