JPH0876309A - 写真材料に使用するための新規なコア−シェルラテックス - Google Patents
写真材料に使用するための新規なコア−シェルラテックスInfo
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- JPH0876309A JPH0876309A JP7216656A JP21665695A JPH0876309A JP H0876309 A JPH0876309 A JP H0876309A JP 7216656 A JP7216656 A JP 7216656A JP 21665695 A JP21665695 A JP 21665695A JP H0876309 A JPH0876309 A JP H0876309A
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- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/04—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with macromolecular additives; with layer-forming substances
- G03C1/053—Polymers obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】良好な耐引掻性を有し、高濃度でゼラチン系層
中に混入できる新種のラテックスを含有する写真材料を
提供する。 【解決手段】支持体、下塗層、少なくとも一つの親水性
ゼラチン系ハロゲン化銀乳剤層、所望により一つ以上の
他の親水性ゼラチン系層、及びコア（コ）ポリマー及び
シェル（コ）ポリマーを含むコア−シェルラテックスポ
リマーを含む写真材料であって、(i) 前記コア−シェル
ラテックスが、前記親水性ゼラチン系層の少なくとも一
つの中に存在する、(ii)前記シェル（コ）ポリマーが、
反応性メチレン基を有する少なくとも１種のエチレン性
不飽和モノマーから誘導された成分Ａを含む、そして成
分Ａが、コア及びシェル（コ）ポリマーの両者中に存在
する全成分の１〜３０重量％を構成しかつシェル（コ）
ポリマー中に存在する全成分の２〜５０重量％を構成す
る。
中に混入できる新種のラテックスを含有する写真材料を
提供する。 【解決手段】支持体、下塗層、少なくとも一つの親水性
ゼラチン系ハロゲン化銀乳剤層、所望により一つ以上の
他の親水性ゼラチン系層、及びコア（コ）ポリマー及び
シェル（コ）ポリマーを含むコア−シェルラテックスポ
リマーを含む写真材料であって、(i) 前記コア−シェル
ラテックスが、前記親水性ゼラチン系層の少なくとも一
つの中に存在する、(ii)前記シェル（コ）ポリマーが、
反応性メチレン基を有する少なくとも１種のエチレン性
不飽和モノマーから誘導された成分Ａを含む、そして成
分Ａが、コア及びシェル（コ）ポリマーの両者中に存在
する全成分の１〜３０重量％を構成しかつシェル（コ）
ポリマー中に存在する全成分の２〜５０重量％を構成す
る。
Description
【０００１】発明の分野 本発明は新種の重合体ラテックス及びそれらの写真材料
中での使用に関する。
中での使用に関する。
【０００２】発明の背景 被覆された写真層及び完成写真材料は、物理的性質に関
する多数の要件に応じなければならない。製造中及び取
扱い中の物理的損傷を避けるため、充分に高い耐引掻性
を示さなければならない。更に写真材料は、皺又は亀裂
の発生なしに容易に取扱うことができるよう良好な可撓
性を示さなければならない；換言すれば、材料は特に臨
界的な低湿度条件下での脆性に悩まされないことであ
る。他方で粘着性は避けるべきである。尚更に写真材料
は良好な寸法安定性を示さなければならない、このこと
は特に高温での乾燥相中での処理中の最小の寸法変形を
意味する。寸法安定性の要件は、スキャナー上に作られ
たカラー分解と印刷版上への露出工程の間の最終中間体
としてのプリプレス中でしばしば作用するグラフィック
アート接触材料に対して特に厳しい。異なるカラー分解
の複製である幾つかの接触は、一つのそして同じ印刷版
上に整合状態で露出されなければならず、相互に異なっ
た寸法変形は、最終プリント中の像縁上に受容できない
カラーシフトをもたらす。
する多数の要件に応じなければならない。製造中及び取
扱い中の物理的損傷を避けるため、充分に高い耐引掻性
を示さなければならない。更に写真材料は、皺又は亀裂
の発生なしに容易に取扱うことができるよう良好な可撓
性を示さなければならない；換言すれば、材料は特に臨
界的な低湿度条件下での脆性に悩まされないことであ
る。他方で粘着性は避けるべきである。尚更に写真材料
は良好な寸法安定性を示さなければならない、このこと
は特に高温での乾燥相中での処理中の最小の寸法変形を
意味する。寸法安定性の要件は、スキャナー上に作られ
たカラー分解と印刷版上への露出工程の間の最終中間体
としてのプリプレス中でしばしば作用するグラフィック
アート接触材料に対して特に厳しい。異なるカラー分解
の複製である幾つかの接触は、一つのそして同じ印刷版
上に整合状態で露出されなければならず、相互に異なっ
た寸法変形は、最終プリント中の像縁上に受容できない
カラーシフトをもたらす。
【０００３】当業者に知られているように、可撓性及び
寸法安定性は、いわゆる可塑剤を混入することによって
改良できる。これらの物質は、好ましくはヒドロキシル
基の如き幾つかの親水性基を含有する比較的低分子量で
あることができる、又はそれらは好ましくはかなり低い
ガラス転移温度を有するポリマーラテックスであること
ができる。前者は結合剤系自体のＴｇ（ガラス転移温
度）を低下させることができる、一方後者（ポリマーラ
テックス）は、結合剤にとって代表的なＴｇを有し、そ
してラテックスに対して代表的第二Ｔｇを有する２成分
系を生ぜしめる。両方の方法において、要求される寸法
安定性は保証されるが、室温で充分な可撓性を保ち、ゼ
ラチン系層の高硬化度でさえも保たれる。
寸法安定性は、いわゆる可塑剤を混入することによって
改良できる。これらの物質は、好ましくはヒドロキシル
基の如き幾つかの親水性基を含有する比較的低分子量で
あることができる、又はそれらは好ましくはかなり低い
ガラス転移温度を有するポリマーラテックスであること
ができる。前者は結合剤系自体のＴｇ（ガラス転移温
度）を低下させることができる、一方後者（ポリマーラ
テックス）は、結合剤にとって代表的なＴｇを有し、そ
してラテックスに対して代表的第二Ｔｇを有する２成分
系を生ぜしめる。両方の方法において、要求される寸法
安定性は保証されるが、室温で充分な可撓性を保ち、ゼ
ラチン系層の高硬化度でさえも保たれる。
【０００４】代表的な可塑剤には、アルコール、２価ア
ルコール、３価アルコール及び多価アルコール、酸アミ
ド、セルロース誘導体、親油性カップラー、エステル、
トリクレジルホスフェートの如きホスフェートエステ
ル、グリコールエステル、ジエチレングリコール混合エ
ステル、ジブチルフタレートの如きフタレートエステル
及びブチルステアレート、テトラエチレングリコールジ
メチルエーテル、エチルアセテートコポリマー、ラクタ
ム、エチレンビスグリコール酸の低級アルキルエステ
ル、アルキレングリコール又はポリアルキレングリコー
ルのエステル又はジエステル、ポリアクリル酸エステ
ル、ポリエチレンイミン、ポリ（ビニルアセテート）及
びポリウレタンを含む、これらは Eastman 等のＵＳ−
Ｐ３０６４７０、Wiest のＵＳ−Ｐ３６３５８５３、Mi
lton 等のＵＳ−Ｐ２９６０５０５、Faber 等のＵＳ−
Ｐ３４１２１５９、Ishihara 等のＵＳ−Ｐ３６４０７
２１、Illingsworth 等のＵＳ−Ｐ３００３８７８、Lo
we 等のＵＳ−Ｐ２３２７８０８、Umberger のＵＳ−
Ｐ３３６１５６５、Gray のＵＳ−Ｐ２８６５７９２、
Milton のＵＳ−Ｐ２９０４４３４及びＵＳ−Ｐ２８６
０９８０、Milton 等のＵＳ−Ｐ３０３３６８０、Ders
ch 等のＵＳ−Ｐ３１７３７９０、Fowler のＵＳ−Ｐ
２７７２１６６、及び Fowler 等のＵＳ−Ｐ２８３５５
８２、Van Paesschen 等のＵＳ−Ｐ３３９７９８８、
Balle 等のＵＳ−Ｐ３７９１８５７、Jones等のＵＳ−
Ｐ２７５９８２１、Ream 等のＵＳ−Ｐ３２８７２８９
及び De Winter 等のＵＳ−Ｐ４２４５０３６に記載さ
れている。
ルコール、３価アルコール及び多価アルコール、酸アミ
ド、セルロース誘導体、親油性カップラー、エステル、
トリクレジルホスフェートの如きホスフェートエステ
ル、グリコールエステル、ジエチレングリコール混合エ
ステル、ジブチルフタレートの如きフタレートエステル
及びブチルステアレート、テトラエチレングリコールジ
メチルエーテル、エチルアセテートコポリマー、ラクタ
ム、エチレンビスグリコール酸の低級アルキルエステ
ル、アルキレングリコール又はポリアルキレングリコー
ルのエステル又はジエステル、ポリアクリル酸エステ
ル、ポリエチレンイミン、ポリ（ビニルアセテート）及
びポリウレタンを含む、これらは Eastman 等のＵＳ−
Ｐ３０６４７０、Wiest のＵＳ−Ｐ３６３５８５３、Mi
lton 等のＵＳ−Ｐ２９６０５０５、Faber 等のＵＳ−
Ｐ３４１２１５９、Ishihara 等のＵＳ−Ｐ３６４０７
２１、Illingsworth 等のＵＳ−Ｐ３００３８７８、Lo
we 等のＵＳ−Ｐ２３２７８０８、Umberger のＵＳ−
Ｐ３３６１５６５、Gray のＵＳ−Ｐ２８６５７９２、
Milton のＵＳ−Ｐ２９０４４３４及びＵＳ−Ｐ２８６
０９８０、Milton 等のＵＳ−Ｐ３０３３６８０、Ders
ch 等のＵＳ−Ｐ３１７３７９０、Fowler のＵＳ−Ｐ
２７７２１６６、及び Fowler 等のＵＳ−Ｐ２８３５５
８２、Van Paesschen 等のＵＳ−Ｐ３３９７９８８、
Balle 等のＵＳ−Ｐ３７９１８５７、Jones等のＵＳ−
Ｐ２７５９８２１、Ream 等のＵＳ−Ｐ３２８７２８９
及び De Winter 等のＵＳ−Ｐ４２４５０３６に記載さ
れている。
【０００５】親水性基を有する低分子量可塑剤は、写真
材料の被覆された親水性層を、特に高相対湿度で粘着性
にする欠点を示す。写真材料を、ウエブ状又はシート状
で包装し、貯蔵し、送出するとき、貯蔵中又は処理後に
支持体部分の表面部分への許容できない接着を生ぜしめ
うる。更にそれらは耐拡散でない。他方、従来のポリマ
ーラテックス、例えばポリエチルアクリレート及び同族
体からなる可塑剤は別の欠点を示す。寸法安定性を改良
するためゼラチン系層中に混入できるラテックスの量は
限定される、何故ならば、ラテックスの高濃度はゼラチ
ンマトリックスの凝着を妨害し、結局は臨界レベル以下
に耐引掻性の低下をもたらす。
材料の被覆された親水性層を、特に高相対湿度で粘着性
にする欠点を示す。写真材料を、ウエブ状又はシート状
で包装し、貯蔵し、送出するとき、貯蔵中又は処理後に
支持体部分の表面部分への許容できない接着を生ぜしめ
うる。更にそれらは耐拡散でない。他方、従来のポリマ
ーラテックス、例えばポリエチルアクリレート及び同族
体からなる可塑剤は別の欠点を示す。寸法安定性を改良
するためゼラチン系層中に混入できるラテックスの量は
限定される、何故ならば、ラテックスの高濃度はゼラチ
ンマトリックスの凝着を妨害し、結局は臨界レベル以下
に耐引掻性の低下をもたらす。
【０００６】従って、耐引掻性に強すぎる影響を与える
ことなく、高いラテックス／ゼラチン比（１：１比ま
で）でゼラチン系層中に混入できるラテックスの新種に
対する要求がある。改良された物理的性質を与えるラテ
ックスを提供する計画が発表され、例えばＥＰ０４７７
６７０にはゼラチングラフト化ラテックスの使用が記載
されており、ＷＯ／１４９６８には非熱処理（ uncase
