JPH0896326A - 水平磁極ピースを有する磁気ヘッド - Google Patents
水平磁極ピースを有する磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH0896326A JPH0896326A JP7255805A JP25580595A JPH0896326A JP H0896326 A JPH0896326 A JP H0896326A JP 7255805 A JP7255805 A JP 7255805A JP 25580595 A JP25580595 A JP 25580595A JP H0896326 A JPH0896326 A JP H0896326A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- head
- ridge
- subassembly
- layer
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3176—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps
- G11B5/3179—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes
- G11B5/3183—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes intersecting the gap plane, e.g. "horizontal head structure"
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【解決手段】 サブアセンブリ30は、リッジまたはピ
ン29を覆う2つの集中層321 および322 と、ヘッ
ド・ギャップ26によって分離された2つの磁極ピース
341 および342 とを有する。集中層の内側部分はリ
ッジまたはピン29の傾斜側面を覆い、それにより集中
層は断続的形状を有する。ただし、磁極ピースはまっす
ぐまたは水平である。 【効果】 ヘッド・ギャップを平面に作成でき、最大磁
界を得ることができ、磁区または磁界の構成または配向
に関して、磁極ピースをより良く制御して平坦に作成で
きる。また、ヘッドの総合的な効率を低下させずに、
(渦電流を減少させ磁区または磁界の配向を促進する)
磁極の厚さを減少できる。
ン29を覆う2つの集中層321 および322 と、ヘッ
ド・ギャップ26によって分離された2つの磁極ピース
341 および342 とを有する。集中層の内側部分はリ
ッジまたはピン29の傾斜側面を覆い、それにより集中
層は断続的形状を有する。ただし、磁極ピースはまっす
ぐまたは水平である。 【効果】 ヘッド・ギャップを平面に作成でき、最大磁
界を得ることができ、磁区または磁界の構成または配向
に関して、磁極ピースをより良く制御して平坦に作成で
きる。また、ヘッドの総合的な効率を低下させずに、
(渦電流を減少させ磁区または磁界の配向を促進する)
磁極の厚さを減少できる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、水平な磁極ピース
を有する磁気ヘッドに関する。これは磁気記録に使われ
る。
を有する磁気ヘッドに関する。これは磁気記録に使われ
る。
【0002】
【従来の技術】既知の磁気ヘッドを、図1に断面図で、
図2に平面図で示す。前記ヘッドは、基板8上に、下側
磁気層12と、前記磁気層12の上にある2つの磁気ピ
ラー141 および142 と、ピラー141 および142
を取り巻く導電体巻線18とからなる第1サブアセンブ
リ10を有する。前記サブアセンブリ10上には、2つ
の傾斜側面と1つの平坦な先端を有する中央絶縁ピンま
たはリッジ19とがある。サブアセンブリ10上には中
央絶縁リッジ19を覆って、2つの部分、すなわちピラ
ーの141 および142 に支えられた外側に幅広い端と
内側の狭い端とを有する2つの磁束集中層221 、22
2 からなる第1の部分、ならびにヘッド・ギャップ26
によって分離され集中層221 および222 と接触する
2つの磁極ピース241 および242 からなる第2の部
分から構成される第2のサブアセンブリ20がある。こ
れらの磁極ピースは、ピン19の傾斜側面を覆う斜めの
