JPH08993B2 - 金属ストリツプの電解処理装置 - Google Patents
金属ストリツプの電解処理装置Info
- Publication number
- JPH08993B2 JPH08993B2 JP62061997A JP6199787A JPH08993B2 JP H08993 B2 JPH08993 B2 JP H08993B2 JP 62061997 A JP62061997 A JP 62061997A JP 6199787 A JP6199787 A JP 6199787A JP H08993 B2 JPH08993 B2 JP H08993B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal strip
- passage
- electrolytic solution
- nozzle
- electrolytic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/06—Wires; Strips; Foils
- C25D7/0614—Strips or foils
- C25D7/0685—Spraying of electrolyte
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、金属ストリップの電気亜鉛めっき、電気鉛
めっき、電気金めっき等の電気めっき、化成処理等の表
面処理、その他電解洗浄等に用いられるラジアル型セル
による金属ストリップの電解処理装置に関する。
めっき、電気金めっき等の電気めっき、化成処理等の表
面処理、その他電解洗浄等に用いられるラジアル型セル
による金属ストリップの電解処理装置に関する。
〈先行技術とその問題点〉 従来のラジアル型セルでは、第４図に示すように、金
属ストリップ２が巻き付けられた巻き付けロール３の最
下部より電解液を電解液通路９に流入させ、ストリップ
入側方向および出側方向に電解液流を２分する形式が一
般的であった。
属ストリップ２が巻き付けられた巻き付けロール３の最
下部より電解液を電解液通路９に流入させ、ストリップ
入側方向および出側方向に電解液流を２分する形式が一
般的であった。
この方向では、金属ストリップ２の通過速度が比較的
遅い場合は、第５図に示すように電解液15がストリップ
入側方向および出側方向の両方の電解液通路9,9に十分
に供給されるが、金属ストリップ２の通過速度が早い場
合第６図に示すように、電解液15がストリップ入側方向
の電解液通路９に十分供給されないという欠点があっ
た。
遅い場合は、第５図に示すように電解液15がストリップ
入側方向および出側方向の両方の電解液通路9,9に十分
に供給されるが、金属ストリップ２の通過速度が早い場
合第６図に示すように、電解液15がストリップ入側方向
の電解液通路９に十分供給されないという欠点があっ
た。
第７図に示すように、ストリップ２の入側に電解液噴
出ノズル７を設置し、電解液15の流れの方向をストリッ
プの通過方向と一致させた（これをパラレルフローとい
う）装置では、ストリップ表面近傍の電解液の攪拌効果
が少なく、金属ストリップ表面における電解イオンの授
受が困難となり、正常な電解処理が行われないという欠
点がある。
出ノズル７を設置し、電解液15の流れの方向をストリッ
プの通過方向と一致させた（これをパラレルフローとい
う）装置では、ストリップ表面近傍の電解液の攪拌効果
が少なく、金属ストリップ表面における電解イオンの授
受が困難となり、正常な電解処理が行われないという欠
点がある。
これに対し、第８図に示すように、ストリップ２の出
側に電解液噴出ノズル７を設置し、電解液15の流れの方
向をストリップの通過方向と逆にした（これをカウンタ
ーフローという）装置では、ストリップ表面近傍の電解
液の攪拌効果が大きく、金属ストリップ表面における電
解イオンの授受が十分に行なわれ、正常な電解処理が行
なわれるという利点がある。しかし、第９図に示すよう
に、ストリップの通過速度が比較的遅い場合には電解液
15が十分電解液通路９内に流れるが、第10図に示すよう
に、ストリップの通過速度が早くなると電解液の粘性に
より電解液がストリップに付着してノズル７の背面方向
へ逆流する量が増しノズル噴出量（噴出圧力）を増加し
ない限り電解液通路９に十分な量の電解液15を流すこと
が不可能となり、正常な電解処理が行われなくなるとい
う欠点がある。
側に電解液噴出ノズル７を設置し、電解液15の流れの方
向をストリップの通過方向と逆にした（これをカウンタ
ーフローという）装置では、ストリップ表面近傍の電解
液の攪拌効果が大きく、金属ストリップ表面における電
解イオンの授受が十分に行なわれ、正常な電解処理が行
なわれるという利点がある。しかし、第９図に示すよう
に、ストリップの通過速度が比較的遅い場合には電解液
15が十分電解液通路９内に流れるが、第10図に示すよう
に、ストリップの通過速度が早くなると電解液の粘性に
より電解液がストリップに付着してノズル７の背面方向
へ逆流する量が増しノズル噴出量（噴出圧力）を増加し
ない限り電解液通路９に十分な量の電解液15を流すこと
が不可能となり、正常な電解処理が行われなくなるとい
う欠点がある。
このように、カウンターフローの電解処理装置におけ
るストリップ高速通板では、電解液通路に十分な量の電
解液を供給することが必要であるが、さらに電解液噴出
ノズル後背面等への電解液の漏出をも防止する必要があ
る。即ち、電解液の漏出により電解液通路内への電解液
供給量（圧力）が減少し、また漏出した電解液が周辺機
器を汚染するおそれがあり、しかも電解液を不必要に消
費することとなるからである。
るストリップ高速通板では、電解液通路に十分な量の電
解液を供給することが必要であるが、さらに電解液噴出
ノズル後背面等への電解液の漏出をも防止する必要があ
る。即ち、電解液の漏出により電解液通路内への電解液
供給量（圧力）が減少し、また漏出した電解液が周辺機
器を汚染するおそれがあり、しかも電解液を不必要に消
費することとなるからである。
このような電解液の漏出を防止する手段としては、電
解液通路の開口付近に、巻き付けロールに巻き付けられ
たストリップに押し付けられたシールロールを設置し、
電解液のシールを行う装置が提案されている。即ち、こ
の装置は、第11図に示すように、電解液通路の開口部10
（ストリップ入側および出側）付近にシールロール6,6
を設け、ストリップ出側のシールロール６は、電極サポ
ート４の上端部に、巻き付けロール３側へ開口するよう
