JPH09129529A - 半導体製造装置のレシピ運用システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体製造装置で用いるレシピの運用を行う
にあたり、システムがダウンしにくくかつレシピの管理
を容易に行うことができ、また柔軟な運用を図ることの
できるレシピ運用システムを提供すること。 【解決手段】 例えば熱処理装置Ｓを夫々コントロール
する装置コントローラＭにホストコンピュータ４及びグ
ループコントローラ５を別々に接続すると共に、ホスト
コンピュータ４及びグループコントローラ５を専用の伝
送路３３で接続し、装置コントローラＭの生産レシピの
中からオペレータが実行すべきレシピを選択する「装置
モ−ド」、グループコントローラ５内の生産レシピの中
からホストコンピュータ４の指定により実行すべきレシ
ピを選択する「レシピ管理モ−ド」、ホストコンピュー
タ４が生産レシピを装置コントローラＭに送る「ホスト
モ−ド」を選択できるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置の
レシピ運用システムに関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に半導体ウエハや液晶基板を製造す
る工程は、成膜、塗布／現像、エッチング、イオン注
入、拡散など種々の工程からなり、被処理基板例えば半
導体ウエハ（以下ウエハという）が、各ステ−ション間
を順次移動して所定の処理が進められていく。各ステ−
ションでは、量産化に対応するために通常同種の処理装
置が複数設置されており、上位の制御手段により管理さ
れている。例えばバッチ式の熱処理装置を例にとって説
明すると、この種の熱処理装置は、多数枚のウエハを例
えば棚状にウエハボ−トに載せ、このウエハボ−トを縦
型の熱処理炉にロ−ドして熱処理を行うものである。

【０００３】従来の熱処理ステ−ションのシステムを図
９に示すと、Ａ１〜Ａｎは熱処理装置、Ｂ１〜Ｂｎは各
熱処理装置Ａ１〜Ａｎに組み合わされた装置コントロ−
ラ、１１はミニコンピュ−タよりなるコントロ−ラ、１
２はホストコンピュ−タである。コントロ−ラ１１は各
熱処理装置Ａ１〜Ａｎで使用するレシピを保有し、各レ
シピの編集や、用いられた生産レシピの履歴の保存など
の管理を行っており、実行すべき生産レシピを各熱処理
装置Ａ１〜Ａｎに受け渡している。熱処理装置Ａ１〜Ａ
ｎは、受け取ったレシピに基づいて運転され、その処理
デ−タ例えば温度、圧力、及びガス流量の経時変化など
はコントロ−ラ１１に一旦送られ、ここからホストコン
ピュ−タ１２に受け渡される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従来のシステムでは、
コントローラ１１がダウンすると処理装置がレシピを受
け取れなくなるため、装置の運転ができなくなるし、ま
たある装置が１処理分のレシピを既に受け取っていて運
転が可能な場合でも他の装置はそのレシピをコピーする
ことができないので他の装置の運転はできない。更に装
置の処理データをホストコンピュータ１２に渡すことが
できない上、ホストコンピュータ１２側からは各装置の
運転状況を把握できなくなり、結局は、システム全体の
ダウンということになり、コントローラ１１が復帰され
るまでシステムを再開することができないという問題が
あった。

【０００５】本発明はこのような事情の下になされたも
のであり、その目的は、システムがダウンしにくくかつ
レシピの管理を容易に行うことができ、また柔軟な運用
を図ることのできる半導体製造装置のレシピ運用システ
ムを提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、複数
の半導体製造装置と、各半導体製造装置毎に設けられた
装置コントロ−ラと、これら装置コントロ−ラに共通に
接続され、生産レシピが格納されたホスト制御手段と、
前記装置コントロ−ラとホスト制御手段とを結ぶ伝送路
とは別の伝送路により各装置コントロ−ラに共通に接続
されると共に、前記ホスト制御手段と直接情報の授受を
行なうために専用の伝送路によりホスト制御手段に接続
されたレシピ管理手段と、を備え、前記ホスト制御手段
は、各装置コントロ−ラに生産レシピを送ると共に、レ
シピ管理手段に対して前記専用の伝送路を介してレシピ
の書き込み、読みだし、レシピの履歴の読みだしができ
るように構成され、各装置コントロ−ラは、ホスト制御
手段から送られた生産レシピに基づいて夫々半導体製造
装置を運転し、レシピ管理手段は、半導体製造装置で使
用された生産レシピの履歴を格納することを特徴とす
る。

