JPH09157258A - カルボスチリル誘導体 - Google Patents

カルボスチリル誘導体

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JPH09157258A
JPH09157258A JP8265638A JP26563896A JPH09157258A JP H09157258 A JPH09157258 A JP H09157258A JP 8265638 A JP8265638 A JP 8265638A JP 26563896 A JP26563896 A JP 26563896A JP H09157258 A JPH09157258 A JP H09157258A
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Yasuo Koga
康雄 古賀
Yoshito Kihara
義人 木原
Minoru Okada
岡田  稔
Takao Nishi
孝夫 西
Yoshihiro Inoue
佳宏 井上
Masao Kimura
征夫 木村
Hiroyoshi Hidaka
弘義 日高
Nobuo Fukuda
宣夫 福田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、抗血栓作用及び血管内膜肥厚抑制
作用の両作用を有し、虚血性疾患治療及び予防剤として
有用な新規カルボスチリル誘導体を提供することを課題
とする。 【解決手段】 本発明のカルボスチリル誘導体は、一般
式 【化1】 〔式中、Aは低級アルキレン基を示す。R1及びR2は、
同一又は異なって、置換基として水酸基等を有し又は有
しない低級アルキル基等を示す。R3は水素原子等を示
す。Rは水素原子等を示す。カルボスチリル骨格の3位
及び4位の炭素間結合は一重結合又は二重結合を示す。
で表されるカルボスチリル誘導体又はその塩である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、カルボスチリル誘
導体に関する。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、医薬品とし
て有用な新規カルボスチリル誘導体を提供することを課
題とする。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明のカルボスチリル
誘導体は、文献未記載の新規化合物であって、下記一般
式(1)で表される。
【0004】
【化2】
【0005】〔式中、Aは低級アルキレン基を示す。R
1及びR2は、同一又は異なって、置換基として水酸基、
低級アルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基もしくは
低級アルカノイルオキシ基を有し又は有しない低級アル
キル基、置換基として水酸基、水酸基置換低級アルコキ
シ基もしくは低級アルカノイルオキシ基を有し又は有し
ないシクロアルキル基或いは置換基として低級アルキル
基又はシクロアルキル基を有することのあるアミノ基を
示す。R3は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニ
ル基又は水酸基置換低級アルキル基を示す。Rは水素原
子、ハロゲン原子又は低級アルコキシ基を示す。但し、
3及びRが水素原子を示す場合、R1及びR2は、置換
基を有しない低級アルキル基又は置換基を有しないシク
ロアルキル基であってはならない。カルボスチリル骨格
の3位及び4位の炭素間結合は一重結合又は二重結合を
示す。〕 (1)本発明によれば、上記一般式(1)で表わされる
カルボスチリル誘導体又はその塩が提供される。
【0006】(2)本発明によれば、R及びR3が水素
原子である上記(1)のカルボスチリル誘導体又はその
塩が提供される。
【0007】(3)本発明によれば、Rが水素原子であ
り、R3が低級アルキル基、低級アルケニル基又は水酸
基置換低級アルキル基である上記(1)のカルボスチリ
ル誘導体又はその塩が提供される。
【0008】(4)本発明によれば、Rがハロゲン原子
又は低級アルコキシ基であり、R3が水素原子である上
記(1)のカルボスチリル誘導体又はその塩が提供され
る。
【0009】(5)本発明によれば、Rがハロゲン原子
又は低級アルコキシ基であり、R3が低級アルキル基、
低級アルケニル基又は水酸基置換低級アルキル基である
上記(1)のカルボスチリル誘導体又はその塩が提供さ
れる。
【0010】(6)本発明によれば、R1及びR2が同一
で、置換基として水酸基、低級アルコキシ基、フェニル
低級アルコキシ基もしくは低級アルカノイルオキシ基を
有し又は有しない低級アルキル基、置換基として水酸
基、水酸基置換低級アルコキシ基、もしくは低級アルカ
ノイルオキシ基を有し又有しないシクロアルキル基、置
換基として低級アルキル基又はシクロアルキル基を有す
ることのあるアミノ基である上記(2)のカルボスチリ
ル誘導体又はその塩が提供される。
【0011】(7)本発明によれば、R1が置換基とし
て水酸基、低級アルコキシ基、フェニル低級アルコキシ
基もしくは低級アルカノイルオキシ基を有し又は有しな
い低級アルキル基であり、R2が置換基として水酸基、
水酸基置換低級アルコキシ基、もしくは低級アルカノイ
ルオキシ基を有し又有しないシクロアルキル基、置換基
として低級アルキル基又はシクロアルキル基を有するこ
とのあるアミノ基である上記(2)のカルボスチリル誘
導体又はその塩が提供される。
【0012】(8)本発明によれば、R1が置換基とし
て水酸基、水酸基置換低級アルコキシ基、もしくは低級
アルカノイルオキシ基を有し又は有しないシクロアルキ
ル基であり、R2が置換基として低級アルキル基又はシ
クロアルキル基を有することのあるアミノ基である上記
(2)のカルボスチリル誘導体又はその塩が提供され
る。
【0013】(9)本発明によれば、R1及びR2が同一
で、置換基として水酸基、低級アルコキシ基、フェニル
低級アルコキシ基もしくは低級アルカノイルオキシ基を
有し又は有しない低級アルキル基、置換基として水酸
基、水酸基置換低級アルコキシ基、もしくは低級アルカ
ノイルオキシ基を有し又有しないシクロアルキル基、置
換基として低級アルキル基又はシクロアルキル基を有す
ることのあるアミノ基である上記(3)のカルボスチリ
ル誘導体又はその塩が提供される。
【0014】(10)本発明によれば、R1が置換基と
して水酸基、低級アルコキシ基、フェニル低級アルコキ
シ基もしくは低級アルカノイルオキシ基を有し又は有し
ない低級アルキル基であり、R2が置換基として水酸
基、水酸基置換低級アルコキシ基、もしくは低級アルカ
ノイルオキシ基を有し又有しないシクロアルキル基、置
換基として低級アルキル基又はシクロアルキル基を有す
ることのあるアミノ基である上記(3)のカルボスチリ
ル誘導体又はその塩が提供される。
【0015】(11)本発明によれば、R1が置換基と
して水酸基、水酸基置換低級アルコキシ基、もしくは低
級アルカノイルオキシ基を有し又は有しないシクロアル
キル基であり、R2が置換基として低級アルキル基又は
シクロアルキル基を有することのあるアミノ基である上
記(3)のカルボスチリル誘導体又はその塩が提供され
る。
【0016】(12)本発明によれば、R1及びR2が同
一で、置換基として水酸基、低級アルコキシ基、フェニ
ル低級アルコキシ基もしくは低級アルカノイルオキシ基
を有し又は有しない低級アルキル基、置換基として水酸
基、水酸基置換低級アルコキシ基、もしくは低級アルカ
ノイルオキシ基を有し又有しないシクロアルキル基、置
換基として低級アルキル基又はシクロアルキル基を有す
ることのあるアミノ基である上記(4)のカルボスチリ
ル誘導体又はその塩が提供される。
【0017】(13)本発明によれば、R1が置換基と
して水酸基、低級アルコキシ基、フェニル低級アルコキ
シ基もしくは低級アルカノイルオキシ基を有し又は有し
ない低級アルキル基であり、R2が置換基として水酸
基、水酸基置換低級アルコキシ基、もしくは低級アルカ
ノイルオキシ基を有し又有しないシクロアルキル基、置
換基として低級アルキル基又はシクロアルキル基を有す
ることのあるアミノ基である上記(4)のカルボスチリ
ル誘導体又はその塩が提供される。
【0018】(14)本発明によれば、R1が置換基と
して水酸基、水酸基置換低級アルコキシ基、もしくは低
級アルカノイルオキシ基を有し又は有しないシクロアル
キル基であり、R2が置換基として低級アルキル基又は
シクロアルキル基を有することのあるアミノ基である上
記(4)のカルボスチリル誘導体又はその塩が提供され
る。
【0019】(15)本発明によれば、R1及びR2が同
一で、置換基として水酸基、低級アルコキシ基、フェニ
ル低級アルコキシ基もしくは低級アルカノイルオキシ基
を有し又は有しない低級アルキル基、置換基として水酸
基、水酸基置換低級アルコキシ基、もしくは低級アルカ
ノイルオキシ基を有し又有しないシクロアルキル基、置
換基として低級アルキル基又はシクロアルキル基を有す
ることのあるアミノ基である上記(5)のカルボスチリ
ル誘導体又はその塩が提供される。
【0020】(16)本発明によれば、R1が置換基と
して水酸基、低級アルコキシ基、フェニル低級アルコキ
シ基もしくは低級アルカノイルオキシ基を有し又は有し
ない低級アルキル基であり、R2が置換基として水酸
基、水酸基置換低級アルコキシ基、もしくは低級アルカ
ノイルオキシ基を有し又有しないシクロアルキル基、置
換基として低級アルキル基又はシクロアルキル基を有す
ることのあるアミノ基である上記(5)のカルボスチリ
ル誘導体又はその塩が提供される。
【0021】(17)本発明によれば、R1が置換基と
して水酸基、水酸基置換低級アルコキシ基、もしくは低
級アルカノイルオキシ基を有し又は有しないシクロアル
キル基であり、R2が置換基として低級アルキル基又は
シクロアルキル基を有することのあるアミノ基である上
記(5)のカルボスチリル誘導体又はその塩が提供され
る。
【0022】(18)本発明によれば、カルボスチリル
骨格の3位及び4位の炭素間結合が一重結合である上記
(6)〜(17)のカルボスチリル誘導体又はその塩が
提供される。
【0023】(19)本発明によれば、カルボスチリル
骨格の3位及び4位の炭素間結合が二重結合である上記
(6)〜(17)のカルボスチリル誘導体又はその塩が
提供される。
【0024】血栓症や動脈硬化症等の虚血性疾患は、血
流成分の変化、血流の異常及び血管壁の障害の三者の複
雑な相互作用により発症、進展する。血栓症の発生要因
は多様であるが、主に粥状動脈硬化時の様な血管内皮細
胞の障害、それに引き続いて血小板が活性化され、粘
着、凝集を起こし発症する。
【0025】また動脈硬化症は前記三者の複雑な相互作
用の結果、血管平滑筋細胞が増殖し、血管内膜が肥厚
し、発症する。
【0026】従って、血栓症、動脈硬化症の様な虚血性
疾患の治療剤及び予防剤は、抗血栓作用及び血管内膜肥
厚抑制作用の両作用を有することが極めて重要である。
【0027】本発明者らの研究によれば、上記一般式
(1)で表されるカルボスチリル誘導体又はその塩は、
インビボ(invivo)での強い抗血栓作用及び血管内膜肥
厚抑制作用の両作用を有する物質であり、血小板凝集抑
制作用、血小板塊解離作用、脳及び末梢血流増加作用等
をも有している。
【0028】本発明化合物は、上記作用の持続時間が長
い上に、心拍数増加作用、血圧降下作用等の循環作用は
非常に弱く、毒性(特に心臓に対する毒性)は低い。ま
た本発明化合物は、消化管での吸収はよく血中移行性が
優れている。
【0029】従って、本発明化合物は、血栓性疾患や動
脈硬化性疾患の治療、予防に有用である。臨床適用とし
ては、脳粥状硬化、脳梗塞、一過性脳虚血発作(TI
A)、回復型虚血性神経脱落症(RIND)等の脳疾
患、心筋梗塞、狭心症等の心疾患、バージャー病、閉塞
性動脈硬化症、間欠性跛行等の慢性動脈閉塞症、糖尿病
性神経症、糖尿病性皮膚潰瘍、糖尿病性腎症等の糖尿病
合併症、PTCA、DCAやステントのインターベンシ
ョン処置後の再狭窄防止、人工血管等の人工臓器や腎等
の移植処置後の再閉塞の防止、また手術後、人工腎透析
等の体外循環時の血栓、塞栓の発生防止等の虚血性疾患
に広く使用できる。
【0030】また本発明化合物は、Molecular Pharmaco
logy,第46巻,第399頁〜第405頁(1994
年)に記載されているホスホジエステラーゼ(以下「P
DE」と省略する)の分類方法でPED3(cyclic-G
MP inhibited cyclic-AMPPDE)に対して強い阻
害活性を有している。
【0031】このcyclic-AMP(サイクリックアデノ
シン一リン酸)は生体内における代表的なセカンドメッ
センジャーであり、このcyclic-AMP分解酵素である
PDEに対して阻害活性を示す物質はcyclic-AMPの
代謝異常によりその低下の認められる各種疾病の予防又
は治療に有用な物質となり得る。
【0032】従ってPDE阻害作用を有する本発明化合
物は、Pharmacology&Therapeutics,第51巻,第13
頁〜第33頁(1991年)、Trends in Pharmacologi
calScience,第11巻,第150頁〜第155頁(19
90年)、Trends in Pharmacological Science,第1
2巻,第19頁〜第27頁(1991年)等に記載され
ているように、上記の抗血栓作用及び血管内膜肥厚抑制
作用に基づく臨床適応を含め、脂質代謝の促進による肥
満の予防及び治療、炎症時のケミカルメディエーターの
遊離を抑制することによるアレルギー性疾患及び気管支
喘息の治療等にも有用である。
【0033】本発明によれば、上記一般式(1)で表わ
されるカルボスチリル誘導体及びその塩から選ばれる少
なくとも1種を有効成分とする抗血栓剤が提供される。
【0034】本発明によれば、上記一般式(1)で表わ
されるカルボスチリル誘導体及びその塩から選ばれる少
なくとも1種を有効成分とする血管内膜肥厚抑制剤が提
供される。
【0035】本発明によれば、上記一般式(1)で表わ
されるカルボスチリル誘導体及びその塩から選ばれる少
なくとも1種を有効成分とする血小板凝集抑制剤が提供
される。
【0036】本発明によれば、上記一般式(1)で表わ
されるカルボスチリル誘導体及びその塩から選ばれる少
なくとも1種を有効成分とする血小板塊解離剤が提供さ
れる。
【0037】本発明によれば、上記一般式(1)で表わ
されるカルボスチリル誘導体及びその塩から選ばれる少
なくとも1種を有効成分とする脳及び抹消血流増加剤が
提供される。
【0038】
【発明の実施の形態】上記一般式(1)において示され
る各基は、各々次の通りである。
【0039】低級アルキレン基としては、例えばメチレ
ン、エチレン、メチルメチレン、トリメチレン、2−メ
チルトリメチレン、2,2−ジメチルトリメチレン、テ
トラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、2−
エチルトリメチレン、1−メチルトリメチレン基等の炭
素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキレン基を挙げるこ
とができる。
【0040】低級アルカノイルオキシ基としては、例え
ばアセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキ
シ、イソブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、ter
t−ブチルカルボニルオキシ、ヘキサノイルオキシ基等
の炭素数2〜6の直鎖又は分枝鎖状のアルカノイルオキ
シ基を挙げることができる。
【0041】置換基として水酸基、低級アルコキシ基、
フェニル低級アルコキシ基もしくは低級アルカノイルオ
キシ基を有し又は有しない低級アルキル基としては、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert
−ブチル、ペンチル、ヘキシル、2−ヒドロキシエチ
ル、3−ヒドロキシプロピル、4−ヒドロキシブチル、
2−ヒドロキシブチル、3−ヒドロキシブチル、5−ヒ
ドロキシペンチル、2−ヒドロキシペンチル、3−ヒド
ロキシペンチル、4−ヒドロキシペンチル、6−ヒドロ
キシヘキシル、2−ヒドロキシヘキシル、3−ヒドロキ
シヘキシル、4−ヒドロキシヘキシル、1−メチル−2
−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、1,1
−ジメチル−2−ヒドロキシエチル、1,2−ジヒドロ
キシエチル、2,2−ジヒドロキシエチル、1,3−ジ
ヒドロキシプロピル、2,3−ジヒドロキシプロピル、
1,2,3−トリヒドロキシプロピル、1,4−ジヒド
ロキシブチル、2,4−ジヒドロキシブチル、3,4−
ジヒドロキシブチル、1,2−ジヒドロキシブチル、
2,3−ジヒドロキシブチル、1,3−ジヒドロキシブ
チル、2,2−ジヒドロキシブチル、1,2,3−トリ
ヒドロキシブチル、2,3,4−トリヒドロキシブチ
ル、2,3−ジヒドロキシペンチル、3,4−ジヒドロ
キシペンチル、3,5−ジヒドロキシペンチル、2,
3,4−トリヒドロキシペンチル、3,4,5−トリヒ
ドロキシペンチル、2,4,5−トリヒドロキシペンチ
ル、2,3−ジヒドロキシヘキシル、2,5−ジヒドロ
キシヘキシル、2,6−ジヒドロキシヘキシル、3,4
−ジヒドロキシヘキシル、4,5−ジヒドロキシヘキシ
ル、4,6−ジヒドロキシヘキシル、5,6−ジヒドロ
キシヘキシル、2,3,4−トリヒドロキシヘキシル、
3,4,5−トリヒドロキシヘキシル、4,5,6−ト
リヒドロキシヘキシル、3,4−ジアセチルオキシ−5
−ヒドロキシヘキシル、アセチルオキシメチル、2−ア
セチルオキシエチル、3−アセチルオキシプロピル、2
−アセチルオキシブチル、5−プロパノイルオキシペン
チル、6−ブチリルオキシヘキシル、ペンタノイルオキ
シメチル、4−ヘキサノイルオキシブチル、3,4,5
−トリアセチルオキシヘキシル、2,3−ジアセチルオ
キシプロピル、2−エトキシプロピル、2−ベンジルオ
キシプロピル、2−エトキシブチル、2−ベンジルオキ
シブチル、2−メトキシエチル、4−プロポキシブチ
ル、2−ブトキシブチル、3−ペンチルオキシブチル、
5−ヘキシルオキシペンチル、2−エトキシペンチル、
3−メトキシペンチル、4−エトキシペンチル、6−メ
トキシヘキシル、2−エトキシヘキシル、3−エトキシ
ヘキシル、4−メトキシヘキシル、1−メチル−2−エ
トキシエチル、1,1−ジメチル−2−エトキシエチ
ル、2,3−ジエトキシプロピル、2−(2−フェニル
エトキシ)エチル、4−(1−フェニルエトキシ)ブチ
ル、2−(3−フェニルプロポキシ)ブチル、3−(4
−フェニルブトキシ)ブチル、5−(5−フェニルペン
チルオキシ)ペンチル、2−(6−フェニルヘキシルオ
キシ)ペンチル、3−ベンジルオキシペンチル、4−ベ
ンジルオキシペンチル、6−(2−フェニルエトキシ)
ヘキシル、2−(1−フェニルエトキシ)ヘキシル、3
−ベンジルオキシヘキシル、4−ベンジルオキシヘキシ
ル、1−メチル−2−ベンジルオキシエチル、1,1−
ジメチル−2−(2−フェニルエトキシ)エチル、2,
3−ジベンジルオキシプロピル基等の置換基として水酸
基、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝鎖状アルコキシ
基、アルコキシ基部分の炭素数が1〜6の直鎖もしくは
分枝鎖状アルコキシ基であるフェニルアルコキシ基又は
炭素数2〜6の直鎖もしくは分枝鎖状アルカノイルオキ
シ基を1〜3個有し或いは有しない炭素数1〜6の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【0042】置換基として水酸基、水酸基置換低級アル
コキシ基もしくは低級アルカノイルオキシ基を有し又は
有しないシクロアルキル基としては、シクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロヘプチル、シクロオクチル、2−ヒドロキシシクロヘ