形成された凹部16内に軸受17と共に収納され、その凹部
16内に配置したバネ18によって軸受17を巻き付けロール
３側へ付勢し、シールロール６を巻き付けロール３に押
し付けるよう構成されている。
解液通路の開口付近に、巻き付けロールに巻き付けられ
たストリップに押し付けられたシールロールを設置し、
電解液のシールを行う装置が提案されている。即ち、こ
の装置は、第11図に示すように、電解液通路の開口部10
（ストリップ入側および出側）付近にシールロール6,6
を設け、ストリップ出側のシールロール６は、電極サポ
ート４の上端部に、巻き付けロール３側へ開口するよう
形成された凹部16内に軸受17と共に収納され、その凹部
16内に配置したバネ18によって軸受17を巻き付けロール
３側へ付勢し、シールロール６を巻き付けロール３に押
し付けるよう構成されている。
しかるに、この装置は、バネ18等の構成部品が電解液
15によって腐食され易い上に、構造が複雑であるため、
頻繁に保守点検を行なわなければならず、かつその作業
が面倒であるなどの欠点がある。
15によって腐食され易い上に、構造が複雑であるため、
頻繁に保守点検を行なわなければならず、かつその作業
が面倒であるなどの欠点がある。
また、この装置を改良し、メンテナンス性を向上させ
たシール装置が特開昭60-215800号公報において提案さ
れているが、このシール装置もやはり構造が複雑で、部
品点数が多く、また可動部品が多いために耐久性に問題
がある。
たシール装置が特開昭60-215800号公報において提案さ
れているが、このシール装置もやはり構造が複雑で、部
品点数が多く、また可動部品が多いために耐久性に問題
がある。
〈発明の目的〉 本発明の目的は、上述した従来技術の欠点を解消し、
カウンターフローの電解処理装置において、ストリップ
の通板速度が高速でも電解液通路に十分な電解液を供給
しつつ、電解液通路開口部からの電解液の露出を簡易な
手段により確実に防止することができる金属ストリップ
の電解処理装置を提供することにある。
カウンターフローの電解処理装置において、ストリップ
の通板速度が高速でも電解液通路に十分な電解液を供給
しつつ、電解液通路開口部からの電解液の露出を簡易な
手段により確実に防止することができる金属ストリップ
の電解処理装置を提供することにある。
〈発明の構成〉 このような目的を達成するために、本発明者らは、鋭
意研究の結果、 電解液流をカウンターフローとし、 電解液噴出ノズルの噴出方向を電解液流路に対し45
°以下とし、 電解液通路のストリップ出側および入側の開口部
に、該開口部を封止するシールロールおよびすき間を補
助的にシールする弾性シール部材を設置することによ
り、このシールロール、弾性シール部材およびストリッ
プ等で限定される静圧力室を構成し、 また、これらに加えて、電解液噴出ノズルの噴出口
とシールロールとの間（ノズル後背部）に金属ストリッ
プに沿って流路抵抗を増大せしめる凹凸を有する部材を
設置することにより、電解液通路からの電解液の露出を
確実に防止しうることを見い出し、本発明に至った。
意研究の結果、 電解液流をカウンターフローとし、 電解液噴出ノズルの噴出方向を電解液流路に対し45
°以下とし、 電解液通路のストリップ出側および入側の開口部
に、該開口部を封止するシールロールおよびすき間を補
助的にシールする弾性シール部材を設置することによ
り、このシールロール、弾性シール部材およびストリッ
プ等で限定される静圧力室を構成し、 また、これらに加えて、電解液噴出ノズルの噴出口
とシールロールとの間（ノズル後背部）に金属ストリッ
プに沿って流路抵抗を増大せしめる凹凸を有する部材を
設置することにより、電解液通路からの電解液の露出を
確実に防止しうることを見い出し、本発明に至った。
即ち、本発明は、金属ストリップを巻き付ける回転ロ
ールと、このロールの金属ストリップの巻き付け部分に
相対して回転ロールの半径方向に離間設置される不溶性
電極を有するサポートとで回転ロールの周方向に電解液
通路を形成し、この電解液通路に電解液を金属ストリッ
プの通過方向と逆方向に流すとともに不溶性電極と金属
ストリップ間に電位差を与えて電解処理をする金属スト
リップの電解処理装置において、 前記電解液通路に電解液を流入せしめるノズルの噴出
方向と、ノズル噴出口における電解液通路とのなす角度
が45°以下となるようにノズルを金属ストリップ出側に
設置し、 前記電解液通路の回転ロール周方向開口部に、該開口
部を封止するように、前記金属ストリップが巻き付けら
れた回転ロールに当接するシールロールおよびこれを補
助する弾性シール部材を設けることを特徴とする金属ス
トリップの電解処理装置を提供するものである。
ールと、このロールの金属ストリップの巻き付け部分に
相対して回転ロールの半径方向に離間設置される不溶性
電極を有するサポートとで回転ロールの周方向に電解液
通路を形成し、この電解液通路に電解液を金属ストリッ
プの通過方向と逆方向に流すとともに不溶性電極と金属
ストリップ間に電位差を与えて電解処理をする金属スト
リップの電解処理装置において、 前記電解液通路に電解液を流入せしめるノズルの噴出
方向と、ノズル噴出口における電解液通路とのなす角度
が45°以下となるようにノズルを金属ストリップ出側に
設置し、 前記電解液通路の回転ロール周方向開口部に、該開口
部を封止するように、前記金属ストリップが巻き付けら
れた回転ロールに当接するシールロールおよびこれを補
助する弾性シール部材を設けることを特徴とする金属ス
トリップの電解処理装置を提供するものである。
また、本発明は、金属ストリップを巻き付ける回転ロ
ールと、このロールの金属ストリップの巻き付け部分に
相対して回転ロールの半径方向に離間設置される不溶性
電極を有するサポートとで回転ロールの周方向に電解液
通路を形成し、この電解液通路に電解液を金属ストリッ
プの通過方向と逆方向に流すとともに不溶性電極と金属
ストリップ間に電位差を与えて電解処理をする金属スト
リップの電解処理装置において、 前記電解液通路に電解液を流入せしめるノズルの噴出
方向と、ノズル噴出口における電解通路とのなす角度が
45°以下となるようにノズルを金属ストリップ出側に設
置し、 前記電解液通路の回転ロール周方向開口部に、該開口
部を封止するように、前記金属ストリップが巻き付けら
れた回転ロールに当接するシールロールおよびこれを補
助する弾性シール部材を設け、 前記ノズル噴出口と前記シールロールとの間に流路抵
抗を増大せしめる凹凸を有する部材を金属ストリップに
