JPH09172034A - 電気部品接合方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 46
- 238000005304 joining Methods 0.000 title claims description 29
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 abstract description 8
- 230000008878 coupling Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 abstract 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 54
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 48
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 31
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 28
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 28
- 230000008569 process Effects 0.000 description 24
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 20
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 18
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 17
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 14
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 13
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 13
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 8
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 7
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 238000006664 bond formation reaction Methods 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 4
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 4
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 4
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 3
- WABPQHHGFIMREM-OUBTZVSYSA-N lead-208 Chemical compound [208Pb] WABPQHHGFIMREM-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- 229920006051 Capron® Polymers 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 229920005570 flexible polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013401 experimental design Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-AKLPVKDBSA-N lead-210 Chemical compound [210Pb] WABPQHHGFIMREM-AKLPVKDBSA-N 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
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- B23K26/20—Bonding
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- B23K26/22—Spot welding
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- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
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- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1623—Manufacturing processes bonding and adhesion
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/16—Production of nozzles
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- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
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- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
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- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1632—Manufacturing processes machining
- B41J2/1634—Manufacturing processes machining laser machining
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
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Abstract
の組立て工程において、フレキシブルTAB回路のノズ
ル部材の裏面上に配置される導線を基板上の電極に接続
する場合、従来技術において必要とされたテープに開け
られた窓を必要とすることなく導線と電極を接合させる
方法を提供する。 【解決手段】特定の波長を持つレーザ光線を使用してT
AB回路の導線を基板電極に接合させる。この方法は、
レーザ光線の波長に対応する適切なレーザ光吸収性を持
つシード金属をその上部表面に有する電気リード線を準
備し、上記電気リード線を上記電気接点部に対し位置合
わせし、上記電気リード線および上記電気接点部を接合
位置において光ファイバーと接触するように保持し、光
ファイバーを通過するレーザ光線を照射することによっ
て上記電気リード線および上記電気接点部を上記接合位
置で接合する。
Description
エレメントの電気的接続に関するもので、特に、光ファ
イバーを使用して2つの電気エレメントの接合位置にレ
ーザ光線を照射することによって電気エレメントの無は
んだ接続を行う方法に関するものである。
リッジは少量のインクを急速に熱することによって、イ
ンクを気化させ、複数の開口部の1つを通して1ドット
のインクを噴射させて紙などの記録媒体上に印刷する。
プリントヘッドが紙の上を移動するにつれ、適切に順序
づけられた各開口部からのインクの噴射によって、文字
またはその他の画像が紙の上に印刷される。インクジェ
ット・プリントヘッドは、一般的に、(1)インク貯蔵室
から開口部に近接する各気化室にインクを供給するイン
ク流路、(2)必要とされるパターンを形成する複数開口
部が含まれる金属開口部プレートまたはノズル部材、お
よび(3)1つの気化室に各1つ備わる一連の薄膜抵抗器
を含むシリコン基板を含む。1ドットのインクを印刷す
るため、外部電源から送られる電流が、選択された薄膜
抵抗器に通される。次に、その抵抗器は熱を帯び、気化
室内の隣接するインクの薄膜層を過熱し、その結果、爆
発的な気化が発生し、インクの小滴が接続する開口部を
通して紙の上へ噴射される。
2,668号"Integrated Nozzle Memberand TAB Circuit fo
r Inkjet Printhead"には、インクジェット・プリント
・カートリッジ用の新機軸のノズル部材およびノズル部
材を形成する方法が記載されている。上記特許出願に記
載されているノズルおよびTAB回路設計は、リトグラ
フ電子成形工程によって組み立てられるニッケル材の開
口部プレートよりすぐれている。障壁層が、気化室を含
み、各開口部を囲み、インク貯蔵室と気化室の間のイン
クの流れを提供するインク流路を含む。その上に形成さ
れる導線を有するフレキシブル・テープには、エキシマ
ー・レーザ剥離によってノズルまたは開口部が形成され
る。フレキシブル回路それ自体の中に開口部を持つこと
によって、電気的に形成される従来技術の開口部プレー
トの短所が克服される。次に、開口部および導線を有す
るノズル部材の上に、開口部の各々に対応する発熱体を
含む基板が載せられる。導線の末端に基板上の電極を合
わせるように配置することによって発熱体が開口部に位
置合わせされるように上記開口部は作成される。ノズル
部材の裏側に配置される導線の末端におけるリード線が
基板上の電極に接続され、発熱体のため活性化信号を提
供する。上記の手法は、インクジェット・プリントヘッ
ド・アセンブリのテープ自動化接合法(Tape Automated
Bondingの頭文字をとって以下TABと略称する)または
TABヘッド・アセンブリ(TAB HeadAssemblyの頭文字
をとって以下THAと略称する)として知られている。
される導線を基板上の電極に接続する従来技法は、カプ
トン(すなわちKapton)テープに窓を開けたフレキシブル
TAB回路を必要とする。接合ヘッドにおけるこの窓の
開口部を通して、サーモード(すなわちthermode)が1点
または複数点でTABリード銅線に直接接触することが
できる。従って、接合工程は、サーモードとカプトン・
テープが直接接触することなしに実行される。サーモー
ドは、TAB電導リード線をプリントヘッド基板電極に
接続するために必要な熱圧縮力を与える。代替的方法と
して、超音波方法を使用して、TAB電導リード線をプ
リントヘッド基板電極に接続することもできる。上記の
窓は、電導リード線の損傷、ショートおよび漏電を最小
限にとどめるためカプセル材で埋められる。このカプセ
ル材がノズルに流入し、破損の原因となることがある。
従って、THAは、カプセル材稜線とノズルの間で0.