キシル、2−ヒドロキシシクロプロピル、3−ヒドロキ
シシクロブチル、2−ヒドロキシシクロペンチル、4−
ヒドロキシシクロヘプチル、3−ヒドロキシシクロオク
チル、3−ヒドロキシシクロヘキシル、4−ヒドロキシ
シクロヘキシル、2,3−ジヒドロキシシクロヘキシ
ル、3,4−ジヒドロキシシクロヘキシル、2,4,6
−トリヒドロキシシクロヘキシル、2−プロピオニルオ
キシシクロプロピル、2−ブチリルオキシシクロブチ
ル、3−ペンタノイルオキシシクロペンチル、3−アセ
チルオキシシクロヘキシル、4−アセチルオキシシクロ
ヘキシル、3−ヘキサノイルオキシシクロヘプチル、5
−アセチルオキシシクロオクチル、2,4−ジアセチル
オキシシクロヘキシル、2,3,4−トリアセチルオキ
シシクロヘキシル、2−ヒドロキシ−4−アセチルオキ
シシクロヘキシル、2−(3−ヒドロキシプロポキシ)
シクロヘキシル、2−ヒドロキシメトキシシクロプロピ
ル、3−(2−ヒドロキシエトキシ)シクロブチル、2
−(1−ヒドロキシエトキシ)ペンチル、4−(3−ヒ
ドロキシプロポキシ)シクロヘプチル、3−(4−ヒド
ロキシブトキシ)シクロオクチル、3−(5−ヒドロキ
シペンチルオキシ)シクロヘキシル、4−(2−ヒドロ
キシエトキシ)シクロヘキシル、2,3−ジヒドロキシ
メトキシシクロヘキシル、2,3,4−トリヒドロキシ
メトキシシクロヘキシル基等の置換基として水酸基、水
酸基を1〜3個有する炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝
鎖状アルコキシ基又は炭素数2〜6の直鎖もしくは分枝
鎖状アルカノイルオキシ基を1〜3個有し或いは有しな
い炭素数3〜8のシクロアルキル基を例示できる。
【0043】低級アルキル基としては、例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert−
ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数1〜6の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基を挙げることができる。
【0044】低級アルケニル基としては、例えばビニ
ル、アリル、2−ブテニル、3−ブテニル、1−メチル
アリル、2−ペンテニル、2−ヘキセニル基等の炭素数
2〜6の直鎖又は分枝鎖状アルケニル基を挙げることが
できる。
【0045】低級アルコキシ基としては、例えば、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオ
キシ基等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ
基を例示できる。
【0046】フェニル低級アルコキシ基としては、例え
ば、ベンジルオキシ、1−フェニルエトキシ、2−フェ
ニルエトキシ、3−フェニルプロポキシ、4−フェニル
ブトキシ、5−フェニルペンチルオキシ、6−フェニル
ヘキシルオキシ、1,1−ジメチル−2−フェニルエト
キシ、2−メチル−3−フェニルプロポキシ基等のアル
コキシ部分の炭素数が1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコ
キシであるフェニルアルコキシ基を例示できる。
【0047】水酸基置換低級アルキル基としては、ヒド
ロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシ
プロピル、4−ヒドロキシブチル、2−ヒドロキシブチ
ル、3−ヒドロキシブチル、5−ヒドロキシペンチル、
2−ヒドロキシペンチル、3−ヒドロキシペンチル、4
−ヒドロキシペンチル、6−ヒドロキシヘキシル、2−
ヒドロキシヘキシル、3−ヒドロキシヘキシル、4−ヒ
ドロキシヘキシル、1−メチル−2−ヒドロキシエチ
ル、2−ヒドロキシプロピル、1,1−ジメチル−2−
ヒドロキシエチル、1,2−ジヒドロキシエチル、2,
2−ジヒドロキシエチル、1,3−ジヒドロキシプロピ
ル、2,3−ジヒドロキシプロピル、1,2,3−トリ
ヒドロキシプロピル、1,4−ジヒドロキシブチル、
2,4−ジヒドロキシブチル、3,4−ジヒドロキシブ
チル、1,2−ジヒドロキシブチル、2,3−ジヒドロ
キシブチル、1,3−ジヒドロキシブチル、2,2−ジ
ヒドロキシブチル、1,2,3−トリヒドロキシブチ
ル、2,3,4−トリヒドロキシブチル、2,3−ジヒ
ドロキシペンチル、3,4−ジヒドロキシペンチル、
3,5−ジヒドロキシペンチル、2,3,4−トリヒド
ロキシペンチル、3,4,5−トリヒドロキシペンチ
ル、2,4,5−トリヒドロキシペンチル、2,3−ジ
ヒドロキシヘキシル、2,5−ジヒドロキシヘキシル、
2,6−ジヒドロキシヘキシル、3,4−ジヒドロキシ
ヘキシル、4,5−ジヒドロキシヘキシル、4,6−ジ
ヒドロキシヘキシル、5,6−ジヒドロキシヘキシル、
2,3,4−トリヒドロキシヘキシル、3,4,5−ト
リヒドロキシヘキシル、4,5,6−トリヒドロキシヘ
キシル基等の水酸基を1〜3個有する炭素数1〜6の直
鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【0048】ハロゲン原子としては、例えば弗素原子、
塩素原子、臭素原子及び沃素原子が挙げられる 置換基として低級アルキル基又はシクロアルキル基を有
することのあるアミノ基としては、例えばアミノ、メチ
ルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピ
ルアミノ、ブチルアミノ、tert−ブチルアミノ、ペ
ンチルアミノ、ヘキシルアミノ、ジメチルアミノ、ジエ
チルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジペ
ンチルアミノ、ジヘキシルアミノ、N−メチル−N−エ
チルアミノ、N−エチル−N−プロピルアミノ、N−メ
チル−N−ブチルアミノ、N−メチル−N−ヘキシルア
ミノ、シクロプロピルアミノ、シクロブチルアミノ、シ
クロペンチルアミノ、シクロヘキシルアミノ、シクロヘ
プチルアミノ、シクロオクチルアミノ、N−シクロプロ
ピル−N−シクロヘキシルアミノ、N−メチル−N−シ
クロヘキシルアミノ、N−メチル−N−シクロオクチル
アミノ基等の置換基として炭素数1〜6の直鎖もしくは
分枝鎖状アルキル基又は炭素数3〜8のシクロアルキル
基を1〜2個有することのあるアミノ基を挙げることが
できる。
【0049】本発明の化合物には、以下の化合物が包含
される。
【0050】(1)R1及びR2が置換基として水酸基、
低級アルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基もしくは
低級アルカノイルオキシ基を有し又は有しない低級アル
キル基であり、R3が水素原子であり、Aが低級アルキ
レン基である一般式(1)のカルボスチリル誘導体又は
その塩。
【0051】(2)R1が置換基として水酸基、低級ア
ルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基もしくは低級ア
ルカノイルオキシ基を有し又は有しない低級アルキル基
であり、R2が置換基として水酸基、水酸基置換低級ア
ルコキシ基もしくは低級アルカノイルオキシ基を有し又
は有しないシクロアルキル基であり、R3が水素原子で
あり、Aが低級アルキレン基である一般式(1)のカル
ボスチリル誘導体又はその塩。
【0052】(3)R1及びR2が置換基として水酸基、
低級アルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基もしくは
低級アルカノイルオキシ基を有し又は有しない低級アル
キル基であり、R3が低級アルキル基であり、Aが低級
アルキレン基である一般式(1)のカルボスチリル誘導
体又はその塩。
【0053】(4)R1が置換基として水酸基、低級ア
ルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基もしくは低級ア
ルカノイルオキシ基を有し又は有しない低級アルキル基
であり、R2が置換基として水酸基、水酸基置換低級ア
ルコキシ基もしくは低級アルカノイルオキシ基を有し又
は有しないシクロアルキル基であり、R3が低級アルキ
ル基であり、Aが低級アルキレン基である一般式(1)
のカルボスチリル誘導体又はその塩。
【0054】(5)R1及びR2が置換基として水酸基、
低級アルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基もしくは
低級アルカノイルオキシ基を有し又は有しない低級アル
キル基であり、R3が低級アルケニル基であり、Aが低
級アルキレン基である一般式(1)のカルボスチリル誘
導体又はその塩。
【0055】(6)R1が置換基として水酸基、低級ア
ルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基もしくは低級ア
ルカノイルオキシ基を有し又は有しない低級アルキル基
であり、R2が置換基として水酸基、水酸基置換低級ア
ルコキシ基もしくは低級アルカノイルオキシ基を有し又
は有しないシクロアルキル基であり、R3が低級アルケ
ニル基であり、Aが低級アルキレン基である一般式
(1)のカルボスチリル誘導体又はその塩。
【0056】(7)R1及びR2が置換基として水酸基、
水酸基置換低級アルコキシ基もしくは低級アルカノイル
オキシ基を有し又は有しないシクロアルキル基であり、
3が水素原子であり、Aが低級アルキレン基である一
般式(1)のカルボスチリル誘導体又はその塩。
【0057】(8)R1及びR2が置換基として水酸基、
水酸基置換低級アルコキシ基もしくは低級アルカノイル
オキシ基を有し又は有しないシクロアルキル基であり、
3が低級アルキル基であり、Aが低級アルキレン基で
ある一般式(1)のカルボスチリル誘導体又はその塩。
【0058】(9)R1及びR2が置換基として水酸基、
水酸基置換低級アルコキシ基もしくは低級アルカノイル
オキシ基を有し又は有しないシクロアルキル基であり、
3が低級アルケニル基であり、Aが低級アルキレン基
である一般式(1)のカルボスチリル誘導体又はその
塩。
【0059】(10)R1及びR2が置換基として水酸
基、低級アルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基もし
くは低級アルカノイルオキシ基を有し又は有しない低級
アルキル基であり、R3が水酸基置換低級アルキル基で
あり、Aが低級アルキレン基である一般式(1)のカル
ボスチリル誘導体又はその塩。
【0060】(11)R1が置換基として水酸基、低級
アルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基もしくは低級
アルカノイルオキシ基を有し又は有しない低級アルキル
基であり、R2が置換基として水酸基、水酸基置換低級
アルコキシ基もしくは低級アルカノイルオキシ基を有し
又は有しないシクロアルキル基であり、R3が水酸基置
換低級アルキル基であり、Aが低級アルキレン基である
一般式(1)のカルボスチリル誘導体又はその塩。
【0061】(12)R1及びR2が置換基として水酸
基、水酸基置換低級アルコキシ基もしくは低級アルカノ
イルオキシ基を有し又は有しないシクロアルキル基であ
り、R3が水酸基置換低級アルキル基であり、Aが低級
アルキレン基である一般式(1)のカルボスチリル誘導
体又はその塩。
【0062】(13)R1及びR2が置換基として低級ア
ルキル基又はシクロアルキル基を有することのあるアミ
ノ基であり、R3が水素原子であり、Aが低級アルキレ
ン基である一般式(1)のカルボスチリル誘導体又はそ
の塩。
【0063】(14)R1が置換基として低級アルキル
基又はシクロアルキル基を有することのあるアミノ基で
あり、R2が置換基として水酸基、低級アルコキシ基、
フェニル低級アルコキシ基もしくは低級アルカノイルオ
キシ基を有し又は有しない低級アルキル基であり、R3
が水素原子であり、Aが低級アルキレン基である一般式
(1)のカルボスチリル誘導体又はその塩。
【0064】(15)R1が置換基として低級アルキル
基又はシクロアルキル基を有することのあるアミノ基で
有り、R2が置換基として水酸基、水酸基置換低級アル
コキシ基もしくは低級アルカノイルオキシ基を有し又は
有しないシクロアルキル基であり、R3が水素原子であ
り、Aが低級アルキレン基である一般式(1)のカルボ
スチリル誘導体又はその塩。
【0065】(16)R1及びR2が置換基として低級ア
ルキル基又はシクロアルキル基を有することのあるアミ
ノ基であり、R3が低級アルキル基であり、Aが低級ア
ルキレン基である一般式(1)のカルボスチリル誘導体
又はその塩。
【0066】(17)R1が置換基として低級アルキル
基又はシクロアルキル基を有することのあるアミノ基で
あり、R2が置換基として水酸基、低級アルコキシ基、
フェニル低級アルコキシ基もしくは低級アルカノイルオ
キシ基を有し又は有しない低級アルキル基であり、R3
が低級アルキル基であり、Aが低級アルキレン基である
一般式(1)のカルボスチリル誘導体又はその塩。
【0067】(18)R1が置換基として低級アルキル
基又はシクロアルキル基を有することのあるアミノ基で
あり、R2が置換基として水酸基、水酸基置換低級アル
コキシ基もしくは低級アルカノイルオキシ基を有し又は
有しないシクロアルキル基であり、R3が低級アルキル
基であり、Aが低級アルキレン基である一般式(1)の
カルボスチリル誘導体又はその塩。
【0068】(19)R1及びR2が置換基として低級ア
ルキル基又はシクロアルキル基を有することのあるアミ
ノ基であり、R3が低級アルケニル基であり、Aが低級
アルキレン基である一般式(1)のカルボスチリル誘導
体又はその塩。
【0069】(20)R1が置換基として低級アルキル
基又はシクロアルキル基を有することのあるアミノ基で
あり、R2が置換基として水酸基、低級アルコキシ基、
フェニル低級アルコキシ基もしくは低級アルカノイルオ
キシ基を有し又は有しない低級アルキル基であり、R3
が低級アルケニル基であり、Aが低級アルキレン基であ
る一般式(1)のカルボスチリル誘導体又はその塩。
【0070】(21)R1が置換基として低級アルキル
基又はシクロアルキル基を有することのあるアミノ基で
あり、R2が置換基として水酸基、水酸基置換低級アル
コキシ基もしくは低級アルカノイルオキシ基を有し又は
有しないシクロアルキル基であり、R3が低級アルケニ
ル基であり、Aが低級アルキレン基である一般式(1)
のカルボスチリル誘導体又はその塩。
【0071】(22)R1及びR2が置換基として低級ア
ルキル基又はシクロアルキル基を有することのあるアミ
ノ基であり、R3が水酸基置換低級アルキル基であり、
Aが低級アルキレン基である一般式(1)のカルボスチ
リル誘導体又はその塩。
【0072】(23)R1が置換基として低級アルキル
基又はシクロアルキル基を有することのあるアミノ基で
あり、R2が置換基として水酸基、低級アルコキシ基、
フェニル低級アルコキシ基もしくは低級アルカノイルオ
キシ基を有し又は有しない低級アルキル基であり、R3
が水酸基置換低級アルキル基であり、Aが低級アルキレ
ン基である一般式(1)のカルボスチリル誘導体又はそ
の塩。
【0073】(24)R1が置換基として低級アルキル
基又はシクロアルキル基を有することのあるアミノ基で
あり、R2が置換基として水酸基、水酸基置換低級アル
コキシ基もしくは低級アルカノイルオキシ基を有し又は
有しないシクロアルキル基であり、R3が水酸基置換低
級アルキル基であり、Aが低級アルキレン基である一般
式(1)のカルボスチリル誘導体又はその塩。
【0074】(25)6−{3−〔3−(トランス−2
−ヒドロキシシクロヘキシル)−3−シクロプロピルウ
レイド〕プロポキシ}カルボスチリル。
【0075】(26)(S,S)−(+)−6−{3−
〔3−(2−ヒドロキシシクロヘキシル)−3−シクロ
プロピルウレイド〕プロポキシ}カルボスチリル。
【0076】(27)(R,R)−(−)−6−{3−
〔3−(2−ヒドロキシシクロヘキシル)−3−シクロ
プロピルウレイド〕プロポキシ}カルボスチリル。
【0077】(28)6−{3−〔3−(2−ヒドロキ
シシクロブチル)−3−シクロプロピルウレイド〕プロ
ポキシ}カルボスチリル。
【0078】上記一般式(1)で表わされるカルボスチ
リル誘導体は、種々の方法により製造され得るが、その
一例を示せば下記反応式で示される方法に従い容易に製
造される。
【0079】
【化3】
【0080】〔式中、R、R1、R2、R3、A並びにカ
ルボスチリル骨格の3位及び4位の炭素間結合は前記に
同じ。Xはハロゲン原子、低級アルカンスルホニルオキ
シ基、アリールスルホニルオキシ基又はアラルキルスル
ホニルオキシ基を示す。〕 一般式(2)の化合物と一般式(3)の化合物との反応
は、適当な溶媒中、好ましくは塩基性化合物を脱ハロゲ
ン化水素剤とし、通常室温〜200℃、好ましくは室温
〜150℃の温度条件下、1〜75時間程度で行なわれ
る。上記において適当な溶媒としては、例えばメタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール
類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジエ
チルエーテル、ジオキサン、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド
等を例示できる。また脱ハロゲン化水素剤として利用で
きる塩基性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナト
リウムメトキサイド、ナトリウムエトキサイド、カリウ
ムエトキサイド、水素化ナトリウム、金属カリウム、ナ
トリウムアミド等の無機塩基、ピリジン、キノリン、ト
リエチルアミン、トリプロピルアミン等の有機塩基等を
例示できる。該反応においては、反応促進剤として沃化
カリウム、沃化ナトリウム等の沃化アルカリ金属化合物
を反応系内に添加することもできる。一般式(3)の化
合物の使用量は、特に制限はないが、一般式(2)の化
合物に対して通常等モル〜5倍モル量、好ましくは等モ
ル〜3倍モル量とするのがよい。
【0081】前記反応式−1において、Xで示されるハ
ロゲン原子としては、具体的には弗素原子、塩素原子、
臭素原子、沃素原子等を例示でき、低級アルカンスルホ
ニルオキシ基としては、具体的にはメタンスルホニルオ
キシ、エタンスルホニルオキシ、イソプロパンスルホニ
ルオキシ、プロパンスルホニルオキシ、ブタンスルホニ
ルオキシ、tert−ブタンスルホニルオキシ、ペンタンス
ルホニルオキシ、ヘキサンスルホニルオキシ基等を例示
でき、アリールスルホニルオキシ基としては、具体的に
はフェニルスルホニルオキシ、4−メチルフェニルスル
ホニルオキシ、2−メチルフェニルスルホニルオキシ、
4−ニトロフェニルスルホニルオキシ、4−メトキシフ
ェニルスルホニルオキシ、3−クロルフェニルスルホニ
ルオキシ、α−ナフチルフェニルスルホニルオキシ基等
の置換もしくは未置換のアリールスルホニルオキシ基を
例示でき、またアラルキルスルホニルオキシ基として
は、具体的にはベンジルスルホニルオキシ、2−フェニ
ルエチルスルホニルオキシ、4−フェニルブチルスルホ
ニルオキシ、4−メチルベンジルスルホニルオキシ、2
−メチルベンジルスルホニルオキシ、4−ニトロベンジ
ルスルホニルオキシ、4−メトキシベンジルスルホニル
オキシ、3−クロルベンジルスルホニルオキシ、α−ナ
フチルメチルスルホニルオキシ基等の置換もしくは未置
換のアラルキルスルホニルオキシ基を例示できる。
【0082】
【化4】
【0083】〔式中、R、R1、R2、R3、A、X並び
にカルボスチリル骨格の3位及び4位の炭素間結合は前
記に同じ。X1はハロゲン原子を示す。〕 一般式(4)の化合物と一般式(5)の化合物との反応
は、無溶媒又は適当な溶媒中、塩基性化合物の存在又は
非存在下に行なわれる。該反応は、通常室温〜200
℃、好ましくは室温〜150℃にて行なわれ、一般に1
