JPH09157582A - 防汚性基材 - Google Patents
防汚性基材Info
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- JPH09157582A JPH09157582A JP8231428A JP23142896A JPH09157582A JP H09157582 A JPH09157582 A JP H09157582A JP 8231428 A JP8231428 A JP 8231428A JP 23142896 A JP23142896 A JP 23142896A JP H09157582 A JPH09157582 A JP H09157582A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 油状の汚染物質に対する防汚性に優れ、特に
指紋に対する防汚性に優れた防汚性基材を提供する。 【解決手段】 基材の表面に、下記一般式（Ｉ）で表さ
れ、分子量が５×１０2〜１×１０5 であるケイ素含有
有機含フッ素ポリマーの層を形成したことを特徴とする
防汚性基材。 【化１】 式中、Ｒf は、パーフルオロアルキル基を表す。Ｚは、
フッ素又はトリフルオロメチル基を表す。ａ、ｂ、ｃ、
ｄ、ｅは、それぞれ独立して、０又は１以上の整数を表
し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、少なくとも１以上であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅでくくられた各繰り返し単位の存在
順序は、式中において限定されない。Ｙは、水素又は炭
素数１〜４のアルキル基を表す。Ｘは、水素、臭素又は
ヨウ素を表す。Ｒ1 は、水酸基又は加水分解可能な置換
基を表す。Ｒ2 は、水素又は１価の炭化水素基を表す。
ｌは、０、１又は２を表す。ｍは、１、２又は３を表
す。ｎは、１以上の整数を表す。
指紋に対する防汚性に優れた防汚性基材を提供する。 【解決手段】 基材の表面に、下記一般式（Ｉ）で表さ
れ、分子量が５×１０2〜１×１０5 であるケイ素含有
有機含フッ素ポリマーの層を形成したことを特徴とする
防汚性基材。 【化１】 式中、Ｒf は、パーフルオロアルキル基を表す。Ｚは、
フッ素又はトリフルオロメチル基を表す。ａ、ｂ、ｃ、
ｄ、ｅは、それぞれ独立して、０又は１以上の整数を表
し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、少なくとも１以上であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅでくくられた各繰り返し単位の存在
順序は、式中において限定されない。Ｙは、水素又は炭
素数１〜４のアルキル基を表す。Ｘは、水素、臭素又は
ヨウ素を表す。Ｒ1 は、水酸基又は加水分解可能な置換
基を表す。Ｒ2 は、水素又は１価の炭化水素基を表す。
ｌは、０、１又は２を表す。ｍは、１、２又は３を表
す。ｎは、１以上の整数を表す。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面に防汚処理を
施した防汚性基材に関し、さらに詳しくは、本発明は、
基材の表面の汚れを防止してその利用価値を高めた防汚
性基材に関する。
施した防汚性基材に関し、さらに詳しくは、本発明は、
基材の表面の汚れを防止してその利用価値を高めた防汚
性基材に関する。
【０００２】
【従来の技術】金属やガラス、樹脂等の基材は、自動車
部品、ＯＡ機器、家電製品等として汎用されている。こ
れらの基材表面は、車内、オフィス内、室内等に浮遊す
るゴミが付着したり、食品、機器用オイル等に混合され
ている拭き取りが困難な油状物質が付着したり、使用中
に人の手により指紋が付着して汚れるため、これらの汚
れを付着しにくくし、更には、いったん付着した汚れが
容易に除去できるような防汚のための工夫が必要とな
る。
部品、ＯＡ機器、家電製品等として汎用されている。こ
れらの基材表面は、車内、オフィス内、室内等に浮遊す
るゴミが付着したり、食品、機器用オイル等に混合され
ている拭き取りが困難な油状物質が付着したり、使用中
に人の手により指紋が付着して汚れるため、これらの汚
れを付着しにくくし、更には、いったん付着した汚れが
容易に除去できるような防汚のための工夫が必要とな
る。
【０００３】ガラス表面の防汚処理手段としては、特開
平１−１２６２４４号公報等に、ガラス表面にポリジメ
チルシロキサン等の高分子物質を直接塗布するか、又は
処理剤に浸漬することによって塗膜を形成する技術が開
示されている。また、化学吸着法によってフッ素を含む
化学吸着単分子膜をガラス表面に形成させる技術も知ら
れている。
平１−１２６２４４号公報等に、ガラス表面にポリジメ
チルシロキサン等の高分子物質を直接塗布するか、又は
処理剤に浸漬することによって塗膜を形成する技術が開
示されている。また、化学吸着法によってフッ素を含む
化学吸着単分子膜をガラス表面に形成させる技術も知ら
れている。
【０００４】金属表面の防汚処理手段としては、特公平
７−５３９１３号公報に、亜鉛系メッキ被覆の上層にシ
リカゾルシランカップリング剤を配合したクロメート被
覆を形成せしめ、その上層にイソシアネート系塗料組成
物を用いて薄膜塗装をした有機複合メッキ鋼板に関する
技術が開示されている。
７−５３９１３号公報に、亜鉛系メッキ被覆の上層にシ
リカゾルシランカップリング剤を配合したクロメート被
覆を形成せしめ、その上層にイソシアネート系塗料組成
物を用いて薄膜塗装をした有機複合メッキ鋼板に関する
技術が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の処理手段では、油状の汚染物質に対する防汚
性が充分ではなかった。また、特に直接手を触れる基材
表面では、指紋が付着しやすく、その除去が困難になる
という問題点があった。
うな従来の処理手段では、油状の汚染物質に対する防汚