沿って設置したことを特徴とする金属ストリップの電解
処理装置を提供するものである。
ールと、このロールの金属ストリップの巻き付け部分に
相対して回転ロールの半径方向に離間設置される不溶性
電極を有するサポートとで回転ロールの周方向に電解液
通路を形成し、この電解液通路に電解液を金属ストリッ
プの通過方向と逆方向に流すとともに不溶性電極と金属
ストリップ間に電位差を与えて電解処理をする金属スト
リップの電解処理装置において、 前記電解液通路に電解液を流入せしめるノズルの噴出
方向と、ノズル噴出口における電解通路とのなす角度が
45°以下となるようにノズルを金属ストリップ出側に設
置し、 前記電解液通路の回転ロール周方向開口部に、該開口
部を封止するように、前記金属ストリップが巻き付けら
れた回転ロールに当接するシールロールおよびこれを補
助する弾性シール部材を設け、 前記ノズル噴出口と前記シールロールとの間に流路抵
抗を増大せしめる凹凸を有する部材を金属ストリップに
沿って設置したことを特徴とする金属ストリップの電解
処理装置を提供するものである。
以下、本発明の金属ストリップの電解処理装置を添付
図面に示す好適実施例について詳細に説明する。
図面に示す好適実施例について詳細に説明する。
第１図は、本発明の金属ストリップの電解処理装置の
部分側面断面図である。
部分側面断面図である。
同図に示すように、本発明の金属ストリップの電解処
理装置１は、巻き付けロール３に図中矢印方向に連続的
に走行する金属ストリップ２が巻き付けられ、その外側
にストリップ２と対面して不溶性電極５が配置された電
極サポート４を有し、これら巻き付けロール３と電極サ
ポート４との間に巻き付けロールの周方向に電解液通路
９が形成されるよう構成されている。
理装置１は、巻き付けロール３に図中矢印方向に連続的
に走行する金属ストリップ２が巻き付けられ、その外側
にストリップ２と対面して不溶性電極５が配置された電
極サポート４を有し、これら巻き付けロール３と電極サ
ポート４との間に巻き付けロールの周方向に電解液通路
９が形成されるよう構成されている。
この電解液通路９には、ストリップ出側に電解液を供
給するための電解液噴出ノズル７およびストリップ入側
に使用済の電解液を排出するための電解液排出口８がそ
れぞれ連結され、電解液流15がストリップ２の走行方向
と逆方向となるような、いわゆるカウンターフローが採
用される。
給するための電解液噴出ノズル７およびストリップ入側
に使用済の電解液を排出するための電解液排出口８がそ
れぞれ連結され、電解液流15がストリップ２の走行方向
と逆方向となるような、いわゆるカウンターフローが採
用される。
電解液通路９のストリップ入側および出側には、スト
リップ２が出入りするための開口部10,10が形成されて
いる。本発明ではこれらの開口部10、特にストリップ出
側の開口部10より電解液が露出するのを防止するため
に、次に述べるような構造となっている。
リップ２が出入りするための開口部10,10が形成されて
いる。本発明ではこれらの開口部10、特にストリップ出
側の開口部10より電解液が露出するのを防止するため
に、次に述べるような構造となっている。
第３図は、本発明の金属ストリップの電解処理装置の
ストリップ出側付近の部分拡大断面図である。ストリッ
プ出側の開口部10では、ストリップ２の通板速度が早い
場合、電解液の粘性により電解液がストリップ２に付着
して、電解液噴出ノズル７の背面方向へ逆流する量が増
大する。従って、この電解液の逆流を防止するために、
第３図に示すようにノズル７の噴出方向（ノズル７の軸
線方向）と、ノズル噴出口ａ付近における電解液通路
（ストリップ２の接線方向）とのなす角度θを比較的小
さくし、即ちθが45°以下となるようにノズル７を設置
する。
ストリップ出側付近の部分拡大断面図である。ストリッ
プ出側の開口部10では、ストリップ２の通板速度が早い
場合、電解液の粘性により電解液がストリップ２に付着
して、電解液噴出ノズル７の背面方向へ逆流する量が増
大する。従って、この電解液の逆流を防止するために、
第３図に示すようにノズル７の噴出方向（ノズル７の軸
線方向）と、ノズル噴出口ａ付近における電解液通路
（ストリップ２の接線方向）とのなす角度θを比較的小
さくし、即ちθが45°以下となるようにノズル７を設置
する。
ここで、第12図に示すノズル設置角度θとノズル背面
への電解液の漏れ量との関係のグラフを参照すると、角
θが小さいほど電解液の漏れ量が少ないことがわかり、
特に、角θが45°以下の範囲において、電解液の漏れ量
が著しく少ないことが確認される。
への電解液の漏れ量との関係のグラフを参照すると、角
θが小さいほど電解液の漏れ量が少ないことがわかり、
特に、角θが45°以下の範囲において、電解液の漏れ量
が著しく少ないことが確認される。
しかしながら、ノズル７の設置角度θを45°以下とし
ても、ノズル噴出口背面ｂからある程度の電解液が逆流
する。従って、この流路抵抗を増大さしめるようにノズ
ル７の噴出口と後述するシールロール６との間（ノズル
７の後背部）に、金属ストリップに沿って凹凸を有する
部材、即ち本実施例ではラビリンスシール11を設ける。
ただし、凹凸を有する部材としては、ラビリンスリール
11に限らず、電解液の流路抵抗を増大せしめるようなも
のであれば、いかなるものでもよく、例えば多数の突起
を有するブラシのようなものでもよい。また、凹凸の形
状、数、配設パターン等も特に限定されない。
ても、ノズル噴出口背面ｂからある程度の電解液が逆流
する。従って、この流路抵抗を増大さしめるようにノズ
ル７の噴出口と後述するシールロール６との間（ノズル
７の後背部）に、金属ストリップに沿って凹凸を有する
部材、即ち本実施例ではラビリンスシール11を設ける。
ただし、凹凸を有する部材としては、ラビリンスリール
11に限らず、電解液の流路抵抗を増大せしめるようなも
のであれば、いかなるものでもよく、例えば多数の突起
を有するブラシのようなものでもよい。また、凹凸の形
状、数、配設パターン等も特に限定されない。
なお、このラビリンスシール11は、ストリップ入側の
電解液排出口８の後背部付近にも併せて設置することが
できる。また、第１図に示すように、ラビリンスシール
11の設置を省略することも可能である。
電解液排出口８の後背部付近にも併せて設置することが
できる。また、第１図に示すように、ラビリンスシール
11の設置を省略することも可能である。
さらに、本発明では、ラビリンスシール11に出側にス
トリップ２に当接するシールロール６およびすき間を補