〜30時間程度にて終了する。ここで使用される溶媒と
しては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、エチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチルエーテル等
のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等の低級アルコール類、水、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミド、ピリジン、アセトン、アセトニト
リル等の極性溶媒又はこれらの混合溶媒等を例示でき
る。また使用される塩基性化合物としては、例えば炭酸
カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ナ
トリウムアミド、水素化ナトリウム、水素化カリウム等
の無機塩基、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、
ピリジン、キノリン等の有機塩基等を例示できる。該反
応の反応系内には、沃化カリウム、沃化ナトリウム等の
アルカリ金属沃化物等を添加すれば、上記反応は有利に
進行する。一般式(5)の化合物は、一般式(4)の化
合物に対して通常少なくとも等モル量、好ましくは大過
剰量使用するのがよい。一般式(5)の化合物が気体の
場合には、該反応は封管中で行ってもよい。
【0084】前記反応式−2において、X1で示される
ハロゲン原子としては、具体的には弗素原子、塩素原
子、臭素原子、沃素原子等を例示できる。
【0085】一般式(6)の化合物と一般式(7)の化
合物との反応は、前記反応式−1における一般式(2)
と一般式(3)の化合物との反応と同様の反応条件下に
行われる。
【0086】
【化5】
【0087】〔式中、R、R1、R2、A、X1並びにカ
ルボスチリル骨格の3位及び4位の炭素間結合は前記に
同じ。R3'は低級アルキル基、低級アルケニル基又は水
酸基置換低級アルキル基を示す。〕 一般式(8)の化合物と一般式(9)の化合物との反応
は、適当な溶媒中イミダゾールの存在下で行われる。こ
こで溶媒としては、前記反応式−2における化合物
(4)と化合物(5)との反応で用いられる溶媒をいず
れも使用することができる。一般式(9)の化合物の使
用量は、一般式(8)の化合物に対して通常少なくとも
等モル、好ましくは等モル〜1.5倍モル量とするのが
よい。またイミダゾールの使用量は、一般式(8)の化
合物に対して通常少なくとも等モル、好ましくは等モル
〜4倍モル量とするのがよい。該反応は、通常−20〜
150℃、好ましくは−20〜100℃付近にて行なわ
れ、一般に1〜30時間程度にて終了する。
【0088】一般式(10)の化合物と一般式(11)
の化合物との反応は、適当な溶媒中で行われる。ここで
溶媒としては、前記反応式−2における化合物(4)と
化合物(5)との反応で用いられる溶媒をいずれも使用
することができる。一般式(11)の化合物の使用量
は、一般式(10)の化合物に対して通常少なくとも等
モル、好ましくは等モル〜1.5倍モル量とするのがよ
い。該反応は、通常室温〜150℃、好ましくは室温〜
100℃付近にて行なわれ、一般に1〜15時間程度に
て終了する。
【0089】一般式(1a)の化合物と一般式(12)
の化合物との反応は、一般式(12)の化合物の使用量
を一般式(1a)の化合物に対して通常少なくとも等モ
ル、好ましくは等モル〜5倍モル量とする以外は、前記
反応式−1における一般式(2)と一般式(3)の化合
物との反応と同様の反応条件下に行われる。
【0090】
【化6】
【0091】〔式中、R、R1、R2、R3'、A及びXは
前記に同じ。X2はハロゲン原子を示す。〕 一般式(13)の化合物と一般式(9)の化合物との反
応は、前記反応式−3における一般式(8)と一般式
(9)の化合物との反応と同様の反応条件下に行われ
る。
【0092】一般式(14)の化合物と一般式(11)
の化合物との反応は、前記反応式−3における一般式
(10)と一般式(11)の化合物との反応と同様の反
応条件下に行われる。
【0093】一般式(15)の化合物と一般式(12)
の化合物との反応は、前記反応式−3における一般式
(1a)と一般式(12)の化合物との反応と同様の反
応条件下に行われる。
【0094】一般式(16)の化合物を一般式(1b)
の化合物に導く反応及び一般式(15)の化合物を一般
式(1a)の化合物に導く反応は、一般式(16)の化
合物又は一般式(15)の化合物を例えば塩酸、臭化水
素酸等のハロゲン化水素酸類、硫酸、リン酸等の無機酸
類、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金
属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
カリウム等の無機アルカリ化合物、酢酸等の有機酸等の
存在下に、通常50〜150℃、好ましくは70〜12
0℃にて、0.5〜24時間程度加熱することにより行
われる。
【0095】
【化7】
【0096】〔式中、R、R1、R2、R3、A、X1並び
にカルボスチリル骨格の3位及び4位の炭素間結合は前
記に同じ。〕 一般式(1c)の化合物と一般式(17)の化合物との
反応及び一般式(1d)の化合物と一般式(18)の化
合物との反応は、いずれも前記反応式−3における一般
式(1a)と一般式(12)の化合物との反応と同様の
反応条件下に行われる。
【0097】
【化8】
【0098】〔式中、R、R2、R3、A、X1並びにカ
ルボスチリル骨格の3位及び4位の炭素間結合は前記に
同じ。R1aは置換基として水酸基を有する低級アルキル
基を示す。R1bは置換基として低級アルカノイルオキシ
基を有する低級アルキル基を示す。R1cは置換基として
水酸基を有するシクロアルキル基を示す。R1dは置換基
として低級アルカノイルオキシ基を有するシクロアルキ
ル基を示す。R4は低級アルカノイル基を示す。〕 一般式(1e)の化合物と一般式(19)の化合物との
反応及び一般式(1g)の化合物と一般式(19)の化
合物との反応は、一般に適当な不活性溶媒中、塩基性化
合物の存在下又は非存在下にて行なわれる。用いられる
不活性溶媒としては例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエー
テル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等
のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、ブタノール、tert−ブタノール等
の低級アルコール類、酢酸、酢酸エチル、アセトン、ア
セトニトリル、ピリジン、ジメチルスルホキシド、ジメ
チルホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド又は
これらの混合溶媒等を挙げることができる。また塩基性
化合物としては例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸塩、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、水
素化ナトリウム、カリウム、ナトリウム、ナトリウムア
ミド、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート等
の金属アルコラート、ピリジン、N−エチルジイソプロ
ピルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミ
ン、1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノネン−5
(DBN)、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウ
ンデセン−7(DBU)、1,4−ジアザビシクロ
〔2.2.2〕オクタン(DABCO)等の有機塩基等
を挙げることができる。一般式(1e)の化合物と一般
式(19)の化合物との使用割合及び一般式(1g)の
化合物と一般式(19)の化合物との使用割合として
は、特に限定がなく広い範囲で適宜選択すればよいが、
前者に対して後者を少なくとも等モル量程度、好ましく
は等モル〜10倍モル量程度用いるのがよい。該反応は
通常0〜200℃程度、好ましくは0〜100℃程度に
て行なわれ、一般に30分〜75時間程度で反応は終了
する。該反応系内には沃化ナトリウム、沃化カリウム等
のアルカリ金属ハロゲン化合物、銅粉等を添加してもよ
い。
【0099】一般式(1e)の化合物と一般式(20)
の化合物との反応及び一般式(1g)の化合物と一般式
(20)の化合物との反応は、無溶媒又は適当な溶媒
中、塩基性化合物の存在下もしくは非存在下、好ましく
は存在下に行なわれる。ここで適当な溶媒としては例え
ば前述した芳香族炭化水素類、メタノール、エタノー
ル、プロパノール等の低級アルコール類、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド等の他、クロロホル
ム、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素類、アセト
ン、ピリジン等を使用できる。塩基性化合物としては例
えばトリエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノ
ピリジン、等の有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水素化ナトリウム等やこれらの混合物を例示で
きる。上記反応はまた酢酸等の溶媒中、硫酸等の鉱酸の
存在下に実施することもできる。化合物(20)の使用
割合は出発原料に対して等モル量〜大過剰量とすればよ
く、反応は通常0〜200℃程度、好ましくは0〜15
0℃程度下に、0.5〜20時間程度で完結する。
【0100】一般式(1f)の化合物及び一般式(1
h)の化合物の加水分解反応は、適当な溶媒中又は無溶
媒で、酸又は塩基性化合物の存在下に実施することがで
きる。用いられる溶媒としては、例えば水、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール
類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメ
チルエーテル等のエーテル類、酢酸、ギ酸等の脂肪酸
類、之等の混合溶媒等を挙げることができる。酸として
は例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸やギ酸、酢
酸、芳香族スルホン酸等の有機酸等を挙げることがで
き、また塩基性化合物としては、例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等の金属炭酸塩や水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化リチウム等
の金属水酸化物等を挙げることができる。該反応は、通
常室温〜200℃程度、好ましくは室温〜150℃程度
にて好適に進行し、一般に10分〜25時間程度で終了
する。
【0101】上記各反応式において出発原料として用い
られる一般式(3)の化合物、一般式(7)の化合物、
一般式(8)の化合物、一般式(11)の化合物及び一
般式(13)の化合物は、例えば下記反応式に示す方法
により容易に製造される。
【0102】
【化9】
【0103】〔式中、R、A、X1、X2並びにカルボス
チリル骨格の3位及び4位の炭素間結合は前記に同じ。
Mはナトリウム、カリウム等のアルカリ金属原子を示
す。〕 一般式(2)の化合物と一般式(21)の化合物との反
応及び一般式(2)の化合物と一般式(23)の化合物
との反応は、いずれも前記反応式−1における一般式
(2)と一般式(3)の化合物との反応と同様の反応条
件下に行われる。
【0104】一般式(24)の化合物と一般式(25)
の化合物との反応は、適当な溶媒中、通常室温〜200
℃、好ましくは室温〜150℃の温度条件下、1〜15
時間程度で行われる。ここで溶媒としては、前記反応式
−1における化合物(2)と化合物(3)との反応で用
いられる溶媒をいずれも使用することができる。一般式
(25)の化合物の使用量は、一般式(24)の化合物
に対して通常少なくとも等モル、好ましくは等モル〜2
倍モル量とするのがよい。該反応においては、反応系内
に反応促進剤として沃化ナトリウム、沃化カリウム等の
沃化アルカリ金属化合物、銅粉等を添加してもよい。
【0105】一般式(24)の化合物と一般式(26)
の化合物との反応は、いずれも前記一般式(24)と一
般式(25)の化合物との反応と同様の反応条件下に行
われる。
【0106】一般式(22)の化合物を一般式(8)の
化合物に導く反応は、適当な溶媒中で一般式(22)の
化合物にヒドラジンを反応させるか、又は一般式(2
2)の化合物を加水分解することにより行われる。
【0107】一般式(22)の化合物にヒドラジンを反
応させる際に使用される溶媒としては、例えばベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、メタ
ノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等
のアルコール類、水、酢酸、酢酸エチル、アセトン、ア
セトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルム
アミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等を挙げること
ができる。ヒドラジンの使用量は、一般式(22)の化
合物に対して通常少なくとも等モル量程度、好ましくは
等モル〜5倍モル量とするのがよい。該反応は、通常室
温〜120℃、好ましくは0〜100℃付近にて行なわ
れ、一般に0.5〜15時間程度にて終了する。
【0108】一般式(22)の化合物の加水分解は、前
記反応式−6における一般式(1f)の加水分解と同様
の反応条件下に行われる。
【0109】一般式(27)の化合物を一般式(8)の
化合物に導く反応は、例えば適当な溶媒中接触還元触媒
を用いて一般式(27)の化合物を還元することにより
行なわれる。使用される溶媒としては、例えば水、酢
酸、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のア
ルコール類、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素
類、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテ
ル類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、N,N
−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒等や
これらの混合溶媒等が挙げられる。使用される接触還元
触媒としては、例えばパラジウム、パラジウム黒、パラ
ジウム炭素、白金、酸化白金、亜クロム酸銅、ラネ−ニ
ッケル等が用いられる。触媒の使用量としては、化合物
(27)に対して0.02〜1倍重量とするのがよい。
反応は、通常−20〜100℃付近、好ましくは0〜8
0℃付近、水素圧は1〜10気圧で行なわれ、反応は
0.5〜20時間程度で終了する。
【0110】また 一般式(27)の化合物を一般式
(8)の化合物に導くには、水素化還元剤を用いる還元
法も適用される。用いられる水素化還元剤としては、例
えば水素化アルミニウムリチウム、水素化硼素リチウ
ム、水素化硼素ナトリウム、ジボラン等が挙げられ、そ
の使用量は一般式(27)の化合物に対して少なくとも
等モル、好ましくは等モル〜10倍モルの範囲である。
この還元反応は、通常適当な溶媒、例えば水、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール
類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、ジグライム等のエーテル類やこれらの
混合溶媒等を用い、通常約−60〜150℃、好ましく
は−30℃〜室温程度にて、約10分間〜5時間程度で
行なわれる。尚、還元剤として水素化アルミニウムリチ
ウムやジボランを用いた場合は、テトラヒドロフラン、
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジグライ
ム等の無水の溶媒を用いるのがよい。
【0111】
【化10】
【0112】〔式中、A、X1及びX2は前記に同じ。〕 一般式(2)の化合物を一般式(28)の化合物に導く
反応は、適当な不活性溶媒中又は無溶媒下、一般式
(2)の化合物にハロゲン化剤を作用させることにより
行い得る。用いられるハロゲン化剤としては、例えば
N,N−ジエチル−1,2,2−トリクロルビニルアミ
ド、五塩化リン、五臭化リン、オキシ塩化リン、チオニ
ルクロリド等が挙げられる。不活性溶媒としては、例え
ばジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。一般式
(2)の化合物とハロゲン化剤との使用割合は、前者に
対して後者を少なくとも等モル、通常は過剰量とするの
がよい。該反応は、通常室温〜150℃、好ましくは室
温〜120℃付近にて行なわれ、一般に1〜6時間程度
にて終了する。
【0113】一般式(28)の化合物と一般式(21)
の化合物との反応は、前記反応式−1における一般式
(2)と一般式(3)の化合物との反応と同様の反応条
件下に行われる。
【0114】一般式(29)の化合物を一般式(13)
の化合物に導く反応は、前記反応式−7における一般式
(22)の化合物を一般式(8)の化合物に導く反応と
同様の反応条件下に行われる。
【0115】
【化11】
【0116】〔式中、R1、R2及びX1は前記に同
じ。〕 一般式(11)の化合物を一般式(7)の化合物に導く
反応は、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下に一般式
(11)の化合物とカルボニル化剤とを反応させること
により実施される。ここで使用される溶媒としては例え
ばジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四
塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、p−ク
ロロベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類、酢
酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール、3−メトキシ−
1−ブタノール、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ
等のアルコール類、水、アセトン、アセトニトリル、ピ
リジン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミ
ド、ヘキサメチルリン酸トリアミド又はこれらの混合溶
媒等を挙げることができる。また塩基性化合物としては
例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム等の炭酸塩、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム等の無機塩基、ピリジン、トリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、ジメチルアニリン、1−
メチル−2−ピロリジノン(NMP)、N−メチルモル
ホリン、1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノネン
−5(DBN)、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.