【０００７】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、ホスト制御手段から装置コントロ−ラに送った生産
レシピが自動的にレシピ管理手段でバックアップして保
存されることを特徴とする。

【０００８】請求項３の発明は、複数の半導体製造装置
と、各半導体製造装置毎に設けられた装置コントロ−ラ
と、これら装置コントロ−ラに共通に接続され、生産レ
シピが格納されたホスト制御手段と、前記装置コントロ
−ラとホスト制御手段とを結ぶ伝送路とは別の伝送路に
より各装置コントロ−ラに共通に接続されると共に、前
記ホスト制御手段と直接情報の授受を行なうために専用
の伝送路によりホスト制御手段に接続されたレシピ管理
手段と、を備え、ホスト制御手段は、レシピ管理手段に
対して前記専用の伝送路を介して生産レシピの書き込
み、読みだし、生産レシピの履歴の読みだしができるよ
うに構成され、レシピ管理手段は、半導体製造装置で使
用された生産レシピの履歴を格納し、以下の「装置モ−
ド」、「レシピ管理手段モ−ド」または「ホストモ−
ド」のいずれかのモ−ドを選択できるように構成されて
いることを特徴とする。

【０００９】ａ．装置モ−ドでは、装置コントロ−ラ内
に生産レシピが格納されており、この生産レシピの中か
ら、オペレ−タが装置コントロ−ラの画面を見て指定す
ることにより、実行すべきレシピを選択する。

【００１０】ｂ．レシピ管理手段モ−ドでは、レシピ管
理手段内に生産レシピが格納されており、この生産レシ
ピの中から、ホスト制御手段の実行レシピの指定によ
り、実行すべきレシピを選択する。

【００１１】ｃ．ホストモ−ドでは、ホスト制御手段内
に生産レシピが格納されており、ホスト制御手段が生産
レシピを装置コントロ−ラに送ると共に、レシピ管理手
段に対して前記専用の伝送路を介してレシピの書き込
み、読みだし、レシピの履歴の読みだしを行なう。

【００１２】請求項４の発明は、請求項３の発明におい
て、装置モ−ドでは、ホスト制御手段の実行レシピの指
定によっても、装置コントロ−ラ内の生産レシピの中か
ら実行すべき生産レシピを選択できることを特徴とす
る。

【００１３】請求項５の発明は、請求項３または４の発
明において、レシピ管理手段モ−ドでは、オペレ−タが
装置コントロ−ラの画面を見て指定することによっても
レシピ管理手段内の生産レシピの中から実行すべき生産
レシピを選択できることを特徴とする。

【００１４】請求項６の発明は、請求項３、４、または
５の発明において、装置モ−ドまたはホストモ−ドで
は、装置コントロ−ラ内の生産レシピが自動的にレシピ
管理手段でバックアップして保存されることを特徴とす
る。

【００１５】請求項７の発明は、請求項３、４、５また
は６の発明において、各モ−ドにおいて、装置コントロ
−ラ内のメンテナンスレシピが自動的にレシピ管理手段
にバックアップされることを特徴とする。

【００１６】

【発明の実施の形態】図１は本発明の実施の形態に係る
システムを示す構成図である。Ｓ−１〜Ｓ−ｎは半導体
製造装置例えばバッチ式の縦型熱処理装置である。縦型
熱処理装置について図２を参照しながら簡単に述べる
と、この熱処理装置は、ウエハ保持具であるウエハボー
ト１５に多数枚のウエハＷを棚状に搭載し、このウエハ
ボート１５をボートエレベータ１６により、縦型の反応
管を備えた加熱炉１７内に搬入し、処理ガスにより所定
の温度、圧力条件の下で熱処理例えば酸化処理や成膜処
理などが行われるように構成されている。

【００１７】図１中Ｍ−１〜Ｍ−ｎは例えばパーソナル
コンピュータよりなる装置コントローラであり、これら
装置コントローラＭ（Ｍ−１〜Ｍ−ｎ）は夫々熱処理装
置Ｓ（Ｓ−１〜Ｓ−ｎ）に対しガス供給管や排気管のバ
ルブ、加熱炉１７内のヒータの電力、ボートエレベータ
１６の駆動モータなどの制御をするように構成されてい
る。各装置コントローラＭは、生産レシピ格納部２１、
レシピ選択部２２、メンテナンスレシピ格納部２３及び
モード選択部２４を備えている。