- hardened ）及び熱処理ゼラチングラフト化ポリマー
ラテックスで減した圧力かぶりが記載されており、ＥＰ
０２１９１０１には、疎水性ラテックスを、製造中にデ
キストランの如き天然の水溶性ポリマーで包むことによ
って疎水性ラテックスの大量を混入することが記載され
ている。ＵＳ−Ｐ４７１４６７１には、熱帯の条件下で
層から拡散して出ない好適な可塑剤を生ぜしめる硬いシ
ェル及び軟い疎水性のコアから分散された粒子が構成さ
れた重合体ラテックスが記載されている。
ことなく、高いラテックス／ゼラチン比（１：１比ま
で）でゼラチン系層中に混入できるラテックスの新種に
対する要求がある。改良された物理的性質を与えるラテ
ックスを提供する計画が発表され、例えばＥＰ０４７７
６７０にはゼラチングラフト化ラテックスの使用が記載
されており、ＷＯ／１４９６８には非熱処理（ uncase
- hardened ）及び熱処理ゼラチングラフト化ポリマー
ラテックスで減した圧力かぶりが記載されており、ＥＰ
０２１９１０１には、疎水性ラテックスを、製造中にデ
キストランの如き天然の水溶性ポリマーで包むことによ
って疎水性ラテックスの大量を混入することが記載され
ている。ＵＳ−Ｐ４７１４６７１には、熱帯の条件下で
層から拡散して出ない好適な可塑剤を生ぜしめる硬いシ
ェル及び軟い疎水性のコアから分散された粒子が構成さ
れた重合体ラテックスが記載されている。
【０００７】ＥＰ１０７３７８には、Ｔｇ＞７０℃を有
する硬質コア及び軟質シェル（２５〜６０℃のＴｇ）を
含む疎水性コア−シェル（ core - shell ）ラテックス
が記載されており、この場合コアはラテックス粒子の全
ポリマー含有量の少なくとも８０重量％を表す。かかる
水分散性ラテックスは、任意の可能な支持体上にポリマ
ーの連続フィルムを容易に形成する。写真材料における
オーバーコートとしてのかかるコア−シェルラテックス
の使用は、フエロタイプを減ずる、即ち帯電防止放電を
減ずることが記載されている。
する硬質コア及び軟質シェル（２５〜６０℃のＴｇ）を
含む疎水性コア−シェル（ core - shell ）ラテックス
が記載されており、この場合コアはラテックス粒子の全
ポリマー含有量の少なくとも８０重量％を表す。かかる
水分散性ラテックスは、任意の可能な支持体上にポリマ
ーの連続フィルムを容易に形成する。写真材料における
オーバーコートとしてのかかるコア−シェルラテックス
の使用は、フエロタイプを減ずる、即ち帯電防止放電を
減ずることが記載されている。
【０００８】非コア−シェル型のポリマーラテックス
が、良好な寸法安定性及び良好な引掻性に対する良好な
抵抗を与えるために使用されていた。例えばＵＳ−Ｐ３
４５９７９０に、ラテックス粒子のバルク中に反応性メ
チレン基を含むモノマー０．１重量％（存在するモノマ
ーの全重量に対して）の導入が、写真材料に加えたと
き、寸法安定性及び引掻に対する耐性の両者を改良する
ラテックスを生じたことが記載されている。
が、良好な寸法安定性及び良好な引掻性に対する良好な
抵抗を与えるために使用されていた。例えばＵＳ−Ｐ３
４５９７９０に、ラテックス粒子のバルク中に反応性メ
チレン基を含むモノマー０．１重量％（存在するモノマ
ーの全重量に対して）の導入が、写真材料に加えたと
き、寸法安定性及び引掻に対する耐性の両者を改良する
ラテックスを生じたことが記載されている。
【０００９】ＥＰ−Ａ３４３６４２及びＵＳ−Ｈ Ｈ１
０１６には、下塗層中で、反応性メチレン基を含有する
コア−シェルラテックスであるビニリデンクロライドコ
ポリマーの使用が記載されている。前記下塗層中に前記
ポリマーを含む前記下塗層の使用が支持体上に被覆され
た写真ハロゲン化銀材料の寸法安定性を増強する。
０１６には、下塗層中で、反応性メチレン基を含有する
コア−シェルラテックスであるビニリデンクロライドコ
ポリマーの使用が記載されている。前記下塗層中に前記
ポリマーを含む前記下塗層の使用が支持体上に被覆され
た写真ハロゲン化銀材料の寸法安定性を増強する。
【００１０】本発明は、写真材料中で可塑剤として使用
するための改良されたポリマーラテックスについての教
示を拡大するものである。
するための改良されたポリマーラテックスについての教
示を拡大するものである。
【００１１】発明の目的及び概要 本発明の目的は、良好な耐引掻性を保持しながら、高濃
度でゼラチン系層中に混入できる新種のラテックスを提
供することにある。
度でゼラチン系層中に混入できる新種のラテックスを提
供することにある。
【００１２】本発明の別の目的は、寸法安定性、可撓性
及び耐引掻性の間に有利な折衷を示す改良された写真材
料を提供することにある。
及び耐引掻性の間に有利な折衷を示す改良された写真材
料を提供することにある。
【００１３】本発明の更に別の目的は、低水吸収を保持
しながら、寸法安定性、可撓性及び耐引掻性の間の有利
な折衷を示す改良された写真材料を提供することにあ
る。
しながら、寸法安定性、可撓性及び耐引掻性の間の有利
な折衷を示す改良された写真材料を提供することにあ
る。
【００１４】本発明の更に別の目的は、より安価であり
かつより安定である前述した性質を示す写真材料を製造
するのに有用なラテックスを提供することにある。
かつより安定である前述した性質を示す写真材料を製造
するのに有用なラテックスを提供することにある。
【００１５】本発明の他の目的は以下の説明から明らか
になるであろう。
になるであろう。
【００１６】本発明の目的は、支持体、下塗層、少なく
とも一つの親水性ゼラチン系ハロゲン化銀乳剤層、所望
によって一つ以上の他の親水性ゼラチン系層及びコア
（コ）ポリマー及びシェル（コ）ポリマーを含有するコ
ア−シェルラテックスポリマーを含む写真材料におい
て、(i) 前記コア−シェルラテックスが、前記親水性ゼ
ラチン系層の少なくとも一つ中に存在し、(ii)前記シェ
ル（コ）ポリマーが、反応性メチレン基を有する少なく
とも１種のエチレン性不飽和モノマーから誘導された成
分（ moieties ）Ａを含み、(iii) 前記シェル（コ）ポ
リマー中に存在する成分Ａが、前記コア及びシェル
（コ）ポリマーの両者中に存在する全成分の１〜３０重
量％を構成し、そして(iv)前記シェル（コ）ポリマー中
に存在する前記成分Ａが、前記シェル（コ）ポリマー中
に存在する全成分の２〜５０重量％を構成することを特
徴とする写真材料を提供することによって実現される。
とも一つの親水性ゼラチン系ハロゲン化銀乳剤層、所望
によって一つ以上の他の親水性ゼラチン系層及びコア
（コ）ポリマー及びシェル（コ）ポリマーを含有するコ
ア−シェルラテックスポリマーを含む写真材料におい
て、(i) 前記コア−シェルラテックスが、前記親水性ゼ
ラチン系層の少なくとも一つ中に存在し、(ii)前記シェ
ル（コ）ポリマーが、反応性メチレン基を有する少なく
とも１種のエチレン性不飽和モノマーから誘導された成
分（ moieties ）Ａを含み、(iii) 前記シェル（コ）ポ
リマー中に存在する成分Ａが、前記コア及びシェル
（コ）ポリマーの両者中に存在する全成分の１〜３０重
量％を構成し、そして(iv)前記シェル（コ）ポリマー中
に存在する前記成分Ａが、前記シェル（コ）ポリマー中
に存在する全成分の２〜５０重量％を構成することを特
徴とする写真材料を提供することによって実現される。
【００１７】好ましい具体例において、前記シェル
（コ）ポリマー中に存在する前記成分Ａは、前記コア及
び前記シェル（コ）ポリマーの両者中に存在する全成分
の１〜１５重量％を構成し、前記シェル（コ）ポリマー
中の存在する前記成分Ａは、前記シェル（コ）ポリマー
中に存在する全成分の２〜２０重量％を構成する。
（コ）ポリマー中に存在する前記成分Ａは、前記コア及
び前記シェル（コ）ポリマーの両者中に存在する全成分
の１〜１５重量％を構成し、前記シェル（コ）ポリマー
中の存在する前記成分Ａは、前記シェル（コ）ポリマー
中に存在する全成分の２〜２０重量％を構成する。
【００１８】発明の詳述 コアを形成する少なくとも１種のエチレン性不飽和モノ
マーの重合によって作られた（コ）ポリマー及びシェル
を形成する反応性−ＣＨ2 −基を含有する少なくとも１
種のエチレン性不飽和モノマー及び所望により１種以上
の他の共重合しうるモノマーの重合によって作られた
（コ）ポリマーを含有するコア−シェル型のラテックス
コポリマーを一つ以上の親水性ゼラチン系層中に含有す
るハロゲン化銀写真材料が、有利な物理的性質を示し、
そして高耐引掻性が高寸法安定性と組合されたことを見
出した。又かかる材料は、材料の水吸収を（実質的に）
増大することなく、一つ以上の親水性層中で、親水性結
合剤（例えばゼラチン）に対して５０重量％まで含有で
きることも見出した。低水吸収は迅速処理を意図するハ
ロゲン化銀材料にとって必要なことである。迅速処理に
おける速度制限する工程は、殆どの場合において、乾燥
工程（現像工程及び定着工程に続く）であり、この場合
ハロゲン化銀材料中に吸収された水を蒸発させなければ
ならない。本発明のラテックスは水吸収を（実質的に）
増大しないから、本発明のラテックスは、迅速処理を目
的とする材料中でさえも多量で使用できる。
マーの重合によって作られた（コ）ポリマー及びシェル
を形成する反応性−ＣＨ2 −基を含有する少なくとも１
種のエチレン性不飽和モノマー及び所望により１種以上
の他の共重合しうるモノマーの重合によって作られた
（コ）ポリマーを含有するコア−シェル型のラテックス
コポリマーを一つ以上の親水性ゼラチン系層中に含有す
るハロゲン化銀写真材料が、有利な物理的性質を示し、
そして高耐引掻性が高寸法安定性と組合されたことを見
出した。又かかる材料は、材料の水吸収を（実質的に）
増大することなく、一つ以上の親水性層中で、親水性結
合剤（例えばゼラチン）に対して５０重量％まで含有で
きることも見出した。低水吸収は迅速処理を意図するハ
ロゲン化銀材料にとって必要なことである。迅速処理に
おける速度制限する工程は、殆どの場合において、乾燥
工程（現像工程及び定着工程に続く）であり、この場合
ハロゲン化銀材料中に吸収された水を蒸発させなければ
ならない。本発明のラテックスは水吸収を（実質的に）
増大しないから、本発明のラテックスは、迅速処理を目
的とする材料中でさえも多量で使用できる。
【００１９】コア（コ）ポリマー及びシェル（コ）ポリ
マーが異なり、かつ反応性−ＣＨ2−基を含む前記少な
くとも１種のエチレン性不飽和モノマーがシェル（コ）
ポリマー中に含まれるようなコア−シェルラテックスを
使用するとき、最良の結果が得られることを見出した。
前記シェル（コ）ポリマーの２〜５０重量％が、反応性
−ＣＨ2 −基を含む前記エチレン性不飽和モノマーから
誘導された成分Ａによって表されることが更に好まし
い。前記成分Ａは、前記コア及び前記シェル（コ）ポリ
マーの両者中に存在する全成分の１〜３０重量％の量で
前記シェル（コ）ポリマー中に存在するのが好ましい。
反応性−ＣＨ2 −基を含む不飽和モノマーから誘導され
る前記成分Ａが、前記コア及び前記シェル（コ）ポリマ
ーの両者中存在する全成分の１〜１５重量％の量で存在
し、前記成分Ａが、前記シェル（コ）ポリマー中に存在
する全成分の２〜２０重量％の量で前記シェル（コ）ポ
リマー中に存在することが最も好ましい。
マーが異なり、かつ反応性−ＣＨ2−基を含む前記少な
くとも１種のエチレン性不飽和モノマーがシェル（コ）
ポリマー中に含まれるようなコア−シェルラテックスを
使用するとき、最良の結果が得られることを見出した。
前記シェル（コ）ポリマーの２〜５０重量％が、反応性
−ＣＨ2 −基を含む前記エチレン性不飽和モノマーから
誘導された成分Ａによって表されることが更に好まし
い。前記成分Ａは、前記コア及び前記シェル（コ）ポリ
マーの両者中に存在する全成分の１〜３０重量％の量で
前記シェル（コ）ポリマー中に存在するのが好ましい。
反応性−ＣＨ2 −基を含む不飽和モノマーから誘導され
る前記成分Ａが、前記コア及び前記シェル（コ）ポリマ
ーの両者中存在する全成分の１〜１５重量％の量で存在