0〕ウンデセン−7(DBU)、1,4−ジアザビシク
ロ〔2.2.2〕オクタン(DABCO)等の有機塩基
等を挙げることができる。使用されるカルボニル化剤と
しては、ホスゲン、ダイホスゲン、トリホスゲン等を例
示できる。カルボニル化剤の使用量は、化合物(11)
に対して、通常0.05〜10倍モル、好ましくは0.
1〜等モル量とするのがよい。該反応は、通常室温〜2
00℃、好ましくは室温〜150℃付近にて、1〜10
時間程度にて終了する。
【0117】
【化12】
【0118】〔式中、R1及びR2は前記に同じ。R1e
びR2aは、それぞれ置換基として水酸基、低級アルコキ
シ基、フェニル低級アルコキシ基もしくは低級アルカノ
イルオキシ基を有し又は有しない低級アルキル基を示
す。R5は水素原子を示す。またR1e及びR5並びにR2a
及びR5は、これらが結合する基−CO−を介して、置
換基として水酸基、水酸基置換低級アルコキシ基もしく
は低級アルカノイルオキシ基を有し又は有しないシクロ
アルキル基を形成してもよい。〕 一般式(30)の化合物と一般式(31)の化合物との
反応及び一般式(33)の化合物と一般式(34)の化
合物との反応は、無溶媒又は適当な溶媒中、脱水剤の不
存在下又は存在下に行なわれる。ここで使用される溶媒
としては、例えばメタノール、エタノール、イソプロパ
ノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、N−メチルピロリドン等の非プロト
ン性極性溶媒等が挙げられる。脱水剤としては、例えば
モレキュラーシーブ等の通常の溶媒の脱水に用いられる
乾燥剤、塩酸、硫酸、三弗化硼素等の鉱酸、p−トルエ
ンスルホン酸等の有機酸等を挙げることができる。該反
応は、通常室温〜200℃程度、好ましくは室温〜15
0℃程度にて行なわれ、一般に1〜48時間程度で終了
する。一般式(31)の化合物又は一般式(34)の化
合物の使用量は、特に限定されないが、通常一般式(3
0)の化合物又は一般式(33)の化合物に対して少な
くとも等モル量程度、好ましくは等モル〜15倍モル量
程度とするのがよい。また脱水剤の使用量は、乾燥剤の
場合には通常大過剰量、酸を用いる場合には触媒量とす
るのがよい。斯くして得られた一般式(32)の化合物
又は一般式(35)の化合物は、単離されることなく、
次の還元反応に供される。
【0119】一般式(32)の化合物又は一般式(3
5)の化合物の還元反応には、種々の方法が適用できる
が、例えば水素化還元剤を用いる還元法が好適に利用さ
れる。用いられる水素化還元剤としては、例えば水素化
アルミニウムリチウム、水素化硼素ナトリウム、ジボラ
ン等を挙げることができる。還元剤の使用量は、一般式
(32)の化合物又は一般式(35)の化合物に対して
少なくとも等モル量程度、好ましくは等モル〜10倍モ
ル量程度とするのがよい。この還元反応は、通常適当な
溶媒、例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール等の低級アルコール類、テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、ジグライム等のエーテル類等を用い、
通常−60〜50℃程度、好ましくは−30℃〜室温程
度にて、10分〜5時間程度で行なわれる。尚、還元剤
として水素化アルミニウムリチウムやジボランを使用す
る場合には、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジグライム等の無水の溶媒を使用するのがよい。
【0120】一般式(32)の化合物又は一般式(3
5)の化合物の還元は、適当な溶媒中触媒の存在下、接
触水素添加することによっても行なうことができる。使
用される溶媒としては、例えば水、酢酸、メタノール、
エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、ヘキ
サン、シクロヘキサン等の炭化水素類、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコ
ールジメチルエーテル等のエーテル類、酢酸エチル、酢
酸メチル等のエステル類、ジメチルホルムアミド等の非
プロトン性極性溶媒等が挙げられる。また使用される触
媒としては、例えばパラジウム、パラジウム−黒、パラ
ジウム−炭素、白金、酸化白金、亜クロム酸銅、ラネー
ニッケル等を挙げることができる。触媒の使用量は、一
般式(32)の化合物又は一般式(35)の化合物に対
して、一般に0.02〜1倍量程度とするのがよい。該
反応の反応温度は通常−20〜150℃付近、好ましく
は0〜100℃付近、水素圧は通常1〜10気圧程度と
するのがよく、該反応は一般に0.5〜10時間程度で
完結する。
【0121】
【化13】
【0122】〔式中、R1は前記に同じ。nは1〜6の
整数を示す。R6は低級アルキル基を示す。〕 一般式(36)の化合物と一般式(34)の化合物との
反応及び一般式(37)の化合物と一般式(34)の化
合物との反応は、適当な溶媒中で行われる。ここで溶媒
としては、前記反応式−1における化合物(2)と化合
物(3)との反応で用いられる溶媒をいずれも使用する
ことができる。一般式(34)の化合物の使用量は、一
般式(36)の化合物又は一般式(37)の化合物に対
して通常少なくとも等モル、好ましくは等モル〜1.5
倍モル量とするのがよい。該反応は、通常室温〜150
℃、好ましくは室温〜100℃付近にて行なわれ、一般
に1〜10時間程度にて終了する。
【0123】
【化14】
【0124】〔式中、R1、R2及びX1は前記に同
じ。〕 一般式(34)の化合物と一般式(18)の化合物及び
一般式(31)の化合物と一般式(17)の化合物との
反応は、各々前記反応式−2における一般式(4)と一
般式(5)の化合物との反応と同様の反応条件下に行わ
れる。
【0125】
【化15】
【0126】〔式中、R1、R2、X及びAは前記に同
じ。〕 一般式(38)の化合物と一般式(11)の化合物との
反応は、前記反応式−2における化合物(4)と化合物
(5)との反応で用いられる溶媒と同様の溶媒中、通常
室温〜100℃、好ましくは室温〜70℃付近にて行な
われ、一般に0.5〜5時間程度で該反応は完結する。
一般式(11)の化合物の使用量は、一般式(38)の
化合物に対して通常等モル〜2倍モル量、好ましくは等
モル〜1.5倍モル量とするのがよい。
【0127】一般式(11)の化合物において、R1
びR2の少なくとも一つが置換基として水酸基を有する
低級アルキル基又は置換基として水酸基を有するシクロ
アルキル基を示す化合物は、適当な溶媒中、酸の存在下
に光学活性化合物を反応させ、一般式(11)の化合物
の水酸基と光学活性体との付加体とし、得られた光学活
性な化合物を加水分解するか、又は適当な溶媒中、光学
活性化合物と反応させ光学分割することにより、光学活
性化合物(11)に誘導され得る。ここで溶媒として
は、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール
等のアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、
クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、
ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジグライム等のエーテル類、n−ヘキサン、n−ヘプタ
ン、シクロヘキサン等の飽和炭化水素類、アセトン、メ
チルエチルケトン等のケトン類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリア
ミド、アセトニトリル等の極性溶媒又はこれらの混合溶
媒等を挙げることができる。酸としては、例えば塩酸、
硫酸、臭化水素酸等の鉱酸や蟻酸、酢酸、メタンスルホ
ン酸、p−トルエンスルホン酸等の有機酸を挙げること
ができる。また光学活性化合物としては、例えば(+)
及び(−)の酒石酸、(+)及び(−)のジパラトルオ
イル酒石酸、(+)及び(−)のリンゴ酸、(+)及び
(−)のマンデル酸、D及びLのカンファー−10−ス
ルホン酸等の光学活性な酸を挙げることができる。光学
活性化合物の使用量は、原料化合物に対して通常少なく
とも等モル、好ましくは等モル〜1.5倍モル量とする
のがよい。該反応は、通常室温〜200℃、好ましくは
室温〜150℃付近にて行なわれ、一般に1〜10時間
程度にて終了する。引き続き行われる加水分解反応は、
前記反応式−6における一般式(1f)の化合物の加水
分解反応と同様の反応条件下に行われる。
【0128】光学分割は、例えば適当な溶媒中、該化合
物に光学活性化合物を反応させて一般式(11)の化合
物の塩を形成させ、これを分別結晶後、得られた光学活
性な一般式(11)の化合物の塩を脱塩化することによ
り行われる。
【0129】塩形成反応で使用される光学活性化合物
は、一般式(11)の化合物と塩を形成し得る化合物で
ある限り公知のものを広く使用でき、例えば前記光学活
性化合物を例示できる。
【0130】塩形成反応で使用される溶媒としては、通
常の光学分割において使用される溶媒がいずれも使用可
能であり、前記化合物(11)の水酸基と光学活性体と
の付加体との反応で用いた溶媒をいずれも使用可能であ
る。
【0131】一般式(11)の化合物に対する光学活性
化合物の使用量としては、通常0.3〜3倍モル程度、
好ましくは0.5倍モル〜等モル程度とするのがよい。
該反応は、通常1〜100℃程度、好ましくは室温〜5
0℃付近にて好適に進行する。
【0132】上記で形成された一般式(11)の化合物
の塩を分別結晶する方法としては、従来公知の方法をい
ずれも適用でき、斯くして光学活性な一般式(11)の
塩を単離することができる。
【0133】引続き行なわれる光学活性な一般式(1
1)の塩の脱塩化反応は、塩基性化合物の存在下、適当
な溶媒中で行われる。ここで使用される溶媒としては、
水に加えて前記塩形成反応で使用される溶媒をいずれも
使用することができる。また塩基性化合物としては、例
えば水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリ
ウム等の無機塩基等を挙げることができる。斯かる塩基
性化合物は、通常大過剰量使用するのがよい。
【0134】
【化16】
【0135】〔式中、R、R1、R2、R3、及びAは前
記に同じ。〕 一般式(1i)の化合物の還元には、通常の接触還元条
件が適用される。用いられる触媒としてはパラジウム、
パラジウム−炭素、プラチナ、ラネ−ニッケル等の金属
を例示でき、かかる金属は通常の触媒量で用いられる。
また用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタ
ノール、イソプロパノール等のアルコール類、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ヘキサン、シ
クロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、酢酸エチル等のエ
ステル類、酢酸等の脂肪酸を挙げることができる。該還
元反応は常圧及び加圧下のいずれでも行うことができる
が、通常常圧〜20kg/cm2程度、好ましくは常圧
〜10kg/cm2にて行うのがよい。また反応温度は
通常0〜150℃程度、好ましくは室温〜100℃程度
とするのがよい。
【0136】また一般式(1j)の化合物の脱水素反応
は、適当な溶媒中、酸化剤を使用して行われる。用いら
れる酸化剤としては例えば2,3−ジクロロ−5,6−
ジシアノベンゾキノン、クロラニル(2,3,5,6−
テトラクロロベンゾキノン)等のベンゾキノン類、N−
ブロモコハク酸イミド、N−クロロコハク酸イミド、臭
素等のハロゲン化剤、二酸化セレン、パラジウム−炭
素、パラジウム−黒、酸化パラジウム、ラネ−ニッケル
等の水素化触媒等を挙げることができる。ハロゲン化剤
の使用量としては特に限定されず広い範囲から適宜選択
すればよいが、通常一般式(1j)の化合物に対して通
常1〜15倍モル量程度、好ましくは1〜10倍モル量
程度使用するのがよい。また水素化触媒を用いる場合に
は、通常の触媒量とするのがよい。溶媒としては、例え
ばジオキサン、テトラヒドロフラン、メトキシエタノー
ル、ジメトキシエタン等のエーテル類、ベンゼン、トル
エン、キシレン、クメン等の芳香族炭化水素類、ジクロ
ロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素
等のハロゲン化炭化水素類、ブタノール、アミルアルコ
ール、ヘキサノール等のアルコール類、酢酸等の極性プ
ロトン溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の極性非プロト
ン溶媒類等を例示できる。該反応は通常室温〜300℃
程度、好ましくは室温〜200℃程度にて行われ、一般
に1〜40時間で完結する。
【0137】
【化17】
【0138】〔式中、R、R1、R2、X1及びAは前記
に同じ。〕 化合物(8)と化合物(39)との反応は、適当な溶媒
中、塩基性化合物の存在下に行われる。ここで溶媒及び
塩基性化合物としては、前記反応式−2における化合物
(4)と化合物(5)との反応で用いられる溶媒及び塩
基性化合物をいずれも使用することができる。該反応
は、通常−20〜50℃、好ましくは−20〜室温付近
にて行われ、一般に30分〜5時間程度にて終了する。
化合物(39)の使用量は、化合物(8)に対して通常
少なくとも等モル量、好ましくは等モル〜2倍モル量と
するのがよい。
【0139】化合物(40)と化合物(11)との反応
は、前記反応式−3における化合物(10)と化合物
(11)との反応と同様の反応条件下に行われる。
【0140】
【化18】
【0141】〔式中、R、R2、R3、R1c、A、X1
びにカルボスチリル骨格の3位及び4位の炭素間結合は
前記に同じ。R1fは置換基としてテトラヒドロピラニル
オキシ低級アルコキシ基を有するシクロアルキル基を示
す。R7はテトラヒドロピラニルオキシ低級アルキル基
を示す。R1gは水酸基置換低級アルコキシ基を有するシ
クロアルキル基を示す。〕 化合物(1k)と化合物(41)との反応は、前記反応
式−6における化合物(1g)と化合物(19)との反
応と同様の反応条件下に行われる。
【0142】化合物(42)を化合物(1l)に導く反
応は、前記反応式−6における化合物(1h)の加水分
解反応と同様の反応条件下に行われる。該反応は、酸の
存在下行うのがよい。
【0143】
【化19】
【0144】〔式中、R、R2、R3、R1c、A、R1f
1、X2及びR1gは前記に同じ。R8は低級アルコキシ
低級アルキル基を示す。〕 化合物(1k)と化合物(43)との反応は、前記反応
式−6における化合物(1g)と化合物(19)との反
応と同様の反応条件下に行われる。
【0145】化合物(44)と化合物(41)との反応
は、前記反応式−6における化合物(1g)と化合物
(19)との反応と同様の反応条件下に行われる。
【0146】化合物(45)を化合物(1l)に導く反
応は、前記反応式−16における化合物(42)を化合
物(1l)に導く反応と同様の反応条件下に行なわれ
る。
【0147】
【化20】
【0148】〔式中、R、R2、R3、R1a、X1、A並
びにカルボスチリル骨格の3位及び4位の炭素間結合は
前記に同じ。R1hは低級アルコキシ基もしくはフェニル
低級アルコキシ基を有する低級アルキル基を示す。R9
は低級アルキル基又はフェニル低級アルキル基を示
す。〕 化合物(1m)と化合物(46)との反応は、前記反応
式−6における化合物(1e)と化合物(19)との反
応と同様の反応条件下に行われる。
【0149】
【化21】
【0150】〔式中、R、R1、R2、A並びにカルボス
チリル骨格の3位及び4位の炭素間結合は前記に同じ。
3aは低級アルケニル基を示す。R3bは低級アルキル基
を示す。〕 化合物(1o)の還元反応は、前記反応式−7における
化合物(27)を化合物(8)に導くときの接触還元触
媒を用いる反応と同様の反応条件下に行われる。
【0151】
【化22】
【0152】〔式中、R1a、R2、R1h、R9及びX1
前記に同じ。〕 化合物(47)と化合物(46)との反応は前記反応式
−6における化合物(1e)と化合物(19)との反応
と同様の反応条件下に行われる。
【0153】
【化23】
【0154】〔式中、R10は置換基として低級アルキル