【００１８】生産レシピとは、ウエハＷを熱処理すると
きのプロセス条件を時系列に定めたものであり、概念的
には図３に示すようにガスの種類、ガス流量、反応管内
圧力、温度などの条件を記載したものを単位レシピとす
ると、例えば１回の熱処理について１００単位（Ｎｏ．
１〜Ｎｏ．１００）定められている。即ち熱処理装置側
では、１回の熱処理を行うにあたり、単位レシピをＮ
ｏ．１〜Ｎｏ．１００まで順番に参照してプロセス条件
を設定して運転していくことになる。メンテナンスレシ
ピとは、熱処理装置のメンテナンスを行うときに用いる
レシピであり、例えば反応管内を洗浄するときのガスの
種類、ガス流量、温度などの条件あるいはボートエレベ
ータの動作をチェックするときの昇降スピードなどの条
件を時系列に定めたものである。

【００１９】レシピ選択部２２は、生産レシピの一覧表
の中からあるいは検索して引き出した生産レシピの中か
ら、使用すべき１処理分のレシピを選択するためのもの
であり、例えばレシピ管理プログラムの一部により構成
される。モード選択部は、後述するようにこのシステム
を「装置モード」、「レシピ管理手段モード」、「ホス
トモード」のうちのどのモードで運用するかを選択する
ものである。

【００２０】各装置コントローラＭ（Ｍ−１〜Ｍ−ｎ）
は、共通の上位の制御系であるホスト制御手段をなすホ
ストコンピュータ３に夫々伝送路３１を介して接続され
ている。このホストコンピュータ４は、生産レシピ格納
部４１、実行レシピ指定部４２、データ格納部４３及び
モード選択部４４を備えている。

【００２１】生産レシピ格納部４１は後述のホストモー
ドを選択したときに、各熱処理装置Ｓ（Ｓ−１〜Ｓ−
ｎ）で使用する生産レシピを格納するためのものであ
る。実行レシピ指定部４２は、後述の装置モードあるい
はレシピ管理手段モードを選択したときに、装置コント
ローラＭに対して、実行すべき生産レシピを指定するた
めの手段であり、例えば１処理分の生産レシピを指定す
る。データ管理部４３は、装置コントローラＭより送ら
れた熱処理装置Ｓの処理データ、例えばガス流量、反応
管内の温度、反応管内の圧力などの計測データを格納す
るためのものである。モード選択部４４は、装置コント
ローラＭ内のモード選択部２４と同様である。

【００２２】また前記各装置コントローラＭは、各装置
コントローラＭの生産レシピを共通に管理するレシピ管
理手段であるグループコントローラ５に、前記ホストコ
ンピュータ４との伝送路３１とは別の伝送路３２により
接続されている。このグループコントローラ５は、生産
レシピ格納部５１、レシピ履歴格納部５２、バックアッ
プ格納部５３及びレシピ検索データ格納部５４を備えて
いる。生産レシピ格納部５１は、後述のレシピ管理手段
モードを選択したときに各熱処理装置Ｓで使用する生産
レシピを格納するためのものである。レシピ履歴格納部
５２は、熱処理装置Ｓで使用した生産レシピの履歴デー
タを格納するための領域であり、各バージョン毎の生産
レシピつまり生産レシピを変更したときにその生産レシ
ピを作成または変更日時、レシピの認識コード、レシピ
のバージョン作成者などと対応付けて格納する。バック
アップ格納部５３は、各モードに応じて、装置コントロ
ーラ２３内の生産レシピあるいはメンテナンスレシピを
バックアップして保存するための領域である。

【００２３】レシピ検索データ格納部５４は、生産レシ
ピのカテゴリー例えば「酸化プロセス」、「熱拡散プロ
セス」、「ＣＶＤプロセス」などのカテゴリー毎にＲｄ
ｂ（リレーショナルデータベース）形態で生産レシピと
各熱処理装置とを対応付けて登録するための領域であ
る。このデータベースに対して、生産レシピの目的、デ
ータの構造をキーとして装置コントローラＭ側から検索
を行えば、その装置コントローラに係る熱処理装置の認
証コードが前記データベースに登録されていれば、対応
する生産レシピが装置コントローラＭに送られる。その
後例えばオペレータが、読み出された生産レシピの中か
ら使用すべき生産レシピを選択することになる。

