|
JPH10198292A
(ja)
|
1996-12-30 |
1998-07-31 |
Semiconductor Energy Lab Co Ltd |
半導体装置およびその作製方法
|
|
JPH1184426A
(ja)
*
|
1997-09-12 |
1999-03-26 |
Semiconductor Energy Lab Co Ltd |
イメージセンサを内蔵した液晶表示装置
|
|
JP3907804B2
(ja)
|
1997-10-06 |
2007-04-18 |
株式会社半導体エネルギー研究所 |
液晶表示装置
|
|
KR100276442B1
(ko)
*
|
1998-02-20 |
2000-12-15 |
구본준 |
액정표시장치 제조방법 및 그 제조방법에 의한 액정표시장치
|
|
JPH11258632A
(ja)
*
|
1998-03-13 |
1999-09-24 |
Toshiba Corp |
表示装置用アレイ基板
|
|
JPH11258633A
(ja)
*
|
1998-03-13 |
1999-09-24 |
Toshiba Corp |
表示装置用アレイ基板の製造方法
|
|
KR100280889B1
(ko)
*
|
1998-06-30 |
2001-02-01 |
구본준, 론 위라하디락사 |
액정 표시 장치의 패드부 제조 방법 및 그 방법에 의한 액정 표시 장치
|
|
JP4017754B2
(ja)
*
|
1998-07-07 |
2007-12-05 |
シャープ株式会社 |
液晶表示装置およびその製造方法
|
|
JP4627843B2
(ja)
*
|
1999-07-22 |
2011-02-09 |
株式会社半導体エネルギー研究所 |
半導体装置
|
|
JP2001053283A
(ja)
|
1999-08-12 |
2001-02-23 |
Semiconductor Energy Lab Co Ltd |
半導体装置及びその作製方法
|
|
JP4777500B2
(ja)
*
|
2000-06-19 |
2011-09-21 |
三菱電機株式会社 |
アレイ基板およびそれを用いた表示装置ならびにアレイ基板の製造方法
|
|
JP2002341383A
(ja)
*
|
2001-05-21 |
2002-11-27 |
Matsushita Electric Ind Co Ltd |
アクティブマトリクス液晶表示装置
|
|
TW594156B
(en)
|
2002-01-04 |
2004-06-21 |
Fujitsu Display Tech |
Substrate for display device and display device equipped therewith
|
|
KR100987713B1
(ko)
*
|
2003-11-03 |
2010-10-13 |
삼성전자주식회사 |
하부기판, 이를 갖는 표시장치 및 이의 제조방법
|
|
US7309922B2
(en)
|
2003-10-20 |
2007-12-18 |
Samsun Electronics Co., Ltd. |
Lower substrate, display apparatus having the same and method of manufacturing the same
|
|
KR100987723B1
(ko)
*
|
2003-11-06 |
2010-10-13 |
삼성전자주식회사 |
하부기판의 제조방법
|
|
KR100987714B1
(ko)
*
|
2003-10-20 |
2010-10-13 |
삼성전자주식회사 |
하부기판, 이를 갖는 표시장치 및 이의 제조방법
|
|
KR101006438B1
(ko)
*
|
2003-11-12 |
2011-01-06 |
삼성전자주식회사 |
액정 표시 장치
|
|
JP4462981B2
(ja)
|
2004-03-29 |
2010-05-12 |
Ｎｅｃ液晶テクノロジー株式会社 |
アクティブマトリクス基板及び該基板を備える液晶表示装置
|
|
KR100731733B1
(ko)
*
|
2004-11-24 |
2007-06-22 |
삼성에스디아이 주식회사 |
액정표시장치 및 그 제조방법
|
|
JP2006227649A
(ja)
*
|
2006-05-17 |
2006-08-31 |
Advanced Display Inc |
液晶表示装置およびその製造方法
|
|
JP4188980B2
(ja)
*
|
2006-05-17 |
2008-12-03 |
三菱電機株式会社 |
液晶表示装置およびその製造方法
|
|
JP2007027773A
(ja)
*
|
2006-08-28 |
2007-02-01 |
Semiconductor Energy Lab Co Ltd |
半導体装置及びその作製方法
|
|
US8101442B2
(en)
*
|
2008-03-05 |
2012-01-24 |
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. |
Method for manufacturing EL display device
|
|
CN103545342B
(zh)
|
2008-09-19 |
2018-01-26 |
株式会社半导体能源研究所 |
半导体装置
|
|
KR102426826B1
(ko)
*
|
2008-09-19 |
2022-08-01 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
반도체 장치
|
|
EP2180518B1
(en)
*
|
2008-10-24 |
2018-04-25 |
Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. |
Method for manufacturing semiconductor device
|
|
JP5587591B2
(ja)
*
|
2008-11-07 |
2014-09-10 |
株式会社半導体エネルギー研究所 |
半導体装置
|
|
JP2009111412A
(ja)
*
|
2008-11-28 |
2009-05-21 |
Sakae Tanaka |
薄膜トランジスタ素子と表示装置
|
|
US8841661B2
(en)
*
|
2009-02-25 |
2014-09-23 |
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. |
Staggered oxide semiconductor TFT semiconductor device and manufacturing method thereof
|
|
KR101681884B1
(ko)
*
|
2009-03-27 |
2016-12-05 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
반도체장치, 표시장치 및 전자기기
|
|
KR101857405B1
(ko)
|
2009-07-10 |
2018-05-11 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
반도체 장치 및 그 제조 방법
|
|
WO2011036987A1
(en)
|
2009-09-24 |
2011-03-31 |
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. |
Display device
|
|
JP5604087B2
(ja)
*
|
2009-11-27 |
2014-10-08 |
株式会社半導体エネルギー研究所 |
半導体装置の作製方法
|
|
WO2011114404A1
(ja)
*
|
2010-03-19 |
2011-09-22 |
シャープ株式会社 |
アクティブマトリクス基板
|
|
JP5638403B2
(ja)
*
|
2011-01-26 |
2014-12-10 |
株式会社ジャパンディスプレイ |
表示装置
|
|
CN103235458B
(zh)
*
|
2013-04-27 |
2015-10-21 |
南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 |
Tft-lcd阵列基板及其制造方法
|
|
US9293480B2
(en)
*
|
2013-07-10 |
2016-03-22 |
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. |
Semiconductor device and display device including the semiconductor device
|
|
JP6518117B2
(ja)
*
|
2015-04-20 |
2019-05-22 |
株式会社ジャパンディスプレイ |
表示装置
|
|
WO2023115553A1
(en)
*
|
2021-12-24 |
2023-06-29 |
Boe Technology Group Co., Ltd. |
Array substrate and display apparatus
|