JPS6082700A - ラジアルセル型めつき槽におけるカウンタ−フロ−装置 - Google Patents

ラジアルセル型めつき槽におけるカウンタ−フロ−装置

Info

Publication number
JPS6082700A
JPS6082700A JP58186883A JP18688383A JPS6082700A JP S6082700 A JPS6082700 A JP S6082700A JP 58186883 A JP58186883 A JP 58186883A JP 18688383 A JP18688383 A JP 18688383A JP S6082700 A JPS6082700 A JP S6082700A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
nozzles
nozzle
cell type
strip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP58186883A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6256960B2 (ja
Inventor
Akira Komoda
薦田 章
Yasuhiro Hirooka
靖博 広岡
Yoshihisa Yoshihara
吉原 敬久
Akira Matsuda
明 松田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kawasaki Steel Corp filed Critical Kawasaki Steel Corp
Priority to JP58186883A priority Critical patent/JPS6082700A/ja
Priority to US06/627,394 priority patent/US4500400A/en
Priority to EP84304596A priority patent/EP0140474B1/en
Priority to DE8484304596T priority patent/DE3462613D1/de
Priority to ES534120A priority patent/ES8505420A1/es
Publication of JPS6082700A publication Critical patent/JPS6082700A/ja
Publication of JPS6256960B2 publication Critical patent/JPS6256960B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/02Electroplating of selected surface areas
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0614Strips or foils
    • C25D7/0635In radial cells