【００２４】またグループコントローラ５には、レシピ
のバージョン管理や編集などを行うレシピ管理プログラ
ム５５、熱処理装置Ｓにおける処理データ（実績デー
タ）の収集や保管などを行うデータ管理プログラム５
６、及び画面上に各熱処理装置５の状態を同時に表示す
る集中モニタなどを行う装置管理プログラム５７が格納
されている。これらプログラム５５、５６、５７は各々
パッケージ化、例えば各プログラムがＭＳ−ＤＯＳの拡
張子の「ｅｘｅ」として構成されている。このようにプ
ログラムをパッケージ化すれば、新たな機能を持ったプ
ログラムを追加する場合に、パッケージ化された新たな
プログラムをロードすればよいし、またプログラムの一
部を変更する場合に、変更に係るプログラムについての
み交換すればよいので、各プログラムが一体化されてい
る場合に比較して有利である。

【００２５】更にグループコントローラ５４は、専用の
伝送路３３によりホストコンピュータ４に接続されてお
り、後述のホストモードのとき、ホストコンピュータ４
がグループコントローラ５に対して生産レシピの書き込
み、読み出し、生産レシピ履歴の読み出しを行うことが
できるようになっている。

【００２６】本システムの実際のハード的な接続の一例
を図４に示すと、この例ではグループコントローラ５
が、工場内に配置されたグループコントローラサーバ５
Ａとオフィス内に配置された複数のグループコントロー
ラクライエント５Ｂとから構成されており、装置コント
ローラＭ−１〜Ｍ−ｎが接続部６１を介してネットワー
ク６２に接続されると共に、グループコントローラサー
バ５Ａ及びグループコントローラクライエント５Ｂ並び
にホストコンピュータ４がネットワーク６２に接続され
ている。

【００２７】次に上述システムの作用について述べる。
このシステムは、「装置モード」、「レシピ管理手段モ
ード」、「ホストモード」のいずれかのモードを選択で
きるように構成されており、このモード選択は、例えば
装置コントローラＭのモード選択部２４あるいはホスト
コンピュータ４のモード選択部４４により選択される。
そして各モードは熱処理装置Ｓ−１〜Ｓ−ｎ毎に設定さ
れ、例えば熱処理装置Ｓ−１は装置モード、装置Ｓ−２
はレシピ管理手段モード、装置Ｓ−３はホストコンピュ
ータモードとして設定することもできる。以下に各モー
ド毎の装置の作用について説明する。

【００２８】（装置モード）装置モードでは、図５に示
すように、当該モードが設定された熱処理装置Ｓで使用
する一群の生産レシピが装置コントローラＭに格納され
る。ただし、使用する一群の生産レシピとは、使用する
生産レシピあるいは使用可能性のある生産レシピを含む
生産レシピ群であり、１処理分の生産レシピを１つの生
産レシピとすると複数の生産レシピをいうものである。

【００２９】また装置コントローラＭ内にはメンテナン
スレシピも格納される。これら生産レシピ及びメンテナ
ンスレシピは自動バックアップ設定を行うことによりグ
ループコントローラ５内のプログラムに基づいてグルー
プコントローラ５内の対応する領域、例えば熱処理装置
Ｓ−１のレシピであればＳ−１レシピバックアップ領域
に格納される。このようにバックアップを行えば、装置
コントローラＭ内のレシピが何らかのトラブルで消えて
しまった場合でも、フロッピからの入力操作や画面上で
の変更を行う手間が省ける利点がある。

【００３０】そしてオペレータは、装置コントローラＭ
の画面のレシピ一覧表の中から、使用すべき生産レシピ
を選択し、装置コントローラＭはこの生産レシピに基づ
いて熱処理装置Ｓ−１を運転する。使用した生産レシピ
は、グループコントローラ５内に既述のようにレシピの
認証コードや使用日時などと対応づけてレシピ履歴とし
て格納され、例えばどの熱処理装置でいつどのようなレ
シピが用いられたかを装置コントローラＭ及び、グルー
プコントローラ５のいずれにおいても調べることができ
るようになっている。