基又はシクロアルキル基を有するアミノ基を示す。〕 化合物(49)を化合物(1e)に導く反応は、第1
に、水等の適当な溶媒中、酸の存在下、亜硝酸ナトリウ
ムや亜硝酸カリウム等の亜硝酸金属類と反応させた後、
第2に、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下ホルムア
ミジンスルフィン酸と反応させることにより行われる。
【0155】第1の反応で使用される酸としては、例え
ば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、テトラフルオロホウ酸、
ヘキサフルオロリン酸等の酸を例示できる。該反応は、
通常室温〜150℃、好ましくは室温〜100℃付近に
て行われ、一般に1〜5時間程度で終了する。亜硝酸金
属の使用量は、化合物(49)に対して通常1〜5倍モ
ル、好ましくは1〜3倍モル程度とするのがよい。
【0156】第2の反応で使用される溶媒及び塩基性化
合物としては、前記反応式−2における化合物(4)と
化合物(5)との反応で使用した溶媒及び塩基性化合物
をいずれも使用することができる。該反応は、通常室温
〜150℃、好ましくは室温〜100℃付近にて行わ
れ、一般に1〜5時間程度にて終了する。ホルムアミジ
ンスルフィン酸の使用量は、化合物(49)に対して通
常1〜5倍モル、好ましくは1〜3倍モル程度とするの
がよい。
【0157】本発明の一般式(1)で表わされるカルボ
スチリル誘導体のうち酸性基を有する化合物は、医薬的
に許容される塩基性化合物を作用させることにより容易
に塩を形成させることができる。該塩基性化合物として
は例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カ
ルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム等を挙げ
ることができる。
【0158】斯くして得られる各々の工程での目的化合
物は、通常の分離手段により容易に単離精製することが
できる。該分離手段としては、例えば溶媒抽出法、稀釈
法、再結晶法、カラムクロマトグラフィー、プレパラテ
イブ薄層クロマトグラフィー等を例示できる。
【0159】尚本発明は幾何異性体、光学異性体も当然
に包含するものである。
【0160】一般式(1)の化合物は通常、一般的な医
薬製剤の形態で用いられる。製剤は通常使用される充填
剤、増量剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、潤
沢剤等の稀釈剤或いは賦形剤を用いて調製される。この
医薬製剤としては各種の形態が治療目的に応じて選択で
き、その代表的なものとして錠剤、丸剤、散剤、液剤、
懸濁剤、乳剤、顆粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤(液
剤、懸濁剤等)等が挙げられる。錠剤の形態に成形する
に際しては、担体としてこの分野で従来公知のものを広
く使用でき、例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブド
ウ糖、尿素、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結
晶セルロース、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プ
ロパノール、単シロップ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼ
ラチン溶液、カルボキシメチルセルロース、セラック、
メチルセルロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリ
ドン等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウ
ム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、
炭酸カルシウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸
エステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モ
ノグリセリド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステ
アリン、カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第
四級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸
収促進剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デンプ
ン、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸
等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、
ポリエチレングリコール等の滑沢剤等が例示できる。更
に錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖
衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコーティン
グ錠或いは二重錠、多層錠とすることができる。丸剤の
形態に成形するに際しては、担体としてこの分野で従来
公知のものを広く使用でき、例えばブドウ糖、乳糖、デ
ンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオリン、タルク等の
賦形剤、アラビアゴム末、トラガント末、ゼラチン、エ
タノール等の結合剤、ラミナランカンテン等の崩壊剤等
が例示できる。坐剤の形態に成形するに際しては、担体
として従来公知のものを広く使用でき、例えばポリエチ
レングリコール、カカオ脂、高級アルコール、高級アル
コールのエステル類、ゼラチン、半合成グリセライド等
を挙げられる。注射剤として調製される場合には液剤及
び懸濁剤は殺菌され、且つ血液と等張であるのが好まし
く、これら液剤、丸剤及び懸濁剤の形態に成形するのに
際しては、稀釈剤としてこの分野において慣用されてい
るものを全て使用でき、例えば水、エチルアルコール、
プロピレングリコール、エトキシ化イソステアリルアル
コール、ポリオキシ化イソステアリルアルコール、ポリ
オキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等を挙げら
れる。尚、この場合等張性の溶液を調製するに充分な量
の食塩、ブドウ糖或いはグリセリンを医薬製剤中に含有
せしめてもよく、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛
化剤等を添加してもよい。更に必要に応じて着色剤、保
存剤、香料、風味剤、甘味剤等や他の医薬品を該製剤中
に含有せしめてもよい。
【0161】本発明の医薬製剤中に含有されるべき一般
式(1)の化合物の量は特に限定されず広範囲に選択さ
れるが、通常全組成物中1〜70重量%、好ましくは1
〜30重量%である。
【0162】本発明の医薬製剤の投与方法には特に制限
はなく、各種製剤形態、患者の年齢、性別その他の条
件、疾患の程度等に応じた方法で投与される。例えば錠
剤、丸剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤
の場合には経口投与される。また注射剤の場合には単独
で或いはブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して
静脈内投与され、更には必要に応じて単独で筋肉内、皮
内、皮下もしくは腹腔内投与される。坐剤の場合には直
腸内投与される。
【0163】本発明の医薬製剤の投与量は、用法、患者
の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等により適宜選
択されるが、通常有効成分である一般式(1)の化合物
の量は1日当り体重1kg当り約0.1〜10mgとす
るのがよい。また、投与単位形態中に有効成分を1〜2
00mg含有するのがよい。
【0164】
【実施例】以下に製剤例、参考例、実施例及び薬理試験
例を掲げる。
【0165】製剤例1 錠剤の調製 配 合 量(g) 6−{3−〔3−(トランス−2−ヒドロキシシクロヘキシル)− 3−シクロプロピルウレイド〕プロポキシ}カルボスチリル 5 乳糖(日本薬局方品) 50 コーンスターチ(日本薬局方品) 25 結晶セルローズ(日本薬局方品) 25 メチルセルローズ(日本薬局方品) 1.5 ステアリン酸マグネシウム(日本薬局方品) 1 上記本発明の化合物、乳糖、コーンスターチ及び結晶セ
ルローズを充分混合し、メチルセルローズの5%水溶液
で顆粒化し、200メッシュの篩に通して注意深く乾燥
し、これを常法により打錠して錠剤1000錠を調製す
る。
【0166】製剤例2 カプセル剤の調製 配 合 量(g) 6−〔3−(1,3−ジメチル−3−シクロヘキシルウレイド) プロポキシ〕カルボスチリル 10 乳糖(日本薬局方品) 80 澱粉(日本薬局方品) 30 滑石(日本薬局方品) 5 ステアリン酸マグネシウム(日本薬局方品) 1 上記成分を細かく粉末にし、均一な混合物になるように
充分撹拌したのち所望の寸法を有する経口投与用のゼラ
チンカプセルに充填し、カプセル1000個を調製す
る。
【0167】製剤例3 注射剤の調製 配 合 量(g) 6−{3−シクロヘキシル−〔3−(2−アセチルオキシブチル) ウレイド〕プロポキシ}カルボスチリル 1 ポリエチレングリコール(分子量:4000)(日本薬局方品) 0.3 塩化ナトリウム(日本薬局方品) 0.9 ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート(日本薬局方品) 0.4 メタ重亜硫酸ナトリウム 0.1 メチル−パラベン(日本薬局方品) 0.18 プロピル−パラベン(日本薬局方品) 0.02 注射用蒸留水 100(ml ) 上記パラベン類、メタ重亜硫酸ナトリウム及び塩化ナト
リウムを撹拌しながら80℃で上記の約半量の蒸留水に
溶解し、その溶液を40℃まで冷却し、本発明の化合
物、ポリエチレングリコール及びポリオキシエチレンソ
ルビタンモノオレエートをその溶液中に溶解し、その溶
液に注射用蒸留水を加えて最終の容量に調製し、適当な
フィルターペーパーを用いて滅菌濾過することにより滅
菌して注射剤を調製する。
【0168】参考例1 6−ヒドロキシカルボスチリル300g及び炭酸カリウ
ム308gのジメチルホルムアミド懸濁液2リットルを
70〜80℃で1時間加熱撹拌する。この懸濁液にN−
(3−ブロモプロピル)フタルイミド498gを加え、
更に同温度にて9時間撹拌する。反応液を氷水にあけ、
得られた結晶を濾取し、水、エタノール、ジエチルエー
テルの順に洗浄後、乾燥し、410gの6−(3−フタ
ルイミドプロポキシ)カルボスチリルを得る。
【0169】白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.00−
2.18(2H,m),3.78(2H,t,J=6H
z),4.04(2H,t,J=6Hz),6.47
(1H,d,J=9.5Hz),6.97(1H,d
d,J=2.5Hz,J=9Hz),7.10(1H,
d,J=2.5Hz),7.18(1H,d,J=9H
z),7.78(1H,d,J=9.5Hz),7.7
5−7.94(5H,m),12.08(1H,br
s)。
【0170】参考例2 6−(3−フタルイミドプロポキシ)カルボスチリル3
00gのエタノール懸濁液3リットルにヒドラジン1水
和物46gを加え8時間加熱還流する。放冷後、析出晶
を濾取し、更に水に懸濁させ濃塩酸で酸性にし、1時間
撹拌する。不溶物を濾去し、濾液を減圧下留去する。残
渣に15%水酸化ナトリウム水溶液を加えpH=7にな
るよう中和する。析出晶を濾取し、エタノール、ジエチ
ルエーテルの順に洗浄後、乾燥し、140gの6−(3
−アミノプロポキシ)カルボスチリルを得る。
【0171】白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.02−
2.20(2H,m),2.88−3.08(2H,
m),4.12(2H,t,J=6Hz),6.52
(1H,d,J=9.5Hz),7.18(1H,d
d,J=2.5Hz,J=9Hz),7.24(1H,
d,J=2.5Hz),7.32(1H,d,J=9H
z),7.86(1H,d,J=9.5Hz),8.1
5−8.50(3H,m),11.75(1H,br
s)。
【0172】参考例3 N,N−カルボニルジイミダゾール139g及びイミダ
ゾール117gのジメチルスルホキシド2リットル溶液
に氷冷撹拌下、6−(3−アミノプロポキシ)カルボス
チリル200gを少量ずつ添加する。更に室温にて1日
撹拌後、氷水にあけ析出晶を濾取、水洗する。エタノー
ル、ジエチルエーテルの順に洗浄後、乾燥し、162g
の6−〔3−(1−イミダゾリル)カルボニルアミノプ
ロポキシ〕カルボスチリルを得る。
【0173】白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;1.94−
2.18(2H,m),3.30−3.63(2H,
m),4.09(2H,t,J=6Hz),6.51
(1H,d,J=9.5Hz),7.05(1H,
s),7.15(1H,dd,J=2.5Hz,J=9
Hz),7.22(1H,d,J=2.5Hz),7.
26(1H,d,J=9Hz),7.69(1H,
s),7.84(1H,d,J=9.5Hz),8.2
6(1H,s),8.61(1H,t,J=5.3H
z),11.68(1H,brs)。
【0174】参考例4 6−ヒドロキシカルボスチリル50g及び1−ブロモ−
3−クロロプロパン120mlのジメチルホルムアミド
懸濁液600mlに室温で炭酸カリウム65gを少量ず
つ添加する。室温で3日間撹拌後、不溶物を濾取し、n
−ヘキサンにて洗浄する。得られた結晶を更に水、アセ
トン、n−ヘキサンの順に洗浄後、乾燥して50.7g
の6−(3−クロロプロポキシ)カルボスチリルを得
る。
【0175】白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.19(2
H,quint,J=6Hz),3.81(2H,t,
J=6Hz),4.11(2H,t,J=6Hz),
6.50(1H,d,J=9.5Hz),7.16(1
H,dd,J=2.5Hz,J=9Hz),7.20−
7.32(2H,m),7.84(1H,d,J=9.
5Hz),11.60(1H,br)。
【0176】参考例5 6−(3−クロロプロポキシ)カルボスチリル170g
及び沃化ナトリウム129.5gのジメチルホルムアミ
ド1.7リットル懸濁液を60℃で1時間加熱撹拌す
る。更にフタルイミドカリウム159gを加え、70℃
で6時間加熱撹拌する。放冷後、析出晶を濾取、水洗す
る。エタノール、ジエチルエーテルの順に洗浄後、乾燥
し、222gの6−(3−フタルイミドプロポキシ)カ
ルボスチリルを得る。
【0177】白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.00−
2.18(2H,m),3.78(2H,t,J=6H
z),4.04(2H,t,J=6Hz),6.47
(1H,d,J=9.5Hz),6.97(1H,d
d,J=2.5Hz,J=9Hz),7.10(1H,
d,J=2.5Hz),7.18(1H,d,J=9H
z),7.78(1H,d,J=9.5Hz),7.7
5−7.94(5H,m),12.08(1H,br
s)。
【0178】参考例6 6−(3−クロロプロポキシ)カルボスチリル100g
及びアジ化ナトリウム33gのジメチルホルムアミド懸
濁液を80℃で4時間加熱還流する。放冷後、氷水を加
え析出晶を濾取し、ジエチルエーテルで洗浄し、乾燥し
て100gの6−(3−アジドプロポキシ)カルボスチ
リルを得る。
【0179】白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.00(2
H,quint,J=6Hz),3.53(2H,t,
J=6Hz),4.06(2H,t,J=6Hz),
6.51(1H,d,J=9.5Hz),7.12−
7.35(3H,m),7.85(1H,d,J=9.