50ないし0.75mmの間隔をあけるように設計され
る。このため、基板サイズが1ないし1.5mm増大す
る。カプセル材はまた修理の際のアクセス性に対して好
ましくなく、また、共面性および信頼性上の問題を発生
する。
おける窓を必要としない工程があれば利益がある。窓の
排除は、TAB回路における電導リード線を覆うカプセ
ル材の必要性の排除につながる。更に、これは、鋳型サ
イズの減少、同じ鋳型サイズを持つノズル数の増加、組
立の容易性、歩留まり上昇、信頼性向上、修理等の際の
容易な表面アクセス、および材料ならびに製造全体のコ
スト削減をもたらす。
・システムに装備されるレーザ光線を使用して光線を接
合箇所に照射することによって、はんだを用いずに2つ
の接点エレメントの電気的接続を行う方法を提供する。
光ファイバー・システムを使用することによって、レー
ザ光線が最適に熱エネルギーに変換され、加熱不足によ
る不良接続あるいは過熱による接点破損が生じない。本
発明の方法および装置は、最小の接点部分面積について
も迅速で再生可能な接合を提供する。本発明の方法によ
って、例えば、ポリアミドのようなポリマー・フレキシ
ブル回路テープに含まれる電導リード線の金対金の無は
んだ圧着が、テープへの損傷を起こさずに、実施でき
る。フレキシブル回路の窓を必要とすることなく、また
テープに損傷を与えることなく、フレキシブル回路テー
プ上の金メッキ銅線と半導体チップ上の金メッキ・パッ
ドの間の無はんだの強力な金対金接合が形成される。
ット・プリントヘッドのシリコン基板に接合させる工程
への本発明の応用において、TAB回路の中の窓の必要
性は排除される。窓の排除は、TAB回路における電導
リード線を覆うカプセル材の必要性の排除につながる。
更に、これは、鋳型サイズの減少、同じ鋳型サイズを持
つノズル数の増加、組立の容易性、歩留まり上昇、信頼
性向上、修理等の際の容易な表面アクセス、および材料
ならびに製造全体のコスト削減をもたらす。
は、特定の波長を持つレーザ光線を使用してTAB回路
の電気リード線を電気接点部に接合させるため、上記レ
ーザ光線の波長に対応する適切なレーザ光吸収性を持つ
シード金属をその上部表面に有する電気リード線を準備
するステップ、上記電気リード線を上記電気接点部に対
し位置合わせするステップ、上記電気リード線および上
記電気接点部を接合位置において光ファイバーと接触す
るように保持するステップ、および、光ファイバーを通
過するレーザ光線を照射することによって上記電気リー
ド線および上記電気接点部を上記接合位置で接合させる
ステップからなる電気部品接合方法を含む。
回路上の電導リード線のインクジェット・プリントヘッ
ドのシリコン基板への接合に関連して記述されるが、そ
れは単に例示の目的に過ぎず、光ファイバー・システム
に装着されたレーザ光線を使用することによって2つの
接点エレメントの無はんだ電気接続を行う本発明の方法
および装置は、いかなる電気的部材の相互接続に応用す
ることは可能である。
の1つの実施形態に従ってプリントヘッドに組み込まれ
る一般的インクジェット・プリント用カートリッジを簡
略化して示したものである。インクジェット・プリント
用カートリッジ10は、インク貯蔵室12およびプリン
トヘッド14を含み、プリントヘッド14はテープ自動
接合法(すなわちTAB)を使用して作製される。プリン
トヘッド14すなわちTABヘッド・アセンブリ14
は、フレキシブル・ポリマ回路18において例えばレー
ザ剥離によって形成される2つの並列するオフセット孔
または開口部17から構成されるノズル部材16を含
む。
の光リトグラフ・エッチングまたはメッキ工程を使用し
てその上に装着される電導線36を含む。電導線36の
終端点は、プリンタに接続するために設計された大きな
接点パッド20である。接点パッド20が、外部で生成
された活性化信号をプリントヘッドに送る機能を果たす
プリンタ電極に、フレキシブル回路18の表面上で接触
するように、プリント用カートリッジ10は設計され
る。フレキシブル回路18の接合領域22および24
は、ヒーター抵抗器を含むシリコン基板上の電極への電
導線36の接合が行われる場所である。
て、フレキシブル回路18は、プリント用カートリッジ
の「鼻」の部分の裏側稜線上に折れ曲がり、鼻の後ろ壁
25の長さの約2分の1延伸する。このフレキシブル回
路18のたれ耳部分は、電導線36を遠い方の窓22を
通して基板電極に接続するために必要とされる。接点パ
ッド20はこの壁に固定されるフレキシブル回路18上
に置かれ、電導線36が曲折部分を越えて送られ、フレ
キシブル回路18の窓22、24を通して基板電極に接
続される。図2ないし図4は、プリント用カートリッジ
10から取り外したTABヘッド・アセンブリ14で、
TABヘッド・アセンブリ14の窓22および24にカ
プセル材が埋め込まれる前の状態のものである。TAB
ヘッド・アセンブリ14は、フレキシブル回路18の裏
側に、個別にエネルギーを与えられる薄膜抵抗器を含む
シリコン基板28(図示されていない)を装着しる。各抵
抗器は一般的に単一の開口部17の背後に位置し、1つ
または複数の接点パッド20に逐次または同時に送られ
る1つまたは複数のパルスによって選択的にエネルギが
供給される時抵抗ヒーターとして作用する。開口部17
および電導線36は、どのようなサイズ、テストおよび