助的にシールする弾性シール部材12を設置し、開口部10
を封止する。
トリップ２に当接するシールロール６およびすき間を補
助的にシールする弾性シール部材12を設置し、開口部10
を封止する。
シールロール６、弾性シール部材12およびストリップ
２等により静圧室13が限定され、この静圧室13の存在に
よりラビリンスシールの出側に背圧を保つことができ
る。
２等により静圧室13が限定され、この静圧室13の存在に
よりラビリンスシールの出側に背圧を保つことができ
る。
このような構成としたことにより、ノズル噴出口ａ、
ノズル噴出口背面ｂ、ラビリンスシール出側ｃおよびシ
ールロールとストリップの接点ｄにおける電解の圧力の
関係は、ａ＞ｂ＞ｃ＞ｄ＞大気圧となっており、その結
果、ストリップの高速通板においても電解液の漏出を確
実に防止することができ、電解液通路９に十分な電解液
15を供給することが可能となる。
ノズル噴出口背面ｂ、ラビリンスシール出側ｃおよびシ
ールロールとストリップの接点ｄにおける電解の圧力の
関係は、ａ＞ｂ＞ｃ＞ｄ＞大気圧となっており、その結
果、ストリップの高速通板においても電解液の漏出を確
実に防止することができ、電解液通路９に十分な電解液
15を供給することが可能となる。
なお、本発明においては、シールロール６を通電ロー
ルとして用いることも可能である。この場合には金属ス
トリップ２内に流れる電流の通電長さを最短にすること
が可能となり、電力ロスおよび金属ストリップ２の昇温
を低減することができるので好ましい。ここでシールロ
ール６を通電ロールとする発明は、本願出願人により特
願昭60-237887号にて既に開示されており、この発明を
本願発明に組み合せて適用することも可能である。
ルとして用いることも可能である。この場合には金属ス
トリップ２内に流れる電流の通電長さを最短にすること
が可能となり、電力ロスおよび金属ストリップ２の昇温
を低減することができるので好ましい。ここでシールロ
ール６を通電ロールとする発明は、本願出願人により特
願昭60-237887号にて既に開示されており、この発明を
本願発明に組み合せて適用することも可能である。
ただし、本発明においては、不溶性電極５とストリッ
プ２との間の通電方法は、上記に限定されるものではな
く、任意の手段が可能である。
プ２との間の通電方法は、上記に限定されるものではな
く、任意の手段が可能である。
なお、第２図に示すように電解液通路９を形成する巻
き付けロール３と電極サポート４との間にもすき間が生
じるので、電極サポート４の流路カバー41にシール部材
14を固着し、巻き付けロール３の両側面の周縁部付近を
サイドシールする。
き付けロール３と電極サポート４との間にもすき間が生
じるので、電極サポート４の流路カバー41にシール部材
14を固着し、巻き付けロール３の両側面の周縁部付近を
サイドシールする。
このシール部材14は本出願人が実願昭60-038680号に
て既に開示している極間シール部材を用いるのがよい。
即ちこの考案は、ラジアル形めっき層の巻き付けロール
３と電極５または、電極５側の流路カバー41との間隙に
設置される極間シール部材において、該極間シール部材
は絶縁弾性材料で構成され、巻き付けロールに対応して
長手方向に円弧状にわん曲する薄肉部と、前記電極また
は電極側の流路カバー41に固定される固定部を有し、前
記薄肉部が液圧によってロールに押圧接触するようにし
たことを特徴とする極間シール部材であり、巻き付けロ
ールとの接触面圧が少なく、摩耗が少ないという利点を
有する。
て既に開示している極間シール部材を用いるのがよい。
即ちこの考案は、ラジアル形めっき層の巻き付けロール
３と電極５または、電極５側の流路カバー41との間隙に
設置される極間シール部材において、該極間シール部材
は絶縁弾性材料で構成され、巻き付けロールに対応して
長手方向に円弧状にわん曲する薄肉部と、前記電極また
は電極側の流路カバー41に固定される固定部を有し、前
記薄肉部が液圧によってロールに押圧接触するようにし
たことを特徴とする極間シール部材であり、巻き付けロ
ールとの接触面圧が少なく、摩耗が少ないという利点を
有する。
上述のようなシール部材12および14は、ゴム、樹脂等
の弾性材料で構成されているのがよく、特に耐摩耗性に
優れる材料、例えばクロロブレンゴムを用いるのが好ま
しい。
の弾性材料で構成されているのがよく、特に耐摩耗性に
優れる材料、例えばクロロブレンゴムを用いるのが好ま
しい。
なお、本発明の金属ストリップの電解処理装置は、電
気亜鉛めっきをはじめ、錫めっき、ニッケルめっき、金
めっき、亜鉛系合金めっき等、各種金属および合金めっ
きに使用することができるのみならず、化成処理等の表
面処理、その他電解洗浄等、広義の電解処理にも広く用
いることができる。
気亜鉛めっきをはじめ、錫めっき、ニッケルめっき、金
めっき、亜鉛系合金めっき等、各種金属および合金めっ
きに使用することができるのみならず、化成処理等の表
面処理、その他電解洗浄等、広義の電解処理にも広く用
いることができる。
〈作用〉 以下に本発明の金属ストリップの電解処理装置の作用
を簡単に説明する。
を簡単に説明する。
第１図に示すように金属ストリップ２は、巻き付けロ
ール３に巻き付けられ、図中矢印方向に連続的に走行し
ている。
ール３に巻き付けられ、図中矢印方向に連続的に走行し
ている。
一方、電解液15は、電解液噴出ノズル７より噴出さ
れ、電解液通路９を図中矢印15方向に、即ちストリップ
２の走行方向と逆方向に流れ、電解液排出口８より排出
される。
れ、電解液通路９を図中矢印15方向に、即ちストリップ
２の走行方向と逆方向に流れ、電解液排出口８より排出
される。
電解液15の供給と同時にストリップ２と、電極５との
間に通電することにより、電解液通路９内において、ス
トリップ２に電気めっき、電解洗浄のような電解処理が
なされる。
間に通電することにより、電解液通路９内において、ス
トリップ２に電気めっき、電解洗浄のような電解処理が
なされる。
電解液通路９では、第２図に示すようにシール部材14
により、巻き付けロール３の両側面の周縁部物付近をシ
ールしているため、電解液が巻き付けロール３と電極サ
ポート４とのすき間からめっき液通路９外へ漏れ出すこ
とはない。
により、巻き付けロール３の両側面の周縁部物付近をシ
ールしているため、電解液が巻き付けロール３と電極サ
ポート４とのすき間からめっき液通路９外へ漏れ出すこ
とはない。
このように、電解液通路９へ送りこむ電解液供給圧力
は流路抵抗に打ち勝つための圧力が必要である。また、