し、前記成分Ａが、前記シェル（コ）ポリマー中に存在
する全成分の２〜２０重量％の量で前記シェル（コ）ポ
リマー中に存在することが最も好ましい。
【００２０】反応性メチレン（−ＣＨ2 −）基を含有す
るエチレン性不飽和モノマーは、二つの強力に電子吸引
する基の間に位置する−ＣＨ2 −基を含むモノマーであ
る。強力に電子吸引する基によってとりまかれた−ＣＨ
2 −基の代表例には： −ＣＯ−ＣＨ2 −ＣＯ− −ＣＯ−ＣＨ2 −ＣＮ −ＣＯ−ＣＨ2 −Ｎ− ピラゾール 等がある。
るエチレン性不飽和モノマーは、二つの強力に電子吸引
する基の間に位置する−ＣＨ2 −基を含むモノマーであ
る。強力に電子吸引する基によってとりまかれた−ＣＨ
2 −基の代表例には： −ＣＯ−ＣＨ2 −ＣＯ− −ＣＯ−ＣＨ2 −ＣＮ −ＣＯ−ＣＨ2 −Ｎ− ピラゾール 等がある。
【００２１】本発明によるコア−シェルラテックスのシ
ェルの製造における反応性−ＣＨ2−基を含むエチレン
性不飽和モノマーとして使用するため、好ましいモノマ
ー（以後群Ａのモノマーと称する）には次のものがあ
る：
ェルの製造における反応性−ＣＨ2−基を含むエチレン
性不飽和モノマーとして使用するため、好ましいモノマ
ー（以後群Ａのモノマーと称する）には次のものがあ
る：
【００２２】２−アセトアセトキシエチルアクリレー
ト、２−シアノ−Ｎ−２−プロペニルアセトアミド、５
−ヘキセン−２，４−ジオン、５−メチル−５−ヘキセ
ン−２，４−ジオン ２−メチル−２−プロペン酸２−〔（シアノアセチル）
−オキシ〕エチルエステル、２−アセトアセトキシ−
２，２−ジメチルプロピルメタクリレート ３−オキソ−４−ペンテン酸エチルエステル、３−オキ
ソ−ブタン酸２−〔（２−メチル−１−オキソ−２−プ
ロペニル）−オキシ〕エチルエステル、２−アセトアセ
トキシエチルメタクリレート、及びジアセトンアクリル
アミド。
ト、２−シアノ−Ｎ−２−プロペニルアセトアミド、５
−ヘキセン−２，４−ジオン、５−メチル−５−ヘキセ
ン−２，４−ジオン ２−メチル−２−プロペン酸２−〔（シアノアセチル）
−オキシ〕エチルエステル、２−アセトアセトキシ−
２，２−ジメチルプロピルメタクリレート ３−オキソ−４−ペンテン酸エチルエステル、３−オキ
ソ−ブタン酸２−〔（２−メチル−１−オキソ−２−プ
ロペニル）−オキシ〕エチルエステル、２−アセトアセ
トキシエチルメタクリレート、及びジアセトンアクリル
アミド。
【００２３】前記モノマーの中、最も好ましいものは：
２−アセトアセトキシエチルメタクリレート、２−アセ
トアセトキシ−２，２−ジメチルプロピルメタクリレー
ト、及び３−オキソ−４−ペンテン酸エチルエステルで
ある。
２−アセトアセトキシエチルメタクリレート、２−アセ
トアセトキシ−２，２−ジメチルプロピルメタクリレー
ト、及び３−オキソ−４−ペンテン酸エチルエステルで
ある。
【００２４】本発明によるコア−シェルラテックスのコ
ア又はシェルの何れかを形成するために有用なモノマー
としては（本発明によるコア−シェルラテックスのシェ
ルを形成するため使用するとき、これらのモノマーは群
Ａからのモノマーと組合せて使用する）、（メタ）アク
リル酸エステル、（メタ）アクリル酸エステルの混合
物、他のビニルモノマー及びこれらの混合物（以後群Ｂ
のモノマーと称する）がある。（メタ）アクリル酸エス
テルなる語によって、本発明の範囲内では、メタクリル
酸及びアクリル酸のエステルと理解すべきである。本発
明によるコア−シェルラテックスの製造に使用するため
に有用な群Ｂのモノマーの例には次のものがある：
ア又はシェルの何れかを形成するために有用なモノマー
としては（本発明によるコア−シェルラテックスのシェ
ルを形成するため使用するとき、これらのモノマーは群
Ａからのモノマーと組合せて使用する）、（メタ）アク
リル酸エステル、（メタ）アクリル酸エステルの混合
物、他のビニルモノマー及びこれらの混合物（以後群Ｂ
のモノマーと称する）がある。（メタ）アクリル酸エス
テルなる語によって、本発明の範囲内では、メタクリル
酸及びアクリル酸のエステルと理解すべきである。本発
明によるコア−シェルラテックスの製造に使用するため
に有用な群Ｂのモノマーの例には次のものがある：
【００２５】２−プロペン酸メチルエステル、２−プロ
ペン酸ペンチルエステル、２−プロペン酸ｎ−ブチルエ
ステル、２−プロペン酸フェニルメチルエステル、２−
プロペン酸シクロヘキシルエステル、２−プロペン酸シ
クロペンチルエステル、２−プロペン酸ヘキサデシルエ
ステル、２−プロペン酸２−メチルプロピルエステル、
２−プロペン酸２−エチルヘキシルエステル、２−プロ
ペン酸２−（１−エチル）−ペンチルエステル、２−プ
ロペン酸２−（２−エトキシエトキシ）−エチルエステ
ル、２−プロペン酸２−ブトキシエチルエステル、２−
プロペン酸２−（２−メトキシエトキシ）−エチルエス
テル、２−プロペン酸２−ｎ−プロピル−３−ｉ−プロ
ピルプロピルエステル、２−プロペン酸オクチルエステ
ル、２−プロペン酸オクタデシルエステル、２−プロペ
ン酸２−エトキシエチルエステル、２−プロペン酸２−
メトキシエチルエステル、２−プロペン酸２−（メトキ
シエトキシ）−エチルエステル、２−プロペン酸エチル
エステル、２−プロペン酸プロピルエステル、２−プロ
ペン酸２−ヘノキシエチルエステル、２−プロペン酸フ
ェニルエステル、２−プロペン酸１−メチルエチルエス
テル、２−プロペン酸ヘキシルエステル、２−プロペン
酸１−メチルプロピルエステル、２−プロペン酸２，２
−ジメチルブチルエステル、
ペン酸ペンチルエステル、２−プロペン酸ｎ−ブチルエ
ステル、２−プロペン酸フェニルメチルエステル、２−
プロペン酸シクロヘキシルエステル、２−プロペン酸シ
クロペンチルエステル、２−プロペン酸ヘキサデシルエ
ステル、２−プロペン酸２−メチルプロピルエステル、
２−プロペン酸２−エチルヘキシルエステル、２−プロ
ペン酸２−（１−エチル）−ペンチルエステル、２−プ
ロペン酸２−（２−エトキシエトキシ）−エチルエステ
ル、２−プロペン酸２−ブトキシエチルエステル、２−
プロペン酸２−（２−メトキシエトキシ）−エチルエス
テル、２−プロペン酸２−ｎ−プロピル−３−ｉ−プロ
ピルプロピルエステル、２−プロペン酸オクチルエステ
ル、２−プロペン酸オクタデシルエステル、２−プロペ
ン酸２−エトキシエチルエステル、２−プロペン酸２−
メトキシエチルエステル、２−プロペン酸２−（メトキ
シエトキシ）−エチルエステル、２−プロペン酸エチル
エステル、２−プロペン酸プロピルエステル、２−プロ
ペン酸２−ヘノキシエチルエステル、２−プロペン酸フ
ェニルエステル、２−プロペン酸１−メチルエチルエス
テル、２−プロペン酸ヘキシルエステル、２−プロペン
酸１−メチルプロピルエステル、２−プロペン酸２，２
−ジメチルブチルエステル、
【００２６】（２−メチル−２）−プロペン酸メチルエ
ステル、（２−メチル−２）−プロペン酸ペンチルエス
テル、（２−メチル−２）−プロペン酸ｎ−ブチルエス
テル、（２−メチル−２）−プロペン酸フェニルメチル
エステル、（２−メチル−２）−プロペン酸シクロヘキ
シルエステル、（２−メチル−２）−プロペン酸シクロ
ペンチルエステル、（２−メチル−２）−プロペン酸ヘ
キサデシルエステル、（２−メチル−２）−プロペン酸
２−メチルプロピルエステル、（２−メチル−２）−プ
ロペン酸２−エチルヘキシルエステル、（２−メチル−
２）−プロペン酸２−（１−エチル）−ペンチルエステ
ル、（２−メチル−２）−プロペン酸２−（２−エトキ
シエトキシ）−エチルエステル、（２−メチル−２）−
プロペン酸２−ブトキシエチルエステル、（２−メチル
−２）−プロペン酸２−（２−メトキシエトキシ）−エ
チルエステル、（２−メチル−２）−プロペン酸２−ｎ
−プロピル−３−ｉ−プロピルプロピルエステル、（２
−メチル−２）−プロペン酸オクチルエステル、（２−
メチル−２）−プロペン酸オクタデシルエステル、（２
−メチル−２）−プロペン酸２−エトキシエチルエステ
ル、（２−メチル−２）−プロペン酸２−メトキシエチ
ルエステル、（２−メチル−２）−プロペン酸２−（メ
トキシエトキシ）−エチルエステル、（２−メチル−
２）−プロペン酸エチルエステル、（２−メチル−２）
−プロペン酸プロピルエステル、（２−メチル−２）−
プロペン酸２−ヘノキシエチルエステル、（２−メチル
−２）−プロペン酸フェニルエステル、（２−メチル−
２）−プロペン酸１−メチルエチルエステル、（２−メ
チル−２）−プロペン酸ヘキシルエステル、（２−メチ
ル−２）−プロペン酸１−メチルプロピルエステル、
（２−メチル−２）−プロペン酸２，２−ジメチルブチ
ルエステル、
ステル、（２−メチル−２）−プロペン酸ペンチルエス
テル、（２−メチル−２）−プロペン酸ｎ−ブチルエス
テル、（２−メチル−２）−プロペン酸フェニルメチル
エステル、（２−メチル−２）−プロペン酸シクロヘキ
シルエステル、（２−メチル−２）−プロペン酸シクロ
ペンチルエステル、（２−メチル−２）−プロペン酸ヘ
キサデシルエステル、（２−メチル−２）−プロペン酸
２−メチルプロピルエステル、（２−メチル−２）−プ
ロペン酸２−エチルヘキシルエステル、（２−メチル−
２）−プロペン酸２−（１−エチル）−ペンチルエステ
ル、（２−メチル−２）−プロペン酸２−（２−エトキ
シエトキシ）−エチルエステル、（２−メチル−２）−
プロペン酸２−ブトキシエチルエステル、（２−メチル
−２）−プロペン酸２−（２−メトキシエトキシ）−エ
チルエステル、（２−メチル−２）−プロペン酸２−ｎ
−プロピル−３−ｉ−プロピルプロピルエステル、（２
−メチル−２）−プロペン酸オクチルエステル、（２−
メチル−２）−プロペン酸オクタデシルエステル、（２
−メチル−２）−プロペン酸２−エトキシエチルエステ
ル、（２−メチル−２）−プロペン酸２−メトキシエチ
ルエステル、（２−メチル−２）−プロペン酸２−（メ
トキシエトキシ）−エチルエステル、（２−メチル−
２）−プロペン酸エチルエステル、（２−メチル−２）
−プロペン酸プロピルエステル、（２−メチル−２）−
プロペン酸２−ヘノキシエチルエステル、（２−メチル
−２）−プロペン酸フェニルエステル、（２−メチル−
２）−プロペン酸１−メチルエチルエステル、（２−メ
チル−２）−プロペン酸ヘキシルエステル、（２−メチ
ル−２）−プロペン酸１−メチルプロピルエステル、
（２−メチル−２）−プロペン酸２，２−ジメチルブチ
ルエステル、
【００２７】アリルメタクリレート テトラアリルオキシエタン、アクリルアミド、スチレ
ン、（１−メチルエテニル）−ベンゼン、３−オクタデ
シルオキシスチレン、４−オクタデシルオキシスチレ
ン、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）−２−メチル−２
−プロペンアミド、２−プロペン酸２−ヒドロキシエチ
ルエステル、２−プロペン酸２−ヒドロキシプロピルエ
ステル、（２−メチル−２）−プロペン酸２−ヒドロキ
シエチルエステル、（２−メチル−２）−プロペン酸２
−ヒドロキシプロピルエステル、Ｎ−（１−メチルエチ
ル）−２−プロペンアミド、３−エテニル安息香酸、４
−エテニル安息香酸、Ｎ−（２−ヒドロキシプロピル）
−２−メチル−２−プロペンアミド、Ｎ，２−ジメチル
−２−プロペンアミド、２−メチル−２−プロペンアミ
ド、Ｎ−（２−ヒドロキシプロピル）−２−メチル−２
−プロペンアミド、Ｎ−〔２−ヒドロキシ−１，１−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−エチル〕−２−プロペンアミ
ド、Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）−２−プロペンア
ミド、酢酸エテニルエステル、３−メチルスチレン ４−メチルスチレン Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−プロペンアミド、エチレングリ