5Hz),11.69(1H,s)。
【0180】参考例7 6−(3−アジドプロポキシ)カルボスチリル17.5
gの酢酸エチル−メタノール(1:1)混液700ml
の溶液に10%パラジウム−炭素1.75gを加え室
温、常圧にて水素を吸収させる。反応終了後、触媒を濾
去し溶媒を留去する。得られた残渣をジエチルエーテル
で洗浄し、14.7gの 6−(3−アミノプロポキ
シ)カルボスチリルを得る。
【0181】白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.02−
2.20(2H,m),2.88−3.08(2H,
m),4.12(2H,t,J=6Hz),6.52
(1H,d,J=9.5Hz),7.18(1H,d
d,J=2.5Hz,J=9Hz),7.24(1H,
d,J=2.5Hz),7.32(1H,d,J=9H
z),7.86(1H,d,J=9.5Hz),8.1
5−8.50(3H,m),11.75(1H,br
s)。
【0182】参考例8 水素化アルミニウムリチウム1.9gの無水テトラヒド
ロフラン50ml懸濁液に6−(3−アジドプロポキ
シ)カルボスチリル10gの無水テトラヒドロフラン2
00mlの溶液を氷冷撹拌下、滴下する。室温にて更に
1時間撹拌後、水2ml、15%水酸化ナトリウム2m
l及び水6mlを滴下する。不溶物を濾取し、クロロホ
ルム−メタノール(8:1)混合溶媒に加え加熱し、冷
後不溶物を濾去する。溶媒を留去し残渣にジエチルエー
テルを加え、析出晶を濾取し、6.2gの6−(3−ア
ミノプロポキシ)カルボスチリルを得る。
【0183】白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.02−
2.20(2H,m),2.88−3.08(2H,
m),4.12(2H,t,J=6Hz),6.52
(1H,d,J=9.5Hz),7.18(1H,d
d,J=2.5Hz,J=9Hz),7.24(1H,
d,J=2.5Hz),7.32(1H,d,J=9H
z),7.86(1H,d,J=9.5Hz),8.1
5−8.50(3H,m),11.75(1H,br
s)。
【0184】参考例9 シクロヘキセンオキシド143ml及びシクロプロピル
アミン82gをメタノール1リットルに溶解し5時間加
熱還流する。溶媒を留去し、減圧蒸留し、126gのト
ランス−N−(2−ヒドロキシシクロヘキシル)−N−
シクロプロピルアミンを得る。
【0185】無色油状、沸点:79−85℃/0.5−
1mmHg。
【0186】参考例10 トランス−N−(2−ヒドロキシシクロヘキシル)−N
−シクロプロピルアミン150g、(R)−(−)−マ
ンデル酸147g及びp−トルエンスルホン酸・1水和
物203gをトルエン1.5リットルに加えディーンス
タークの装置で水を抜きながら6時間、加熱還流する。
氷水にあけ炭酸水素ナトリウム98gの水溶液を加え1
時間撹拌する。トルエン層を分取し、水層を酢酸エチル
で抽出する。有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液;n−ヘキ
サン/酢酸エチル=3/1〜1/1)で精製後、酢酸エ
チル−n−ヘキサン(1:1)で結晶化させる。酢酸エ
チル−n−ヘキサン(1:2)で再結晶し、25gの
(S,S)−(+)−トランス−N−(2−マンデロイ
ルオキシシクロヘキシル)−N−シクロプロピルアミン
を得る。
【0187】無色柱状、融点:102−103℃。
【0188】参考例11 (S)−(+)−マンデル酸を用い、参考例10と同様
にして、(R,R)−(−)−トランス−N−(2−マ
ンデロイルオキシシクロヘキシル)−N−シクロプロピ
ルアミンを得る。
【0189】酢酸エチル−n−ヘキサン(1:2)で再
結晶、無色柱状、融点:101−103℃。
【0190】参考例12 (S,S)−(+)−トランス−N−(2−マンデロイ
ルオキシシクロヘキシル)−N−シクロプロピルアミン
25gのメタノール250ml懸濁液に3N−水酸化カ
リウム溶液87mlを室温撹拌下、滴下する。更に室温
下、0.5時間撹拌後、塩化メチレンで抽出し、水、飽
和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥す
る。溶媒を留去し、減圧蒸留して13.4gの(S,
S)−(+)−トランス−N−(2−ヒドロキシシクロ
ヘキシル)−N−シクロプロピルアミンを得る。
【0191】無色油状、沸点:87℃/2mmHg 放置後、結晶化。無色柱状、融点:43−45℃ 〔α〕D 24=+59.4°(c=1.0,メタノー
ル)。
【0192】参考例13 (R,R)−(−)−N−トランス−(2−マンデロイ
ルオキシシクロヘキシル)−N−シクロプロピルアミン
を用い、参考例12と同様にして、(R,R)−(−)
−トランス−N−(2−ヒドロキシシクロヘキシル)−
N−シクロプロピルアミンを得る。
【0193】無色油状、沸点:79℃/0.5mmHg 放置後、結晶化。無色柱状、mp43−45℃ 〔α〕D 24=−59.3°(c=1.0,メタノー
ル)。
【0194】参考例14 1−アミノ−2−ブタノール120gを室温下、シクロ
ヘキサノン132gのエタノール600mlの溶液に滴
下し、同温度で1日撹拌する。その後、反応液に10%
パラジウム−炭素6gを加え60℃、4気圧の水素圧で
接触水素添加する。触媒を濾去し、溶媒を留去し、減圧
蒸留して223gのN−(2−ヒドロキシブチル)−N
−シクロヘキシルアミンを得る。
【0195】無色油状、沸点:87−93℃/0.35
−0.4mmHg。
【0196】参考例15 1,2−エポキシブタン72.2g、シクロヘキシルア
ミン99.2gをメタノール200mlに加え6時間加
熱還流する。溶媒を留去し減圧蒸留して105gのN−
(2−ヒドロキシブチル)−N−シクロヘキシルアミン
を得る。
【0197】無色油状、沸点:87−93℃/0.35
−0.4mmHg。
【0198】参考例16 トリフォスゲン4.35gのトルエン70ml溶液にN
−メチルシクロヘキシルアミン5gを滴下する。次いで
ピリジン3.5gを滴下し4時間加熱還流する。放冷
後、有機層を0.1N塩酸で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥、溶媒留去し、7.62gのN−メチル−N
−シクロヘキシルアミノカルボニルクロリドを得る。
【0199】無色油状1 H−NMR(CDCl3)δppm;1.00−2.0
0(10H,m),2.9及び3.1(全3H,各
s),4.10(1H,m)。
【0200】参考例17 6−(3−クロロプロポキシ)カルボスチリル20gを
40%メチルアミンのメタノール溶液200mlに加え
封管中、100℃で終夜加熱撹拌する。溶媒を留去後、
析出晶をクロロホルム/ジエチルエーテルの混合溶媒で
洗浄する。次いでシリカゲルクロマトグラフィー(溶出
液;塩化メチレン/メタノール/アンモニア水=50/
10/1)で精製し、クロロホルム−ジエチルエーテル
より再結晶し、15.4gの6−(3−メチルアミノプ
ロポキシ)カルボスチリルを得る。
【0201】融点:160−161.5℃。
【0202】参考例18 適当な出発原料を用い、参考例17と同様にして以下の
化合物を得る。
【0203】(1)6−(3−エチルアミノプロポキ
シ)カルボスチリル1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;1.08(3
H,t,J=7Hz),1.85−2.05(2H,
m),2.72(2H,q,J=7Hz),2.83
(2H,t,J=7Hz),4.06(2H,t,J=
6Hz),6.50(1H,d,J=9.5Hz),
7.10−7.30(3H,m),7.84(1H,
d,J=9.5Hz)。
【0204】(2)6−(3−アリルアミノプロポキ
シ)カルボスチリル1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.15−
2.20(2H,m),3.03(2H,t,J=7H
z),3.59(2H,d,J=6.5Hz),4.0
9(2H,t,J=6Hz),5.35−5.55(2
H,m),5.85−6.05(1H,m),6.50
(1H,d,J=9.5Hz),7.10−7.30
(3H,m),7.84(1H,d,J=9.5H
z)。
【0205】参考例19 6−ヒドロキシカルボスチリル100gをオキシ塩化リ
ン500mlに加え5時間、加熱還流する。オキシ塩化
リンを留去後、残渣を少量のクロロホルムに溶解させ氷
水にあける。析出晶を濾取、水、アセトン、n−ヘキサ
ンの順に洗浄後、乾燥し、127gの2−クロロ−6−
ヒドロキシキノリン・塩酸塩を得る。
【0206】1H−NMR(DMSO−d6)δppm;
7.50−7.70(2H,m),7.78(1H,
s),7.95(1H,d,J=9Hz),8.43
(1H,d,J=9Hz)。
【0207】参考例20 2−クロロ−6−ヒドロキシカルボスチリル・塩酸塩2
5g及び炭酸カリウム38gのジメチルホルムアミド懸
濁液600mlにN−(3−ブロモプロピル)フタルイ
ミド31gを加え60℃にて終夜、加熱撹拌する。反応
液を氷水にあけ、得られた結晶を濾取し、水で洗浄、乾
燥し、19.3gの2−クロロ−6−(3−フタルイミ
ドプロポキシ)キノリンを得る。
【0208】白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.10−
2.25(2H,m),3.82(2H,t,J=7H
z),4.17(2H,t,J=6Hz),7.23
(1H,dd,J=3Hz,J=9Hz),7.36
(1H,d,J=3Hz),7.52(1H,d,J=
9Hz),7.80(1H,d,J=9Hz),7.8
5(4H,s),8.28(1H,d,J=9Hz)。
【0209】参考例21 2−クロロ−6−(3−フタルイミドプロポキシ)キノ
リン9.0gのエタノール懸濁液250mlにヒドラジ
ン・1水和物1.4gを加え7.5時間加熱還流する。
放冷後、析出晶を濾取し、更に水に懸濁させ濃塩酸で酸
性にし、1時間撹拌する。10%水酸化カリウム水溶液
を加えてアルカリ性にし、クロロホルムで抽出する。無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、4.7g
の2−クロロ−6−(3−アミノプロポキシ)キノリン
を得る。
【0210】白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;1.80−
1.95(2H,m),2.74(2H,t,J=7H
z),4.18(2H,t,J=6Hz),7.40−
7.50(2H,m),7.53(1H,d,J=9H
z),7.86(1H,d,J=10Hz),8.32
(1H,d,J=9Hz)。
【0211】参考例22 N,N−カルボニルジイミダゾール2.1g及びイミダ
ゾール1.9gのクロロホルム100ml溶液に−10
℃で撹拌下、2−クロロ−6−(3−アミノプロポキ
シ)キノリン3gのクロロホルム溶液40mlを滴下す
る。更に室温にて終夜撹拌後、N−(2−ヒドロキシブ
チル)−N−シクロヘキシルアミン2.9gのクロロホ
ルム溶液10mlを滴下する。室温で1時間撹拌後、
2.5時間加熱還流する。放冷後、クロロホルム溶液を
希塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水の順に洗浄後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、6.8
gの2−クロロ−6−{3−〔3−シクロヘキシル−3
−(2−ヒドロキシブチル)ウレイド〕プロポキシ}キ
ノリンを得る。
【0212】無色油状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;0.87(3
H,t,J=7Hz),0.90−1.85(11H,
m),1.90−2.05(2H,m),2.95−
3.10(2H,m),3.15−3.30(2H,
m),3.35−3.50(1H,m),3.65−
3.90(1H,m),4.14(2H,t,J=6H
z),5.49(1H,d,J=4Hz),6.76
(1H,t,J=5Hz),7.40−7.60(3
H,m),7.86(1H,d,J=9Hz),8.3
1(1H,d,J=9Hz)。
【0213】参考例23 2−クロロ−6−{3−〔3−シクロヘキシル−3−
(2−ヒドロキシブチル)ウレイド〕プロポキシ}キノ
リン6.3g、4−ジメチルアミノピリジン0.1g及
びトリエチルアミン2.3gの塩化メチレン80ml溶
液に無水酢酸1.8gを室温撹拌下、滴下する。塩化メ
チレン層を希塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水の順
に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留
去し、6.7gの2−クロロ−6−{3−〔3−シクロ
ヘキシル−3−(2−アセチルオキシブチル)ウレイ
ド〕プロポキシ}キノリンを得る。
【0214】無色油状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;0.81(3
H,t,J=7Hz),0.90−1.80(11H,
m),1.80−2.10(5H,m),3.00−
3.45(4H,m),3.55−3.70(1H,
m),4.13(2H,t,J=6Hz),4.35−
5.00(1H,m),6.34(1H,t,J=5H
z),7.35−7.60(3H,m),7.86(1
H,d,J=9Hz),8.31(1H,d,J=9H
z)。
【0215】参考例24 2−クロロ−6−{3−〔3−シクロヘキシル−3−
(2−アセチルオキシブチル)ウレイド〕プロポキシ}
キノリン5.6gのジメチルホルムアミド80ml溶液
に水素化ナトリウム(60%油状)0.8gを加え室温
で1時間撹拌する。反応液に沃化メチル1.1mlを加
え1時間撹拌する。更に沃化メチル2mlを加え室温で
終夜撹拌する。反応液を水にあけ酢酸エチルで抽出す
る。酢酸エチル層を水で洗浄し、無水酢酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶出液;塩化メチレン/メタノ
ール=20/1)で精製し、5.5gの2−クロロ−6
−{3−〔1−メチル−3−シクロヘキシル−3−(2
−アセチルオキシブチル)ウレイド〕プロポキシ}キノ
リンを得る。
【0216】無色油状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;0.79(3
H,t,J=7Hz),0.90−1.85(11H,
m),1.90−2.15(5H,m),2.75(3
H,s),2.80−2.95(1H,m),3.00
−3.45(5H,m),4.10(2H,t,J=6
Hz),4.65−4.80(1H,m),7.35−
7.50(2H,m),7.53(1H,d,J=9H
z),7.87(1H,d,J=10Hz),8.30
(1H,d,J=9Hz)。
【0217】参考例25 (R,R)−(−)−6−{3−〔3−(トランス−2
−ヒドロキシシクロヘキシル)−3−シクロプロピルウ
レイド〕プロポキシ}カルボスチリル10g及びN,N
−ジイソプロピルエチルアミン5.66gを無水塩化メ
チレン200mlに溶解させ、氷冷撹拌下にクロロメチ
ルメチルエーテル2.28gを滴下し、氷冷下1時間撹
拌後、室温で終夜撹拌する。反応液に飽和重曹水を加え
塩化メチレンで抽出し、水、飽和食塩水の順に洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下、溶媒を留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液;塩
化メチレン:メタノール=50:1〜30:1)で精製
後、ジエチルエーテル−石油エーテルで再結晶し、3.
33gの(R,R)−(−)−6−{3−〔3−(トラ
ンス−2−ヒドロキシシクロヘキシル)−3−シクロプ
ロピルウレイド〕プロポキシ}−2−メトキシメトキシ
キノリンを得る。
【0218】白色粉末状1 H−NMR(CDCl3)δppm;0.67−1.0
2(4H,m),1.15−1.40(3H,m),
1.63−1.95(4H,m),2.05−2.18
(3H,m),2.35−2.48(1H,m),3.