カウンターフローにおいては、電解液15の粘性により、
電解液がストリップ２に付着し逆流を生じるが、特にス
トリップの通板速度が速いと、これが顕著となり、電解
液ノズル７の背面方向へ逆流する電解液の量が増大し、
電解液の噴出量（噴出圧力）を増さない限り電解液通路
９への電解液の十分な供給が困難となる。
は流路抵抗に打ち勝つための圧力が必要である。また、
カウンターフローにおいては、電解液15の粘性により、
電解液がストリップ２に付着し逆流を生じるが、特にス
トリップの通板速度が速いと、これが顕著となり、電解
液ノズル７の背面方向へ逆流する電解液の量が増大し、
電解液の噴出量（噴出圧力）を増さない限り電解液通路
９への電解液の十分な供給が困難となる。
そこで、これを防ぐために、第３図に示すように、ま
ず、電解液噴出ノズル７の設置角度を前述した角θ≦45
°とし、これによって、電解液のノズル背面への逆流を
大部分抑制する。
ず、電解液噴出ノズル７の設置角度を前述した角θ≦45
°とし、これによって、電解液のノズル背面への逆流を
大部分抑制する。
さらに、ノズル７の背面に電解液が逆流したとして
も、その位置にラビリンスシール11が設けられていれ
ば、ラビリンスシール11の複数の凹凸により流路抵抗が
増大されるので、逆流した電解液は減速、減圧され、静
圧室13への流入が阻止され、電解液の漏出防止に寄与す
る。なお、ラビリンスシール11が設けられていなくて
も、電解液の漏出防止がなされることはもちろんであ
る。
も、その位置にラビリンスシール11が設けられていれ
ば、ラビリンスシール11の複数の凹凸により流路抵抗が
増大されるので、逆流した電解液は減速、減圧され、静
圧室13への流入が阻止され、電解液の漏出防止に寄与す
る。なお、ラビリンスシール11が設けられていなくて
も、電解液の漏出防止がなされることはもちろんであ
る。
ラビリンスシール11の出側には、ストリップ２に当接
するシール６およびすき間を補助的にシールする弾性シ
ール部材12が設置され、開口部10を封止する。即ちシー
ルロール６、弾性シール部材12およびストリップ２等で
限定される静圧室13の存在により、ラビリンスシールの
出側に背圧を保つことができノズル出側の背圧が大きく
保て、電解液の漏出をほぼ確実に防止する。
するシール６およびすき間を補助的にシールする弾性シ
ール部材12が設置され、開口部10を封止する。即ちシー
ルロール６、弾性シール部材12およびストリップ２等で
限定される静圧室13の存在により、ラビリンスシールの
出側に背圧を保つことができノズル出側の背圧が大きく
保て、電解液の漏出をほぼ確実に防止する。
〈実施例〉 （実施例１） 第１図〜第３図に示す構造の金属ストリップの電解処
理装置であって、以下に示す仕様の装置を用い、電解液
噴出ノズルの設置角度θを種々変更して、角θとノズル
背面への電解液漏れ量（ノズル総噴出量に対する割合）
との関係を調べた。その結果を第12図のグラフに示す。
このグラフの結果から、いずれの装置においても電解液
噴出ノズルの設置角θが45°以下の範囲で、電解液の漏
出量が著減されていることがわかる。
理装置であって、以下に示す仕様の装置を用い、電解液
噴出ノズルの設置角度θを種々変更して、角θとノズル
背面への電解液漏れ量（ノズル総噴出量に対する割合）
との関係を調べた。その結果を第12図のグラフに示す。
このグラフの結果から、いずれの装置においても電解液
噴出ノズルの設置角θが45°以下の範囲で、電解液の漏
出量が著減されていることがわかる。
［装置No.1］ ラビリンスシールおよび静圧室（シールロールおよび
シール板）を設けず（第８図に示す構造）。
シール板）を設けず（第８図に示す構造）。
電解液通路長 :1.5m 極 間 寸 法 :10mm ストリップ板巾 :900mm ストリップ板厚 :0.9mm 巻き付けロール巾 :1200mm 巻き付けロール直径:2000mm ノズル設置角θ :0°＜θ≦75° ストリップ通板速度:100m/min 電解液噴出流速 :1m/sec ［装置No.2］ ラビリンスシールを設けず、静圧室（ゴム製のシール
ロールおよびシール板）を設ける（第１図に示す構
造）。
ロールおよびシール板）を設ける（第１図に示す構
造）。
ノズル後背部の狭通路の長さｌ＝200mm、ストリップ
との間隙距離ｍ＝5mmおよび静圧室のヘッドＨ＝200mmと
した。
との間隙距離ｍ＝5mmおよび静圧室のヘッドＨ＝200mmと
した。
その他の条件は装置No.1と同様。
［装置No.3］ ラビリンスシールおよび静圧室（ゴム製のシールロー
ルおよびシール板）を設ける（第３図に示す構造）。
ルおよびシール板）を設ける（第３図に示す構造）。
ラビリンスシールの長さＬ＝200mm、その凸部の高さ5
mm、凸部の幅（通板方向）5mmおよび静圧室のヘッドＨ
＝200mmとした。
mm、凸部の幅（通板方向）5mmおよび静圧室のヘッドＨ
＝200mmとした。
その他の条件は装置No.1と同様。
（実施例２） 上記装置No.1〜３の装置を用い、これらの装置におい
て、電解液噴出ノズルの設置角度θを30°、電解液噴出
流速を2m/secとし、ストリップ通板速度を50〜300m/min
の範囲で種々変更してストリップ通板速度とノズル背面
への電解液の漏れ量（ノズル総噴出量に対する割合）と
の関係を調べた。
て、電解液噴出ノズルの設置角度θを30°、電解液噴出
流速を2m/secとし、ストリップ通板速度を50〜300m/min
の範囲で種々変更してストリップ通板速度とノズル背面
への電解液の漏れ量（ノズル総噴出量に対する割合）と
の関係を調べた。
その結果を第13図のグラフに示す。このグラフの結果
から、本発明の装置No.2および３では、電解液の漏れが
ほとんどなく、特にストリップ通板速度が高速でも電解
液の漏れ量が少ないことがわかる。
から、本発明の装置No.2および３では、電解液の漏れが
ほとんどなく、特にストリップ通板速度が高速でも電解
液の漏れ量が少ないことがわかる。
〈発明の効果〉 以上述べたように、本発明の金属ストリップの電解処
理装置によれば、カウンターフローを採用した電解処理
装置において、ストリップの通板速度が高速でも、電解
液噴出ノズル背面への電解液の逆流を抑制し、電解液通
路開口部からの電解液の漏出を簡易な構成、手段により
確実に防止することができる。
理装置によれば、カウンターフローを採用した電解処理
装置において、ストリップの通板速度が高速でも、電解
液噴出ノズル背面への電解液の逆流を抑制し、電解液通
路開口部からの電解液の漏出を簡易な構成、手段により