パターンをとることもでき、種々の機構が本発明の特長
を単純明快に示すため設計されている。種々の機構の相
対的寸法は、明示の目的から大幅に調整されている。
上の開口部17のパターンは、ステップアンドリピート
工程におけるレーザ等のエッチング手段と組み合わせた
マスキング工程によって形成されるが、この工程は当業
者によって容易に理解されるものであろう。図16は、
詳細は後述するが、この工程の一層の詳細を示す。TA
Bヘッド・アセンブリ14およびフレキシブル回路18
に関する詳細を以下に記述する。
用カートリッジの簡略図である。図6は、図5のプリン
ト用カートリッジの中のTABプリントヘッド・アセン
ブリの正面図である。図7は、図6のTABヘッド・ア
センブリ14の裏面であって、フレキシブル回路18の
裏側に装着されたシリコン鋳型または基板28、および
基板28上に形成されインク流路ならびに気化室を含む
障壁層30の1つの稜線を示している。図9はこの障壁
層30の詳細を示すが、これについては後述する。図7
において、インクをインク貯蔵室12から受け取るイン
ク流路32の入口が障壁層30の稜線に沿って示されて
いる。フレキシブル回路18の裏側に形成される電導線
36は、位置38においてフレキシブル回路18の反対
側の(図6に示される)接点パッド20で終端する。接合
領域22および24は、本発明に従って光ファイバー・
システムに装着されたレーザ光線を使用して接合される
べき位置に光線を向けることによって(図8で示される
ように)電導線36と基板電極40が接合される場所を
示す。
リード線の接続を示す図7のA−A部分の拡大図であ
る。図8で見られるように、障壁層30の中の部分42
は、電導線36の終端を基板28から絶縁するために使
用される。図8にはまた、フレキシブル回路18、障壁
層30、接合領域22ならびに24、および種々のイン
ク流路32の入口の側面が示されている。インク46の
小滴がインク流路32の各々に対応する開口部孔から噴
射されている。
形成するため図7のフレキシブル回路18の裏側に装着
されたシリコン基板28の正面図である。シリコン基板
28は、従来技術の光リトグラフ技術を使用して、障壁
層30に形成された気化室72の上に露出した2列の薄
膜抵抗器70を形成している。
約0.5インチで、300個のヒーター抵抗器70を含
むので、600ドット/インチの解像度を可能にする。
ヒーター抵抗器70は、圧電気ポンプ型エレメントまた
はその他いかなるタイプの既存のエレメントのインク噴
射エレメントでもよい。このように、すべての各種特性
を持つエレメント70は、プリントヘッドの動作に影響
を及ぼすことなく代替実施形態における圧電エレメント
であるとみなされることができる。また、フレキシブル
回路18の裏側に形成される電導線36の接続用の電極
74が基板28上に形成されている。
レクサ78が基板28上に配置され、電極74に供給さ
れる多重化入力信号を分解し、その信号を種々の薄膜抵
抗器70に配分する。デマルチプレクサ78の使用によ
って、電極74の数を薄膜抵抗器70よりも少なくする
ことが可能となる。少ない電極の使用によって、基板へ
のすべての接続を、図6に示されるように、基板の短い
終端部分から行うことを可能にし、このため、これらの
接続が、基板の長い側面の周囲におけるインクの流れを
妨げることはない。デマルチプレクサ78が、電極74
に適用される符号化された信号を復号する復号器の役目
を果たすこともある。デマルチプレクサは、電極74に
接続された入力リード線および各種抵抗器70に接続さ
れた出力リード線を有する。デマルチプレクサ78回路
の詳細は後述する。
備える障壁層30もまた従来技術の光リトグラフ技術を
使用して基板の表面上に形成されるが、これはフォトレ
ジストまたはその他のポリマの層であってもよい。障壁
層30の部分42が、図6に関連して上述したように、
電導線36を基礎基板28から絶縁する。
シブル回路18の裏面に接合させるため、ポリイソプレ
ン・フォトレジストの層のような薄い粘着性の層84
が、障壁層30の上面に塗布される。障壁層30の上部
を粘着質にすることができる場合は独立した粘着性層は
必要でないであろう。作製される基板構造は、フレキシ
ブル回路18に備わる開口部に抵抗器70を合わせるよ
うに、フレキシブル回路18の裏面に対して配置され
る。このような位置合わせステップによって、電極74
が電導線36の末端に位置合わせされる。次に、電導線
36が電極74へ接合される。このような位置合わせお
よび接合工程の詳細は図10を参照して後述される。位
置合わせされ接合された基板/フレキシブル回路構造を
加圧しながら加熱して、接合層84を固め、基板構造を
フレキシブル回路18の裏側に完全に装着する。
を作製する1つの方法を示す。材料は、カプトン(Kapto
n)あるいはアップフレクス(Upflex)タイプのポリマ・テ
ープ104であるが、テープ104は、下記記述される
プロシージャで許容され得るどのようなタイプのポリマ
・フィルムであってもよい。そのようなフィルムには、
テフロン、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポ
リカーボネート、ポリエステル、ポリアミド・ポリエチ
レン−テレフタレートまたはそれらの混合物が含まれ