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技 術 分 野 金属ストリップの電気めつき波箔、とくにラジアルセル
型めっき槽を用いて、従来実用的に不可能であった程に
低いライン速度における高1に流密度めっきを可能とす
ること、に関連してこの明細占に述べる技術内容は、め
っき液の循環に供するノズル配置についての解明を基礎
として改良されたこの種のめつき装置内″を提供するも
のである。
背 景 技 術 ラジアルセル型めっき装;Fiは、大径の通電用回転ド
ラムをめっき液中にほぼ半周にわたってが漬し、金繰ス
トリップ(以下単にストリップという)を、該回転ドラ
ムの外向にやはりほぼ半周にわたり接触させ、その回転
と同期して走行させるIB」に、該ストリップに対して
半径方向の通電ギャップを隔てて設置した@極との間に
、該めっき液を介して通?比を行う電気めっき装置であ
る。
このめっき装置は、構成上ストリップの片面のみをめっ
きするのに好適であり、また通電ギャップすなわち通板
ストリップと陽極面との極間距離を小さくできるので、
めっき電力の無駄な消費が少くて済み、大電流による高
速めつきが可能である。
−ffにこのfilj電気めっきにおいては、@枠とし
て不溶性電極を用いる場合と、めっきすべき金属を主成
分とする可溶性電極を用いる場合とがあるが、とくに後
者の可溶性陽極を使用する場合にはめっきすべき金属の
補給尋容易であり、また電極面での力゛ス発生が少いな
どの利点があるため、とりわけ大電流を投入する厚めつ
きに適した方式とされている。
従来この方式では、第1図(A (b)の模式図に示す
ようにストリップlに対しめつき液を、めっき槽。
2の底部の入口2′から、回転ドラム3へ向けて噴出さ
せ、回転ドラム3の外周に接触してその回転に随伴走行
するス) IJツブ1に対し、回転ドラム8の上半周に
面しその前後にて対をなす弓形の・陽極5との間隙に向
は下方から供給する。
従って、めっき液の流れる方向は、ストリップ1の進入
側(以下ダウンパスという)では対向流となるが、スト
リップlの退出側(以下アップパスという)ではス) 
IJツブ1の進行と並行流をなすことになる。
さて一般に電気めっきにおいては、めっき電流密度が大
きい程、所要のめっきを高速度或いは小型の設備で得る
ことができるので好ましいとされている。しかし電流密
度が限界を昭えて過大な場合、ストリップ1の表面に樹
枝状の■L析を生じ、特にストリップ1の縁部で、゛電
流の過度集中によるか、Cけ又は黒ぶちと呼はれる欠陥
を発生する。
このような限界電流W;度は、めっき条件(液絹戊温度
など)によっても変化するが、ストリップlとめつき液
の相対速度がとくに大きな影幹を及ぼず。
従って第1図に示した従来のラジアルセル型めっき槽に
おいては、とくに低いライン速度となった操業領域で上
記並行流となるアップパスにて1・相対速度が低くなる
ため限界電流密度が低く、焼けを起し易いところに問題
があった。その−例を第2図に示す如く、ダウンパスで
は良好なめっきを得る条件の下でも、アップパスにおい
て焼けを生じ、そのために全供給電流を減少させ、又ラ
イン速度を下げて不利な操業する必要が停いられたので
ある。
加えて近年来、耐食性に対する要求がより厳しくなると
ともに従来の単一金属めっきに代って、各種の合金めっ
きの実用化が推進されつつあり、たとえばZn −Ni
、 Zn −Feなどの2元系のみならず、Zn −N
i −Go 、 Zn −Ni −Orなどの多元糸め
っきも検討されている。
これら合金めつきに際しては、合金成分の電析が微妙な
バランスに支配され、電流密度、液流速の変動が合金成
分比に影響するところが大きく、例えば従来のラジアル
セルでZn −Feめつきを行なった場合の一例を第3
図に示したように、めっき厚み方向にて、20%のかな
りの変動を生じることが認められている。またこのとき
アップパスに・おけるストリップ表面の流速ばらつきに
起因すると思われる、不安定な黒すじ横様がときに発生
し、外観を著しく損うことも経験された。
発 明 の 目 的 前述した従来のラジアルセルにおけるめっき欠陥を改善
して、低いライン速度の際であっても良好なめっきを的
確に得ることができる実用可能なラジアルセル型めっき
槽におけるカウンターフロー装置を提供することがこの
発明の目的である。
発 明 の 構 成 上記の目的は、次の事項を骨子とする仕組みにより確実
に成就される。
ラジアルセル型めっき槽において、該めっき槽ノ底部に
てダウンパス側に開口部を有するボトムノズルを、また
アップパス側液面近傍にて先端を浸漬した開口部を有す
るトップノズルを、それぞれ備えることからなるカウン
ターフロー装置。
この場合においてボトムノズルおよびトップノ・ズルが
、それらの開口部より噴出するめつき液の砿速度を、極
間において0゜2〜2 m/sとする能力をもち、また
ボトムノズルおよびトップノズルがそれらの開口部にお
けるめっき液噴出方向につき回転ドラムの接線に対し1
0度以内の配置であることがとくに好適である。
またトップノズル先端部の浸漬深さは静止液面に対しマ
イナス1511ff以上が必要である。
この発明の上記構成にて、回転ドラムとの接触下にその
回転に随伴してめっき液中に侵入しかつ液中から6を脱
するストリップのダウンバスについてはもちろん、アッ