中間部分を有する細長いS字形状を有する。
図2に平面図で示す。前記ヘッドは、基板8上に、下側
磁気層12と、前記磁気層12の上にある2つの磁気ピ
ラー141 および142 と、ピラー141 および142
を取り巻く導電体巻線18とからなる第1サブアセンブ
リ10を有する。前記サブアセンブリ10上には、2つ
の傾斜側面と1つの平坦な先端を有する中央絶縁ピンま
たはリッジ19とがある。サブアセンブリ10上には中
央絶縁リッジ19を覆って、2つの部分、すなわちピラ
ーの141 および142 に支えられた外側に幅広い端と
内側の狭い端とを有する2つの磁束集中層221 、22
2 からなる第1の部分、ならびにヘッド・ギャップ26
によって分離され集中層221 および222 と接触する
2つの磁極ピース241 および242 からなる第2の部
分から構成される第2のサブアセンブリ20がある。こ
れらの磁極ピースは、ピン19の傾斜側面を覆う斜めの
中間部分を有する細長いS字形状を有する。
【0003】図3は、第2のサブアセンブリ20の右側
半分を詳細に示す。この図面により、多少の寸法と多少
の特定領域を定義することができる。磁極ピースは、ヘ
ッド・ギャップ26のところではEe、ヘッド・ギャプ
から離れたところではEpの厚さを有する。リッジまた
はピン19は、半分の長さLpである。集中層222は
厚さEcである。ヘッドの移動面は、集中層の上表面か
ら距離Hのところにある。磁極ピースが傾斜部分で水平
面と成す角度はθを示す。さらに、点Gはヘッド・ギャ
ップの中央を示し、点Aは磁極の直線領域の限界点を示
し、点Pは磁極ピースが移動面から離れて傾斜する領域
に対応する。
半分を詳細に示す。この図面により、多少の寸法と多少
の特定領域を定義することができる。磁極ピースは、ヘ
ッド・ギャップ26のところではEe、ヘッド・ギャプ
から離れたところではEpの厚さを有する。リッジまた
はピン19は、半分の長さLpである。集中層222は
厚さEcである。ヘッドの移動面は、集中層の上表面か
ら距離Hのところにある。磁極ピースが傾斜部分で水平
面と成す角度はθを示す。さらに、点Gはヘッド・ギャ
ップの中央を示し、点Aは磁極の直線領域の限界点を示
し、点Pは磁極ピースが移動面から離れて傾斜する領域
に対応する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、これ
らの欠点を回避することである。
らの欠点を回避することである。
【0005】これらのヘッドは、いくつかの点では満足
できるが、記録トラックの幅が狭くなり動作周波数が高
くなると依然として欠点をもつ。その様々な欠点を次の
ように分析することができる。
できるが、記録トラックの幅が狭くなり動作周波数が高
くなると依然として欠点をもつ。その様々な欠点を次の
ように分析することができる。
【0006】磁極ピースの構造はモノリシック構造でな
ければならない。磁極ピースはかなり厚いと、うず電流
が現れ、効率の低下だけでなく熱も生じる。厚さEpお
よびEcを小さくすることによってこの作用は低下する
が、飽和状態下でヘッド・ギャップにおいて得られる最
大磁界だけでなく全体的な効率にも有害である。したが
って、厚さEpには、最大限度と最小限度がある。
ければならない。磁極ピースはかなり厚いと、うず電流
が現れ、効率の低下だけでなく熱も生じる。厚さEpお
よびEcを小さくすることによってこの作用は低下する
が、飽和状態下でヘッド・ギャップにおいて得られる最
大磁界だけでなく全体的な効率にも有害である。したが
って、厚さEpには、最大限度と最小限度がある。
【0007】図4に示したように、読取り信号は、主ピ
ークPpとは別に、磁極が移動面ではなくなる図3の点
Pに対応する約Lの距離に2つの小さな第2のピークP
s1およびPs2を有する。また、これらの寄生ピーク
の大きさは、リッジまたはピンの製造中に得られる角度
θにも依存する。
ークPpとは別に、磁極が移動面ではなくなる図3の点
Pに対応する約Lの距離に2つの小さな第2のピークP
s1およびPs2を有する。また、これらの寄生ピーク
の大きさは、リッジまたはピンの製造中に得られる角度
θにも依存する。
【0008】書込みの際にヘッド・ギャップにおいて最
大の磁界を得るためには、点A(飽和出現点)をヘッド
・ギャップの方に移動する必要がある。この場合、磁性