性が充分ではなかった。また、特に直接手を触れる基材
表面では、指紋が付着しやすく、その除去が困難になる
という問題点があった。
【０００６】上記現状に鑑み、本発明は、油状の汚染物
質に対する防汚性に優れ、特に指紋に対する防汚性に優
れた防汚性基材を提供することを目的とするものであ
る。
質に対する防汚性に優れ、特に指紋に対する防汚性に優
れた防汚性基材を提供することを目的とするものであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の防汚性基材は、
基材の表面に、下記一般式（Ｉ）で表され、数平均分子
量が５×１０2 〜１×１０5 であるケイ素含有有機含フ
ッ素ポリマーの層を形成したことを特徴とするものであ
る。
基材の表面に、下記一般式（Ｉ）で表され、数平均分子
量が５×１０2 〜１×１０5 であるケイ素含有有機含フ
ッ素ポリマーの層を形成したことを特徴とするものであ
る。
【０００８】
【化３】
【０００９】式中、Ｒf は、パーフルオロアルキル基を
表す。Ｚは、フッ素又はトリフルオロメチル基を表す。
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、それぞれ独立して、０又は１以
上の整数を表し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、少なくとも１
以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅでくくられた各繰り返
し単位の存在順序は、式中において限定されない。Ｙ
は、水素又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｘは、
水素、臭素又はヨウ素を表す。Ｒ1 は、水酸基又は加水
分解可能な置換基を表す。Ｒ2 は、水素又は１価の炭化
水素基を表す。ｌは、０、１又は２を表す。ｍは、１、
２又は３を表す。ｎは、１以上の整数を表す。以下に本
発明を詳述する。
表す。Ｚは、フッ素又はトリフルオロメチル基を表す。
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、それぞれ独立して、０又は１以
上の整数を表し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、少なくとも１
以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅでくくられた各繰り返
し単位の存在順序は、式中において限定されない。Ｙ
は、水素又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｘは、
水素、臭素又はヨウ素を表す。Ｒ1 は、水酸基又は加水
分解可能な置換基を表す。Ｒ2 は、水素又は１価の炭化
水素基を表す。ｌは、０、１又は２を表す。ｍは、１、
２又は３を表す。ｎは、１以上の整数を表す。以下に本
発明を詳述する。
【００１０】本発明の防汚性基材の対象となる基材とし
ては特に限定されず、例えば、ガラス、樹脂、金属、セ
ラミック、木材、陶磁器、石材、皮革等を挙げることが
できる。上記ガラス基材としては、各種ガラスで形成さ
れたものであれば特に限定されず、例えば、ショーウィ
ンドウ、鏡、水槽、窓ガラス、食器棚、ガラスケース等
の表面に使用されるガラス等を挙げることができる。
ては特に限定されず、例えば、ガラス、樹脂、金属、セ
ラミック、木材、陶磁器、石材、皮革等を挙げることが
できる。上記ガラス基材としては、各種ガラスで形成さ
れたものであれば特に限定されず、例えば、ショーウィ
ンドウ、鏡、水槽、窓ガラス、食器棚、ガラスケース等
の表面に使用されるガラス等を挙げることができる。
【００１１】上記樹脂基材としては特に限定されず、天
然樹脂ばかりでなく合成樹脂等を挙げることができる。
上記天然樹脂としては、例えば、セルロース、うるし等
を挙げることができる。上記合成樹脂としては、例え
ば、ポリアミド樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリアミ
ドイミド樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリエステル樹脂等を挙げることができる。上
記金属基材としては、例えば、鉄、亜鉛、鉛、銅、アル
ミニウム等を挙げることができる。
然樹脂ばかりでなく合成樹脂等を挙げることができる。
上記天然樹脂としては、例えば、セルロース、うるし等
を挙げることができる。上記合成樹脂としては、例え
ば、ポリアミド樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリアミ
ドイミド樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリエステル樹脂等を挙げることができる。上
記金属基材としては、例えば、鉄、亜鉛、鉛、銅、アル
ミニウム等を挙げることができる。
【００１２】本発明では、上記基材の表面に、上記一般
式（Ｉ）で表され、数平均分子量が５×１０2 〜１×１
０5 であるケイ素含有有機含フッ素ポリマーの層を形成
する。上記一般式（Ｉ）で表される式中、Ｒf として
は、通常、有機含フッ素ポリマーを構成するパーフルオ
ロアルキル基であれば特に限定されず、例えば、炭素数
１〜１６の直鎖状又は分岐状のものを挙げることができ
る。好ましくは、ＣＦ3−、Ｃ2 Ｆ5 −、Ｃ3 Ｆ7 −で
ある。
式（Ｉ）で表され、数平均分子量が５×１０2 〜１×１
０5 であるケイ素含有有機含フッ素ポリマーの層を形成
する。上記一般式（Ｉ）で表される式中、Ｒf として
は、通常、有機含フッ素ポリマーを構成するパーフルオ
ロアルキル基であれば特に限定されず、例えば、炭素数
１〜１６の直鎖状又は分岐状のものを挙げることができ
る。好ましくは、ＣＦ3−、Ｃ2 Ｆ5 −、Ｃ3 Ｆ7 −で
ある。
【００１３】上記一般式（Ｉ）中のＺは、フッ素でもよ
いしトリフルオロメチル基でもよい。上記一般式（Ｉ）
中のａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、ケイ素含有有機含フッ素ポ
リマーの主骨格を構成するパーフルオロポリエーテル鎖
の繰り返し単位数を表し、０又は１以上の整数でありａ
＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅが１以上であれば特に限定されない
が、それぞれ独立して、０〜２００が好ましく、後述す
るケイ素含有有機含フッ素ポリマーの数平均分子量を考
慮すれば、より好ましくは、それぞれ独立して、０〜５
０である。ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、好ましくは、１〜１
００である。
いしトリフルオロメチル基でもよい。上記一般式（Ｉ）
中のａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、ケイ素含有有機含フッ素ポ
リマーの主骨格を構成するパーフルオロポリエーテル鎖
の繰り返し単位数を表し、０又は１以上の整数でありａ
＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅが１以上であれば特に限定されない
が、それぞれ独立して、０〜２００が好ましく、後述す
るケイ素含有有機含フッ素ポリマーの数平均分子量を考
慮すれば、より好ましくは、それぞれ独立して、０〜５
０である。ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、好ましくは、１〜１
００である。
【００１４】また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅでくくられた各
繰り返し単位の存在順序は、便宜上一般式（Ｉ）中にお
いてはこの順に記載したが、通常のパーフルオロポリエ
ーテル鎖の構成に鑑み、これらの各繰り返し単位の結合
順序は、この順に限定されるものではない。
繰り返し単位の存在順序は、便宜上一般式（Ｉ）中にお
いてはこの順に記載したが、通常のパーフルオロポリエ
ーテル鎖の構成に鑑み、これらの各繰り返し単位の結合
順序は、この順に限定されるものではない。
【００１５】上記一般式（Ｉ）中のＹは、水素又は炭素
数１〜４のアルキル基を表す。上記炭素数１〜４のアル
キル基としては特に限定されず、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル等を挙げることができ、直鎖状で
あっても分岐状であってもよい。上記一般式（Ｉ）のＸ
は、水素、臭素又はヨウ素を表す。Ｘが臭素又はヨウ素
である場合には、本発明のケイ素含有有機含フッ素ポリ
マーはラジカル反応性が高くなるので、化学結合により
他の化合物と結合させるのには好都合である。
数１〜４のアルキル基を表す。上記炭素数１〜４のアル
キル基としては特に限定されず、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル等を挙げることができ、直鎖状で
あっても分岐状であってもよい。上記一般式（Ｉ）のＸ
は、水素、臭素又はヨウ素を表す。Ｘが臭素又はヨウ素
である場合には、本発明のケイ素含有有機含フッ素ポリ
マーはラジカル反応性が高くなるので、化学結合により
他の化合物と結合させるのには好都合である。
【００１６】上記一般式（Ｉ）中のｌは、パーフルオロ
ポリエーテル鎖の構成する炭素とこれに結合するケイ素
との間に存在するアルキレン基の炭素数を表し、０、１
又は２であるが、より好ましくは、０である。
ポリエーテル鎖の構成する炭素とこれに結合するケイ素
との間に存在するアルキレン基の炭素数を表し、０、１
又は２であるが、より好ましくは、０である。
【００１７】上記一般式（Ｉ）中のｍは、ケイ素に結合
する置換基Ｒ1 の結合数を表し、１、２又は３である。
置換基Ｒ1 が結合していない部分には、当該ケイ素には
Ｒ2が結合する。
する置換基Ｒ1 の結合数を表し、１、２又は３である。
置換基Ｒ1 が結合していない部分には、当該ケイ素には
Ｒ2が結合する。
【００１８】上記Ｒ1 は、水酸基又は加水分解可能な置
換基を表す。上記加水分解可能な置換基としては特に限
定されず、好ましいものとしては、例えば、ハロゲン、
−ＯＲ3 、−ＯＣＯＲ3 、−ＯＣ（Ｒ3 ）＝Ｃ（Ｒ4 ）
2 、−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ3 ）2 、−ＯＮ＝ＣＲ5 ［式中、Ｒ
3 は、脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表し、
Ｒ4 は、水素又は炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基を表
し、Ｒ5 は、炭素数３〜６の２価の脂肪族炭化水素基を
表す。］等を挙げることができる。より好ましくは、塩
素、−ＯＣＨ3 、−ＯＣ2 Ｈ5 である。
換基を表す。上記加水分解可能な置換基としては特に限
定されず、好ましいものとしては、例えば、ハロゲン、
−ＯＲ3 、−ＯＣＯＲ3 、−ＯＣ（Ｒ3 ）＝Ｃ（Ｒ4 ）
2 、−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ3 ）2 、−ＯＮ＝ＣＲ5 ［式中、Ｒ
3 は、脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表し、
Ｒ4 は、水素又は炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基を表
し、Ｒ5 は、炭素数３〜６の２価の脂肪族炭化水素基を
表す。］等を挙げることができる。より好ましくは、塩
素、−ＯＣＨ3 、−ＯＣ2 Ｈ5 である。
【００１９】上記Ｒ2 は、水素又は１価の炭化水素基を
表す。上記１価の炭化水素基としては特に限定されず、