る。テープ104は、典型的には、リール105に巻か
れた長い断片状で提供される。テープ104の両側面に
沿ったスプロケット孔106を使用して、テープ104
は精密にかつ確実に給送される。代替的方法として、ス
プロケット孔106が省略され、テープは他のタイプの
固定手段によって給送されることもできる。
ープ104は、図2、図3、図4、図6および図7に示
されるように、従来技術の金属蒸着およびフォトエッチ
ング法を使用してその上に電導性の銅の導線36を既に
装着している。電導線の特定のパターンは、引き続きテ
ープ104に装着されるシリコン鋳型上に形成される電
極に電気信号を分配するために望ましい形態に従う。本
発明の好ましい工程において、テープ104は、レーザ
処理室に送られ、例えばエクサイマー・レーザ112に
よって生成されるレーザ放射110を使用して、1つま
たは複数のマスク108によって規定されたパターンに
レーザ削磨される。マスクされたレーザ放射は、図10
で矢印114によって示されている。
スク108は、テープ104の延伸された領域に対する
すべての削磨される特性のすべてを規定する。例えば、
開口部パターン・マスク108の場合複数の開口部に対
応し、気化室パターン・マスク108の場合複数の気化
室に対応する。この工程のためのレーザ・システムは、
一般的に、レーザ光線照射光学部品、位置合わせ光学部
品、高精度高速マスク・シャトル・システム)を含み、
処理室は、テープ104を取り扱い、位置決めするため
のメカニズムを含む。好ましい実施形態において、レー
ザ・システムは、投射マスク構成を使用する。この構成
においては、マスク108とテープ104の間に配置さ
れる高精度レンズ115が、エクサイマ・レーザー光線
をテープ上に投射して、マスク108上に規定されたパ
ターン像を映す。レンズ115から出るマスクされたレ
ーザ放射は矢印116によって表されている。そのよう
な投射マスク構成は、マスクが物理的にノズル部材から
離れているので、高精度の開口部の寸法に対して有利で
ある。レーザ削磨のステップの後、ポリマ・テープ10
4は送られ、上記の工程が繰り返される。
て、テープ104のレーザ削磨部分がクリーニング・ス
テーション117の下に置かれる。クリーニング・ステ
ーション117では、レーザ削磨による破片が業界の標
準的手法に従って除去される。
販のモデル番号ILT−75のようなリード線接合機の
ような従来技術の自動TAB接合機に組み込まれている
光学的位置合わせステーションに送られる。接合機は、
開口部を作成するために使用されるものと同じ方法で作
成されたノズル部材上の位置合わせ(目標)パターン、お
よび抵抗器を作成するために使用されるものと同じ方法
で作成された基板状の目標パターンに関してあらかじめ
プログラムされている。好ましい実施形態においては、
基板上のパターンがノズル部材を通して見えるように、
ノズル部材材料は半透明である。接合機は、次に、2つ
のパターンを合わせるようにノズル部材に対してシリコ
ン鋳型120を自動的に配置する。そのような位置合わ
せ機構は、シンカワ社製TAB接合機に存在する。基板
目標パターンとノズル部材目標パターンのこのような自
動位置合わせは、開口部を抵抗器に精密に位置あわせす
るだけでなく、電導線と開口部がテープ104において
位置合わせされまた基板電極と加熱抵抗器が基板上で位
置合わせされるので、鋳型120上の電極がテープ10
4に形成される電導線の末端に位置合わせされることと
なる。従って、2つの目標パターンの位置が合わされれ
ば、テープ104上およびシリコン鋳型120上のすべ
てのパターンは相互に位置合わせされる。
ン鋳型120の位置合わせは、市販の機器だけを使用し
て自動的に実行される。電導線をノズル部材に組み込む
ことによって、そのような位置合わせ機能が可能であ
る。そのような組み込みは、プリントヘッドのアセンブ
リ・コストを減少させるだけではなく、プリントヘッド
の材料コストも減少させる。
を対応する基板電極上へ接合する一括接合法を使用す
る。接合時間を短縮するためには比較的高い温度が一般
的に好ましいが、高い温度は、フレキシブル回路を柔ら
かくして、カプトン・テープの一層の変形を引き起こ
す。接点で温度がより高く、カプトン・テープ層でより
低いというのが究極的には望ましい。このような最適な
温度配分は、インクジェット・プリンヘッド用TABヘ
ッド・アセンブリに対する理想的解決手段を提供する窓
なしTAB回路と共に、ファイバー押し下げ接点(すな
わちFPC)単点レーザ接合プロセスを利用することに
よって成し遂げられる。
示されている。このシステムは、Nd YAGまたはダ
イオードのレーザ202からなり、光ファイバー204
を備えている。システムは、光ファイバー204を通し
てレーザ光線を接点または接続点206へ導く。最適熱
結合は、ファイバー204によって2つの部品を一緒に
押し、TABリード線208と鋳型パッド210の間の
接点ギャップをゼロにすることによって達成され、この
結果熱効率が向上する。図12は、フレキシブル回路1
8、接点206、TABリード線208および鋳型パッ
ド210の詳細を示している。
ループが、光ファイバーを通過する赤外線検出器212
によって実行されている。接点206において接点エレ