コールジメチルアクリレート、無水マレイン酸、アセト
ニトリル、ビニルエステル例えばビニルアセテート又は
分枝鎖カルボン酸のビニルエステル、例えばＬＩＣＡＮ
２６１、ＬＩＣＡＮ２７０、ＬＩＣＡＮ２７９、ＬＩＣ
ＡＮ２８８又はＬＩＣＡＮ２４５（ＬＩＣＡＮはドイツ
国のＨＵＥＬＳ ＡＧの商品名である）。
ン、（１−メチルエテニル）−ベンゼン、３−オクタデ
シルオキシスチレン、４−オクタデシルオキシスチレ
ン、Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）−２−メチル−２
−プロペンアミド、２−プロペン酸２−ヒドロキシエチ
ルエステル、２−プロペン酸２−ヒドロキシプロピルエ
ステル、（２−メチル−２）−プロペン酸２−ヒドロキ
シエチルエステル、（２−メチル−２）−プロペン酸２
−ヒドロキシプロピルエステル、Ｎ−（１−メチルエチ
ル）−２−プロペンアミド、３−エテニル安息香酸、４
−エテニル安息香酸、Ｎ−（２−ヒドロキシプロピル）
−２−メチル−２−プロペンアミド、Ｎ，２−ジメチル
−２−プロペンアミド、２−メチル−２−プロペンアミ
ド、Ｎ−（２−ヒドロキシプロピル）−２−メチル−２
−プロペンアミド、Ｎ−〔２−ヒドロキシ−１，１−ビ
ス（ヒドロキシメチル）−エチル〕−２−プロペンアミ
ド、Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）−２−プロペンア
ミド、酢酸エテニルエステル、３−メチルスチレン ４−メチルスチレン Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−プロペンアミド、エチレングリ
コールジメチルアクリレート、無水マレイン酸、アセト
ニトリル、ビニルエステル例えばビニルアセテート又は
分枝鎖カルボン酸のビニルエステル、例えばＬＩＣＡＮ
２６１、ＬＩＣＡＮ２７０、ＬＩＣＡＮ２７９、ＬＩＣ
ＡＮ２８８又はＬＩＣＡＮ２４５（ＬＩＣＡＮはドイツ
国のＨＵＥＬＳ ＡＧの商品名である）。
【００２８】本発明のコア−シェルラテックスの製造に
おいて、コア−シェルラテックスのコア（コ）ポリマー
を作るため、群Ｂのモノマーを単独で、又は群Ｃ（後述
する）のモノマーと組合せて使用するのが好ましい。特
に好ましい群Ｂのモノマーは２−プロペン酸メチルエス
テル、２−プロペン酸エチルエステル、２−プロペン酸
ｎ−ブチルエステル、２−メチル−２−プロペン酸メチ
ルエステル及びスチレンである。
おいて、コア−シェルラテックスのコア（コ）ポリマー
を作るため、群Ｂのモノマーを単独で、又は群Ｃ（後述
する）のモノマーと組合せて使用するのが好ましい。特
に好ましい群Ｂのモノマーは２−プロペン酸メチルエス
テル、２−プロペン酸エチルエステル、２−プロペン酸
ｎ−ブチルエステル、２−メチル−２−プロペン酸メチ
ルエステル及びスチレンである。
【００２９】コアを形成するため群Ｂのモノマーと組合
せて又は（シェルを形成するため）群Ｂのモノマー及び
／又は群Ａからのモノマーと組合せて、本発明によるコ
ア−シェルラテックスのコア又はシェルの何れかを形成
するために有用な更に別のモノマーには、アニオン基を
含有するか、又は重合混合物のｐＨによってかかる基を
形成するビニルモノマーがある（以後群Ｃのモノマーと
称する）。
せて又は（シェルを形成するため）群Ｂのモノマー及び
／又は群Ａからのモノマーと組合せて、本発明によるコ
ア−シェルラテックスのコア又はシェルの何れかを形成
するために有用な更に別のモノマーには、アニオン基を
含有するか、又は重合混合物のｐＨによってかかる基を
形成するビニルモノマーがある（以後群Ｃのモノマーと
称する）。
【００３０】好ましいのは、カルボキシレート基又はス
ルホネート基を含有するか、又はｐＨの変動によってこ
れらの基を形成できるビニルモノマーである。好ましい
ビニルモノマーの例（群Ｃ）には次のものがある：
ルホネート基を含有するか、又はｐＨの変動によってこ
れらの基を形成できるビニルモノマーである。好ましい
ビニルモノマーの例（群Ｃ）には次のものがある：
【００３１】１−プロペン−１，２，３−トリカルボン
酸、２−プロペン酸、２−プロペン酸ナトリウム塩、２
−クロロ−２−プロペン酸、２−プロペン酸２−カルボ
キシエチルエステル、２−メチル２−プロペン酸、２−
メチル−２−プロペン酸リチウム塩、メチレンブタンジ
オン酸、２−ブテンジオン酸、２−メチルブテンジオン
酸、２−メチレンペンテンジオン酸、２−カルボエトキ
シアリルサルフェートナトリウム塩、４−ヒドロキシ−
１−ブタンスルホン酸との２−プロペン酸のエステルナ
トリウム塩、４−ヒドロキシ−２−ブタンスルホン酸と
の２−プロペン酸のエステルナトリウム塩、３−アリル
オキシ−２−ヒドロキシプロパンスルホン酸ナトリウム
塩、３−〔ｔ−ブチル（２−ヒドロキシエチル）−アミ
ノ〕−プロパンスルホン酸との２−メチル−２−プロペ
ン酸エステル、エテンスルホン酸ナトリウム塩、３−ヒ
ドロキシ−１−プロパンスルホン酸とのメチレンコハク
酸ジエステルジナトリウム塩、２−（スルホオキシ）−
エチルとの２−メチル−２−プロペン酸エステルナトリ
ウム塩、Ｎ−３−スルホプロピルアクリルアミドカリウ
ム塩、２−メチル−２−プロペン酸２−スルホエチルエ
ステル、２−メチル−２−プロペン酸２−スルホエチル
エステルリチウム塩 ｐ−スチレンスルホン酸アンモニウム塩、２−アクリル
アミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸ナトリウ
ム塩、ｐ−スチレンスルホン酸カリウム塩、ｐ−スチレ
ンスルホン酸、４−４−エテニルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム塩、２−プロペン酸３−スルホプロピルエステ
ルナトリウム塩、ｍ−スルホメチルスチレンスルホン酸
カリウム塩、ｐ−スルホメチルスチレンスルホン酸ナト
リウム塩、２−メチル−２−プロペン酸３−スルホプロ
ピルエステルナトリウム塩、２−メチル−２−プロペン
酸３−スルホブチルエステルナトリウム塩、２−メチル
−２−プロペン酸４−スルホブチルエステルナトリウム
塩、２−メチル−２−プロペン酸２−スルホエチルエス
テルナトリウム塩、２−メチル−２−〔（１−オキソ−
２−プロペニル）−アミノ〕−１−プロパンスルホン
酸、２−メチル−２−〔（１−オキソ−２−プロペニ
ル）−アミノ〕−１−プロパンスルホン酸ナトリウム
塩、２−メチル−２−〔（１−オキソ−２−プロペニ
ル）−アミノ〕−１−プロパンスルホン酸カリウム塩、
酸、２−プロペン酸、２−プロペン酸ナトリウム塩、２
−クロロ−２−プロペン酸、２−プロペン酸２−カルボ
キシエチルエステル、２−メチル２−プロペン酸、２−
メチル−２−プロペン酸リチウム塩、メチレンブタンジ
オン酸、２−ブテンジオン酸、２−メチルブテンジオン
酸、２−メチレンペンテンジオン酸、２−カルボエトキ
シアリルサルフェートナトリウム塩、４−ヒドロキシ−
１−ブタンスルホン酸との２−プロペン酸のエステルナ
トリウム塩、４−ヒドロキシ−２−ブタンスルホン酸と
の２−プロペン酸のエステルナトリウム塩、３−アリル
オキシ−２−ヒドロキシプロパンスルホン酸ナトリウム
塩、３−〔ｔ−ブチル（２−ヒドロキシエチル）−アミ
ノ〕−プロパンスルホン酸との２−メチル−２−プロペ
ン酸エステル、エテンスルホン酸ナトリウム塩、３−ヒ
ドロキシ−１−プロパンスルホン酸とのメチレンコハク
酸ジエステルジナトリウム塩、２−（スルホオキシ）−
エチルとの２−メチル−２−プロペン酸エステルナトリ
ウム塩、Ｎ−３−スルホプロピルアクリルアミドカリウ
ム塩、２−メチル−２−プロペン酸２−スルホエチルエ
ステル、２−メチル−２−プロペン酸２−スルホエチル
エステルリチウム塩 ｐ−スチレンスルホン酸アンモニウム塩、２−アクリル
アミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸ナトリウ
ム塩、ｐ−スチレンスルホン酸カリウム塩、ｐ−スチレ
ンスルホン酸、４−４−エテニルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム塩、２−プロペン酸３−スルホプロピルエステ
ルナトリウム塩、ｍ−スルホメチルスチレンスルホン酸
カリウム塩、ｐ−スルホメチルスチレンスルホン酸ナト
リウム塩、２−メチル−２−プロペン酸３−スルホプロ
ピルエステルナトリウム塩、２−メチル−２−プロペン
酸３−スルホブチルエステルナトリウム塩、２−メチル
−２−プロペン酸４−スルホブチルエステルナトリウム
塩、２−メチル−２−プロペン酸２−スルホエチルエス
テルナトリウム塩、２−メチル−２−〔（１−オキソ−
２−プロペニル）−アミノ〕−１−プロパンスルホン
酸、２−メチル−２−〔（１−オキソ−２−プロペニ
ル）−アミノ〕−１−プロパンスルホン酸ナトリウム
塩、２−メチル−２−〔（１−オキソ−２−プロペニ
ル）−アミノ〕−１−プロパンスルホン酸カリウム塩、
【００３２】本発明のコア−シェルラテックスの製造に
おいて、コア−シェルラテックスのシェルを製造するた
め、群Ｃのモノマーを群Ａのモノマーと組合せて、又は
群Ａ及びＢのモノマーと組合せて使用することが好まし
い。
おいて、コア−シェルラテックスのシェルを製造するた
め、群Ｃのモノマーを群Ａのモノマーと組合せて、又は
群Ａ及びＢのモノマーと組合せて使用することが好まし
い。
【００３３】特に好ましいアニオン基を有するビニルモ
ノマー（群Ｃのモノマー）は２−プロペン酸ナトリウム
塩及び２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロペン
スルホン酸ナトリウム塩である。
ノマー（群Ｃのモノマー）は２−プロペン酸ナトリウム
塩及び２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロペン
スルホン酸ナトリウム塩である。
【００３４】本発明によるコア−シェルラテックスのコ
ア（コ）ポリマーを形成するため群Ｂのモノマーを使用
することが好ましいのであるがコア（コ）ポリマーは群
Ｂモノマー及び群Ｃモノマーの混合物から作るとよい。
ア（コ）ポリマーを形成するため群Ｂのモノマーを使用
することが好ましいのであるがコア（コ）ポリマーは群
Ｂモノマー及び群Ｃモノマーの混合物から作るとよい。
【００３５】シェル（コ）ポリマーを形成するため、群
Ａモノマーと組合せた群Ｃモノマーを使用することが好
ましいのであるが、群Ｂモノマーを群Ａモノマーとの組
合せ、又は群Ａ、Ｂ及びＣモノマーの組合せを用いてシ
ェル（コ）ポリマーを形成することもできる。
Ａモノマーと組合せた群Ｃモノマーを使用することが好
ましいのであるが、群Ｂモノマーを群Ａモノマーとの組
合せ、又は群Ａ、Ｂ及びＣモノマーの組合せを用いてシ
ェル（コ）ポリマーを形成することもできる。
【００３６】シェル（コ）ポリマー中の群Ａモノマー
（反応性メチレン基を有するモノマー）から誘導される
成分を含む本発明によるコア−シェルラテックスは、幾
つかの目的を果すためハロゲン化銀写真材料に加えるこ
とができる。コアを形成する（コ）ポリマーのＴｇ及び
シェルを形成する（コ）ポリマーのＴｇによって、本発
明によるポリマーラテックスの添加は、写真材料の寸法
安定性を改良でき又は材料の物理的引掻性を低下（耐引
掻性の増大）させることができる。又写真材料中に本発
明によるポリマーラテックスの特別の例を導入すること
によって、写真材料の寸法安定性を改良し、同時に写真
材料の物理的引掻性を減少させることもできることを見
出した。ハロゲン化銀写真材料の一つ以上の親水性層中
に、Ｔｇ＜３０℃、好ましくはＴｇ＜０℃を有するシェ
ルポリマー、及びＴｇ＞５０℃、好ましくはＴｇ＞８０
℃を有するコアポリマーを含む本発明によるシェル中に
反応性メチレン基を含むポリマーコア−シェルラテック
スを加えると、写真材料の寸法安定性を改良し、同時に
物理的引掻性を減ずることが見出された。一側上に親水