好ましいものとしては、例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル等を挙げることができ、直鎖状であっても
分岐状であってもよい。上記一般式（Ｉ）中のｎは、１
以上の整数を表し、特に上限はないが、本発明の目的を
達するためには、１〜１０の整数であることが好まし
い。上記ｎは、一般式（Ｉ）中においては整数を表す
が、このような整数ｎを有する一般式（Ｉ）で表される
ポリマーの混合物として本発明に係るケイ素含有有機含
フッ素ポリマーが存在していてもよい。このように混合
物としてケイ素含有有機含フッ素ポリマーが存在する場
合には、上記ｎは、当該混合物中において平均値として
表すことができ、当該ケイ素含有有機含フッ素ポリマー
が混合物として存在する場合には、本発明の目的を考慮
すれば、ｎの平均値は、１．３〜３が好ましく、１．５
〜２．５が特に好ましい。
表す。上記１価の炭化水素基としては特に限定されず、
好ましいものとしては、例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル等を挙げることができ、直鎖状であっても
分岐状であってもよい。上記一般式（Ｉ）中のｎは、１
以上の整数を表し、特に上限はないが、本発明の目的を
達するためには、１〜１０の整数であることが好まし
い。上記ｎは、一般式（Ｉ）中においては整数を表す
が、このような整数ｎを有する一般式（Ｉ）で表される
ポリマーの混合物として本発明に係るケイ素含有有機含
フッ素ポリマーが存在していてもよい。このように混合
物としてケイ素含有有機含フッ素ポリマーが存在する場
合には、上記ｎは、当該混合物中において平均値として
表すことができ、当該ケイ素含有有機含フッ素ポリマー
が混合物として存在する場合には、本発明の目的を考慮
すれば、ｎの平均値は、１．３〜３が好ましく、１．５
〜２．５が特に好ましい。
【００２０】上記ケイ素含有有機含フッ素ポリマーの数
平均分子量は、５×１０2 〜１×１０5 である。５×１
０2 未満では、ポリマーとしての性質を有しないので利
用価値がなく、１×１０5 を超えると加工性に乏しくな
るので、上記範囲に限定される。好ましくは、１×１０
3 〜１×１０4 である。
平均分子量は、５×１０2 〜１×１０5 である。５×１
０2 未満では、ポリマーとしての性質を有しないので利
用価値がなく、１×１０5 を超えると加工性に乏しくな
るので、上記範囲に限定される。好ましくは、１×１０
3 〜１×１０4 である。
【００２１】上記ケイ素含有有機含フッ素ポリマーの好
ましいものとして、例えば、下記一般式（ＩＩ）で表さ
れるもの等を挙げることができる。
ましいものとして、例えば、下記一般式（ＩＩ）で表さ
れるもの等を挙げることができる。
【００２２】
【化４】
【００２３】［式中、ｐは、１以上の整数を表す。Ｙ、
Ｘ、Ｒ1 、Ｒ2 、ｌ、ｍ、ｎは、前記と同じ。］ 上記一般式（ＩＩ）中のｐは、１以上の整数であれば特
に限定されないが、１〜２００が好ましく、本発明のケ
イ素含有有機含フッ素ポリマーの数平均分子量を考慮す
れば、より好ましくは、１〜５０である。
Ｘ、Ｒ1 、Ｒ2 、ｌ、ｍ、ｎは、前記と同じ。］ 上記一般式（ＩＩ）中のｐは、１以上の整数であれば特
に限定されないが、１〜２００が好ましく、本発明のケ
イ素含有有機含フッ素ポリマーの数平均分子量を考慮す
れば、より好ましくは、１〜５０である。
【００２４】上記ケイ素含有有機含フッ素ポリマーは、
通常市販されているパーフルオロポリエーテルを原料と
して用い、末端に例えば、ヨウ素を導入した後、これ
に、例えば、下記一般式［式中、Ｙ、Ｒ1 、Ｒ2 、ｌ、
ｍは、前記と同じ。］で表されるビニルシラン化合物を
反応させること等により得ることができる。
通常市販されているパーフルオロポリエーテルを原料と
して用い、末端に例えば、ヨウ素を導入した後、これ
に、例えば、下記一般式［式中、Ｙ、Ｒ1 、Ｒ2 、ｌ、
ｍは、前記と同じ。］で表されるビニルシラン化合物を
反応させること等により得ることができる。
【００２５】
【化５】
【００２６】上記ケイ素含有有機含フッ素ポリマーを適
用するにあたっては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化
チタン、カーボン、セメント等の微粉末充填剤、チタ
ン、アルミニウム、ケイ素等のアルコキシド、その他の
低分子量ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロ
エチレン／ヘキサフルオロプロピレン共重合体等のフッ
素樹脂の微粉末等を、硬度調整剤又は増量剤等として添
加することができる。また、通常の架橋剤を更に加え
て、硬度調整を行うこともできる。
用するにあたっては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化
チタン、カーボン、セメント等の微粉末充填剤、チタ
ン、アルミニウム、ケイ素等のアルコキシド、その他の
低分子量ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロ
エチレン／ヘキサフルオロプロピレン共重合体等のフッ
素樹脂の微粉末等を、硬度調整剤又は増量剤等として添
加することができる。また、通常の架橋剤を更に加え
て、硬度調整を行うこともできる。
【００２７】上記ケイ素含有有機含フッ素ポリマーの層
を形成するためには、ガラス基材又は樹脂基材の表面
に、上記ケイ素含有有機含フッ素ポリマーを塗布する方
法を採ることができる。上記塗布方法としては、例え
ば、スプレー塗装、スピン塗装、浸漬塗装、ロールコー
ト塗装、グラビアコート塗装、カーテンフロー塗装等を
挙げることができる。また、塗布する際には溶剤で希釈
する方が塗布し易い。このような溶剤としては特に限定
されず、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロ
メチルシクロヘキサン、パーフルオロ−１，３−ジメチ
ルシクロヘキサン、ジクロロペンタフルオロプロパン
（ＨＣＦＣ２２５）等を挙げることができる。