プバスについても弓形電極との通電すき間における対向
流のめっき液循環が強制され得るため、前述した問題点
の悉くか解決され7するわけである。
以下この発明を図面により具体的に説明する。
第4図および第5図にボトムノズル6、トップノズル7
の一例を示し、第6図(a)、Φ) 、 (C)には、
これによりめっき液の循環系統を改良したカウンターフ
ロー装置を備えるラジアルセル型めっキ槽・を図解した
各ノズル6および7は、何れもストリップ1の通板の向
きと向い会って開口するスリットを先端l にもつダク
ト6a、7aを、ブレナム筒又はヘッダ6b、7bと連
通させ、ヘッダ6b、7bはそれぞれめっき液循環用ポ
ンプと接続する。図中6c、7cはダク)6a17&の
補強リブであり、また第5図のトップノズル7は、その
着脱用の継手7dをもつ例で示した。
第6図において8.9はめつき液の循環用配管10.1
1はそのスリーブ継手であり、同図[有]) 、 (C
)に示した゛矢印α、βの向きにめっき液の循環流を圧
送してヘッダ6b、7b内に所定圧力を保持させること
により、ボトムノズル6およびトップノズル7の先端開
口から、ストリップlのダウンバスおよびアップバスの
双方に対しストリップ1の矢印rに示した通板方向と対
回流になるめっき液の流動を生じさせるものとし、一方
めっき槽2内の液レベルは、オーバーフロー堰12にて
一定に保持し、その溢流を楯壌用ポンプに導く。
次に第7図(a) 、 (b)にボトムノズル6の変形
例を示し、この例では、アップパス側を通り抜けためっ
き液のボトムノズルν6からの噴流に帯同混入を防ぐ手
だてを講じて、トップノズル7におけると同様に、リフ
レッシュしためつき液を1ダウンパスに循環供給する。
すなわちボトムノズ/I/6のダクト6aおよびヘッダ
6bをbiI後に仕切り壁6dにより2分して後半分に
アップバスに沿い、開口する吸込み口6eを開口させて
、帰戻用配管8′を介して排出させる。図中13は、ダ
ウンバスとアップバスの中間でストリップ1に対し、近
接配置したセパレータで、柔軟なたとえばブラシ又はス
ポンジ状とする。
この型式のボトムノズル6は、トップノズル7と同様な
めっき液流動をもたらす作用に加えて、弓形の陽極5に
たとえば不溶性アノードを用いたとき多量に発生すると
くにアップバス側におけるカスの除去に便宜である。
第7図について説明をしたボトムノズA/6を用いたカ
ウンタフロー装置を有するラジアルセル型・めっき槽に
おける操業要領を第8図に示す。
ここに代表的な亜鉛めっき浴組成) Zn O,i!、 200 g/l 、 KO,I! 
300 g/lで浴温50℃の操秦条件の下において、
ボトムノズル6およびトップノズル7から流速0−1 
m/s 、 0.2 n’s 。
1111/Sおよび2 m/sでめっき液を供給した際
における限界電流密度(A/dm2)に及はすストリッ
プ1のライン速度の影響について第9図に示し、パラメ
ーターにとっためっき液流速をあられす直線の上方領域
では、めつ誓σ11上に炉、けを生じることを示す。
めっき液の流速はo、2m/sより低いとき゛混流密度
を高くして高能率のめつき1に柴を行うことの要請をη
)′dだし得す、一方めっき液の流速がz m/sを超
えるような循環hVを?qるためには、あまりにも大容
散のポンプを必要とし設備コスト的に不利であるので、
0.2〜2 m/sの流速にすることが好ましい。
つぎにHe含有率20%目標のZn 、−Fe!合金め
つきを、めっき付着量20 g/m”にて次の条件で・
行った。
めっき条件 浴組成 Zn012200 g/l KCl800 g
/lFeCl21−4H20100g/l 浴 温 50°C 電流密度 10 0 A/dz2 R)られた合金層のFe含有率をめっき厚み方向の差に
ついて工MMAにより測定した結果、第1O図のように
ボトムノズル6およびトップノズル7の開口部における
めっき液の回転ドラム8の接靭に対する、噴出角度θが
±10°を超えるとめつき層表層から地鉄Qこ至る合金
めっき層中B’e含有率が20係より大幅に低減するこ
ととなり、均一な合金組成が得られず、これに反し±l
θ°以内の噴出角度では、はぼ均一なめつき合金組成が
得られた。
以上側れの場合においても可溶性電極を用いるとき、複
数の弓形アノードを用意して、めつき槽内に回転ドラム
の母線に対しわずかに傾斜してボトムノズル6を挾んで
前後に対設される浸漬ブスバー上に乗せ、消耗に応じて
横送りすることによ・す、極間距離を補正維持できるよ
うにする慣例に従う場合のほか、いわゆるバスケットア
ノード方式としてもよく、この場合はバスケットを固定
できるので極間の補正の必要がなく、このバスケットを
ボトムノズルおよびトップノズルの取付は手段に兼用さ
せてもよい。
ところで上記のラジアルセル型め?き槽を用いるめっき
ラインでは、その2基を1単位とする2単位で操柴され
ることが多く、その111>IJを第11図(a) 、
 (b)に示すように、デフレフクロール4′ 。
4′および4′の助けをかりて、同図(a)の直行通板
Gこよる片面めっきと、同図(b)による迂回通板をも
ってする両(nIめつきとを選択することが必要となる
。この際後段側の各めつき槽2内における通板方向が反
転することになるので、ボトムノズル6′の噴射方向を
、またトップノズル7′については第11図の)の7′
の位置に配置を、それぞれ変更することが必要となり、