性ゼラチン系ハロゲン化銀乳剤層を、そして他側上にゼ
ラチン系裏塗層を担持する支持体を含む一側ハロゲン化
銀乳剤材料で使用したとき、少なくともシェル中にＴｇ
＜３０℃、好ましくはＴｇ＜０℃を有する（コ）ポリマ
ーを含むコア−シェルラテックスを使用するのが好まし
い。前記ゼラチン系裏塗層中で、コア及びシェルの両方
に、Ｔｇ＜３０℃、好ましくはＴｇ＜０℃を有する
（コ）ポリマーを含有するコア−シェルラテックスを使
用することが有利であることも証明された。
（反応性メチレン基を有するモノマー）から誘導される
成分を含む本発明によるコア−シェルラテックスは、幾
つかの目的を果すためハロゲン化銀写真材料に加えるこ
とができる。コアを形成する（コ）ポリマーのＴｇ及び
シェルを形成する（コ）ポリマーのＴｇによって、本発
明によるポリマーラテックスの添加は、写真材料の寸法
安定性を改良でき又は材料の物理的引掻性を低下（耐引
掻性の増大）させることができる。又写真材料中に本発
明によるポリマーラテックスの特別の例を導入すること
によって、写真材料の寸法安定性を改良し、同時に写真
材料の物理的引掻性を減少させることもできることを見
出した。ハロゲン化銀写真材料の一つ以上の親水性層中
に、Ｔｇ＜３０℃、好ましくはＴｇ＜０℃を有するシェ
ルポリマー、及びＴｇ＞５０℃、好ましくはＴｇ＞８０
℃を有するコアポリマーを含む本発明によるシェル中に
反応性メチレン基を含むポリマーコア−シェルラテック
スを加えると、写真材料の寸法安定性を改良し、同時に
物理的引掻性を減ずることが見出された。一側上に親水
性ゼラチン系ハロゲン化銀乳剤層を、そして他側上にゼ
ラチン系裏塗層を担持する支持体を含む一側ハロゲン化
銀乳剤材料で使用したとき、少なくともシェル中にＴｇ
＜３０℃、好ましくはＴｇ＜０℃を有する（コ）ポリマ
ーを含むコア−シェルラテックスを使用するのが好まし
い。前記ゼラチン系裏塗層中で、コア及びシェルの両方
に、Ｔｇ＜３０℃、好ましくはＴｇ＜０℃を有する
（コ）ポリマーを含有するコア−シェルラテックスを使
用することが有利であることも証明された。
【００３７】コポリマーのＴｇは、コポリマー中に存在
する各モノマーの重量分率（Ｗ）及び相当するホモポリ
マーのＴｇの知識から下記式によって予知できる：
する各モノマーの重量分率（Ｗ）及び相当するホモポリ
マーのＴｇの知識から下記式によって予知できる：
【００３８】Ｔｇコホ゜リマー ＝Ｗ1 （Ｔｇ1 ）＋Ｗ2 （Ｔ
ｇ2 ）＋−−−−＋Ｗn （Ｔｇn ）
ｇ2 ）＋−−−−＋Ｗn （Ｔｇn ）
【００３９】式中Ｗ1 は第一モノマーの重量分率であ
り、Ｔｇ1 は第一モノマー成分のみを含むホモポリマー
のＴｇであり、Ｗ2 は第二モノマーの重量分率であり、
Ｔｇ2は第二モノマー成分のみを含むホモポリマーのＴ
ｇであり、そしてＷn は第ｎ番のモノマーの重量分率で
あり、Ｔｇn は第ｎ番モノマー成分のみを含むホモポリ
マーのＴｇである。
り、Ｔｇ1 は第一モノマー成分のみを含むホモポリマー
のＴｇであり、Ｗ2 は第二モノマーの重量分率であり、
Ｔｇ2は第二モノマー成分のみを含むホモポリマーのＴ
ｇであり、そしてＷn は第ｎ番のモノマーの重量分率で
あり、Ｔｇn は第ｎ番モノマー成分のみを含むホモポリ
マーのＴｇである。
【００４０】本発明によるコア−シェルラテックスのコ
アコポリマー及びシェルコポリマーの両者のＴｇは前記
式を用いて計算した。前述した如く計算したＴｇの精度
は±５℃である。
アコポリマー及びシェルコポリマーの両者のＴｇは前記
式を用いて計算した。前述した如く計算したＴｇの精度
は±５℃である。
【００４１】本発明によるポリマーラテックスは、コア
又はシェル（コ）ポリマーのＴｇがどうであれ、写真材
料中に含まれた親水性層に加えたとき、写真材料の水吸
収を、反応性メチレン基を含有しない対照ラテックスに
おけるような、増大をしない。
又はシェル（コ）ポリマーのＴｇがどうであれ、写真材
料中に含まれた親水性層に加えたとき、写真材料の水吸
収を、反応性メチレン基を含有しない対照ラテックスに
おけるような、増大をしない。
【００４２】最も好ましい例において、シェル（コ）ポ
リマーは、反応性メチレン基を含む少なくとも１種の群
Ａモノマーから誘導された成分を常に含有する。群Ａモ
ノマーから誘導されたこれらの成分は、全シェル（コ）
ポリマーに対して、好ましくは２〜５０重量％、最も好
ましくは２〜２０重量％で存在させる。
リマーは、反応性メチレン基を含む少なくとも１種の群
Ａモノマーから誘導された成分を常に含有する。群Ａモ
ノマーから誘導されたこれらの成分は、全シェル（コ）
ポリマーに対して、好ましくは２〜５０重量％、最も好
ましくは２〜２０重量％で存在させる。
【００４３】本発明によるコア−シェルラテックスにお
いて、コアは全コア−シェル粒子の重量の１〜９９重量
％の量であり、シェルは１〜９９重量％である。シェル
が全コア−シェル粒子の重量の１０〜８０重量％になる
ようなコア−シェルラテックスを本発明に従って使用す
るのが好ましい。
いて、コアは全コア−シェル粒子の重量の１〜９９重量
％の量であり、シェルは１〜９９重量％である。シェル
が全コア−シェル粒子の重量の１０〜８０重量％になる
ようなコア−シェルラテックスを本発明に従って使用す
るのが好ましい。
【００４４】本発明によるコア−シェルラテックスは、
乳重合法によって製造できる。第一工程で、１種以上の
重合しうるモノマーの乳化（共）重合によってコアを作
る。この製造の工程において、前記モノマーの少なくと
も一部をバッチ法で重合することが有利である。かく作
った（コ）ポリマーは、次にコア−シェルラテックスの
それ以上の製造のためのコア材料として直接使用でき
る。コアの厚さを制御するため、更にコア（コ）ポリマ
ーを構成するモノマーを加え、これらのモノマーをハッ
チ法中で作られた元のコアの上に更に重合させることが
できる。
乳重合法によって製造できる。第一工程で、１種以上の
重合しうるモノマーの乳化（共）重合によってコアを作
る。この製造の工程において、前記モノマーの少なくと
も一部をバッチ法で重合することが有利である。かく作
った（コ）ポリマーは、次にコア−シェルラテックスの
それ以上の製造のためのコア材料として直接使用でき
る。コアの厚さを制御するため、更にコア（コ）ポリマ
ーを構成するモノマーを加え、これらのモノマーをハッ
チ法中で作られた元のコアの上に更に重合させることが
できる。
【００４５】第二工程で、シェルを形成するのに必要な
モノマーをコア材料に加え、更に前記コア材料の上で重
合させる。この工程で、使用するモノマーの少なくとも
１種が反応性メチレン（−ＣＨ2 −）基を含むエチレン
性不飽和モノマーであるのが好ましい。
モノマーをコア材料に加え、更に前記コア材料の上で重
合させる。この工程で、使用するモノマーの少なくとも
１種が反応性メチレン（−ＣＨ2 −）基を含むエチレン
性不飽和モノマーであるのが好ましい。
【００４６】乳化重合の別の方法及び（重合性モノマー
とは別の）反応のために必要な別の成分、例えば開始
剤、界面活性剤、還元体、緩衝物質等は、例えば Thiem
e Verlag １９８７年発行、Houben Weyl 著、Method
en der organischen Chemie, IV edition , Band
Ｅ２０、part １，２１８頁に見出すことができる。
とは別の）反応のために必要な別の成分、例えば開始
剤、界面活性剤、還元体、緩衝物質等は、例えば Thiem
e Verlag １９８７年発行、Houben Weyl 著、Method
en der organischen Chemie, IV edition , Band
Ｅ２０、part １，２１８頁に見出すことができる。
【００４７】開始剤として、ラジカルで分解する開始剤
の、モノマーを基準にした一般に０．０５〜５重量％に
なるようにとる。かかる開始剤には、例えば有機過酸化
物例えばラウロイルパーオキサイド、シクロヘキサノン
ヒドロパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオクトエート、
ｔ−ブチルパーピバレート、ｔ−ブチルパーベンゾエー
ト、ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルパ
ーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブ
チルヒドロパーオキサイド、クモルヒドロパーオキサイ
ド；パーオキシカーボネート例えばジイソプロピルパー
オキシジカーボネート、ジシクロヘキシルパーオキシジ
カーボネート、ジイソオクチルパーオキシジカーボネー
ト；スルホニルパーオキサイド例えばアセチルシクロヘ
キシルスルホニルパーアセテート；スルホニルヒドラジ
ド；アゾ化合物例えばアゾジイソラク酸ニトリル及び更
に良好な水溶性アゾ化合物例えばＤＥ−Ａ２８４１０４
５に記載されている如き化合物がある。無機過酸化物例
えば過酸化水素、ペルオクソ二硫酸カリウム、及びペル
オクソ二硫酸アンモニウムも同様に好適である。ラジカ
ルにおける分解をする開始剤は、単独で又は還元剤もし
くは重金属化合物と組合せて使用できる。かかる化合物
には例えばピロ亜硫酸ナトリウムもしくはカリウム、ギ
酸、アスコルビン酸、チオ尿素、ヒドラジンもしくはア
ミン誘導体及び RONGALIT （１−ヒドロキシメタンスル
ホン酸Ｎａ塩）がある。重金属化合物は油溶性及び水溶
性の形で存在させることができる。水溶性重金属化合物
の例には、低原子価状態でのバナジン又はチタンの塩及
び２価及び３価の鉄、コバルト、ニッケルの硫酸塩及び
ハロゲン化物、硝酸銀がある。油溶性重金属化合物の例
には、ナフテン酸コバルト及びバナジウム、コバルト、
チタン、ニッケル及び鉄のアセチルアセトン錯体があ
る。
の、モノマーを基準にした一般に０．０５〜５重量％に
なるようにとる。かかる開始剤には、例えば有機過酸化
物例えばラウロイルパーオキサイド、シクロヘキサノン
ヒドロパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオクトエート、
ｔ−ブチルパーピバレート、ｔ−ブチルパーベンゾエー
ト、ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルパ
ーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブ
チルヒドロパーオキサイド、クモルヒドロパーオキサイ
ド；パーオキシカーボネート例えばジイソプロピルパー
オキシジカーボネート、ジシクロヘキシルパーオキシジ
カーボネート、ジイソオクチルパーオキシジカーボネー
ト；スルホニルパーオキサイド例えばアセチルシクロヘ
キシルスルホニルパーアセテート；スルホニルヒドラジ
ド；アゾ化合物例えばアゾジイソラク酸ニトリル及び更
に良好な水溶性アゾ化合物例えばＤＥ−Ａ２８４１０４
５に記載されている如き化合物がある。無機過酸化物例
えば過酸化水素、ペルオクソ二硫酸カリウム、及びペル
オクソ二硫酸アンモニウムも同様に好適である。ラジカ
ルにおける分解をする開始剤は、単独で又は還元剤もし
くは重金属化合物と組合せて使用できる。かかる化合物
には例えばピロ亜硫酸ナトリウムもしくはカリウム、ギ
酸、アスコルビン酸、チオ尿素、ヒドラジンもしくはア
ミン誘導体及び RONGALIT （１−ヒドロキシメタンスル
ホン酸Ｎａ塩）がある。重金属化合物は油溶性及び水溶
性の形で存在させることができる。水溶性重金属化合物
の例には、低原子価状態でのバナジン又はチタンの塩及
び２価及び３価の鉄、コバルト、ニッケルの硫酸塩及び
ハロゲン化物、硝酸銀がある。油溶性重金属化合物の例
には、ナフテン酸コバルト及びバナジウム、コバルト、
チタン、ニッケル及び鉄のアセチルアセトン錯体があ
る。
【００４８】乳化重合は、２０〜１００℃の間の温度、
好ましくは４０〜８５℃の間の温度で生起させる。
好ましくは４０〜８５℃の間の温度で生起させる。