を形成するためには、ガラス基材又は樹脂基材の表面
に、上記ケイ素含有有機含フッ素ポリマーを塗布する方
法を採ることができる。上記塗布方法としては、例え
ば、スプレー塗装、スピン塗装、浸漬塗装、ロールコー
ト塗装、グラビアコート塗装、カーテンフロー塗装等を
挙げることができる。また、塗布する際には溶剤で希釈
する方が塗布し易い。このような溶剤としては特に限定
されず、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロ
メチルシクロヘキサン、パーフルオロ−１，３−ジメチ
ルシクロヘキサン、ジクロロペンタフルオロプロパン
（ＨＣＦＣ２２５）等を挙げることができる。
【００２８】本発明の防汚性基材におけるケイ素含有有
機含フッ素ポリマー層の厚みは特に限定されるものでは
ないが、０．００１〜０．０３μｍが好ましい。０．０
０１μｍ未満であると汚染防止効果が乏しくなり、０．
０３μｍを超えると層が厚すぎて使用に障害が生じるの
で好ましくない。
機含フッ素ポリマー層の厚みは特に限定されるものでは
ないが、０．００１〜０．０３μｍが好ましい。０．０
０１μｍ未満であると汚染防止効果が乏しくなり、０．
０３μｍを超えると層が厚すぎて使用に障害が生じるの
で好ましくない。
【００２９】本発明によって構成されたガラス製品、樹
脂製品、金属製品、セラミック製品等は、例えば、以下
に掲げるもの等の汚染されやすい部分に使用することが
できる。扇風機の羽根、電子レンジの扉、冷蔵庫の表面
等の家電製品；コピー機のコンタクトガラス、ＯＨＰ本
体のミラー、ＯＨＰシート、キーボード、電話機、事務
机等の事務関連用品；グラス、食器棚の扉、鏡、窓ガラ
ス、電灯の傘、シャンデリア等の家庭用品；ショーウイ
ンド、電話ボックス、水槽のガラス等の建築材料；車両
ガラス、車体の塗装面等の車両部品；メガネフレーム、
水中メガネのガラス、ゴーグル、ヘルメット、時計の文
字盤のカバーガラス等の装身具；パチンコ台のガラス、
トランプ、麻雀パイ等の遊具；家具、ピアノ等の塗装
面。
脂製品、金属製品、セラミック製品等は、例えば、以下
に掲げるもの等の汚染されやすい部分に使用することが
できる。扇風機の羽根、電子レンジの扉、冷蔵庫の表面
等の家電製品；コピー機のコンタクトガラス、ＯＨＰ本
体のミラー、ＯＨＰシート、キーボード、電話機、事務
机等の事務関連用品；グラス、食器棚の扉、鏡、窓ガラ
ス、電灯の傘、シャンデリア等の家庭用品；ショーウイ
ンド、電話ボックス、水槽のガラス等の建築材料；車両
ガラス、車体の塗装面等の車両部品；メガネフレーム、
水中メガネのガラス、ゴーグル、ヘルメット、時計の文
字盤のカバーガラス等の装身具；パチンコ台のガラス、
トランプ、麻雀パイ等の遊具；家具、ピアノ等の塗装
面。
【００３０】ネクタイピン、ネックレス、ピアス等の装
飾品；水道蛇口、金管楽器、木管楽器、ゴルフクラブ、
扉の取っ手、ダンベル、刃物等の金属又はメッキ製品；
碍子、タイル、衛生陶器、食器、屋根瓦等のセラミック
材料；墓石、碁石、大理石等の石材；壁紙、ふすま紙、
書籍、ポスター、写真等の紙製品；財布、靴、鞄、時計
バンド、野球用グローブ等の皮革製品。
飾品；水道蛇口、金管楽器、木管楽器、ゴルフクラブ、
扉の取っ手、ダンベル、刃物等の金属又はメッキ製品；
碍子、タイル、衛生陶器、食器、屋根瓦等のセラミック
材料；墓石、碁石、大理石等の石材；壁紙、ふすま紙、
書籍、ポスター、写真等の紙製品；財布、靴、鞄、時計
バンド、野球用グローブ等の皮革製品。
【００３１】
【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
【００３２】合成例１ 攪拌機、滴下ロート、還流冷却器及び温度計を備えた
２．０Ｌ４つ口フラスコ中に２６１７ｇ（１０．３モ
ル）のヨウ素、２１３．２ｇ（１．５４モル）の炭酸カ
リウム、及び、９０００ｇのヘキサクロロ−１，３−ブ
タジエンを仕込み、系の温度を１６０℃に維持しながら
窒素気流下に、化学式Ｆ−（ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＦ2 Ｏ）n
−ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＯＦで表されるω−フルオロポリパー
フルオロオキセタンアシルフルオライド（平均分子量３
９００）４０００ｇ（１．０３モル）を１０ｍＬ／ｍｉ
ｎの速度で滴下した。
２．０Ｌ４つ口フラスコ中に２６１７ｇ（１０．３モ
ル）のヨウ素、２１３．２ｇ（１．５４モル）の炭酸カ
リウム、及び、９０００ｇのヘキサクロロ−１，３−ブ
タジエンを仕込み、系の温度を１６０℃に維持しながら
窒素気流下に、化学式Ｆ−（ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＦ2 Ｏ）n
−ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＯＦで表されるω−フルオロポリパー
フルオロオキセタンアシルフルオライド（平均分子量３
９００）４０００ｇ（１．０３モル）を１０ｍＬ／ｍｉ
ｎの速度で滴下した。
【００３３】滴下終了後、反応温度を１８５℃に上昇さ
せ、２０時間反応させた。反応終了後、系を冷却したの
ちカリウム塩を濾別し、２層に分離した液相から分液ロ
ートを用いて下層を分取した。これをアセトンを用いて
数回洗浄したのち、１Ｌのパーフルオロヘキサンに溶解
し、ガラスフイルターによって微細な不溶物を濾別し
た。得られた溶液から減圧下揮発分を完全に留去するこ
とによって３８９０ｇ（収率９５％）の化学式Ｆ−（Ｃ
Ｆ2 ＣＦ2 ＣＦ2 Ｏ）n −ＣＦ2 ＣＦ2 Ｉで表されるω
−フルオロポリパーフルオロオキセタンヨウ素化物を得
た。赤外吸収スペクトルより、１８９０ｃｍ-1の−Ｃ
（＝Ｏ）Ｆの吸収が完全に消失し、９１０ｃｍ-1に新た
に−ＣＦ2 Ｉの吸収が生じた。
せ、２０時間反応させた。反応終了後、系を冷却したの
ちカリウム塩を濾別し、２層に分離した液相から分液ロ
ートを用いて下層を分取した。これをアセトンを用いて