確実に防止することができる。
その結果、所定のノズル噴出圧力で電解液通路内へ十
分な量の電解液を供給することができ、正常な電解処理
が行われるとともに、漏出した電解液により周辺機器を
汚染することもなく、また電解の不必要な消費を抑える
こともできる。
分な量の電解液を供給することができ、正常な電解処理
が行われるとともに、漏出した電解液により周辺機器を
汚染することもなく、また電解の不必要な消費を抑える
こともできる。
第１図は、本発明の金属ストリップの電解処理装置の好
適な構成例を示す部分側面断面図である。 第２図は、第１図に示す装置のII-II線での部分断面図
である。 第３図は、本発明の金属ストリップの電解処理装置のス
トリップ出側付近の部分拡大断面図である。 第４図〜第11図は、それぞれ従来のラジアル型電解処理
装置の構成を模式的に示す部分側面断面図である。 第12図は、実施例における電解液噴出ノズルの設置角度
θと、ノズル背面への電解液の漏れ量との関係を示すグ
ラフである。 第13図は、実施例におけるストリップ通板速度と電解液
噴出ノズル背面への電解液の漏れ量との関係を示すグラ
フである。 符号の説明 １……金属ストリップの電解処理装置、２……ストリッ
プ、３……巻き付けロール、４……電極サポート、41…
…流路カバー、５……電極、６……シールロール、７…
…電解液供給ノズル、８……電解液排出口、９……電解
液通路、10……開口部、11……ラビリンスシール、12…
…弾性シール部材、13……静圧室、14……シール部材、
15……電解液（流）、16……凹部、17……軸受、18……
バネ、ａ……ノズル噴射口、ｂ……ノズル噴射口背面、
ｃ……ラビリンスシール出側、ｄ……シールロールとス
トリップの接点
適な構成例を示す部分側面断面図である。 第２図は、第１図に示す装置のII-II線での部分断面図
である。 第３図は、本発明の金属ストリップの電解処理装置のス
トリップ出側付近の部分拡大断面図である。 第４図〜第11図は、それぞれ従来のラジアル型電解処理
装置の構成を模式的に示す部分側面断面図である。 第12図は、実施例における電解液噴出ノズルの設置角度
θと、ノズル背面への電解液の漏れ量との関係を示すグ
ラフである。 第13図は、実施例におけるストリップ通板速度と電解液
噴出ノズル背面への電解液の漏れ量との関係を示すグラ
フである。 符号の説明 １……金属ストリップの電解処理装置、２……ストリッ
プ、３……巻き付けロール、４……電極サポート、41…
…流路カバー、５……電極、６……シールロール、７…
…電解液供給ノズル、８……電解液排出口、９……電解
液通路、10……開口部、11……ラビリンスシール、12…
…弾性シール部材、13……静圧室、14……シール部材、
15……電解液（流）、16……凹部、17……軸受、18……
バネ、ａ……ノズル噴射口、ｂ……ノズル噴射口背面、
ｃ……ラビリンスシール出側、ｄ……シールロールとス
トリップの接点
Claims (2)
- 【請求項１】金属ストリップを巻き付ける回転ロール
と、このロールの金属ストリップの巻き付け部分に相対
して回転ロールの半径方向に離間設置される不溶性電極
を有するサポートとで回転ロールの周方向に電解液通路
を形成し、この電解液通路に電解液を金属ストリップの
通過方向と逆方向に流すとともに不溶性電極と金属スト
リップ間に電位差を与えて電解処理をする金属ストリッ
プの電解処理装置において、 前記電解液通路に電解液を流入せしめるノズルの噴出方
向と、ノズル噴出口における電解液通路とのなす角度が
45°以下となるようにノズルを金属ストリップ出側に設
置し、 前記電解液通路の回転ロール周方向開口部に、該開口部
を封止するように、前記金属ストリップが巻き付けられ
た回転ロールに当接するシールロールおよびこれを補助
する弾性シール部材を設けることを特徴とする金属スト
リップの電解処理装置。 - 【請求項２】金属ストリップを巻き付ける回転ロール
と、このロールの金属ストリップの巻き付け部分に相対
して回転ロールの半径方向に離間設置される不溶性電極
を有するサポートとで回転ロールの周方向に電解液通路
を形成し、この電解液通路に電解液を金属ストリップの
通過方向と逆方向に流すとともに不溶性電極と金属スト
リップ間に電位差を与えて電解処理をする金属ストリッ
プの電解処理装置において、 前記電解液通路に電解液を流入せしめるノズルの噴出方
向と、ノズル噴出口における電解通路とのなす角度が45
°以下となるようにノズルを金属ストリップ出側に設置
し、 前記電解液通路の回転ロール周方向開口部に、該開口部
を封止するように、前記金属ストリップが巻き付けられ
た回転ロールに当接するシールロールおよびこれを補助
する弾性シール部材を設け、 前記ノズル噴出口と前記シールロールとの間に流路抵抗
を増大せしめる凹凸を有する部材を金属ストリップに沿
って設置したことを特徴とする金属ストリップの電解処
理装置。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62061997A JPH08993B2 (ja) | 1987-03-17 | 1987-03-17 | 金属ストリツプの電解処理装置 |
| CA000561425A CA1308059C (en) | 1987-03-17 | 1988-03-14 | Apparatus for continuous electrolytic treatment of metal strip and sealing structure for electrolytic cell therefor |
| US07/167,400 US4885071A (en) | 1987-03-17 | 1988-03-14 | Apparatus for continuous electrolytic treatment of metal strip and sealing structure for electrolytic cell therefor |
| DE8888104127T DE3874574D1 (de) | 1987-03-17 | 1988-03-15 | Vorrichtung zur kontinuierlichen elektrolytischen behandlung eines metallbandes und dichtungsvorrichtung fuer eine entsprechende elektrolysezelle. |