体付着の品質を保証するために小さいままでなければな
らない最適角度θを修正せずにリッジの半分の長さLp
を減らす必要がある。これは、5μmより小さい長さに
減少させることは困難である。さらに、制限された長さ
のリッジ上のヘッド・ギャップの製造もまた極めて困難
になる。
大の磁界を得るためには、点A(飽和出現点)をヘッド
・ギャップの方に移動する必要がある。この場合、磁性
体付着の品質を保証するために小さいままでなければな
らない最適角度θを修正せずにリッジの半分の長さLp
を減らす必要がある。これは、5μmより小さい長さに
減少させることは困難である。さらに、制限された長さ
のリッジ上のヘッド・ギャップの製造もまた極めて困難
になる。
【0009】したがって、トラック幅を小さくしヘッド
・ギャップ内でより強い磁界を得るためには、起伏の大
きさを減少させ角度θを小さく維持することが必要であ
る。これは、トラック幅が小さいためにリッジおよびヘ
ッド・ギャップを作成する際に技術的問題を生じる。
・ギャップ内でより強い磁界を得るためには、起伏の大
きさを減少させ角度θを小さく維持することが必要であ
る。これは、トラック幅が小さいためにリッジおよびヘ
ッド・ギャップを作成する際に技術的問題を生じる。
【0010】隣接トラックの寄生再読出しを回避するた
めには磁極は読出すトラックと等しい幅でなければなら
ず、ピラーに向かって断面が幅広くなりヘッド・ギャッ
プに向かって断面が狭くなる集中層を導入することによ
り良好な効率を維持することが可能になる。しかし、集
中層の幅広い断面で再読出しの発生を防ぐには、高さH
を比較的大きくする必要がある。さらに、磁極ピースと
集中層の厚さEp+Ecが大きいと、渦電流の点で不利
であり、それぞれの厚さを薄くし層を磁気的に分離する
必要がある。
めには磁極は読出すトラックと等しい幅でなければなら
ず、ピラーに向かって断面が幅広くなりヘッド・ギャッ
プに向かって断面が狭くなる集中層を導入することによ
り良好な効率を維持することが可能になる。しかし、集
中層の幅広い断面で再読出しの発生を防ぐには、高さH
を比較的大きくする必要がある。さらに、磁極ピースと
集中層の厚さEp+Ecが大きいと、渦電流の点で不利
であり、それぞれの厚さを薄くし層を磁気的に分離する
必要がある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、図1から図3
における第2のサブアセンブリ20の構造を、2つの磁
極ピースが水平であり、斜めの中間部分を備えた細長い
S字形状とならないように修正する。すなわち、磁気ピ
ースはまっすぐな棒の形である。それに対して、集中層
は、リッジまたはピンの一方の傾斜側面上に保持された
傾斜部を有する。これらの構成により、次のことが可能
になる。 −リッジの半分の長さLpを減らし、点Aをヘッド・ギ
ャップの方のより近くに移動し、それによりヘッド・ギ
ャップにおいて最大磁界を得ることができる。 −ヘッド・ギャップを平面に作成できる。 −点Pを主磁気回路から遠い寄生ピークの発生点に移す
ことができる。 −特に磁区または磁界の構成または配向に関して、磁極
ピースをより良く制御して平坦に作成できる。 −ヘッドの総合的な効率を低下させずに、(渦電流を減
少させ磁区または磁界の配向を促進する)磁極の厚さE
pを減少できる。
における第2のサブアセンブリ20の構造を、2つの磁
極ピースが水平であり、斜めの中間部分を備えた細長い
S字形状とならないように修正する。すなわち、磁気ピ
ースはまっすぐな棒の形である。それに対して、集中層
は、リッジまたはピンの一方の傾斜側面上に保持された
傾斜部を有する。これらの構成により、次のことが可能
になる。 −リッジの半分の長さLpを減らし、点Aをヘッド・ギ
ャップの方のより近くに移動し、それによりヘッド・ギ
ャップにおいて最大磁界を得ることができる。 −ヘッド・ギャップを平面に作成できる。 −点Pを主磁気回路から遠い寄生ピークの発生点に移す
ことができる。 −特に磁区または磁界の構成または配向に関して、磁極
ピースをより良く制御して平坦に作成できる。 −ヘッドの総合的な効率を低下させずに、(渦電流を減
少させ磁区または磁界の配向を促進する)磁極の厚さE
pを減少できる。
【0012】より具体的には、本発明は、図1および図
3に関連して説明した型式の磁気ヘッドに関係し、ヘッ
ドの上側部分にある第2のサブアセンブリにおいて、2