【００４９】使用できる乳化剤の量は、重合されるべき
モノマーを基準にして０〜２０％、好ましくは１〜５％
である。そのためにはアニオン乳化剤のみならず非イオ
ン乳化剤が好適である。例として、アルキル及びアリー
ルスルホネート例えばドデシルスルホン酸Ｎａ塩、オレ
イン酸とのＮ−メチルタウリネート生成物（ HOSTAPON
T ）及びスルホン化ドデシルフェニルフェニルエーテ
ル（ Dow FAX 2A1）、アルキル及びアリールサルフェ
ート例えばオキシエチル化ノニルフェノールのナトリウ
ムサルフェート（ HOSTAPAL B ）、ポリ（ビニルアル
コール）、オキシエチル化フェノール、オレイルアルコ
ールポリグリコールエーテル、オキシエチル化ポリプロ
ピレングリコール、又は天然生成物例えばゼラチン及び
魚膠がある。
モノマーを基準にして０〜２０％、好ましくは１〜５％
である。そのためにはアニオン乳化剤のみならず非イオ
ン乳化剤が好適である。例として、アルキル及びアリー
ルスルホネート例えばドデシルスルホン酸Ｎａ塩、オレ
イン酸とのＮ−メチルタウリネート生成物（ HOSTAPON
T ）及びスルホン化ドデシルフェニルフェニルエーテ
ル（ Dow FAX 2A1）、アルキル及びアリールサルフェ
ート例えばオキシエチル化ノニルフェノールのナトリウ
ムサルフェート（ HOSTAPAL B ）、ポリ（ビニルアル
コール）、オキシエチル化フェノール、オレイルアルコ
ールポリグリコールエーテル、オキシエチル化ポリプロ
ピレングリコール、又は天然生成物例えばゼラチン及び
魚膠がある。
【００５０】コア−シェルラテックスの製造は、例えば
米国ワシントンＤＣの American Chemical Society
の１９９２年の Symposium Series of the America
n Chemical Society No. ４９２の Polymer Latice
s ２３５頁の S. Lee 及び A. Rudin の論文 Control
of Core - Shell Latex Morphology の Chapter１５
に記載されている。
米国ワシントンＤＣの American Chemical Society
の１９９２年の Symposium Series of the America
n Chemical Society No. ４９２の Polymer Latice
s ２３５頁の S. Lee 及び A. Rudin の論文 Control
of Core - Shell Latex Morphology の Chapter１５
に記載されている。
【００５１】本発明によりポリマーラテックスを混入す
る写真材料の種類及びその用途分野は、如何なる方法に
おいても制限されない。それには、グラフィックアート
用及びいわゆるアマチュア及びプロフェッショナル黒白
もしくはカラー写真用の写真材料、映画記録及び印刷材
料、Ｘ線診断、拡散転写反転写真材料、低速及び高速写
真材料等を含む。しかしながら、本発明の利点は、寸法
安定性及び物理的引掻性に対して高い基準を設定してい
る写真材料、例えば背景技術のところで説明した如きグ
ラフィックアート接触材料中にラテックスを混入したと
き鮮明になる。数種の市販の接触材料を利用できる。複
製材料は古典的な暗室型のものであることができるが、
近年においては、ＵＶの少ない周囲光の下適当な時間で
取り扱いのできるいわゆる昼光又は室光接触材料が好ま
しい。又比較的明るい黄色光の下で取り扱いうる黄色光
接触材料もある。強力に発光する金属−ハロゲン光源に
よって露光しなければならない非常に非感光性の日光型
も利用できる。石英光源によって露光するため少しの非
感光性の型も設計されている。昼光材料はネガ作用型又
は直接ポジ作用型のものであることができる。
る写真材料の種類及びその用途分野は、如何なる方法に
おいても制限されない。それには、グラフィックアート
用及びいわゆるアマチュア及びプロフェッショナル黒白
もしくはカラー写真用の写真材料、映画記録及び印刷材
料、Ｘ線診断、拡散転写反転写真材料、低速及び高速写
真材料等を含む。しかしながら、本発明の利点は、寸法
安定性及び物理的引掻性に対して高い基準を設定してい
る写真材料、例えば背景技術のところで説明した如きグ
ラフィックアート接触材料中にラテックスを混入したと
き鮮明になる。数種の市販の接触材料を利用できる。複
製材料は古典的な暗室型のものであることができるが、
近年においては、ＵＶの少ない周囲光の下適当な時間で
取り扱いのできるいわゆる昼光又は室光接触材料が好ま
しい。又比較的明るい黄色光の下で取り扱いうる黄色光
接触材料もある。強力に発光する金属−ハロゲン光源に
よって露光しなければならない非常に非感光性の日光型
も利用できる。石英光源によって露光するため少しの非
感光性の型も設計されている。昼光材料はネガ作用型又
は直接ポジ作用型のものであることができる。
【００５２】通常黒白材料においては、ハロゲン化銀乳
剤層は簡単にただ一つの層からなる。しかしながら二重
層及び多重層さえも可能である。乳剤とは別に、写真材
料は、通常幾つかの非感光性層、例えば保護層、裏塗
層、フィルター層及び中間層（又は下塗層）を含む。こ
れらの層の全てが、単一、二重又は多重であることがで
きる。本発明によるポリマーラテックスはこれらの層の
全ての中に存在させることができる、又はそれらの中の
幾つかの中に、又はその中のただ一つ中に存在させるこ
とができる。原則的に、２種以上の異なるラテックスの
混合物を使用できる、又は本発明のラテックスは、通常
の可塑剤と混合できる、しかし通常の実施のためには新
規な種類のただ一つの代表例で充分である。グラフィッ
クアート接触材料の好ましい例において、可塑剤（ラテ
ックス）は乳剤層中に存在させる。その場合可塑剤対ゼ
ラチンの比は０．１：１〜１：１の間に含まれる。好ま
しくは可塑剤は、ゼラチンに対して１０〜７５重量％
（％ｗ／ｗ）の量でゼラチン系乳剤層中に存在させる。
保護層中に存在させるとき、前記保護層中に存在するゼ
ラチンに対して１０〜５０重量％（％ｗ／ｗ）の量でラ
テックスを使用するのが好ましい。
剤層は簡単にただ一つの層からなる。しかしながら二重
層及び多重層さえも可能である。乳剤とは別に、写真材
料は、通常幾つかの非感光性層、例えば保護層、裏塗
層、フィルター層及び中間層（又は下塗層）を含む。こ
れらの層の全てが、単一、二重又は多重であることがで
きる。本発明によるポリマーラテックスはこれらの層の
全ての中に存在させることができる、又はそれらの中の
幾つかの中に、又はその中のただ一つ中に存在させるこ
とができる。原則的に、２種以上の異なるラテックスの
混合物を使用できる、又は本発明のラテックスは、通常
の可塑剤と混合できる、しかし通常の実施のためには新
規な種類のただ一つの代表例で充分である。グラフィッ
クアート接触材料の好ましい例において、可塑剤（ラテ
ックス）は乳剤層中に存在させる。その場合可塑剤対ゼ
ラチンの比は０．１：１〜１：１の間に含まれる。好ま
しくは可塑剤は、ゼラチンに対して１０〜７５重量％
（％ｗ／ｗ）の量でゼラチン系乳剤層中に存在させる。
保護層中に存在させるとき、前記保護層中に存在するゼ
ラチンに対して１０〜５０重量％（％ｗ／ｗ）の量でラ
テックスを使用するのが好ましい。
【００５３】本発明のポリマーラテックスとは別に、乳
剤層及び他の親水性層は、それらの特定の設計及び用途
に従って、代表的なそして良く知られた写真成分、例え
ば安定剤、増感剤、減感剤、現像促進剤、艶消剤、スペ
ーシング剤、ハレイション防止染料、フィルター染料、
不透明化剤、帯電防止剤、ＵＶ吸収剤、界面活性剤、ゼ
ラチン硬化剤例えばホルムアルデヒド及びジビニルスル
ホンを含有できる。
剤層及び他の親水性層は、それらの特定の設計及び用途
に従って、代表的なそして良く知られた写真成分、例え
ば安定剤、増感剤、減感剤、現像促進剤、艶消剤、スペ
ーシング剤、ハレイション防止染料、フィルター染料、
不透明化剤、帯電防止剤、ＵＶ吸収剤、界面活性剤、ゼ
ラチン硬化剤例えばホルムアルデヒド及びジビニルスル
ホンを含有できる。
【００５４】本発明の写真材料中に組入れるハロゲン化
銀乳剤の組成は特に限定されなく、例えば塩化銀、臭化
銀、沃化銀、塩臭化銀、臭沃化銀、及び塩臭沃化銀から
選択した任意の組成であることができる。
銀乳剤の組成は特に限定されなく、例えば塩化銀、臭化
銀、沃化銀、塩臭化銀、臭沃化銀、及び塩臭沃化銀から
選択した任意の組成であることができる。
【００５５】写真乳剤は、例えばパリーの Paul Monte
l １９８７年発行、P. Glafkides著、Chimie et Phys
ique Photographique；ロンドンの The Focal Press
１９６６年発行、G. F. Duffin 著、Photographic Em
ulsion Chemistry ；及びロンドンの The Focal Pre
ss １９６６年発行、V. L. Zelikman 等著、Making
and Coating Photographic Emulsion に記載されて
いる如く、種々の方法で可溶性銀塩及び可溶性ハロゲン
化物から製造することができる。
l １９８７年発行、P. Glafkides著、Chimie et Phys
ique Photographique；ロンドンの The Focal Press
１９６６年発行、G. F. Duffin 著、Photographic Em
ulsion Chemistry ；及びロンドンの The Focal Pre
ss １９６６年発行、V. L. Zelikman 等著、Making
and Coating Photographic Emulsion に記載されて
いる如く、種々の方法で可溶性銀塩及び可溶性ハロゲン
化物から製造することができる。
【００５６】写真乳剤を形成するため、別々に作った２
種以上のハロゲン化銀乳剤を混合することができる。ハ
ロゲン化銀粒子の平均粒度は０．０５〜１．０μｍ、好
ましくは０．２〜０．５μｍの範囲であることができ
る。昼光材料のためには、平均粒度は０．０７〜０．２
０μｍの間に含まれるのが好ましい。ハロゲン化銀粒子
の粒度分布は均質分散又は不均質分散であることができ
る。
種以上のハロゲン化銀乳剤を混合することができる。ハ
ロゲン化銀粒子の平均粒度は０．０５〜１．０μｍ、好
ましくは０．２〜０．５μｍの範囲であることができ
る。昼光材料のためには、平均粒度は０．０７〜０．２
０μｍの間に含まれるのが好ましい。ハロゲン化銀粒子
の粒度分布は均質分散又は不均質分散であることができ
る。
【００５７】感光性ハロゲン化銀乳剤は、例えば前述し
た P. Glafkides の Chimie et Physique Photograp
hique ；前述した G. F. Duffin の Photographic Emu
lsion Chemistry；前述したV. L. Zelikman 等の Mak
ing and Coating Photographic Emulsion ；及び A
kademische Verlagsgesellschaft １９６８年発行 H.
Frieser 編、Die Grundlagen der Photographischen
Prozesse mit Silberhalogenidenに記載されている
如く化学的に増感することができる。しかしながら、接
触昼光材料の場合においては、乳剤は化学的に熟成しな
いのが好ましく、比較的大量の減感剤を含有できる。
た P. Glafkides の Chimie et Physique Photograp
hique ；前述した G. F. Duffin の Photographic Emu
lsion Chemistry；前述したV. L. Zelikman 等の Mak
ing and Coating Photographic Emulsion ；及び A
kademische Verlagsgesellschaft １９６８年発行 H.