その都度脱着作業を行うことは煩しい。
そこでまずトップノズル7′については、第・12図に
後段側各めつき検量における事例をもって図解したよう
に、中間のデフレタロール4の軸受金14の下面にハン
ガーブラケット15を取付け、このハンガーブラケット
15のウェブにたとえば長@16のようなガイドを設け
、トップノズル7′をそのヘッダ7b′とともに支持す
るサポート17を上記ガイドに分って進退可動に取付け
1不使用時に仮想線のように退避させるようにすると便
利である。
またホトみノズル6′については、その1例を第13図
(〜、(b)に示すように、そのヘッダ6b′にダウン
バスおよびトップバスに面する両日ノズル開口A、Bを
用意し、それらの中間に吊下げた回転自在なフラップ1
8により、その仮想線に示した位ff’2との間の選択
切換えを行うことにより容易に対拠できる。なお図中1
9はフラップ18の支軸、2(Nj切換えレバーである
発 明 の 効 果 以上のとおり、この発明は、ボトムノズルおよ、びトッ
プノズルの適正な配置により、ラジアルセル型めっき槽
においてストリップと電極との間の極間すき間の全長に
わたって一様な対向流を発生させ、限界電流密度の大巾
fifな同上はもちろん、合金めっきを行うとき均質め
っきの突堤にも有利である。
【図面の簡単な説明】
第1図(a) 、 (b)は、ラジアルセル型めっき装
置の従来例を示す中央断面図と、そのA −A II−
+面図、第2図は限界電流密度に及ぼすライン速度の影
特についてのダウンバスとアップバスの比較グラフ、 第3図は、合金めっき層の厚み方向におけるFe含有率
の変動を示す分布図であり、 第4図は、この発明に従うボトムノズルの配置図、 第5図は同じくトップノズルの配置i:I図、第6図(
a) 、 <b) 、 (0)はラジアルセル型めっき
槽の通板方向における断面図と幅方向中央断面図15よ
び同図(a)のA−A断面図、 第7図(a) 、 (b)はボトムノズルの変形例を示
す要1ηS 1iJi而図と、ノズルの前面を含む別な
断面図であり、 〜 第8図は第7図のボトムノズルを用いた場合のめっき液
循環系統図、 第9図は極間におけるめっき液流速をパラメータとして
限界11を流密度に及ばずライン速度の影響を示す比較
グラフ、 110図はノズルのめっき液噴出角度θが合金めっきの
(47さ方向におけるFe含仔率分布に及はす影9A+
を示す比較グラフであり、 第11図(a)、(b)は片面めっきと、両面めっきの
両挾・業における通板切替要領の説明図、第12図は後
段メッキ槽におけるトップノズルの待避要領を示す要部
の((11面図また第13図(a)。 (1))は噴射方向可変としたボトムノズルの中央断面
図とA−A断面図である。 2・・・めっき@ 6・・・ボトムノズル・7・・・ト
ップノズル。 第1図 (a) 第2図 0 50 100 ライン速度(tnp(7)) 第3図 φ層□414更20佑2−一磨鉄 第6 (a) 図 (b) (C) 第9図 ライン速度(fnP7n) 第1O図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 L ラジアルセル型めっき槽において、該めっき槽の底
    部にてダウンパス側に開口部を有するボトムノズルを、
    またアツブノぐス側液面近傍にて失弧1を浸漬した開口
    部を有するトップノズルを、それぞれ備えることを特徴
    とするカウンターフロー装置(i ’。 区 ボトムノズルおよびトップノズルが、それらの開口
    部より噴出するめつき液の線速度を、極間において0.
    2〜2111/Sとする能力をもつものである1記載の
    装に、t、 。 & ボトムノズルおよびトップノズルがそれらの開口部
    におけるめっき液噴出方向につき11+’+1転ドラム
    の接線に対し10度以内の傾斜配髄である・1、又は2
    記載の装置。
JP58186883A 1983-10-07 1983-10-07 ラジアルセル型めつき槽におけるカウンタ−フロ−装置 Granted JPS6082700A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58186883A JPS6082700A (ja) 1983-10-07 1983-10-07 ラジアルセル型めつき槽におけるカウンタ−フロ−装置
US06/627,394 US4500400A (en) 1983-10-07 1984-07-03 Counter flow device for electroplating apparatus
EP84304596A EP0140474B1 (en) 1983-10-07 1984-07-05 Counter flow device for electroplating apparatus
DE8484304596T DE3462613D1 (en) 1983-10-07 1984-07-05 Counter flow device for electroplating apparatus
ES534120A ES8505420A1 (es) 1983-10-07 1984-07-06 Dispositivo de circulacion a contracorriente para un aparato de galvanoplastia