数回洗浄したのち、１Ｌのパーフルオロヘキサンに溶解
し、ガラスフイルターによって微細な不溶物を濾別し
た。得られた溶液から減圧下揮発分を完全に留去するこ
とによって３８９０ｇ（収率９５％）の化学式Ｆ−（Ｃ
Ｆ2 ＣＦ2 ＣＦ2 Ｏ）n −ＣＦ2 ＣＦ2 Ｉで表されるω
−フルオロポリパーフルオロオキセタンヨウ素化物を得
た。赤外吸収スペクトルより、１８９０ｃｍ-1の−Ｃ
（＝Ｏ）Ｆの吸収が完全に消失し、９１０ｃｍ-1に新た
に−ＣＦ2 Ｉの吸収が生じた。
【００３４】合成例２ 攪拌機、滴下ロート、還流冷却器及び温度計を備えた２
００ｍＬ４つ口フラスコ中に合成例１にて合成した化学
式Ｆ−（ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＦ2 Ｏ）n −ＣＦ2 ＣＦ2 Ｉで
表されるω−フルオロポリパーフルオロオキセタンヨウ
素化物４０ｇをヘキサフルオロテトラクロロブタン〔ダ
イフロンソルベントＳ−３１６（ダイキン工業社製）〕
８０ｇに溶解したもの、及び、ジｔ−ブチルパーオキシ
ド１．５ｇ（１×１０-2モル）を仕込み、充分に系内を
窒素置換したのち、窒素気流下滴下ロートよりビニルト
リクロロシラン１６．１ｇ（０．１０モル）を滴下し
た。滴下終了後系内の温度を１２０℃に昇温させ、４時
間反応させた。反応終了後減圧下揮発分を完全に留去す
ることによって末端にヨウ素を有するケイ素含有有機含
フッ素ポリマー（Ａ）３８．７ｇ（収率９０％）を得
た。
００ｍＬ４つ口フラスコ中に合成例１にて合成した化学
式Ｆ−（ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＦ2 Ｏ）n −ＣＦ2 ＣＦ2 Ｉで
表されるω−フルオロポリパーフルオロオキセタンヨウ
素化物４０ｇをヘキサフルオロテトラクロロブタン〔ダ
イフロンソルベントＳ−３１６（ダイキン工業社製）〕
８０ｇに溶解したもの、及び、ジｔ−ブチルパーオキシ
ド１．５ｇ（１×１０-2モル）を仕込み、充分に系内を
窒素置換したのち、窒素気流下滴下ロートよりビニルト
リクロロシラン１６．１ｇ（０．１０モル）を滴下し
た。滴下終了後系内の温度を１２０℃に昇温させ、４時
間反応させた。反応終了後減圧下揮発分を完全に留去す
ることによって末端にヨウ素を有するケイ素含有有機含
フッ素ポリマー（Ａ）３８．７ｇ（収率９０％）を得
た。
【００３５】合成例３ 攪拌機、滴下ロート、還流冷却器及び温度計を備えた２
００ｍＬ４つ口フラスコ中に合成例２にて合成したケイ
素含有有機含フッ素ポリマー（Ａ）３４．４ｇ（８×１
０-3モル）をパーフルオロヘキサン５０ｇに溶解したも
のを仕込み、亜鉛２．１ｇ（３．２×１０-2モル）を強
攪拌分散させた。氷水浴で系を冷却し、窒素気流下無水
メタノール１０ｇを滴下した。滴下終了後氷水浴を取り
除き、加熱還流下２時間反応させた。反応終了後不溶物
を濾別し、２層に分離した液相から分液ロートを用いて
下層を分取した。得られた溶液を無水メタノールを用い
て３回洗浄したのち、減圧下揮発分を完全に留去するこ
とによって、末端が水素化されたケイ素含有有機含フッ
素ポリマー（Ｂ）３１．６ｇ（収率９２％）を得た。1
Ｈ−ＮＭＲより、１．２〜３．０ｐｐｍに下記の式の各
水素原子に由来する幅広い吸収体が現れた。内部標準と
してω−フルオロポリパーフルオロオキセタン水素化物
５．０モル％を添加し、下記の数式から重合度を計算す
ると２．０となった。
００ｍＬ４つ口フラスコ中に合成例２にて合成したケイ
素含有有機含フッ素ポリマー（Ａ）３４．４ｇ（８×１
０-3モル）をパーフルオロヘキサン５０ｇに溶解したも
のを仕込み、亜鉛２．１ｇ（３．２×１０-2モル）を強
攪拌分散させた。氷水浴で系を冷却し、窒素気流下無水
メタノール１０ｇを滴下した。滴下終了後氷水浴を取り
除き、加熱還流下２時間反応させた。反応終了後不溶物
を濾別し、２層に分離した液相から分液ロートを用いて
下層を分取した。得られた溶液を無水メタノールを用い
て３回洗浄したのち、減圧下揮発分を完全に留去するこ
とによって、末端が水素化されたケイ素含有有機含フッ
素ポリマー（Ｂ）３１．６ｇ（収率９２％）を得た。1
Ｈ−ＮＭＲより、１．２〜３．０ｐｐｍに下記の式の各
水素原子に由来する幅広い吸収体が現れた。内部標準と
してω−フルオロポリパーフルオロオキセタン水素化物
５．０モル％を添加し、下記の数式から重合度を計算す
ると２．０となった。
【００３６】
【化６】
【００３７】Ｉ／Ｉs ＝〔０．９５（３Ｐ＋１）〕／
０．０５ Ｉ ：１．２〜３．０ｐｐｍの積分吸収強度 Ｉs ：内部標準物質の積分吸収強度 Ｐ ：重合度
０．０５ Ｉ ：１．２〜３．０ｐｐｍの積分吸収強度 Ｉs ：内部標準物質の積分吸収強度 Ｐ ：重合度
【００３８】合成例４ ジｔ−ブチルパーオキシドを０．２９ｇ（２×１０-3モ
ル）としたこと以外は、合成例２と同様にして合成を行
ったところ、得られたケイ素含有有機含フッ素ポリマー
（Ｃ）を得た。
ル）としたこと以外は、合成例２と同様にして合成を行
ったところ、得られたケイ素含有有機含フッ素ポリマー
（Ｃ）を得た。
【００３９】合成例５ 原料としてケイ素含有有機含フッ素ポリマー（Ｃ）を用
いたこと以外は、合成例３と同様にして合成を行った。
得られたケイ素含有有機含フッ素ポリマー（Ｄ）につい
て、合成例３と同様に重合度を計算したところ、１．０
であった。
いたこと以外は、合成例３と同様にして合成を行った。
得られたケイ素含有有機含フッ素ポリマー（Ｄ）につい
て、合成例３と同様に重合度を計算したところ、１．０
であった。
【００４０】実施例１、比較例１ 合成例３で得たもの、及び、市販の含フッ素シランカッ
プリング剤ＫＢＭ７８０３〔Ｃ8 Ｆ17ＣＨ2 ＣＨ2 Ｓｉ
（ＯＣＨ3 ）3 、信越化学社製〕（以下、単に「市販
品」という。）を、パーフルオロヘキサンの０．１重量
％溶液となした処理液を調製した。基材となるガラス板
を、使用前に水洗し、その後にメタノールとアセトンを
用いて充分に洗浄した。このようにして準備したガラス