つの集中層が、中央の絶縁リッジの2つの傾斜側面上に
保持された内側端部を有し、前記端部はリッジの頂点と
同一平面にあり、2つの磁極ピースが、リッジの平坦な
頂点上と2つの集中層の内側端部上に保持された2つの
まっすぐな棒によって構成され、前記棒が、前記端部を
越えて延び前記集中層上にかかることを特徴とする。
3に関連して説明した型式の磁気ヘッドに関係し、ヘッ
ドの上側部分にある第2のサブアセンブリにおいて、2
つの集中層が、中央の絶縁リッジの2つの傾斜側面上に
保持された内側端部を有し、前記端部はリッジの頂点と
同一平面にあり、2つの磁極ピースが、リッジの平坦な
頂点上と2つの集中層の内側端部上に保持された2つの
まっすぐな棒によって構成され、前記棒が、前記端部を
越えて延び前記集中層上にかかることを特徴とする。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明による磁気ヘッドの実施形
態を、図5に断面図で、図6に平面図で示す。簡略化す
るため、図1および図2にすでに示した要素、すなわち
基板8と、磁気層12と、そのピラー141 、142
と、その巻線18とを備えた第1のサブアセンブリ10
は同じ参照番号を使用する。
態を、図5に断面図で、図6に平面図で示す。簡略化す
るため、図1および図2にすでに示した要素、すなわち
基板8と、磁気層12と、そのピラー141 、142
と、その巻線18とを備えた第1のサブアセンブリ10
は同じ参照番号を使用する。
【0014】第2のサブアセンブリ30は、リッジまた
はピン29を覆う2つの集中層321 および322 と、
ヘッド・ギャップ26によって分離された2つの磁極ピ
ース341 および342 とを有する。集中層の内側部分
はリッジまたはピン29の傾斜側面を覆い、それにより
前記集中層は断続的形状を有する。ただし、磁極ピース
はまっすぐまたは水平である。
はピン29を覆う2つの集中層321 および322 と、
ヘッド・ギャップ26によって分離された2つの磁極ピ
ース341 および342 とを有する。集中層の内側部分
はリッジまたはピン29の傾斜側面を覆い、それにより
前記集中層は断続的形状を有する。ただし、磁極ピース
はまっすぐまたは水平である。
【0015】図7は、既に説明した図3と比較される第
2のサブアセンブリ30の右側半分を詳細に示す。距離
Hは維持され、したがって幅広部分が移動面の集中層か
ら離れる。点Pが大幅に後方に移動され、厚さEpおよ
び半分の長さLpが減少された。
2のサブアセンブリ30の右側半分を詳細に示す。距離
Hは維持され、したがって幅広部分が移動面の集中層か
ら離れる。点Pが大幅に後方に移動され、厚さEpおよ
び半分の長さLpが減少された。
【0016】図8Aないし図8Hは、本発明によるヘッ
ドを作成する方法の8つの段階を表す。
ドを作成する方法の8つの段階を表す。
【0017】最初の段階は、絶縁体40(シリカ、アル
ミナ)によって囲まれた2つの磁気ピラー141 、14
2 を有する第1のサブアセンブリを上側部分に作成する
ことである(図8A)。そのようなサブアセンブリの作
成を可能にする工程は既知であり、たとえばフランス特
許FR−A−2 644 292号およびFP−A−2
62 028号に記載されている。
ミナ)によって囲まれた2つの磁気ピラー141 、14
2 を有する第1のサブアセンブリを上側部分に作成する
ことである(図8A)。そのようなサブアセンブリの作
成を可能にする工程は既知であり、たとえばフランス特
許FR−A−2 644 292号およびFP−A−2
62 028号に記載されている。
【0018】次に、たとえばシリカからなる絶縁層4
2、および樹脂マスク44を付着する(図8B)。絶縁
層42は、たとえば、樹脂をエッチングして後ろの三角
形部分46を有するリッジを残す反応性イオン・エッチ
ング(RIE)によってエッチングされる(図8C)。
2、および樹脂マスク44を付着する(図8B)。絶縁
層42は、たとえば、樹脂をエッチングして後ろの三角
形部分46を有するリッジを残す反応性イオン・エッチ
ング(RIE)によってエッチングされる(図8C)。
【0019】次に、アセンブリ上に磁気層48を付着す
る(図8D)。この磁気層48は、磁気層(たとえば、
FeNi)と絶縁層(たとえば、Si3 N4 またはSi
O2)の交互に積層した層でもよい。