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58186883A JPS6082700A (ja) 1983-10-07 1983-10-07 ラジアルセル型めつき槽におけるカウンタ−フロ−装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6082700A true JPS6082700A (ja) 1985-05-10
JPS6256960B2 JPS6256960B2 (ja) 1987-11-27

Family

ID=16196346

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58186883A Granted JPS6082700A (ja) 1983-10-07 1983-10-07 ラジアルセル型めつき槽におけるカウンタ−フロ−装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4500400A (ja)
EP (1) EP0140474B1 (ja)
JP (1) JPS6082700A (ja)
DE (1) DE3462613D1 (ja)
ES (1) ES8505420A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6398371U (ja) * 1986-12-12 1988-06-25
KR100733370B1 (ko) * 2001-07-12 2007-06-28 주식회사 포스코 전기도금시 스트립간 도금편차 발생 방지 장치

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1182818B (it) * 1985-08-12 1987-10-05 Centro Speriment Metallurg Dispositivo a cella radiale per elettrodeposizione
US4661213A (en) * 1986-02-13 1987-04-28 Dorsett Terry E Electroplate to moving metal
FR2607153B1 (fr) * 1986-05-05 1989-04-07 Lorraine Laminage Injecteur d'electrolyte a contre-courant pour une installation de traitement continu de surface
LU86520A1 (fr) * 1986-07-17 1988-02-02 Delloye Matthieu Procede d'electrozingage en continu d'une tole d'acier par voie electrolytique
JPH08993B2 (ja) * 1987-03-17 1996-01-10 川崎製鉄株式会社 金属ストリツプの電解処理装置
NL8802353A (nl) * 1988-09-23 1990-04-17 Hoogovens Groep Bv Werkwijze voor het eenzijdig elektrolytisch bekleden van een bewegende metaalband.
JP2549557B2 (ja) * 1989-03-14 1996-10-30 富士写真フイルム株式会社 電解処理装置
FR2653787B1 (fr) * 1989-10-27 1992-02-14 Lorraine Laminage Installation et procede de revetement electrolytique d'une bande metallique.
JPH0814037B2 (ja) * 1990-09-11 1996-02-14 大正工業株式会社 電解処理装置
US5069762A (en) * 1991-01-18 1991-12-03 Usx Corporation Appartaus for improved current transfer in radial cell electroplating
FR2771757B1 (fr) 1997-12-03 1999-12-31 Lorraine Laminage Installation d'electrodeposition, electrode et organe d'appui pour cette installation et procede d'electrodeposition
IT1303624B1 (it) * 1998-07-22 2000-11-15 Techint Spa Dispositivo per elettrodeposizione a cella circonferenziale a flussidifferenziati.
US8444841B2 (en) * 2006-08-07 2013-05-21 Autonetworks Technologies, Ltd. Partial plating method, a laser plating device, and a plated material
CN108660501B (zh) * 2017-03-31 2024-02-27 可能可特科技(深圳)有限公司 一种基于fpc电镀的电镀槽
CN112301394B (zh) * 2020-10-30 2022-05-24 西北工业大学 一种可以提高环形件内表面电镀层均匀性的镀腔
DE102023103003A1 (de) 2023-02-08 2024-08-08 Westfälische Hochschule Gelsenkirchen Bocholt Recklinghausen, Körperschaft des öffentlichen Rechts Vorrichtung für eine Beschichtungsapparatur zur Abscheidung von funktionellem Material