| EP88104127A EP0282980B1 (en) | 1987-03-17 | 1988-03-15 | Apparatus for continuous electrolytic treatment of metal strip and sealing structure for electrolytic cell therefore |
| AU13203/88A AU612629B2 (en) | 1987-03-17 | 1988-03-17 | Apparatus for continuous electrolytic treatment of metal strip and sealing structure for electrolytic cell therefor |
| KR1019880002831A KR930010714B1 (ko) | 1987-03-17 | 1988-03-17 | 금속 스트립의 전해처리장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62061997A JPH08993B2 (ja) | 1987-03-17 | 1987-03-17 | 金属ストリツプの電解処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63227798A JPS63227798A (ja) | 1988-09-22 |
| JPH08993B2 true JPH08993B2 (ja) | 1996-01-10 |
Family
ID=13187354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62061997A Expired - Lifetime JPH08993B2 (ja) | 1987-03-17 | 1987-03-17 | 金属ストリツプの電解処理装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4885071A (ja) |
| EP (1) | EP0282980B1 (ja) |
| JP (1) | JPH08993B2 (ja) |
| KR (1) | KR930010714B1 (ja) |
| AU (1) | AU612629B2 (ja) |
| CA (1) | CA1308059C (ja) |
| DE (1) | DE3874574D1 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8802353A (nl) * | 1988-09-23 | 1990-04-17 | Hoogovens Groep Bv | Werkwijze voor het eenzijdig elektrolytisch bekleden van een bewegende metaalband. |
| US4885072A (en) * | 1988-10-04 | 1989-12-05 | Harry John O | Container for corrosive electrolyte |
| JPH036395A (ja) * | 1989-05-31 | 1991-01-11 | Kawasaki Steel Corp | 水平型めっき槽 |
| US5079050A (en) * | 1989-11-29 | 1992-01-07 | Corrosion Technology, Inc. | Container for corrosive material |
| US5066379A (en) * | 1990-06-14 | 1991-11-19 | Corrosion Technology, Inc. | Container for corrosive material |
| US5228965A (en) * | 1990-10-30 | 1993-07-20 | Gould Inc. | Method and apparatus for applying surface treatment to metal foil |
| US5069762A (en) * | 1991-01-18 | 1991-12-03 | Usx Corporation | Appartaus for improved current transfer in radial cell electroplating |
| US5483973A (en) * | 1992-10-30 | 1996-01-16 | Becton, Dickinson And Company | Needle stopper and needle removal device |
| US5755935A (en) * | 1996-03-07 | 1998-05-26 | Jackson; Dale | Processing system |
| US6176985B1 (en) | 1998-10-23 | 2001-01-23 | International Business Machines Corporation | Laminated electroplating rack and connection system for optimized plating |
| DE10212436B4 (de) * | 2002-03-21 | 2005-03-03 | Sms Demag Ag | Vorrichtung zur Behandlung von strangförmigem metallischen Gut und ihre Verwendung |
| KR101376585B1 (ko) * | 2012-05-07 | 2014-04-01 | (주)포스코 | 도금롤 이물질 유입 방지 시스템 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2918069A (en) * | 1958-01-15 | 1959-12-22 | Hanson Van Winkle Munning Co | Sealing rolls for tanks |
| JPS54110142A (en) * | 1978-02-16 | 1979-08-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | High-speed plating equipment |
| JPS6082700A (ja) * | 1983-10-07 | 1985-05-10 | Kawasaki Steel Corp | ラジアルセル型めつき槽におけるカウンタ−フロ−装置 |