板を処理液に１０秒間ディッピングし、引き上げた後６
０分間風乾した。ついで５分間パーフルオロヘキサン中
で超音波洗浄を行って過剰の処理剤分子を除去した上
で、風乾し、各測定に供した。
プリング剤ＫＢＭ７８０３〔Ｃ8 Ｆ17ＣＨ2 ＣＨ2 Ｓｉ
（ＯＣＨ3 ）3 、信越化学社製〕（以下、単に「市販
品」という。）を、パーフルオロヘキサンの０．１重量
％溶液となした処理液を調製した。基材となるガラス板
を、使用前に水洗し、その後にメタノールとアセトンを
用いて充分に洗浄した。このようにして準備したガラス
板を処理液に１０秒間ディッピングし、引き上げた後６
０分間風乾した。ついで５分間パーフルオロヘキサン中
で超音波洗浄を行って過剰の処理剤分子を除去した上
で、風乾し、各測定に供した。
【００４１】評価は、以下の基準で行った。 （１）指紋付着性は、試料に指紋を付け、その付き易さ
を目視で判定した。 ○：指紋の付着が少なく、付いた指紋が目立たない ×：未処理のガラス板と同程度に指紋が付着する △：どちらとも判定しにくい （２）指紋拭取性は、指紋付着性の評価に用いた試料の
表面をキムワイプ（十條キンバリー社製）で一往復拭き
取り、指紋の取れ易さを目視判定した。 ○：指紋を完全に拭き取ることができる △：指紋の拭き取り跡が残る ×：指紋の拭き取り跡が広がり、除去することが困難で
ある （３）対水接触角の測定は接触角計（協和界面科学機械
社製ＣＡ−ＤＴ型）を用いて測定した。 それぞれの評価結果を表１に示した。
を目視で判定した。 ○：指紋の付着が少なく、付いた指紋が目立たない ×：未処理のガラス板と同程度に指紋が付着する △：どちらとも判定しにくい （２）指紋拭取性は、指紋付着性の評価に用いた試料の
表面をキムワイプ（十條キンバリー社製）で一往復拭き
取り、指紋の取れ易さを目視判定した。 ○：指紋を完全に拭き取ることができる △：指紋の拭き取り跡が残る ×：指紋の拭き取り跡が広がり、除去することが困難で
ある （３）対水接触角の測定は接触角計（協和界面科学機械
社製ＣＡ−ＤＴ型）を用いて測定した。 それぞれの評価結果を表１に示した。
【００４２】
【表１】
【００４３】実施例２、比較例２ 合成例３で得たもの、及び、市販品を、パーフルオロヘ
キサンの０．１重量％溶液となした処理液を調製した。
基材となるアルミニウム板〔０．５ｍｍのＪＩＳ Ｈ
４０００（Ａ１０５０Ｐ）に規定されたもの〕を、使用
前に水洗し、その後にメタノールとアセトンを用いて充
分に洗浄した。このようにして準備したアルミニウム板
を処理液に１０秒間ディッピングし、引き上げた後６０
分間風乾した。ついで５分間パーフルオロヘキサン中で
超音波洗浄を行って過剰の処理剤分子を除去した上で、
風乾し、各測定に供した。 比較例３ 別に無処理のアルミニウム板を用意した。
キサンの０．１重量％溶液となした処理液を調製した。
基材となるアルミニウム板〔０．５ｍｍのＪＩＳ Ｈ
４０００（Ａ１０５０Ｐ）に規定されたもの〕を、使用
前に水洗し、その後にメタノールとアセトンを用いて充
分に洗浄した。このようにして準備したアルミニウム板
を処理液に１０秒間ディッピングし、引き上げた後６０
分間風乾した。ついで５分間パーフルオロヘキサン中で
超音波洗浄を行って過剰の処理剤分子を除去した上で、
風乾し、各測定に供した。 比較例３ 別に無処理のアルミニウム板を用意した。
【００４４】評価は、以下の基準で行った。試料の表面
を、キムワイプ（十條キンバリー社製）を手に持って、
中位の強さで同じ表面に対して１００往復拭き取り操作
を繰り返した。拭き取り操作前の対水接触角と拭き取り
操作終了後の対水接触角を測定した。対水接触角の測定
は接触角計（協和界面科学機械社製ＣＡ−ＤＴ型）を用
いて測定した。それぞれの評価結果を表２に示した。
を、キムワイプ（十條キンバリー社製）を手に持って、
中位の強さで同じ表面に対して１００往復拭き取り操作
を繰り返した。拭き取り操作前の対水接触角と拭き取り
操作終了後の対水接触角を測定した。対水接触角の測定
は接触角計（協和界面科学機械社製ＣＡ−ＤＴ型）を用
いて測定した。それぞれの評価結果を表２に示した。
【００４５】
【表２】
【００４６】
【発明の効果】本発明の防汚性基材は、上述の構成より
なるので、特に指紋等に対する防汚性が極めて良好であ
り、ガラス、樹脂、金属、セラミック、木材、陶磁器、
石材、皮革等の基材に好適に適用することができる。
なるので、特に指紋等に対する防汚性が極めて良好であ
り、ガラス、樹脂、金属、セラミック、木材、陶磁器、
石材、皮革等の基材に好適に適用することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平7−279605 (32)優先日 平７(1995)10月２日 (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (72)発明者 山口 貞充 大阪府摂津市西一津屋１番１号 ダイキン 工業株式会社淀川製作所内 (72)発明者 荒瀬 琢也 大阪府摂津市西一津屋１番１号 ダイキン 工業株式会社淀川製作所内 (72)発明者 蜂須賀 仁治 大阪府摂津市西一津屋１番１号 ダイキン 工業株式会社淀川製作所内 (72)発明者 建元 正祥 大阪府摂津市西一津屋１番１号 ダイキン 工業株式会社淀川製作所内 (72)発明者 清水 哲男 大阪府摂津市西一津屋１番１号 ダイキン 工業株式会社淀川製作所内
Claims (2)
- 【請求項１】 基材の表面に、下記一般式（Ｉ）で表さ
れ、数平均分子量が５×１０2 〜１×１０5 であるケイ
素含有有機含フッ素ポリマーの層を形成したことを特徴
とする防汚性基材。 【化１】 式中、Ｒf は、パーフルオロアルキル基を表す。Ｚは、
フッ素又はトリフルオロメチル基を表す。ａ、ｂ、ｃ、
ｄ、ｅは、それぞれ独立して、０又は１以上の整数を表
し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、少なくとも１以上であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅでくくられた各繰り返し単位の存在