39−3.83(8H,m,3.58(s)),4.1
4(2H,t,J=6Hz),5.66(2H,s),
5.71(1H,t,J=5.5Hz),6.94(1
H,d,J=8.5Hz),7.06(1H,d,J=
2.5Hz),7.25(1H,dd,J=2.5H
z,J=9Hz),7.75(1H,d,J=9H
z),7.94(1H,d,J=8.5Hz)。
【0219】参考例26 (R,R)−(−)−6−{3−〔3−(トランス−2
−ヒドロキシシクロヘキシル)−3−シクロプロピルウ
レイド〕プロポキシ}−2−メトキシメトキシキノリン
2.83gをジメチルホルムアミド50mlに溶解さ
せ、アルゴン気流下、室温にて水素化ナトリウム(60
%油性)0.383gを加え、室温にて1時間撹拌す
る。1−ブロモ−3−(2−テトラヒドロピラニルオキ
シ)プロパン2.14gを加え70〜90℃で5時間加
熱撹拌する。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、
水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥する。減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶出液;酢酸エチル:n−ヘキサン=
1:1)で精製し、1.7gの(R,R)−(−)−6
−{3−〔3−{トランス−2−〔3−(2−テトラヒ
ドロピラニルオキシ)プロポキシ〕シクロヘキシル}−
3−シクロプロピルウレイド〕プロポキシ}−2−メト
キシメトキシキノリンを得る 白色粉末状1 H−NMR(CDCl3)δppm;0.60−0.9
5(4H,m),1.02−1.47(2H,m),
1.48−1.95(14H,m),2.02−2.2
6(5H,m),2.49−2.63(1H,m),
3.33−3.52(6H,m),3.58(3H,
s),3.60−3.96(4H,m),4.12(2
H,t,J=5Hz),4.45−4.60(1H,
m),5.52−5.60(1H,m),5.67(2
H,s),6.93(1H,d,J=9Hz),7.0
6(1H,d,J=2.5Hz),7.20−7.45
(1H,m),7.74(1H,d,J=9Hz),
7.94(1H,d,J=9Hz)。
【0220】参考例27 適当な出発原料を用い、参考例9と同様にして以下の化
合物を得る。
【0221】(1)トランス−N−(2−ヒドロキシシ
クロヘキシル)−N−シクロヘプチルアミン 無色油状、沸点:140℃/3mmHg。
【0222】(2)トランス−N−(2−ヒドロキシシ
クロヘキシル)−N−シクロオクチルアミン 白色結晶、沸点:150℃/1mmHg。
【0223】参考例28 N−シクロヘキシル−N−(2−ヒドロキシブチル)ア
ミン3gをテトラヒドロフラン50mlに溶かし、氷冷
下撹拌しながら水素化ナトリウム(60%油性)2.1
gを加え、60℃にて1時間加熱撹拌する。次にこの溶
液を氷冷下撹拌しながら臭化エチル2.1gを滴下し、
室温にて4時間撹拌後、反応液に水を加えて酢酸エチル
で抽出する。溶媒留去後、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(溶出液;塩化メチレン:メタノール:
アンモニア水=100:10:1)にて精製し、1.6
gのN−シクロヘキシル−N−(2−エトキシブチル)
アミンを得る。
【0224】無色油状1 H−NMR(CDCl3)δppm;0.90(3H,
t,J=7.5Hz),1.00−1.95(11H,
m),2.35−2.45(1H,m),2.54−
2.74(2H,m),3.30−3.40(1H,
m),3.44−3.64(2H,m)。
【0225】参考例29 N−シクロヘキシル−N−(2−ヒドロキシブチル)ア
ミン49.2gのテトラヒドロフラン1リットル溶液
に、0℃撹拌下、水素化ナトリウム(60%油性)1
2.6gを少しづつ加える。同温で1時間撹拌後、ベン
ジルブロマイド34mlを滴下する。室温で終夜撹拌
後、溶媒を減圧留去し、残渣に水を加え、クロロホルム
で抽出する。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
出液;塩化メチレン:メタノール:アンモニア水=20
0:10:1)で精製し、25.8gのN−シクロヘキ
シル−N−(2−ベンジルオキシブチル)アミンを得
る。
【0226】無色油状1 H−NMR(CDCl3)δppm;0.94(3H,
t,J=7.5Hz),1.00−1.35(5H,
m),1.50−1.95(8H,m),2.30−
2.45(1H,m),2.60−2.80(2H,
m),3.45−3.60(1H,m),4.50(1
H,d,J=11.5Hz),4.61(1H,d,J
=11.5Hz),7.25−7.40(5H,m)。
【0227】参考例30 6−(3−クロロプロポキシ)カルボスチリル5g及び
1−アミノ−2−プロパノール24mlを2−プロパノ
ール100mlに溶かし、4時間加熱還流する。放冷
後、析出晶を濾取し、エタノールで洗浄、乾燥して3.
1gの6−〔3−(2−ヒドロキシプロピル)アミノプ
ロポキシ〕カルボスチリルを得る。
【0228】白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;1.03(3
H,d,J=6Hz),1.80−1.90(2H,
m),2.40−2.43(2H,m),2.66(2
H,t,J=6.5Hz),3.60−3.70(1
H,m),4.04(2H,t,J=6.5Hz),
4.40−4.50(1H,m),6.48(1H,
d,J=9.5Hz),7.11−7.25(3H,
m),7.83(1H,d,J=9.5Hz)。
【0229】参考例31 6−(3−クロロプロポキシ)カルボスチリル5.0g
及び3−アミノ−1−プロパノール24mlのメタノー
ル25ml溶液をオートクレーブ中、100℃で4時間
加熱する。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(溶出液;塩化メチレン:メタノー
ル:アンモニア水=70:10:1)で精製し、メタノ
ール−ジエチルエーテルより再結晶し、4.4gの6−
〔3−(3−ヒドロキシプロピル)アミノプロポキシ〕
カルボスチリルを得る。
【0230】白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;1.45−
1.65(2H,m),1.80−1.95(2H,
m),2.40−2.75(4H,m),3.46(2
H,t,J=6.5Hz),4.03(2H,t,J=
6.5Hz),6.48(1H,d,J=9.5H
z),7.10−7.30(3H,m),7.83(1
H,d,J=9.5Hz)。
【0231】参考例32 適当な出発原料を用い、参考例1と同様にして以下の化
合物を得る。
【0232】(1)6−(3−フタルイミドプロポキ
シ)−8−フルオロ−3,4−ジヒドロカルボスチリル 淡黄色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.03(2
H,quint,J=6Hz),2.36−2.48
(2H,m),2.70−2.90(2H,m),3.
75(2H,t,J=6.5Hz),3.97(2H,
t,J=6Hz),6.47(1H,brs)。6.5
5(1H,dd,J=2.5Hz,J=12Hz),
7.74−7.96(4H,m),9.91(1H,
s)。
【0233】(2)6−(3−フタルイミドプロポキ
シ)−8−メトキシカルボスチリル 淡黄色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.02−
2.15(2H,m),3.77(3H,s),3.7
9(2H,t,J=6.5Hz),4.04(2H,
t,J=5.5Hz),6.48(1H,s),6.4
9(1H,d,J=9.5Hz),6.69(1H,
d,J=2Hz),7.77(1H,d,J=9.5H
z),7.85−7.86(5H,m),7.80−
7.90(5H,m)。
【0234】参考例33 適当な出発原料を用い、参考例3と同様にして以下の化
合物を得る。
【0235】(1)6−〔3−(1−イミダゾリル)カ
ルボニルアミノプロポキシ〕−8−フルオロ−3,4−
ジヒドロカルボスチリル 白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;1.97(2
H,quint,J=6Hz),2.38−2.51
(2H,m),2.82−2.96(2H,m),3.
33−3.47(2H,m),4.01(2H,t,J
=6.5Hz),6.66(1H,s),6.71(1
H,dd,J=2.5Hz,J=12.5Hz),7.
03(1H,s),7.66(1H,s),8.23
(1H,s),8.57(1H,t,J=5.5H
z),9.93(1H,s)。
【0236】(2)6−〔3−(1−イミダゾリル)カ
ルボニルアミノプロポキシ〕−8−フルオロカルボスチ
リル 白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.02(2
H,quint,J=6Hz),3.35−3.50
(2H,m),4.10(2H,t,J=6Hz),
6.57(1H,d,J=9.5Hz),7.03(1
H,s),7.05−7.23(2H,m),7.67
(1H,s),7.85(1H,dd,J=1.5H
z,J=10Hz),8.24(1H,s),8.59
(1H,t,J=5.5Hz),11.67(1H,b
rs)。
【0237】(3)6−〔3−(1−イミダゾリル)カ
ルボニルアミノプロポキシ〕−8−メトキシカルボスチ
リル 淡黄色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.00−
2.05(2H,m),3.44(2H,t,J=6H
z),3.86(3H,s),4.08(2H,t,J
=6Hz),6.50(1H,d,J=9.5Hz),
6.74(1H,d,J=2Hz),6.78(1H,
d,J=2Hz),7.03(1H,s),7.67
(1H,s),7.79(1H,d,J=9.5H
z),8.24(1H,s),8.55−8.65(1
H,m)。
【0238】(4)6−〔2−(1−イミダゾリル)カ
ルボニルアミノエトキシ〕カルボスチリル 白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;3.60−
3.72(2H,m),4.17(2H,t,J=5.
5Hz),6.49(1H,d,J=9.5Hz),
7.03(1H,s),7.15−7.30(3H,
m),7.69(1H,s),7.82(1H,d,J
=9.5Hz),8.26(1H,s),8.70−
8.85(1H,m)。
【0239】(5)6−〔4−(1−イミダゾリル)カ
ルボニルアミノブトキシ〕カルボスチリル 白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;1.62−
1.90(4H,m),3.25−3.50(2H,
m),4.03(2H,t,J=6Hz),6.49
(1H,d,J=9.5Hz),7.03(1H,
s),7.10−7.30(3H,m),7.67(1
H,s),7.82(1H,d,J=9.5Hz),
8.24(1H,s),8.48−8.60(1H,
m),11.65(1H,brs)。
【0240】参考例34 適当な出発原料を用い、参考例4と同様にして以下の化
合物を得る。
【0241】(1)6−(3−クロロプロポキシ)−8
−フルオロ−3,4−ジヒドロカルボスチリル 白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.22(2
H,quint,J=6Hz),2.64(2H,t,
J=6Hz),2.97(2H,t,J=6Hz),
3.73(2H,t,J=6Hz),4.06(2H,
t,J=6Hz),6.50−6.63(2H,m),
7.67(1H,brs)。
【0242】(2)6−(3−クロロプロポキシ)−8
−フルオロカルボスチリル 淡黄色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.18(2
H,quint,J=6Hz),3.80(2H,t,
J=6.5Hz),4.13(2H,t,J=6H
z),6.57(1H,d,J=10Hz),7.07
−7.23(2H,m),7.87(1H,dd,J=
1.5Hz,J=10Hz),11.65(1H,br
s)。
【0243】(3)6−(2−ブロモエトキシ)カルボ
スチリル 白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;3.81(2
H,t,J=5.5Hz),4.34(2H,t,J=
5.5Hz),6.49(1H,d,J=9.5H
z),7.14−7.30(3H,m),7.82(1
H,d,J=9.5Hz),11.61(1H,br
s)。
【0244】(4)6−(4−ブロモエトキシ)カルボ
スチリル 白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;1.75−
2.10(4H,m),3.62(2H,t,J=6.
5Hz),4.02(2H,t,J=6Hz),6.5
0(1H,d,J=9.5Hz),7.10−7.35
(3H,m),7.84(1H,d,J=9.5H
z),11.66(1H,brs)。
【0245】参考例35 適当な出発原料を用い、参考例5と同様にして以下の化
合物を得る。
【0246】(1)6−(3−フタルイミドプロポキ
シ)−8−フルオロカルボスチリル 淡黄色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.08(2
H,quint,J=6Hz),3.78(2H,t,
J=6.5Hz),4.06(2H,t,J=6H
z),6.55(1H,d,J=9.5Hz),6.9
1(1H,dd,J=2.5Hz,J=12Hz),
6.98(1H,brs),7.76−7.96(4
H,m),11.60(1H,brs)。
【0247】(2)6−(2−フタルイミドエトキシ)
カルボスチリル 白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;3.99(2
H,t,J=5.5Hz),4.25(2H,t,J=
5.5Hz),6.47(1H,d,J=10Hz),
7.10−7.30(3H,m),7.75−7.79
(5H,m)。
【0248】(3)6−(4−フタルイミドブトキシ)
カルボスチリル 淡黄色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;1.67−
1.90(4H,m),3.55−3.76(2H,
m),3.91−4.16(2H,m),6.48(1
H,d,J=9.5Hz),7.08−7.32(3
H,m),7.76−7.95(5H,m)。
【0249】参考例36 適当な出発原料を用い、参考例2と同様にして以下の化
合物を得る。
【0250】(1)6−(3−アミノプロポキシ)−8
−フルオロカルボスチリル塩酸塩 白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.06(2
H,quint,J=6Hz),2.87−3.10
(2H,m),4.12(2H,t,J=6Hz),
6.57(1H,d,J=9.5Hz),7.07−
7.26(2H,m),8.88(1H,br−d,J
=10Hz),8.05−8.45(3H,m),1
1.40−11.88(1H,m)。
【0251】(2)6−(3−アミノプロポキシ)−8
−メトキシカルボスチリル塩酸塩 淡黄色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.04−
2.10(2H,m),2.96(2H,t,J=6.
5Hz),4.10(2H,t,J=6Hz),6.5
5(1H,d,J=9.5Hz),6.81−6.84
(2H,m),7.85(1H,d,J=9.5H
z),8.10−8.35(3H,m)。
【0252】(3)6−(2−アミノエトキシ)カルボ
スチリル 白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;2.88(2
H,t,J=5.5Hz),3.93(2H,t,J=
5.5Hz),6.48(1H,d,J=9.5H
z),7.11−7.25(3H,m),7.83(1
H,d,J=9.5Hz)。
【0253】(4)6−(4−アミノブトキシ)カルボ
スチリル 淡黄色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;1.67−
1.97(4H,m),2.83(2H,t,J=6.
5Hz),4.01(2H,t,J=6Hz),6.5
0(1H,d,J=9.5Hz),7.10−7.37
(3H,m),7.84(1H,d,J=9.5H
z)。
【0254】参考例37 N−メチルシクロヘキシルアミン17gの6N塩酸水溶
液90mlに60℃で亜硝酸ナトリウム20.7gの水
溶液60mlを滴下する。同温で2時間撹拌後、メタノ
ール300mlで希釈し、水酸化ナトリウム45gの水
溶液100ml及び、ホルムアミジンスルフィン酸39
gを加える。2時間加熱還流後、水400mlで希釈
し、塩化メチレンで3回抽出する。飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去
し、残渣を減圧蒸留して10gの1−メチル−1−シク
ロヘキシルヒドラジンを得る。
【0255】無色油状、融点:76−78℃/19mm
Hg。
【0256】適当な出発原料を用い、参考例37と同様
にして以下の化合物を得る。
【0257】1−シクロプロピル−1−シクロヘキシル
ヒドラジン 淡黄色油状1 H−NMR(CDCl3)δppm;0.46−0.6
0(4H,m),1.01−1.43(5H,m),
1.56−1.70(1H,m),1.73−1.85
(2H,m),1.81−2.08(3H,m),2.
43−2.58(1H,m),3.06(2H,br
s)。
【0258】参考例38 N−(トランス−2−ヒドロキンシクロヘキシル)−N
−シクロプロピルアミン20gのメチルエチルケトン2
60ml溶液に、室温撹拌下、D−ジパラトルオイル酒
石酸49.8gのメチルエチルケトン200ml溶液を
加える。更に室温で1.5時間撹拌後、析出晶を濾取し
メチルエチルケトン、アセトンの順に洗浄する。メタノ
ール−アセトニトリルで再結晶し、22.0gの(R,
R)−(−)−トランス−N−(2−ヒドロキシシクロ
ヘキシル)−N−シクロプロピルアミン−D−ジパラト
ルオイル酒石酸塩を得る。
【0259】白色粉末状、融点:165℃。
【0260】参考例39 水酸化ナトリウム4gの水溶液80mlに、室温撹拌
下、(R,R)−(−)−N−(トランス−2−ヒドロ
キシシクロヘキシル)−N−シクロプロピルアミン−D
−ジパラトルオイル酒石酸塩20gを加える。更に室温
で0.5時間撹拌後、酢酸エチル40mlで2回抽出す
る。水層に水40ml加えた後、更に塩化メチレン20
mlで3回抽出し、有機層を合わせて無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。溶媒を減圧留去し5.2gの(R,
R)−(−)−トランス−N−(2−ヒドロキシシクロ
ヘキシル)−N−シクロプロピルアミンを得る。
【0261】無色柱状、融点:43−45℃ 〔α〕D 24=−59.3°(c=1.0,メタノー
ル)。
【0262】参考例40 6−(3−アミノプロポキシ)カルボスチリル塩酸塩
5.0g及び炭酸カリウム3.4gを、水50mlとア
セトニトリル50mlとの混液に室温で加える。更に室
温で2時間撹拌後、−5℃に冷却し、クロル炭酸フェニ
ル3.9gを0℃を越えないように滴下する。同温で1
時間撹拌後、水100ml加え更に0.5時間撹拌す
る。析出晶を濾取し、水、アセトンの順に洗浄して、
6.0gの6−(3−フェノキシカルボニルアミノプロ
ポキシ)カルボスチリルを得る。
【0263】白色粉末状1 H−NMR(DMSO−d6)δppm;1.95(2
H,quint,J=6.5Hz),3.20−3.3
5(2H,m),4.06(2H,t,J=6.0H
z),6.50(1H,d,J=9.5Hz),7.0
5−7.40(8H,m),7.75−7.95(2
H,m),11.65(1H,brs)。
【0264】実施例1 6−〔3−(1−イミダゾリル)カルボニルアミノプロ
ポキシ〕カルボスチリル100g及びトランス−N−
(2−ヒドロキシシクロヘキシル)−N−シクロプロピ
ルアミン49.6gをクロロホルム1リットルに懸濁し
10時間加熱還流する。不溶物をセライトで濾去し濾液
を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、溶媒を留去する。シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(溶出液;塩化メチレン/酢酸エチル/メタノ
ール=10/10/1)で精製後、エタノールより再結
晶して83gの6−{3−〔3−(トランス−2−ヒド
ロキシシクロヘキシル)−3−シクロプロピルウレイ
ド〕プロポキシ}カルボスチリルを得る。
【0265】白色粉末状、融点:163.5−164.