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56142893A (en) * 1980-04-05 1981-11-07 Kawasaki Steel Corp Radial cell plate passing through type plating method of strip
JPS59126793A (ja) * 1983-01-07 1984-07-21 Kawasaki Steel Corp ラジアルセル型めつき装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3483098A (en) * 1966-02-11 1969-12-09 United States Steel Corp Method and apparatus for electroplating a metallic strip
US3634223A (en) * 1970-02-25 1972-01-11 United States Steel Corp Contact assembly
DE2324834C2 (de) * 1973-05-17 1978-09-07 Dr. Eugen Duerrwaechter Doduco, 7530 Pforzheim Vorrichtung zum kontinuierlichen selektiven Bandgalvanisieren
US4064019A (en) * 1974-09-03 1977-12-20 Dixie Plating, Inc. Continuous contact plater method
GB1524985A (en) * 1975-08-26 1978-09-13 Inco Europ Ltd Electrolytic production of perforated metal foil
US4078982A (en) * 1976-03-15 1978-03-14 Dixie Plating, Inc. Apparatus for continuous contact plating
JPS55161520U (ja) * 1979-05-07 1980-11-20
DE3108358C2 (de) * 1981-03-05 1985-08-29 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Vorrichtung zum partiellen Galvanisieren von zu elektrisch leitenden Bändern, Streifen oder dgl. zusammengefaßten Teilen im Durchlaufverfahren

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56142893A (en) * 1980-04-05 1981-11-07 Kawasaki Steel Corp Radial cell plate passing through type plating method of strip
JPS59126793A (ja) * 1983-01-07 1984-07-21 Kawasaki Steel Corp ラジアルセル型めつき装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6398371U (ja) * 1986-12-12 1988-06-25
KR100733370B1 (ko) * 2001-07-12 2007-06-28 주식회사 포스코 전기도금시 스트립간 도금편차 발생 방지 장치

Also Published As

Publication number Publication date
ES534120A0 (es) 1985-05-16
EP0140474B1 (en) 1987-03-11
DE3462613D1 (en) 1987-04-16
JPS6256960B2 (ja) 1987-11-27
US4500400A (en) 1985-02-19
ES8505420A1 (es) 1985-05-16
EP0140474A1 (en) 1985-05-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6082700A (ja) ラジアルセル型めつき槽におけるカウンタ−フロ−装置
US2569578A (en) Apparatus for electrocoating striplike material
US6800186B1 (en) Method and apparatus for electrochemical processing
EP0248118A1 (en) Metallurgical structure control of electrodeposits using ultrasonic agitation
US4601794A (en) Method and apparatus for continuous electroplating of alloys
US3922208A (en) Method of improving the surface finish of as-plated elnisil coatings
DE2324834B1 (de) Vorrichtung zum kontinuierlichen selektiven Bandgalvanisieren
US4367125A (en) Apparatus and method for plating metallic strip
US2382018A (en) Apparatus for electroplating
CN106917132A (zh) 一种电镀装置
JPH0254437B2 (ja)
US3346466A (en) Process and apparatus for making chromium coated papermaking wires
US6217725B1 (en) Method and apparatus for anodizing
US4559113A (en) Method and apparatus for unilateral electroplating of a moving metal strip
CN207031582U (zh) 一种电镀装置
JPS60262991A (ja) 液流下式めつき方法
PL150904B1 (en) Device for continuous electrolythic working procces of metals
SE465579B (sv) Radialcellanordning foer elektroplaetering
CN114808057A (zh) 电镀装置和电镀系统
US6361673B1 (en) Electroforming cell
KR940011009B1 (ko) 역류 전해액 분사장치 및 이를 이용한 전기도금장치
JPS58161792A (ja) 水平電気合金メツキ方法
JPS5940237B2 (ja) ストリツプのラジアルセル通板めつき法
KR900008255B1 (ko) 전기도금장치의 역류기구
Alkire et al. The Effect of an Impinging Fluid Jet on Mass Transfer and Current Distribution in a Circular Through‐Hole