る(図8D)。この磁気層48は、磁気層(たとえば、
FeNi)と絶縁層(たとえば、Si3 N4 またはSi
O2)の交互に積層した層でもよい。
【0020】次に、フォトリソグラフィとイオン切削に
よるエッチングを行い、磁気層をピラー141 および1
42 に関して垂直に限定し(図8E)、幅広部分501
および502 (図6を参照されたい)と、リッジ46の
傾斜側面上に保持された細い部分511 および512 を
有する形状にする。集中層の形状は、図6に平面図で示
した。
よるエッチングを行い、磁気層をピラー141 および1
42 に関して垂直に限定し(図8E)、幅広部分501
および502 (図6を参照されたい)と、リッジ46の
傾斜側面上に保持された細い部分511 および512 を
有する形状にする。集中層の形状は、図6に平面図で示
した。
【0021】次に、アセンブリ上に厚い絶縁体52を付
着する(図8F)。得られたアセンブリは、面54を形
成するために平面にする(図8G)。この工程で、リッ
ジ46の頂点が平坦な外形になる。
着する(図8F)。得られたアセンブリは、面54を形
成するために平面にする(図8G)。この工程で、リッ
ジ46の頂点が平坦な外形になる。
【0022】絶縁層56を付着し(図8)、前記層内に
作られた凹部内に、まっすぐな棒状に形成されヘッド・
ギャップ60によって分離された2つの磁極ピース58
1 および582 を形成することによりヘッドが完成す
る。
作られた凹部内に、まっすぐな棒状に形成されヘッド・
ギャップ60によって分離された2つの磁極ピース58
1 および582 を形成することによりヘッドが完成す
る。
【図1】既に述べた従来技術の磁気ヘッドの断面図であ
る。
る。
【図2】同じヘッドの平面図である。
【図3】従来技術のヘッドの上側磁気磁極ピースの詳細
図である。
図である。
【図4】従来技術のヘッドによって得られた測定信号の
形状を示す図である。
形状を示す図である。
【図5】本発明による磁気ヘッドの断面図である。
【図6】同じヘッドの平面図である。
【図7】本発明によるヘッドの上側磁性ピースの詳細図
である。
である。
【図8A】本発明によるヘッドの上側部分を作成する方
法の8段階のうちの最初の段階を示す図である。
法の8段階のうちの最初の段階を示す図である。
【図8B】本発明によるヘッドの上側部分を作成する方
法の図8Aに続く段階を示す図である。
法の図8Aに続く段階を示す図である。
【図8C】本発明によるヘッドの上側部分を作成する方
法の図8Bに続く段階を示す図である。
法の図8Bに続く段階を示す図である。
【図8D】本発明によるヘッドの上側部分を作成する方
法の図8Cに続く段階を示す図である。
法の図8Cに続く段階を示す図である。
【図8E】本発明によるヘッドの上側部分を作成する方
法の図8Dに続く段階を示す図である。
法の図8Dに続く段階を示す図である。
【図8F】本発明によるヘッドの上側部分を作成する方
法の図8Eに続く段階を示す図である。
法の図8Eに続く段階を示す図である。
【図8G】本発明によるヘッドの上側部分を作成する方
法の図8Fに続く段階を示す図である。
法の図8Fに続く段階を示す図である。
【図8H】本発明によるヘッドの上側部分を作成する方
法の図8Gに続く段階を示す図である。
法の図8Gに続く段階を示す図である。
8 基板 10 第1のサブアセンブリ 12 下側磁気層 141 、142 磁気ピラー 18 導電体巻線 19 絶縁ピンまたはリッジ 20 第2のサブアセンブリ 221 、222 磁束集中層 241 、242 磁極ピース 26 ヘッド・ギャップ 29 リッジまたはピン 30 第2のサブアセンブリ 321 、322 集中層 341 、342 磁気ピース 46 リッジ 501 、502 幅広部分 511 、512 厚い部分 52 厚い絶縁体 54 面 56 絶縁層 581 、582 磁極ピース 60 ギャップ
フロントページの続き (72)発明者 セリーヌ ジェルメン フランス国, 38170 セシネ−パリゼ, リュ ドゥ ラ レジスタンス, 39番 地
Claims (1)
- 【請求項1】 下側磁性層(12)、磁性層(12)上
にある2つの磁性ピラー(141 、142 )、およびピ
ラー(141 、142 )を取り囲む導電体巻線(18)
を含む第1のサブアセンブリ(20)と、 前記サブアセンブリ(10)上にあり、2つの傾斜側面