メント208、210によって反射される赤外線放射の
温度または吸収動作応答が収集される。レーザ源202
から出るレーザ光線220は、1/2伝導ミラーまたは
レーザ光線分割器214を通過し、収束レンズ216を
通り光ファイバー204へ進む。光ファイバーからの光
が1/2ミラーで反射され、収束レンズ222を通過し
て、PCコントローラ224に接続された赤外線検出器
212に到着する。図11におけるPCコントローラ2
24のモニタ226上のグラフは、実際の温度変化と比
較するため接合プロセスの明確な期待温度変化グラフを
PCコントローラ224が記憶することができることを
意味する。PCコントローラ224は、レーザ・パラメ
ータを必要に応じて制御することができるように、レー
ザ源202に接続される。
クタ208、210の間の高温熱結合、および電導性リ
ード線208、210によるレーザ・エネルギーの高吸
収性の両者に依存する。接合工程を最適化するために
は、カプトン・テープにおける吸収性が最小限で、フレ
キシブル回路18の金属層における吸収性が最大である
ことが望ましい。吸収率が高い金属ほど、レーザ・エネ
ルギーの熱への変換率が高い。このため、短時間の接合
プロセスほど、より高い品質の接合を生む。
を持つYAGレーザである。図14は、いくつかの金属
に関して、波長に対する吸収特性を示す。図14から観
察することができるように、クロムとモリブデンが、こ
の波長における最も高い吸収特性を持つ。回路製造業者
の大部分がシード層としてクロムを使用しているという
事実に従って、本実施形態においてクロムが基礎金属と
して選択された。クロムへのレーザの浸透度は、5nm
のスポット・サイズで約10nmであるので、最小15
nmのクロム厚さを必要とする。レーザ光線は、金属
(あるいはハンダ材料)を溶かす局所的加熱ゾーンを形
成し、カプトン・テープの温度を上昇させることなく2
つの接続表面の間の接合を行う。しかしながら、2つの
接合金属部品の間のいかなるギャップも、レーザ光線に
さらされる金属表面の過熱の原因になる。これは金属表
面上のTABリード線の変形の原因となる。また、フレ
キシブル回路における温度上昇は、回路に損傷を引き起
こす。
におけるフレキシブル回路18の典型的な温度分布を示
す。図13から観察できるように、接合領域206にお
ける温度は、カプトン・テープ18の温度より相当高
い。この現象は、異なる波長におけるカプトン・テープ
の高温透過性のために起きる。カプトン・ポリアミド・
テープは、YAGレーザ光線に対し透過性を有してい
て、レーザ光線はポリイミドの厚さ2ミルの層を吸収な
しに通過する。クロムは便利なシード層であり、2層フ
レキシブル回路製造工程において銅の導線とカプロン・
ポリイミドの間に接合層を作成するために使用される。
10nm(あるいは公称20nm)という最小の厚さを
持つクロム層がレーザ・エネルギーを吸収する媒体を提
供するために必要とされる。クロム層の厚さはフレキシ
ブル回路製造業者によって異なり、2nmと30nmの
間の厚さである。典型的なフレキシブル回路製造工程
は、銅の導線とカプロン・ポリイミドの間のシード(接
合)層として、スパッタ・エッチングされたクロムの薄
い層(20nm)を利用する。
ムを厚さ2、5、10、15および25nmにスパッタ
リングして光の伝導を測定した。図15はそれら標本の
光伝導の結果を示している。図に見られるように、光伝
導は初期的にはクロムの厚さが増加すると急速に低下す
るが(クロムの厚さ2nmの場合の65%から15nm
の場合の12%へ)、厚さが15nmから25nmへ増
加する場合は光伝導の変化は遅くなる。カプトン・テー
プの温度上昇を最小限に抑え従ってカプトン・テープへ
の損傷を最小限にとどめるため、レーザ接合工程は、電
導線の急速な温度上昇を必要とする。図16および図1
7は、異なる構成のいくつかのフレキシブル回路の温度
上昇を示す。図16は、比較的厚めのシード層を持つフ
レキシブル回路の温度上昇を示す。注意すべきは、厚さ
10nm以下のTi/Wを持つフレキシブル回路は金対
金接合に必要な温度に到達しないが、厚さ20nmのT
i/Wを持つフレキシブル回路はその接合温度に到達す
る。また、Ti/Wが厚いほどフレキシブル回路の温度
上昇時間が速く、カプトン・テープへの潜在的損傷を少
なくすることができる点にも注意すべきである。
ル回路の温度(赤外線信号)の変動が、このフレキシブル
回路が金対金接合に必要な所定の最大温度に達し、次に
レーザ・フィードバック・ループが、TAB接合温度の
上昇がカプトン・テープを損傷させないように一時的に
レーザ・エネルギーを落としたという事実を示してい
る。カプトン・テープの温度が(所定量だけ)落ちるや
否や、レーザ・エネルギーは自動的に最高限度まで増加
して、TABリード線温度を上昇させ、高い信頼性の金
対金接合を行った。
ム・シード層を用いた場合の異なるフレキシブル回路に
関する同様の結果を示している。厚さ10nmのクロム
を持つフレキシブル回路は金対金接合に必要な温度に到
達したことが観察される。従って、クロム・シード層
は、YAGレーザの場合のTi/Wシード層に比べて一
層高い吸収性を持つ。図18は、20nmクロム層の3
層テープ、5nmクロム層のテープ、およびクロム層の
ないテープにおける時間軸に対する温度上昇を示してい