【００３１】また熱処理装置Ｓにより半導体ウエハに対
して所定の熱処理が行われると、その処理データは、夫
々装置コントローラＭに格納され、例えばオペレータに
より解析される。ただし使用すべき生産レシピの選択
は、ホストコンピュータ４から実行レシピを指定するこ
とによって行うこともでき、またホストコンピュータ４
は処理データを装置コントローラＭから吸い上げること
もできる。このような装置モードは、オペレータが各装
置コントローラＭを操作しながら例えばある熱処理装置
を試験的に使用してみるなど、量産の前段階で運転する
場合に利用される。

【００３２】（レシピ管理手段モード）レシピ管理手段
モードでは、図６に示すようにグループコントローラ５
内に、各熱処理装置Ｓで使用する一群の生産レシピが格
納される。生産レシピは、既述のようにＲｄｂ形態で熱
処理装置の識別コードが登録されており、その登録され
ている熱処理装置Ｓの装置コントローラＭからアクセス
できるようになっている。即ち生産レシピは各熱処理装
置Ｓで適宜共有されることになる。また装置コントロー
ラＭ内のメンテナンスレシピは、装置モードの場合と同
様に、自動バックアップ設定されていればグループコン
トローラ５内にバックアップされる。従って装置コント
ローラＭ内のメンテナンスレシピが何らかのトラブルで
消えた場合でもすぐに対応することができ、フロッピー
ディスクなどによるオペレータのロード作業を行わなく
て済む。

【００３３】装置の運転に使用する生産レシピの実行に
ついては、オペレータが装置コントローラＭの画面にグ
ループコントローラ５内の生産レシピの一覧表を引き出
してその中から生産レシピを選択することによって、あ
るいはホストコンピュータ５から装置コントローラＭを
経由して実行レシピを指定し、つまりレシピのカテゴリ
ー、レシピの認証コード及びバージョンなどを指定し、
指定された生産レシピをグループコントローラ５が装置
コントローラＭに送ることによって行われる。また使用
された生産レシピはグループコントローラ５内に生産レ
シピ履歴として保存される。熱処理時の処理データはホ
ストコンピュータ４に送られる。そしてホストコンピュ
ータ４はグループコントローラ５に対して専用の伝送路
３３を通じて生産レシピの書き込み、読み出し及び生産
レシピ履歴の読み出しを直接行うことができる。

【００３４】このようなモードによれば、生産レシピを
一ヶ所で管理できるのでレシピの検索、バージョン管理
が容易であって、円滑に行うことができ、一回のレシピ
作成により複数の熱処理装置でそのレシピを使用できる
上、装置コントローラＭ内のレシピ格納領域を節約でき
る利点もある。

【００３５】（ホストモード）ホストモードでは、図７
に示すようにホストコンピュータ４内に、各熱処理装置
Ｓで使用する一群の生産レシピが格納されており、熱処
理装置Ｓを運転する場合、ホストコンピュータ４から例
えば１処理分の生産レシピが装置コントローラＭにダウ
ンロードされる。またメンテナンスレシピもホストコン
ピュータ４から装置コントローラＭにダウンロードされ
る。

【００３６】そして装置コントローラＭにて自動バック
アップ機能が設定されていれば、装置コントローラＭに
ダウンロードされた生産レシピ及びメンテナンスレシピ
はグループコントローラ５内に自動的にバックアップさ
れる。熱処理装置Ｓにおける処理データはホストコンピ
ュータ４に送られる。使用された生産レシピは、作成日
などと対応させて生産レシピ履歴としてグループコント
ローラ５に格納され、いつの熱処理はどのレシピで実施
されたかなどを、後で調べることができるようになって
いる。

【００３７】このホストコンピュータモードは例えば量
産のときに設定されるものであり、グループコントロー
ラ５を使用する優位点としては、レシピが自動バックア
ップされること、及び使用された生産レシピが履歴とし
て保存されることなどが挙げられる。