と1つの平坦な頂点とを有する中央の絶縁リッジ(1
9)と、 サブアセンブリ(10)上の中央の絶縁リッジ(19)
に重なり、2つの部分、すなわち、ピラー(141 、1
42 )上に保持された幅広い外側端部と幅の狭い内側端
部とを有する2つの磁束集中層(221 、222 )から
なる第1の部分と、前記ヘッド・ギャップ(26)によ
って分離され集中層(221 、222 )と接触する2つ
の磁極ピース(241 、242 )からなる第2の部分と
から形成される第2のサブアセンブリ(20)とを含む
磁気ヘッドであって、 第2のサブアセンブリ(20)において、 2つの集中層(321 、322 )が中央の絶縁リッジ
(29)の2つの傾斜側面上に保持された内側端部を有
し、前記端部はリッジ(29)の頂点と同一平面であ
り、 2つの磁極ピースがリッジ(30)の平坦な頂点上およ
び2つの集中層(321 、322 )の内側端部上の2つ
のまっすぐな棒(341 、342 )からなり、前記棒
は、前記端部を越えて延び前記集中層の上にかかること
を特徴とする磁気ヘッド。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9410896 | 1994-09-13 | ||
FR9410896A FR2724480B1 (fr) | 1994-09-13 | 1994-09-13 | Tete magnetique a pieces polaires horizontales |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0896326A true JPH0896326A (ja) | 1996-04-12 |
Family
ID=9466885
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7255805A Pending JPH0896326A (ja) | 1994-09-13 | 1995-09-08 | 水平磁極ピースを有する磁気ヘッド |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6212034B1 (ja) |
EP (1) | EP0702356B1 (ja) |
JP (1) | JPH0896326A (ja) |
DE (1) | DE69517760T2 (ja) |
FR (1) | FR2724480B1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3499458B2 (ja) * | 1998-12-09 | 2004-02-23 | Tdk株式会社 | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法、ならびに薄膜コイルの形成方法 |
EP1498877A1 (en) * | 2003-07-15 | 2005-01-19 | O-Mass AS | Write head layout |
US20080068752A1 (en) * | 2006-09-19 | 2008-03-20 | International Business Machines Corporation | Planar Bidirectional Tape Head With Planar Read And Write Elements |
US20080068750A1 (en) * | 2006-09-19 | 2008-03-20 | International Business Machines Corporation | Planar Write Module And Hybrid Planar Write-Vertical Read Bidirectional Tape Head |
US8014100B2 (en) * | 2007-05-04 | 2011-09-06 | International Business Machines Corporation | Planar servo write head |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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