| JPS60215800A (ja) * | 1984-04-06 | 1985-10-29 | Kawasaki Steel Corp | ストリツプの表面処理設備におけるシ−ル装置 |
| JPS6164896A (ja) * | 1984-09-06 | 1986-04-03 | Kawasaki Steel Corp | 金属ストリップの電解処理装置 |
| ES8601148A1 (es) * | 1984-12-10 | 1985-11-16 | Ferrer Int | Procedimiento de obtencion de nuevos derivados imidazoliletoxiindanicos. |
| IT1182818B (it) * | 1985-08-12 | 1987-10-05 | Centro Speriment Metallurg | Dispositivo a cella radiale per elettrodeposizione |
| CA2092955C (en) * | 1992-04-06 | 1999-01-12 | Sunil P. Dasgupta | Stable blend of ketene dimer size and colloidal silica |
| JPH0682700A (ja) * | 1992-09-03 | 1994-03-25 | Sharp Corp | 光学機器の倍率切換装置 |
-
1987
- 1987-03-17 JP JP62061997A patent/JPH08993B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-03-14 US US07/167,400 patent/US4885071A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-03-14 CA CA000561425A patent/CA1308059C/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-03-15 EP EP88104127A patent/EP0282980B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-03-15 DE DE8888104127T patent/DE3874574D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-03-17 AU AU13203/88A patent/AU612629B2/en not_active Ceased
- 1988-03-17 KR KR1019880002831A patent/KR930010714B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR930010714B1 (ko) | 1993-11-08 |
| AU1320388A (en) | 1988-09-15 |
| JPS63227798A (ja) | 1988-09-22 |
| AU612629B2 (en) | 1991-07-18 |
| KR880011374A (ko) | 1988-10-28 |
| CA1308059C (en) | 1992-09-29 |
| DE3874574D1 (de) | 1992-10-22 |
| US4885071A (en) | 1989-12-05 |
| EP0282980B1 (en) | 1992-09-16 |
| EP0282980A1 (en) | 1988-09-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH08993B2 (ja) | 金属ストリツプの電解処理装置 | |
| TW448246B (en) | An electrolytic apparatus having a non-contact type electrolytic solution sealing devices | |
| EP0125707B1 (en) | Method and apparatus for unilateral electroplating of a moving metal strip | |
| CN210481530U (zh) | 节能环保型酸洗装置及带材处理系统 | |
| CN210796645U (zh) | 紊流型酸洗装置及带材处理系统 | |
| JP3402423B2 (ja) | 電気めっき槽における金属ストリップの振動防止方法および振動防止装置 | |
| KR100302171B1 (ko) | 금속스트립의한측면을전해코팅하기위한장치 | |
| JPS6121319B2 (ja) | ||
| JPH0310720B2 (ja) | ||
| JP2588454B2 (ja) | 竪型噴流メッキ装置 | |
| JPH08277493A (ja) | 水平型電気めっき装置および電気めっき方法 | |
| KR900008255B1 (ko) | 전기도금장치의 역류기구 | |
| JP2564272Y2 (ja) | 縦向き帯状材表面処理用液槽 | |
| JPS6199695A (ja) | めつき液供給ノズル | |
| JPS63128196A (ja) | 金属帯の連続電解処理における通電方法および装置 | |
| JPS60149795A (ja) | 連続電気メツキ装置 | |
| JPH02182895A (ja) | 連続めっき装置における液もれ防止装置 | |
| JPS60258496A (ja) | 連続式電気メツキ装置 | |
| JP2812648B2 (ja) | 電気メッキ装置 | |
| JPH08333698A (ja) | 高速処理ラインにおける鋼板の液切り装置 | |
| JPH08277495A (ja) | 金属ストリップの電気めっき装置 | |
| KR100804237B1 (ko) | 스캐일 발생이 적은 통전롤 | |
| JPH08127896A (ja) | 金属ストリップの連続電気めっき装置 | |
| JPH0797698A (ja) | 金属ストリップの連続電気めっき装置 | |
| JPH10298797A (ja) | 電解メッキ装置におけるエッジマスクの制御方法及びエッジマスクの追従装置 |