Frieser 編、Die Grundlagen der Photographischen
Prozesse mit Silberhalogenidenに記載されている
如く化学的に増感することができる。しかしながら、接
触昼光材料の場合においては、乳剤は化学的に熟成しな
いのが好ましく、比較的大量の減感剤を含有できる。
【００５８】感光性ハロゲン化銀乳剤は、John Wiley
＆ Sons １９６４年発行、F. M. Hamer 著、The Cyani
ne Dyes and Related Compounds に記載されている
ものの如きメチン染料でスペクトル増感することができ
る。スペクトル増感のために使用できる染料には、シア
ニン染料、メロシアニン染料、錯体シアニン染料、錯体
メロシアニン染料、ヘミシアニン染料、スチリル染料及
びヘミオキソノール染料を含む。特に価値ある染料は、
シアニン染料、メロシアニン染料及び錯体メロシアニン
染料である。しかしながら、接触昼光材料の特定の場合
においては、乳剤は日光安定性の点でスペクトル増感し
ないのが好ましい。
＆ Sons １９６４年発行、F. M. Hamer 著、The Cyani
ne Dyes and Related Compounds に記載されている
ものの如きメチン染料でスペクトル増感することができ
る。スペクトル増感のために使用できる染料には、シア
ニン染料、メロシアニン染料、錯体シアニン染料、錯体
メロシアニン染料、ヘミシアニン染料、スチリル染料及
びヘミオキソノール染料を含む。特に価値ある染料は、
シアニン染料、メロシアニン染料及び錯体メロシアニン
染料である。しかしながら、接触昼光材料の特定の場合
においては、乳剤は日光安定性の点でスペクトル増感し
ないのが好ましい。
【００５９】本発明により使用するためのハロゲン化銀
乳剤は、写真材料の製造及び貯蔵中、又はその写真処理
中にかぶりの形成を防止し又は写真特性を安定化する化
合物を含有できる。ハロゲン化銀乳剤にかぶり防止剤又
は安定剤として多くの既知の化合物を加えることができ
る。
乳剤は、写真材料の製造及び貯蔵中、又はその写真処理
中にかぶりの形成を防止し又は写真特性を安定化する化
合物を含有できる。ハロゲン化銀乳剤にかぶり防止剤又
は安定剤として多くの既知の化合物を加えることができ
る。
【００６０】本発明の写真材料は、写真乳剤層又は別の
親水性コロイド層中に各種の界面活性剤を含有できる。
好適な界面活性剤には、非イオン界面活性剤例えばサポ
ニン、アルキレンオキサイド例えば、ポリエチレングリ
コール、ポリエチレングリコール／ポリプロピレングリ
コール縮合生成物、ポリエチレングリコールアルキルエ
ーテルもしくはポリエチレングリコールアルキルアリー
ルエーテル、ポリエチレングリコールエステル、ポリエ
チレングリコールソルビタンエステル、ポリアルキレン
グリコールアルキルアミンもしくはアルキルアミド、シ
リコーン−ポリエチレンオキサイドアダクト、グリシド
ール誘導体、多価アルコールの脂肪酸エステル及びサッ
カライドのアルキルエステル；酸基例えばカルボキシ
−、スルホ−、ホスホ−、硫酸−もしくはリン酸エステ
ル基を含有するアニオン界面活性剤；両性界面活性剤例
えばアミノ酸、アミノアルキルスルホン酸、アミノアル
キルサルフェートもしくはホスフェート、アルキルベタ
イン及びアミン−Ｎ−オキサイド；及びカチオン界面活
性剤例えば、アルキルアミン塩、脂肪族、芳香族もしく
は複素環式四級アンモニウム塩、脂肪族もしくは複素環
式環含有ホスホニウムもしくはスルホニウム塩を含む。
かかる界面活性剤は種々の目的のため、例えば被覆助剤
として、帯電防止化合物として、滑性改良化合物とし
て、分散乳化を容易にする化合物として、接着を防止も
しくは減ずる化合物として、及び写真特性を改良化合
物、例えば高コントラスト、増感、及び現像促進を改良
する化合物として使用できる。好ましい界面活性被覆剤
は、過弗素化アルキル基を含有する化合物である。
親水性コロイド層中に各種の界面活性剤を含有できる。
好適な界面活性剤には、非イオン界面活性剤例えばサポ
ニン、アルキレンオキサイド例えば、ポリエチレングリ
コール、ポリエチレングリコール／ポリプロピレングリ
コール縮合生成物、ポリエチレングリコールアルキルエ
ーテルもしくはポリエチレングリコールアルキルアリー
ルエーテル、ポリエチレングリコールエステル、ポリエ
チレングリコールソルビタンエステル、ポリアルキレン
グリコールアルキルアミンもしくはアルキルアミド、シ
リコーン−ポリエチレンオキサイドアダクト、グリシド
ール誘導体、多価アルコールの脂肪酸エステル及びサッ
カライドのアルキルエステル；酸基例えばカルボキシ
−、スルホ−、ホスホ−、硫酸−もしくはリン酸エステ
ル基を含有するアニオン界面活性剤；両性界面活性剤例
えばアミノ酸、アミノアルキルスルホン酸、アミノアル
キルサルフェートもしくはホスフェート、アルキルベタ
イン及びアミン−Ｎ−オキサイド；及びカチオン界面活
性剤例えば、アルキルアミン塩、脂肪族、芳香族もしく
は複素環式四級アンモニウム塩、脂肪族もしくは複素環
式環含有ホスホニウムもしくはスルホニウム塩を含む。
かかる界面活性剤は種々の目的のため、例えば被覆助剤
として、帯電防止化合物として、滑性改良化合物とし
て、分散乳化を容易にする化合物として、接着を防止も
しくは減ずる化合物として、及び写真特性を改良化合
物、例えば高コントラスト、増感、及び現像促進を改良
する化合物として使用できる。好ましい界面活性被覆剤
は、過弗素化アルキル基を含有する化合物である。
【００６１】写真カラー材料の場合には、カラー形成
剤、マスク形成剤、現像抑制剤放出カップラー、及び他
の写真に有用な基放出カップラーの如き代表的な成分を
存在させることができる。
剤、マスク形成剤、現像抑制剤放出カップラー、及び他
の写真に有用な基放出カップラーの如き代表的な成分を
存在させることができる。
【００６２】写真材料の支持体は、透明基体、好ましく
は有機樹脂支持体、例えば硝酸セルロースフィルム、酢
酸セルロースフィルム、ポリビニルアセタールフィル
ム、ポリスチレンフィルム、ポリエチレンテレフタレー
トフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリ塩化ビニ
ルフィルム、又はポリ−α−オレフィンフィルム例えば
ポリエチレン又はポリプロピレンフィルムであることが
できる。かかる有機樹脂フィルムの厚さは、０．０７〜
０．３５ｍｍの間に含まれるのが好ましい。これらの有
機樹脂支持体は下塗層で被覆するのが好ましい。他方写
真材料の支持体は紙基体、好ましくはポリエチレン又は
ポリプロピレン被覆紙基体であることができる。
は有機樹脂支持体、例えば硝酸セルロースフィルム、酢
酸セルロースフィルム、ポリビニルアセタールフィル
ム、ポリスチレンフィルム、ポリエチレンテレフタレー
トフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリ塩化ビニ
ルフィルム、又はポリ−α−オレフィンフィルム例えば
ポリエチレン又はポリプロピレンフィルムであることが
できる。かかる有機樹脂フィルムの厚さは、０．０７〜
０．３５ｍｍの間に含まれるのが好ましい。これらの有
機樹脂支持体は下塗層で被覆するのが好ましい。他方写
真材料の支持体は紙基体、好ましくはポリエチレン又は
ポリプロピレン被覆紙基体であることができる。
【００６３】写真材料は、その特定の組成及び用途によ
って露光でき、そしてその特定の用途によって当業者に
知られている方法及び薬品によって処理できる。
って露光でき、そしてその特定の用途によって当業者に
知られている方法及び薬品によって処理できる。
【００６４】下記製造実施例及び写真実施例は、本発明
を示すが、本発明を限定するものではない。
を示すが、本発明を限定するものではない。
【００６５】
【００６６】各実施例中で使用した略記号のリスト ＡＡＥＭＡ：２−アセトアセトキシエチルメタクリレー
ト（群Ａ） ＢＡ ：２−プロペン酸ｎ−ブチルエステル（群
Ｂ） ＥＡ ：２−プロペン酸エチルエステル（群Ｂ） ＭＡ ：２−プロペン酸メチルエステル（群Ｂ） ＳＴＹ ：スチレン（群Ｂ） ＭＭＡ ：２−メチル−２−プロペン酸メチルエステ
ル（群Ｂ） ＡＭＰＳ ：2-アクリルアミド -2-メチル -1-プロパン
スルホン酸（群Ｃ）
ト（群Ａ） ＢＡ ：２−プロペン酸ｎ−ブチルエステル（群
Ｂ） ＥＡ ：２−プロペン酸エチルエステル（群Ｂ） ＭＡ ：２−プロペン酸メチルエステル（群Ｂ） ＳＴＹ ：スチレン（群Ｂ） ＭＭＡ ：２−メチル−２−プロペン酸メチルエステ
ル（群Ｂ） ＡＭＰＳ ：2-アクリルアミド -2-メチル -1-プロパン
スルホン酸（群Ｃ）
【００６７】全実施例においてラテックスのコアコポリ
マー及びシェルコポリマーのＴｇは、式 Ｔｇコホ゜リマー ＝Ｗ1 （Ｔｇ1 ）＋Ｗ2 （Ｔｇ2 ）＋−−
−−＋Ｗn （Ｔｇn ） により、コポリマー中に存在する各モノマーの重量分率
（Ｗ）及び相当するホモポリマーのＴｇの知識から前述
した如く計算した：
マー及びシェルコポリマーのＴｇは、式 Ｔｇコホ゜リマー ＝Ｗ1 （Ｔｇ1 ）＋Ｗ2 （Ｔｇ2 ）＋−−
−−＋Ｗn （Ｔｇn ） により、コポリマー中に存在する各モノマーの重量分率
（Ｗ）及び相当するホモポリマーのＴｇの知識から前述
した如く計算した：
【００６８】Ｗ1 は第一モノマーの重量分率であり、Ｔ
ｇ1 は第一モノマーの成分のみを含有するホモポリマー
のＴｇであり、Ｗ2 は第二モノマーの重量分率であり、
Ｔｇ2 は第二モノマーの成分のみを含有するホモポリマ
ーのＴｇであり、Ｗn は第ｎ番のモノマーの重量分率で
あり、Ｔｇn は第ｎ番モノマーの成分のみを含有するホ
モポリマーのＴｇである。本発明によるコア−シェルラ
テックスのコア及びシェルを構成する（コ）ポリマーに
対する価を表２で報告する。
ｇ1 は第一モノマーの成分のみを含有するホモポリマー
のＴｇであり、Ｗ2 は第二モノマーの重量分率であり、
Ｔｇ2 は第二モノマーの成分のみを含有するホモポリマ
ーのＴｇであり、Ｗn は第ｎ番のモノマーの重量分率で
あり、Ｔｇn は第ｎ番モノマーの成分のみを含有するホ
モポリマーのＴｇである。本発明によるコア−シェルラ
テックスのコア及びシェルを構成する（コ）ポリマーに
対する価を表２で報告する。
【００６９】製造実施例 １（ＬＡＴ１） 下記溶液を作った： Ａ：コアを形成するモノマー：７２ｇのＭＭＡ Ｂ：シェル予備エマルジョン：４４ｍｌの脱イオン水 ３６ｍｌの HOSTAPON T( オレイン酸のＮ−メチルタウ
リネートに対するドイツ国、 HoechstAGの商品名）の１
０％水性溶液 １８ｇのＡＭＰＳ、ｐＨ８．０で９０ｍｌ脱イオン水中 ２５．２ｇのＡＡＥＭＡ ２４４．８ｇのＭＭＡ Ｃ：開 始 剤 Ｃ１：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2
Ｏ8 溶液 Ｃ２：５４ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液及び６ｍｌの水 Ｃ３：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液
リネートに対するドイツ国、 HoechstAGの商品名）の１
０％水性溶液 １８ｇのＡＭＰＳ、ｐＨ８．０で９０ｍｌ脱イオン水中 ２５．２ｇのＡＡＥＭＡ ２４４．８ｇのＭＭＡ Ｃ：開 始 剤 Ｃ１：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2
Ｏ8 溶液 Ｃ２：５４ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液及び６ｍｌの水 Ｃ３：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液
【００７０】５３１ｍｌの脱イオン水を７２ｍｌの HOS
TAPON Tの１０％水性溶液と混合し、２５０ｒｐｍで撹
拌し、Ｎ2 ですすぎ、８３℃に加熱した。溶液Ａを加
え、５分後に溶液Ｃ１を加えた。この添加後１分で、Ｃ
２及びＢの両者を反応混合物に加えた、Ｃ２は２ｍｌ／
分で加え、Ｂは２８．４ｍｌ／分で加えた。
TAPON Tの１０％水性溶液と混合し、２５０ｒｐｍで撹
拌し、Ｎ2 ですすぎ、８３℃に加熱した。溶液Ａを加
え、５分後に溶液Ｃ１を加えた。この添加後１分で、Ｃ
２及びＢの両者を反応混合物に加えた、Ｃ２は２ｍｌ／
分で加え、Ｂは２８．４ｍｌ／分で加えた。
【００７１】Ｂ及びＣ２の添加完了後、混合物を８３℃
で更に１５分撹拌し、次いで溶液Ｃ３を加え、反応混合
物を更に９５℃で３０分撹拌した。
で更に１５分撹拌し、次いで溶液Ｃ３を加え、反応混合
物を更に９５℃で３０分撹拌した。
【００７２】低減圧下に１２０ｍｌの溶媒を６０分間蒸
発させ、１５０ｍｌの脱イオン水を加えた。冷却後ラテ