る。図18に見られるように、20nmクロム層のフレ
キシブル回路のみが急速な温度上昇を示した。
完全性にとってクロム厚さが不可欠であることは確証さ
れているので、最適なクロム厚さが基本線として選択さ
れた。図15に示されるように、15nm以上の厚さの
クロムは光伝導を顕著に減少させない。図17に基づい
て、10nmのクロム厚さは、レーザ接合の成功にとっ
て必要な絶対的最小限の厚さである。図17は、また、
15nmの厚さのフレキシブル回路は銅導線における一
層迅速な温度上昇を示し従ってカプトン・テープの損傷
を最小限にとどめることができることを示している。従
って、15nmのクロムが、信頼性の高い反復可能なレ
ーザ接合を提供できる最適な材料である。
工程およびフレキシブル回路の製造の間のメッキ工程の
間に、銅への若干のクロム拡散が予想される。銅へのク
ロムの拡散は、時間および温度に従属するプロセスであ
り、銅へ拡散するクロムの量を決定することは難しい。
拡散されるクロムの最大量は5nm以下であると通常推
定される。このような因子に基づいて、スパッタリング
工程後の最小限のクロム厚さを20nmと定めた。この
厚さは、フレキシブル回路の製造終了の後15nmの最
小クロム厚さを保証する。
ムを持つフレキシブル回路のレーザ接合性を評価するた
めに行ったレーザ接合の実験結果である。この実験にお
いて、接合力は、20ないし140グラムまで(すなわ
ち20、40、60、80、100および140グラ
ム)変えられ、レーザ・パルス長は、2ないし40ミリ
秒まで(すなわち2、7、10、20、30およびと4
0ミリ秒)変えられた。この実験における固定因子は、
鋳型ネスト温度、レーザ電流、最大フィードバック温度
および温度上昇時間である。レーザ・エネルギーを変化
させることによって、TABリード線208と鋳型パッ
ド210の間に接合は形成されなかった。これは、クロ
ム・シード層の不十分な厚さのためフレキシブル回路の
レーザ・エネルギー吸収が低いことによる。
件および実験結果を示す。これらの実験は、視認可能な
影響が全くない場合から全面的カプトン・テープ損傷発
生の場合に及ぶ各種動作条件をカバーした。表1に示さ
れる実験結果に基づいて、既存のYAGレーザは少ない
クロム厚さを持つ既存のフレキシブル回路を接合するこ
とができる能力を持たないと結論された。カプトン・テ
ープと銅導線の間の粘着層を持つ20nmクロムの3層
フレキシブル回路が試験された。10Wに設定されたレ
ーザ・エネルギー、20msに設定されたパルス長、1
40グラムに設定された接合力、および100度Cに設
定された鋳型ネスト温度によって、金対金レーザ接合は
成功した。鋳型パッド領域に機械的損傷は観察されなか
った。これは、レーザ・エネルギーも接合圧力も鋳型パ
ッド領域に対していかなる損傷も引き起こす原因となら
なかったことを示す。
び試験結果を示す。レーザ接合結果の等級として、接合
品質「X」は、同等またはよりすぐれた剥離強度を持つ
熱圧縮接合鋳型と同等な品質を持つ接合として定義され
る。接合品質「B」は許容できる接合強度を持つがカプ
トン接合が高温のため劣化している接合である(「B」
はそれでも許容できる品質である)。接合品質「C」
は、接合は形成されているが、接合強度が熱圧縮によっ
て接合された部品より低い。接合品質「F」は、銅導線
と鋳型パッドの間に接合が形成されなかった状況として
定義される(ほとんどのケースでカプトンは局部的温度
上昇のため燃える)。
ミリ秒へ増加させることによって、接合品質は劇的に向
上したが、この場合、カプトンは1つの鋳型場所で燃え
た。再びパルス長を5ミリ秒に引き下げ、(レーザ電流
を増加させる手段によって)レーザ力を増大させること
によって、接合は再び弱くなったが、カプトンの燃焼は
もはや観察されなかった。接合を一層改善するため、レ
ーザ・エネルギーが、電力増加によって再度増大され
た。試験番号4において、良好できれいな接合が形成さ
れ、カプトンに対する損傷が観察されなかった。これら
のパラメータによって構築された部品の剥離試験は、ま
た、良好な剥離強度を示した。結合強度は、レーザ・エ
ネルギーを増加させることによって更に改善された。試
験番号5において、レーザ・エネルギーが、パルス長を
5から10ミリ秒へ増加させることによって増大され
た。このケースでは、結合強度は劇的に改善されたが、
若干のカプトン燃焼も観察された。試験番号2および5
において、カプトン燃焼は銅リード線側で発生したが、
銅リード線を露出させる開口部はなかった。従って、カ
プトンと銅リード線の間の粘着層が燃焼したものと推量
される。試験番号6では、レーザ電流が19アンペアに
維持されたが、パルス長は10から15ミリ秒へ増加さ
れた。この結果、過剰レーザ・エネルギーとなって、カ
プトン全体にわたっていくつかの燃焼孔が発生し、TA
Bリード線と鋳型パッドの間に何の接続も形成されなか
った。
号5を繰り返したものである。試験番号7において接合
圧力は、140グラムから100グラムへ減少された。
このケースでは、試験番号5と同様に、高い結合強度を
持った良好な接合が観察された。しかし、1つの鋳型場
所でテープ損傷の可能性が観察された。このケースで
は、また、銅リード線またはTABリード線の露出はな
かった。