【００３８】以上のように上述の実施の形態によれば、
３つのモードを選択できるため、例えば熱処理装置Ｓが
立上るまでの間はその熱処理装置Ｓについては装置モー
ドを設定し、複数の熱処理装置を立上げる場合にはレシ
ピ管理手段モードを設定し、量産を行うときにはホスト
モードを選択するなど、運用の自由度が大きく、状況に
応じて柔軟な対応がとれる。しかも熱処理装置毎にモー
ドを設定できるので、一部の熱処理装置Ｓについて立上
げや試験を行いながら他の熱処理装置Ｓでは量産を行う
ことができるなど、使いやすいシステムである。

【００３９】そしてホストモードのときにグループコン
トローラ５がダウンしてもグループコントローラ５はバ
ックアップやレシピの履歴の保存などを行う役割をもっ
ているにすぎず、直接運用には係わっていないため、例
えば量産中のシステムのダウンを防止できる。更にホス
トコンピュータ４は専用の伝送路３３を介してグループ
コントローラ５内の生産レシピの書き込みや読み出しを
行うことができるため、例えば今後使用する、あるレシ
ピについて変更の必要が生じた場合、ホストコンピュー
タ４及びグループコントローラ５に格納されているレシ
ピを一斉に変更することで、例えばレシピ管理手段モー
ドをその後選択したときに直ちに運用することができる
し、またグループコントローラ５内で保存されている過
去の生産レシピを使用する場合などに容易に対応でき
る。

【００４０】ここでグループコントローラ５内の生産レ
シピの履歴を呼び出すことができることの優位点の一例
について図８を参照しながら述べる。図８中Ｔ、Ｒ、
Ｅ、Ｄは夫々熱処理ステーション、リソグラフィステー
ション、エッチングステーション、及び検査ステーショ
ンである。またＴＨ、ＲＨ、ＥＨ、ＤＨは夫々ステーシ
ョンのホストコンピュータ（図１のシステムのホストコ
ンピュータ４に相当する）であり、これらホストコンピ
ュータは更に上位のホストコンピュータ７に接続されて
いる。

【００４１】半導体ウエハは、これらステーション間を
順番に搬送され、熱処理例えば酸化処理された後リソグ
ラフィにより表面にパターンマスクが形成され、次いで
エッチングされる。その後ウエハＷ上の膜厚が検査ステ
ーションＤで検査されるが、膜厚のデータを解析する場
合に、上位ホストコンピュータ７は、熱処理ステーショ
ンＴの中位ホストコンピュータＴＨ（即ち図１のホスト
コンピュータ４）を経由してグループコントローラ５
に、対象となっているウエハＷの熱処理時の生産レシピ
を問い合わせることができ、有効な半導体ウエハの製造
システムを構成することができる。

【００４２】以上において上述の実施の形態では半導体
製造装置の一例として熱処理装置を挙げて説明したが、
これに限定されることなく、枚葉式のエッチング装置、
イオン注入装置、アッシング装置、スパッタリング装
置、塗布／現像装置など他の半導体製造装置に対しても
適用することができる。なお本明細書でいう半導体製造
装置とは、半導体ウエハを処理する装置の他、液晶ディ
スプレイ用のガラス基板上に半導体回路を形成するため
の装置をも含むものである。

【００４３】

【発明の効果】本発明のレシピ運用システムによれば、
システムがダウンしにくく、また運用の自由度が大きく
て柔軟な対応をとることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態の全体構成を示す説明図で
ある。