5℃。
【0266】適当な出発原料を用い、実施例1と同様に
して後記実施例7〜31の化合物を得る。
【0267】実施例2 6−{3−〔N−(トランス−2−ヒドロキシシクロヘ
キシル)−N−シクロプロピルアミノ〕カルボニルアミ
ノプロポキシ}カルボスチリル5g、トリエチルアミン
4.2ml及び4−ジメチルアミノピリジン0.48g
の塩化メチレン100ml溶液に室温撹拌下、無水酢酸
3.17mlを滴下する。室温で更に2時間撹拌後、2
5%アンモニア水20ml加え1時間撹拌する。有機層
を分取し水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶出液;塩化メチレン/メタノール
=20/1)で精製しエタノール−ジエチルエーテルよ
り再結晶し、4.28gの6−{3−〔3−(トランス
−2−アセチルオキシシクロヘキシル)−3−シクロプ
ロピルウレイド〕プロポキシ}カルボスチリルを得る。
【0268】白色粉末状、融点:180−183℃。
【0269】適当な出発原料を用い、実施例2と同様に
して後記実施例11及び14の化合物を得る。
【0270】実施例3 6−(3−メチルアミノプロポキシ)カルボスチリル3
gをジメチルホルムアミド150mlに溶解し、N−メ
チル−N−シクロヘキシルアミノカルボニルクロリド
2.3g及び炭酸カリウム2gを加え終夜、室温で撹拌
する。更に80℃で2時間加熱撹拌後、反応液を水にあ
け酢酸エチルで抽出する。溶媒を留去後、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液;塩化メチレン
/メタノール=30/1)で精製し酢酸エチルより再結
晶し、2.3gの6−〔3−(1,3−ジメチル−3−
シクロヘキシルウレイド)プロポキシ〕カルボスチリル
を得る。
【0271】白色粉末状、融点:113−114℃。
【0272】実施例4 2−クロロ−6−{3−〔1−メチル−3−シクロヘキ
シル−3−(2−アセチルオキシブチル)ウレイド〕プ
ロポキシ}キノリン5.5gを酢酸100mlに加え、
4時間加熱還流する。酢酸を留去後、残渣を塩化メチレ
ンに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水で洗浄する。無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去する。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(塩化メチレン/
メタノール=20/1)で精製し、塩化メチレン−ジエ
チルエーテルより再結晶し、2.7gの6−{3−〔1
−メチル−3−シクロヘキシル−3−(2−アセチルオ
キシブチル)ウレイド〕プロポキシ}カルボスチリルを
得る。
【0273】白色粉末状、融点:164−166℃。
【0274】実施例5 6−{3−〔1−メチル−3−シクロヘキシル−3−
(2−アセチルオキシブチル)ウレイド〕プロポキシ}
カルボスチリル1.63gをメタノール10mlに加
え、10%水酸化カリウム10mlを滴下する。室温で
終夜撹拌後、メタノールを減圧下留去し、残渣を水にあ
けクロロホルムで抽出する。溶媒を留去した後、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液;塩化メ
チレン/メタノール=20/1)で精製し、塩化メチレ
ン−ジエチルエーテルより再結晶し、0.6gの6−
{3−〔1−メチル−3−シクロヘキシル−3−(2−
ヒドロキシブチル)ウレイド〕プロポキシ}カルボスチ
リルを得る。
【0275】白色粉末状、融点:173−175℃。
【0276】適当な出発原料を用い、実施例5と同様に
して後記実施例6及び8〜10の化合物を得る。
【0277】適当な出発原料を用い、前記実施例3又は
4と同様にして下記表1〜表7に示す各化合物を得る。
【0278】
【表1】
【0279】
【表2】
【0280】
【表3】
【0281】
【表4】
【0282】
【表5】
【0283】
【表6】
【0284】
【表7】
【0285】実施例32 (R,R)−(−)−6−〔3−{トランス−2−〔3
−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)プロポキシ〕シ
クロヘキシル}−3−シクロプロピルウレイド〕プロポ
キシ}−2−メトキシメトキシキノリン1.7gをエタ
ノール17mlに溶解させ、室温撹拌下、2N−塩酸1
7mlを滴下する。室温で2時間撹拌後、減圧下にエタ
ノールを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(溶出液;酢酸エチル:n−ヘキサン=1:1)
で精製し、塩化メチレン−ジエチルエーテルより再結晶
して1.2gの(R,R)−(−)−6−{3−〔3−
{トランス−2−(3−ヒドロキシプロポキシ)シクロ
ヘキシル}−3−シクロプロピルウレイド〕プロポキ
シ}カルボスチリルを得る。
【0286】白色粉末状、融点:105−108℃ 〔α〕D 21=−21.9°(c=1.00,メタノー
ル)。
【0287】実施例33 6−〔3−(3−シクロヘキシル−3−メチル−1−ア
リルウレイド)プロポキシ〕カルボスチリル3.0gを
エタノール90mlに溶解し、10%Pd−C0.3g
を加え常温、1気圧の水素雰囲気下、接触水素添加を行
う。反応終了後、触媒を濾去し、減圧下濃縮する。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液;塩化
メチレン:メタノール=20:1)で精製し、エタノー
ル−ジエチルエーテルより再結晶して2.1gの6−
〔3−(3−シクロヘキシル−3−メチル−1−プロピ
ルウレイド)プロポキシ〕カルボスチリルを得る。
【0288】無色リン片状、融点:119−119.5
℃。
【0289】適当な出発原料を用い、実施例33と同様
にして、前記実施物15の化合物を得る。
【0290】実施例34 6−(3−フェノキシカルボニルアミノプロポキシ)カ
ルボスチリル5.0g及び(R,R)−(−)−N−
(トランス−2−ヒドロキシシクロヘキシル)−N−シ
クロプロピルアミン2.4gをジメチルホルムアミド4
5ml及び水5mlの混液に加え、85℃で6時間加熱
撹拌する。80℃で水80mlを加え終夜撹拌しながら
放冷する。析出晶を濾取し水で洗浄する。シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶出液;塩化メチレン:メタ
ノール:酢酸エチル=5:1:5)で精製し、エタノー
ルより再結晶し2.9gの(R,R)−(−)−6−
{3−〔3−(トランス−2−ヒドロキシシクロヘキシ
ル)−3−シクロプロピルウレイド〕プロポキシ}カル
ボスチリルを得る。
【0291】白色粉末状、融点:158.5−160℃ 〔α〕D 24=−1.3°(c=1.0,メタノール)。
【0292】適当な出発原料を用い、実施例34と同様
にして、前記実施例6〜8及び10〜31の化合物を得
る。
【0293】薬理試験1(血小板凝集抑制作用) (1)多血小板血漿(PRP)の調製 無麻酔下にて、雄性ウサギ(NZW種,体重2〜3k
g)の頚動脈からクエン酸採血を行い、クエン酸と血液
とのボリューム比が1対9になるように調製した。この
抗凝固血をプラスチック試験管に約7mlずつ分注し、
室温にて低速遠心(900rpm,15分)後、その白
濁した上清を多血小板血漿(PRP)とした。乏血小板
血漿(PPP)はPRP採取後の残渣を3000rpm
で10分遠心し、その上清を用いた。PRPは5×10
5cells/μlになるようにPPPにて希釈し、凝
集能の測定に用いた。
【0294】(2)凝集測定方法 血小板の凝集は、Bornの比濁法を用いて測定した。
ジメチルホルムアミドに溶解した薬物溶剤1μlをキュ
ベットに入れ、更に200μlのPRPを添加後、直ち
に血小板凝集能測定装置PAM−8T(メバニクス社)
に入れ、37℃で保温した。正確に3分間後、生理食塩
水に溶解したADP(PAテストADP「MCM」MC
メディカル社)又はコラーゲン溶液(コラーゲンリエー
ジエントホルム,MCメディカル社)を20μl添加し
た。ADP溶液又はコラーゲン溶液の最終濃度は、それ
ぞれ7.5μM、20μg/mlであった。
【0295】また、最大凝集率、凝集抑制率の算出は以
下の式に従った。
【0296】
【数1】
【0297】
【数2】
【0298】IC50は薬物濃度の異なる2点間の凝集抑
制率から求めた。結果を下記表8に示す。
【0299】
【表8】
【0300】薬理試験2(抗血栓作用) 抗血栓作用は、マウスにコラーゲンを静脈内投与して誘
発される肺塞栓致死に対して薬物(経口投与)による抑
制作用(肺塞栓抑制作用)で判定した。
【0301】雄性ICR系マウス(5週齢、体重約25
g)を1夜絶食し、群分け及びナンバリングを行った
(各群15匹)。1%ヒドロキシプロピルメチルセルロ
ース2910TC−5(HPMC,信越化学工業株式会
社)に懸濁した薬物溶液を経口投与した後、10分後に
尾静脈より一定速度でコラーゲン溶液(調製、用量は後
記)を注入した。その後1時間以内に死亡した個体数よ
り致死率を計算した。薬物の評価はこのマウスの致死率
の抑制%で行った。コラーゲン溶液は、コラーゲン(シ
グマケミカル社製、タイプIII)を2mM塩化カルシウ
ム及び5%グルコースを含む0.05M酢酸溶液に2.
5mg/mlになるように4℃にて溶解しておき、使用
する前日に水酸化ナトリウムでpHを7.4に合わせ
た。37℃にて撹拌しながら2時間加温し、その後、室
温にて更に一夜撹拌した。使用する直前に再度pHを
7.4に合わせて実験に供した。尾静脈注するコラーゲ
ン溶液の量は、肺塞栓による致死率が約75%になるよ
うに予備実験を行って決定した。結果を下記表9に示
す。
【0302】
【表9】
【0303】薬理試験3(血管内膜肥厚抑制作用) 雄性SD系ラット(6週齢)を群分け(各群8匹)及び
ナンバリング後、1%ヒドロキシプロピルメチルセルロ
ース2910TC−5(HPMC,信越化学工業株式会
社)に懸濁した薬物溶液を経口投与した。またコントロ
ール群には1%HPMCを経口投与した。1〜2時間後
に2フレンチバルーンカテーテル(バクスタートラベノ
ール社)を左総頚動脈に挿入し、5回擦過することによ
るバルーン傷害を行い、この日をDay0とした。次の
日(Day1)に朝夕2回薬物を経口投与した。Day
2に薬物投与約1時間後、バルーン傷害後の時間が各個
体間で正確に一定になるように、1.48MBq/ml
3H−チミジン(NENリサーチプロダクツ社製)を
体重1kg当たり5ml尾静脈注射した。正確に3H−
チミジン尾静脈注射後45分に総頚動脈を摘出した。
尚、薬物投与群はバルーン傷害した左総頚動脈のみ、コ
ントロール群は左右の総頚動脈を摘出した。摘出した総
頚動脈は、正確に1cmにカットし、外膜及び神経等不
要物をきれいに除去した。総頚動脈をガラスのバイアル
瓶に移し、0.5N水酸化ナトリウム0.5mlを添加
し、37℃にて一夜加温し、可溶化を行った。5N塩酸
を0.05ml加え中和し、更に過酸化水素水を0.1
ml添加した。10mlのアクアゾール2(デュポン社
製)を添加し、よく撹拌後30分静置し、次いで液体シ
ンチレーションカウンターにてトリチウムのカウントを
測定した。肥厚抑制作用を、以下の式に従い調べた。
【0304】
【数3】
【0305】結果を下記表10に示す。
【0306】
【表10】
【0307】薬理試験4(PDE3活性阻害作用) 本発明化合物のPDE3活性阻害作用を、バイオキミカ
・エ・バイオフィジカ・アクタ(Biochimica et Biophy
sica Acta),第429巻,第485頁〜第497頁
(1976年)及びバイオケミカル・メディスン(Bioc
hemical Medicine),第10巻,第301頁〜第311
頁(1974年)に記載の方法に準じて測定した。PD
E酵素はPDE3のcDNA3よりバキュロウィルスエ
クスプレッションシステムで昆虫細胞Sf9に発現させ
調製したリコンビナント酵素を使用した(Diabetes, 19
95,44:67)。使用したcDNAはヒト心筋のサイクリッ
クGMP抑制PDE(hcGIP2, Proc. Natl. Acad. Sc
i., USA,1992,89:3721,GenBank M91667)である。
【0308】PDE活性の測定は、50mM Tris
−HCl pH8.0,0.5mMMgCl2,2mM
EGTA,0.1mg/ml BSA,0.4μM
〔8−3H〕cAMP,PDE酵素及び試験化合物を含
む反応液(200μl)で行った。30℃、15分間の
インキュベーションにより酵素を反応させた後、100
℃、6分間のインキュベーションで反応を停止、PDE
酵素を失活させた。反応液を冷却後、ヘビの毒物を終濃
度0.1mg/mlになるよう添加し、30℃、10分
間のインキュベーションにより〔8−3H〕アデノシン
を生成させた。陽イオン交換カラムにより〔8−3H〕
アデノシンを回収し、その放射活性を液体シンチレーシ
ョンカウンターで測定した。
【0309】試験化合物は全てDMFに溶解し、反応液
に対して終濃度0.5%で添加し、で行った。測定結果
より、各濃度での試験化合物のPDE活性値(Vs)を
求め、コントロール(試験化合物を含まないDMFを添
加したもの)の活性値(Vc)から、次式によってPD
E活性阻害率(%)を算出した。50%阻害する濃度を
IC50値として求め、結果を表11に示す。
【0310】
【数4】
【0311】
【表11】
フロントページの続き (72)発明者 西 孝夫 徳島県板野郡北島町太郎八須字外開2番地 の28 (72)発明者 井上 佳宏 奈良県橿原市雲梯町593番地 (72)発明者 木村 征夫 徳島県徳島市住吉3丁目8番地29 (72)発明者 日高 弘義 愛知県名古屋市天白区八幡山1101番地の1 タウン上八事5−104 (72)発明者 福田 宣夫 徳島県徳島市川内町加賀須野1090番地の11

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式 【化1】 〔式中、Aは低級アルキレン基を示す。R1及びR2は、
    同一又は異なって、置換基として水酸基、低級アルコキ
    シ基、フェニル低級アルコキシ基もしくは低級アルカノ
    イルオキシ基を有し又は有しない低級アルキル基、置換
    基として水酸基、水酸基置換低級アルコキシ基もしくは
    低級アルカノイルオキシ基を有し又は有しないシクロア
    ルキル基或いは置換基として低級アルキル基又はシクロ
    アルキル基を有することのあるアミノ基を示す。R3
    水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基又は水酸
    基置換低級アルキル基を示す。Rは水素原子、ハロゲン
    原子又は低級アルコキシ基を示す。但し、R3及びRが
    水素原子を示す場合、R1及びR2は、置換基を有しない
    低級アルキル基又は置換基を有しないシクロアルキル基
    であってはならない。カルボスチリル骨格の3位及び4
    位の炭素間結合は一重結合又は二重結合を示す。〕で表
    されるカルボスチリル誘導体又はその塩。
  2. 【請求項2】 6−{3−〔3−(トランス−2−ヒド
    ロキシシクロヘキシル)−3−シクロプロピルウレイ
    ド〕プロポキシ}カルボスチリル。
  3. 【請求項3】 (S,S)−(+)−6−{3−〔3−
    (2−ヒドロキシシクロヘキシル)−3−シクロプロピ
    ルウレイド〕プロポキシ}カルボスチリル。
  4. 【請求項4】 (R,R)−(−)−6−{3−〔3−
    (2−ヒドロキシシクロヘキシル)−3−シクロプロピ
    ルウレイド〕プロポキシ}カルボスチリル。
  5. 【請求項5】 6−{3−〔3−(2−ヒドロキシシク
    ロブチル)−3−シクロプロピルウレイド〕プロポキ
    シ}カルボスチリル。
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