る接合性範囲は次のように確定できる。 接合圧力: 100−140グラム レーザ電流: 17−20アンペア パルス長: 5−10ミリ秒 最大設定温度: 0.6−0.8 20nmのスパッタリングされたクロムを使用した2層
テープを使用した実験も行った。実験上の設計は、接合
圧力、パルス長およびレーザ電力の接合品質に及ぼす効
果を評価すように設定された。この実験は、接合圧力、
パルス長およびレーザ電流の変数を3つのレベルで、す
なわち合計27の別々の試験を行い、FPCレーザを利
用した27種の接合部品を作成した。検査の結果、すべ
ての27個の部品についてカプトンまたは障壁層に損傷
は見られなかった。次に、カプトンをエッチングしてT
ABリード線を露出させた。27個の部品の接合強度を
評価するため、はさみ付け試験および引っ張り試験を実
行した。その結果、比較的高いレーザ・エネルギーにつ
いては200グラム以上の良好な接合強度を示した。表
3は、27個の実験に関する試験条件および接合強度結
果を示す。
可能であることを証明した。200グラム以上のはさみ
付け強度を簡単にかつ繰り返して達成することができ
る。レーザ接合工程によるカプトンまたは障壁層に対す
る損傷は観察されなかった。表3に示された結果に基づ
いて、2層テープに関する接合性範囲は、次の表4のよ
うに定めることができる。
するカプセル充填の必要性を排除し、平面TAB接続工
程を提供する。それにより、コストは削減され、信頼性
は向上し、修理維持作業が容易となる。
ション122に送られる。図11および図12に関連し
て上述したように、粘着層84が、シリコン基板上に形
成された障壁層30の上部表面に存在する。上述の接合
ステップの後、シリコン鋳型120がテープ104に押
しつけられ、粘着層84を固めるため加熱され、鋳型1
20にテープ104を物理的に接合させる。その後、テ
ープ104はオプションではあるが巻取リール124に
巻き取られる。後刻、テープ104は個々のTABヘッ
ド・アセンブリに切り離される。
リント用カートリッジ10に配置され、上述の粘着シー
ル90が作成され、これによって、ノズル部材が確実に
プリント用カートリッジに取り付けられ、ノズル部材と
インク貯蔵室の間の基板周囲にインク漏れ防止シールが
形成され、インクから導線を隔離するためヘッド部分の
導線がカプセル化される。次に、フレキシブルTABヘ
ッド・アセンブリ上の周辺ポイントが、図1に示される
ようにポリマ・フレキシブル回路18をプリント用カー
トリッジ10の表面と比較的同じ高さにとどめる従来技
術の溶融タイプ接合法によって、プラスチックのプリン
ト用カートリッジ10に固定される。
モードを記述したが、本発明は上述の特定の実施形態に
限定されるものと解釈されるべきではない。例えば、イ
ンクジェット・プリントヘッドのシリコン基板へのTA
B回路導線の接合に関して本発明を記述したが、光ファ
イバー・システムに接続されたレーザ光線を使用するこ
とによって2つの接点エレメントを無はんだ電気接続を
行う本発明の方法および装置は、その他のタイプの電気
部材の相互接合に適用することも可能である。同様に、
電気的部材の金対金無はんだ接合に関連して本発明を記
述したが、本発明の方法をその他の伝導性金属の無はん
だ接合に使用することもできる。このように、上述の実
施形態は、本発明を限定するためではなく例証するため
のものとみなされるべきであり、また、上述の実施形態
は本発明の範囲を離脱することなく当業者によって種々
のバリエーションを作成することが可能である点は理解
されるべきであろう。
が含まれる。 (1)特定の波長を持つレーザ光線を使用してTAB回
路の電気リード線を電気接点部に接合させる方法であっ
て、上記レーザ光線の波長に対応する適切なレーザ光吸
収性を持つシード金属をその上部表面に有する電気リー
ド線を準備するステップと、上記電気リード線を上記電
気接点部に対し位置合わせするステップと、上記電気リ
ード線および上記電気接点部を接合位置において光ファ
イバーと接触するように保持するステップと、光ファイ
バーを通過するレーザ光線を照射することによって、上
記電気リード線および上記電気接点部を上記接合位置で
接合させるステップと、を含む電気部品接合方法。
ェット・プリントヘッドのシリコン基板に接合させる工
程への本発明の応用によって、従来技術におけるTAB
回路中の窓の必要性およびそれに伴ってリード線を覆う
カプセル材の必要性がなくなり、鋳型サイズの減少、同
じ鋳型サイズを持つノズル数の増加、組立の容易性、歩
留まり上昇、信頼性向上、修理等の際の容易な表面アク
セス、および材料ならびに製造全体のコスト削減という
効果を奏する。
・プリント用カートリッジの透視図である。
トリッジから取り外されたテープ自動化接合(TAB)プ
リントヘッド・アセンブリを示す図である。
トリッジから取り外されたテープ自動化接合(TAB)プ
リントヘッド・アセンブリを示す図である。
トリッジから取り外されたテープ自動化接合(TAB)プ
リントヘッド・アセンブリを示す図である。
ジの簡略透視図である。
ロック図である。
に接続されている図6のTABヘッド・アセンブリの背
面図である。
を示す図7のA−A部分の拡大図である。
されるヒーター抵抗器、インク流路および気化室を含む
基板構造の俯瞰図である。
を形成するために使用される1つの工程を示す図であ
る。
げ接触レーザ・システムのブロック図である。