順序は、式中において限定されない。Ｙは、水素又は炭
素数１〜４のアルキル基を表す。Ｘは、水素、臭素又は
ヨウ素を表す。Ｒ1 は、水酸基又は加水分解可能な置換
基を表す。Ｒ2 は、水素又は１価の炭化水素基を表す。
ｌは、０、１又は２を表す。ｍは、１、２又は３を表
す。ｎは、１以上の整数を表す。 - 【請求項２】 ケイ素含有有機含フッ素ポリマーが、下
記一般式（ＩＩ）で表され、数平均分子量が５×１０2
〜１×１０5 であるものである請求項１記載の防汚性基
材。 【化２】 式中、ｐは、１以上の整数を表す。Ｙは、水素又は炭素
数１〜４のアルキル基を表す。Ｘは、水素、臭素又はヨ
ウ素を表す。Ｒ1 は、水酸基又は加水分解可能な置換基
を表す。Ｒ2 は、水素又は１価の炭化水素基を表す。ｌ
は、０、１又は２を表す。ｍは、１、２又は３を表す。
ｎは、１以上の整数を表す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23142896A JP3758247B2 (ja) | 1995-08-11 | 1996-08-12 | 防汚性基材 |
Applications Claiming Priority (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22753495 | 1995-08-11 | ||
| JP22753395 | 1995-08-11 | ||
| JP7-227534 | 1995-08-11 | ||
| JP7-227533 | 1995-08-11 | ||
| JP7-279605 | 1995-10-02 | ||
| JP27960495 | 1995-10-02 | ||
| JP7-279604 | 1995-10-02 | ||
| JP27960595 | 1995-10-02 | ||
| JP23142896A JP3758247B2 (ja) | 1995-08-11 | 1996-08-12 | 防汚性基材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09157582A true JPH09157582A (ja) | 1997-06-17 |
| JP3758247B2 JP3758247B2 (ja) | 2006-03-22 |
Family
ID=27529812
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23142896A Expired - Fee Related JP3758247B2 (ja) | 1995-08-11 | 1996-08-12 | 防汚性基材 |
Country Status (1)
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|---|---|
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|---|---|---|---|---|
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| JP2002278298A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-27 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
| US6929822B2 (en) | 2001-04-27 | 2005-08-16 | Hoya Corporation | Method for manufacturing optical member having water-repellent thin film |
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| US7150917B2 (en) | 2002-08-02 | 2006-12-19 | Hoya Corporation | Optical member |
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| JP2009502470A (ja) * | 2005-07-26 | 2009-01-29 | サン−ゴバン グラス フランス | ビス−シランを含む下塗りおよびフッ素化アルキルシランを含む疎水層を備えた疎水性被覆 |
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| WO2011058784A1 (ja) | 2009-11-13 | 2011-05-19 | シャープ株式会社 | 立体映像認識システム、映像表示装置及びアクティブシャッターメガネ |
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| JP2014037548A (ja) * | 2012-06-13 | 2014-02-27 | Daikin Ind Ltd | パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および表面処理剤 |
| KR20140122262A (ko) | 2012-02-01 | 2014-10-17 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 불소 함유 공중합체, 및 발유성 및/또는 발수성 코팅제 |
-
1996
- 1996-08-12 JP JP23142896A patent/JP3758247B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JP3758247B2 (ja) | 2006-03-22 |
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