【図２】熱処理装置の要部を示す斜視図である。

【図３】生産レシピの一例を示す概念図である。

【図４】本発明の実施の形態の各部のハード的接続の一
例を示す説明図である。

【図５】装置モードを選択した場合における運用の概念
を示す概念図である。

【図６】レシピ管理手段モードを選択した場合における
運用の概念を示す概念図である。

【図７】ホストモードを選択した場合における運用の概
念を示す概念図である。

【図８】半導体ウエハの製造プロセスの一部を示す説明
図である。

【図９】従来の半導体製造装置のレシピ運用システムを
示す説明図である。

【符号の説明】

Ｓ、Ｓ−１、Ｓ−２…Ｓ−ｎ 熱処理装置 Ｍ、Ｍ−１、Ｍ−２…Ｍ−ｎ 装置コントローラ ３１、３２、３３ 伝送路 ４ ホストコンピュータ ５ グループコントローラ ５Ａ グループコントローラサーバ ５Ｂ グループコントローラクライエント ６２ ネットワーク ７ 上位ホストコンピュータ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の半導体製造装置と、 各半導体製造装置毎に設けられた装置コントロ−ラと、 これら装置コントロ−ラに共通に接続され、生産レシピ
   が格納されたホスト制御手段と、 前記装置コントロ−ラとホスト制御手段とを結ぶ伝送路
   とは別の伝送路により各装置コントロ−ラに共通に接続
   されると共に、前記ホスト制御手段と直接情報の授受を
   行なうために専用の伝送路によりホスト制御手段に接続
   されたレシピ管理手段と、を備え、 前記ホスト制御手段は、各装置コントロ−ラに生産レシ
   ピを送ると共に、レシピ管理手段に対して前記専用の伝
   送路を介してレシピの書き込み、読みだし、レシピの履
   歴の読みだしができるように構成され、 各装置コントロ−ラは、ホスト制御手段から送られた生
   産レシピに基づいて夫々半導体製造装置を運転し、レシ
   ピ管理手段は、半導体製造装置で使用された生産レシピ
   の履歴を格納することを特徴とする半導体製造装置のレ
   シピ運用システム。
2. 【請求項２】 ホスト制御手段から装置コントロ−ラに
   送った生産レシピが自動的にレシピ管理手段でバックア
   ップして保存されることを特徴とする請求項１記載の半
   導体製造装置のレシピ運用システム。
3. 【請求項３】 複数の半導体製造装置と、 各半導体製造装置毎に設けられた装置コントロ−ラと、 これら装置コントロ−ラに共通に接続され、生産レシピ
   が格納されたホスト制御手段と、 前記装置コントロ−ラとホスト制御手段とを結ぶ伝送路
   とは別の伝送路により各装置コントロ−ラに共通に接続
   されると共に、前記ホスト制御手段と直接情報の授受を
   行なうために専用の伝送路によりホスト制御手段に接続
   されたレシピ管理手段と、を備え、 ホスト制御手段は、レシピ管理手段に対して前記専用の
   伝送路を介して生産レシピの書き込み、読みだし、生産
   レシピの履歴の読みだしができるように構成され、 レシピ管理手段は、半導体製造装置で使用された生産レ
   シピの履歴を格納し、 以下の「装置モ−ド」、「レシピ管理手段モ−ド」また
   は「ホストモ−ド」のいずれかのモ−ドを選択できるよ
   うに構成されていることを特徴とする半導体製造装置の
   レシピ運用システム。 ａ．装置モ−ドでは、装置コントロ−ラ内に生産レシピ
   が格納されており、この生産レシピの中から、オペレ−
   タが装置コントロ−ラの画面を見て指定することによ
   り、実行すべきレシピを選択する。 ｂ．レシピ管理手段モ−ドでは、レシピ管理手段内に生
   産レシピが格納されており、この生産レシピの中から、
   ホスト制御手段の実行レシピの指定により、実行すべき
   レシピを選択する。 ｃ．ホストモ−ドでは、ホスト制御手段内に生産レシピ
   が格納されており、ホスト制御手段が生産レシピを装置
   コントロ−ラに送ると共に、レシピ管理手段に対して前
   記専用の伝送路を介してレシピの書き込み、読みだし、
   レシピの履歴の読みだしを行なう。
4. 【請求項４】 装置モ−ドでは、ホスト制御手段の実行
   レシピの指定によっても、装置コントロ−ラ内の生産レ
   シピの中から実行すべき生産レシピを選択できることを
   特徴とする請求項３記載の半導体製造装置のレシピ運用
   システム。
5. 【請求項５】 レシピ管理手段モ−ドでは、オペレ−タ
   が装置コントロ−ラの画面を見て指定することによって
   もレシピ管理手段内の生産レシピの中から実行すべき生
   産レシピを選択できることを特徴とする請求項３または
   ４記載の半導体製造装置のレシピ運用システム。
6. 【請求項６】 装置モ−ドまたはホストモ−ドでは、装
   置コントロ−ラ内の生産レシピが自動的にレシピ管理手
   段でバックアップして保存されることを特徴とする請求
   項３、４、または５記載の半導体製造装置のレシピ運用
   システム。
7. 【請求項７】 各モ−ドにおいて、装置コントロ−ラ内
   のメンテナンスレシピが自動的にレシピ管理手段にバッ
   クアップされることを特徴とする請求項３、４、５また
   は６記載の半導体製造装置のレシピ運用システム。