線および鋳型パッドのブロック図である。
るフレキシブル回路、TABリード線、接合位置および
鋳型パッドの温度分布を示すブロック図である。
ラフ図である。
を用いてスパッタリングされたカプトン・テープの5つ
の標本に関する光伝導の結果を示すグラフ図である。
おける温度上昇を示すグラフ図である。
おける温度上昇を示すグラフ図である。
ープにおける時間対温度上昇を示すグラフ図である。
する実験結果を示すグラフ図である。
リマ・テープ 105 リール 106 スプロケット孔 108 マスク 110 レーザ放射 112 エクサイマー・レーザ 115 高精度レンズ 117 クリーニング・ステーション 120 シリコン鋳型 122 熱/圧力ステーション 124 巻取リール 200 FPCレーザ・システム 202 Nd YAGまたはダイオードのレーザ 204 光ファイバー 206 接合点 208 TABリード線 210 鋳型パッド 212 赤外線検出器 214 1/2伝導ミラーまたは光線分割器 216、222 収束レンズ 220 レーザ光線 224 PCコントローラ 226 モニタ
Claims (1)
- 【請求項1】特定の波長を持つレーザ光線を使用してT
AB回路の電気リード線を電気接点部に接合させる方法
であって、 上記レーザ光線の波長に対応する適切なレーザ光吸収性
を持つシード金属をその上部表面に有する電気リード線
を準備するステップと、 上記電気リード線を上記電気接点部に対し位置合わせす
るステップと、 上記電気リード線および上記電気接点部を接合位置にお
いて光ファイバーと接触するように保持するステップ
と、 光ファイバーを通過するレーザ光線を照射することによ
って、上記電気リード線および上記電気接点部を上記接
合位置で接合させるステップと、 を含む電気部品接合方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US55856795A | 1995-10-31 | 1995-10-31 | |
US558,567 | 1995-10-31 |
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JP3630511B2 JP3630511B2 (ja) | 2005-03-16 |
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ID=24230044
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JP28349496A Expired - Fee Related JP3630511B2 (ja) | 1995-10-31 | 1996-10-25 | 電気部品接合方法 |
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Country | Link |
---|---|
US (2) | US6397465B1 (ja) |
JP (1) | JP3630511B2 (ja) |
KR (1) | KR100256464B1 (ja) |
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FR (1) | FR2740648B1 (ja) |
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- 1996-10-25 JP JP28349496A patent/JP3630511B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-10-30 FR FR9613239A patent/FR2740648B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1996-10-30 KR KR1019960049999A patent/KR100256464B1/ko not_active IP Right Cessation
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JP3630511B2 (ja) | 2005-03-16 |
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US6983539B2 (en) | 2006-01-10 |
US20030041455A1 (en) | 2003-03-06 |
KR100256464B1 (ko) | 2000-05-15 |
US6397465B1 (en) | 2002-06-04 |
FR2740648A1 (fr) | 1997-04-30 |
DE19644121C2 (de) | 2003-01-30 |
FR2740648B1 (fr) | 2002-11-01 |
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Legal Events
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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