ックスを濾過した。ｐＨは５．７に調整した。
発させ、１５０ｍｌの脱イオン水を加えた。冷却後ラテ
ックスを濾過した。ｐＨは５．７に調整した。
【００７３】収量：２３重量％の濃度で、ラテックス１
５３５ｇ。 平均粒度：８６ｎｍ。
５３５ｇ。 平均粒度：８６ｎｍ。
【００７４】製造実施例 ２（ＬＡＴ２） 下記溶液を作った： Ａ：コアを形成するモノマー：３６ｇのＭＭＡ Ｂ：シェル予備乳剤：２２０．５ｍｌの脱イオン水 １８ｍｌの HOSTAPON Tの１０％水性溶液 ９ｇのＡＭＰＳ、ｐＨ８．０で４５ｍｌ脱イオン水中 ２５．２ｇＡＡＥＭＡ １０９．８ｇのＭＭＡ Ｃ：開始剤 Ｃ１：９ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液 Ｃ２：２７ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液及び３ｍｌの水 Ｃ３：９ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液
【００７５】２６５．５ｍｌの脱イオン水を３６ｍｌの
HOSTAPON Tの１０％溶液と混合し、２５０ｒｐｍで撹
拌し、Ｎ2 ですすぎ、８３℃に加熱した。溶液Ａを加
え、５分後に溶液Ｃ１を加えた。この添加後１分で、Ｃ
２及びＢの両者を反応混合物に加えた、Ｃ２は１ｍｌ／
分で、Ｂは１４．２ｍｌ／分で加えた。
HOSTAPON Tの１０％溶液と混合し、２５０ｒｐｍで撹
拌し、Ｎ2 ですすぎ、８３℃に加熱した。溶液Ａを加
え、５分後に溶液Ｃ１を加えた。この添加後１分で、Ｃ
２及びＢの両者を反応混合物に加えた、Ｃ２は１ｍｌ／
分で、Ｂは１４．２ｍｌ／分で加えた。
【００７６】Ｂ及びＣ２の添加完了後、混合物を更に８
３℃で１５分撹拌し、次いで溶液Ｃ３を加え、反応混合
物を更に９５℃で３０分撹拌した。
３℃で１５分撹拌し、次いで溶液Ｃ３を加え、反応混合
物を更に９５℃で３０分撹拌した。
【００７７】低減圧下、８０ｍｌの溶媒を６０分間蒸発
させた。冷却後ラテックスを濾過した。ｐＨは５．８に
調整した。
させた。冷却後ラテックスを濾過した。ｐＨは５．８に
調整した。
【００７８】収量：２４．５重量％の濃度で、ラテック
ス７５５ｇ。 平均粒度：８３ｎｍ。
ス７５５ｇ。 平均粒度：８３ｎｍ。
【００７９】製造実施例 ３（ＬＡＴ３） 下記溶液を作った： Ａ１：コアを形成するモノマー：７２ｇのＭＭＡ Ａ２：コア予備乳剤：２５２ｇのＭＭＡ ３８５ｍｌの脱イオン水 ３１．５ｍｌの HOSTAPAL B（オキシエチル化ノニルフ
ェノールのナトリウムサルフェートに対するドイツ国、
Hoechst AG の商品名）の１０％水溶液 Ｂ：シェル予備乳剤：５６ｍｌの脱イオン水 ４．５ｍｌの HOSTAPAL Bの１０％水性溶液 ３．６ｇのＡＭＰＳ、ｐＨ８．０で１８ｍｌ脱イオン水
中 ３．６ｇのＡＡＥＭＡ ２８．８ｇのＥＡ Ｃ：開始剤 Ｃ１：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液 Ｃ２：５４ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液及び６ｍｌの水 Ｃ３：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液
ェノールのナトリウムサルフェートに対するドイツ国、
Hoechst AG の商品名）の１０％水溶液 Ｂ：シェル予備乳剤：５６ｍｌの脱イオン水 ４．５ｍｌの HOSTAPAL Bの１０％水性溶液 ３．６ｇのＡＭＰＳ、ｐＨ８．０で１８ｍｌ脱イオン水
中 ３．６ｇのＡＡＥＭＡ ２８．８ｇのＥＡ Ｃ：開始剤 Ｃ１：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液 Ｃ２：５４ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液及び６ｍｌの水 Ｃ３：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液
【００８０】５３１ｍｌの脱イオン水を７２ｍｌの HOS
TAPAL Bの１０％水性溶液と混合し、２５０ｒｐｍで撹
拌し、Ｎ2 ですすぎ、８３℃に加熱した。溶液Ａ１を加
え、５分後溶液Ｃ１を加えた。この添加後１分で、Ｃ２
及びＡ２の両者を反応混合物に加えた、Ｃ２は２ｍｌ／
分で、Ａ２は２６．６ｍｌ／分で加えた。Ａ２の添加完
了後Ｂを２６．６ｍｌ／分で反応混合物に加えた。
TAPAL Bの１０％水性溶液と混合し、２５０ｒｐｍで撹
拌し、Ｎ2 ですすぎ、８３℃に加熱した。溶液Ａ１を加
え、５分後溶液Ｃ１を加えた。この添加後１分で、Ｃ２
及びＡ２の両者を反応混合物に加えた、Ｃ２は２ｍｌ／
分で、Ａ２は２６．６ｍｌ／分で加えた。Ａ２の添加完
了後Ｂを２６．６ｍｌ／分で反応混合物に加えた。
【００８１】Ｂの添加完了後、混合物を８３℃で更に１
５分撹拌し、次いで溶液Ｃ３を加え、反応混合物を更に
９５℃で３０分撹拌した。
５分撹拌し、次いで溶液Ｃ３を加え、反応混合物を更に
９５℃で３０分撹拌した。
【００８２】低減圧下、６０分間で１２０ｍｌの溶媒を
蒸発させ、１２０ｍｌの脱イオン水を加えた。冷却後ラ
テックスを濾過した。ｐＨは５．６に調整した。
蒸発させ、１２０ｍｌの脱イオン水を加えた。冷却後ラ
テックスを濾過した。ｐＨは５．６に調整した。
【００８３】収量：２４．６重量％の濃度で１５２４ｇ
のラテックス。 平均粒度：７８ｎｍ。
のラテックス。 平均粒度：７８ｎｍ。
【００８４】製造実施例 ４（ＬＡＴ４） 下記溶液を作った： Ａ１：コアを形成するモノマー：７２ｇのＳＴＹ Ａ２：コア予備乳剤：２５２ｇのＳＴＹ ３８５ｍｌの脱イオン水 ３１．５ｍｌの HOSTAPAL Bの１０％水性溶液 Ｂ：シェル予備乳剤：５６ｍｌの脱イオン水 ４．５ｍｌの HOSTAPAL Bの１０％水性溶液 １３．６ｇのＡＭＰＳ、ｐＨ８．０で脱イオン水１８ｍ
ｌ中 ３．６ｇのＡＡＥＭＡ ２８．８ｇのＭＡ Ｃ：開始剤 Ｃ１：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液 Ｃ２：５４ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液及び６ｍｌの水 Ｃ３：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液
ｌ中 ３．６ｇのＡＡＥＭＡ ２８．８ｇのＭＡ Ｃ：開始剤 Ｃ１：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液 Ｃ２：５４ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液及び６ｍｌの水 Ｃ３：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液
【００８５】５３１ｍｌの脱イオン水を７２ｍｌの HOS
TAPAL Bの１０％水性溶液と混合し、２５０ｒｐｍで撹
拌し、Ｎ2 ですすぎ、８３℃に加熱した。溶液Ａ１を加
え、５分後溶液Ｃ１を加えた。この添加後１分で、Ｃ２
及びＡ２の両者を反応混合物に加えた、Ｃ２は２ｍｌ／
分で、Ａ２は２６．９ｍｌ／分で加えた。Ａ２の添加完
了後にＢを反応混合物に２６．９ｍｌ／分で加えた。
TAPAL Bの１０％水性溶液と混合し、２５０ｒｐｍで撹
拌し、Ｎ2 ですすぎ、８３℃に加熱した。溶液Ａ１を加
え、５分後溶液Ｃ１を加えた。この添加後１分で、Ｃ２
及びＡ２の両者を反応混合物に加えた、Ｃ２は２ｍｌ／
分で、Ａ２は２６．９ｍｌ／分で加えた。Ａ２の添加完
了後にＢを反応混合物に２６．９ｍｌ／分で加えた。
【００８６】添加完了後、混合物を８３℃で更に１５分
撹拌し、次いで溶液Ｃ３を加え、反応混合物を更に９５
℃で３０分間撹拌した。
撹拌し、次いで溶液Ｃ３を加え、反応混合物を更に９５
℃で３０分間撹拌した。
【００８７】低減圧下、１００ｍｌの溶媒を６０分間で
蒸発させ、１００ｍｌの脱イオン水を加えた。冷却後ラ
テックスを濾過した。ｐＨは５．７に調整し、７２ｍｌ
の HOSTAPAL Bの１０％水性溶液を加えた。
蒸発させ、１００ｍｌの脱イオン水を加えた。冷却後ラ
テックスを濾過した。ｐＨは５．７に調整し、７２ｍｌ
の HOSTAPAL Bの１０％水性溶液を加えた。
【００８８】収量：２５．５重量％の濃度でラテックス
１４２９ｇ。 平均粒度：７８ｎｍ。
１４２９ｇ。 平均粒度：７８ｎｍ。
【００８９】製造実施例 ５（ＬＡＴ５） 下記溶液を作った： Ａ：コアを形成するモノマー：７２ｇのＢＡ Ｂ：シェル予備乳剤：４４１ｍｌの脱イオン水 ３６ｍｌの HOSTAPON Tの１０％水性溶液 １２ｇのＡＭＰＳ、ｐＨ７．５で９０ｍｌの脱イオン水
中 ２５．２ｇのＡＡＥＭＡ ２４４．８ｇのＢＡ Ｃ：開始剤 Ｃ１：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液 Ｃ２：５４ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液及び６ｍｌの水 Ｃ３：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液
中 ２５．２ｇのＡＡＥＭＡ ２４４．８ｇのＢＡ Ｃ：開始剤 Ｃ１：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液 Ｃ２：５４ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液及び６ｍｌの水 Ｃ３：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液
【００９０】５３１ｍｌの脱イオン水を、HOSTAPON T
の１０％水性溶液７２ｍｌと混合し、２５０ｒｐｍで撹
拌し、Ｎ2 ですすぎ、８３℃に加熱した。溶液Ａを加
え、５分後、溶液Ｃ１を加えた。この添加後２分で、反
応混合物にＣ２及びＢの両者を加えた、Ｃ２は２ｍｌ／
分で、Ｂは２８．８ｍｌ／分で加えた。
の１０％水性溶液７２ｍｌと混合し、２５０ｒｐｍで撹
拌し、Ｎ2 ですすぎ、８３℃に加熱した。溶液Ａを加
え、５分後、溶液Ｃ１を加えた。この添加後２分で、反
応混合物にＣ２及びＢの両者を加えた、Ｃ２は２ｍｌ／
分で、Ｂは２８．８ｍｌ／分で加えた。
【００９１】Ｂ及びＣ２の添加完了後、混合物を８３℃
で更に１５分撹拌し、次いで溶液Ｃ３を加え、反応混合
物を更に９５℃で３０分撹拌した。
で更に１５分撹拌し、次いで溶液Ｃ３を加え、反応混合
物を更に９５℃で３０分撹拌した。
【００９２】低減圧下、１３０ｍｌの溶媒を６０分で蒸
発させた。冷却後、ラテックスを濾過した。ｐＨを５．
６に調整した。
発させた。冷却後、ラテックスを濾過した。ｐＨを５．
６に調整した。
【００９３】収量：２３．４重量％の濃度でラテックス
１５９８ｇ。 平均粒度：７７ｎｍ。
１５９８ｇ。 平均粒度：７７ｎｍ。
【００９４】製造実施例 ６（ＬＡＴ６） 下記溶液を作った： Ａ：コアを形成するモノマー：７２ｇのＢＡ Ｂ：シェル予備乳剤：４４１ｍｌの脱イオン水 ３６ｍｌの HOSTAPON Tの１０％水性溶液 １２ｇのＡＭＰＳ、ｐＨ７．５で９０ｍｌの脱イオン水
中 １０．８ｇのＡＡＥＭＡ ２５９．２ｇのＢＡ Ｃ：開始剤 Ｃ１：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液 Ｃ２：５４ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液及び６ｍｌの水 Ｃ３：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液
中 １０．８ｇのＡＡＥＭＡ ２５９．２ｇのＢＡ Ｃ：開始剤 Ｃ１：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液 Ｃ２：５４ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液及び６ｍｌの水 Ｃ３：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液
【００９５】５３１ｍｌの脱イオン水を７２ｍｌの HOS
TAPON Tの１０％水性溶液と混合し、２５０ｒｐｍで撹
拌し、Ｎ2 ですすぎ、８３℃に加熱した。溶液Ａを加
え、５分後に溶液Ｃ１を加えた。この添加後２分で、Ｃ
２及びＢの両者を反応混合物に加えた。Ｃ２は２ｍｌ／
分で、Ｂは２８．９ｍｌ／分で加えた。
TAPON Tの１０％水性溶液と混合し、２５０ｒｐｍで撹
拌し、Ｎ2 ですすぎ、８３℃に加熱した。溶液Ａを加
え、５分後に溶液Ｃ１を加えた。この添加後２分で、Ｃ
２及びＢの両者を反応混合物に加えた。Ｃ２は２ｍｌ／
分で、Ｂは２８．９ｍｌ／分で加えた。
【００９６】Ｂ及びＣ２の添加完了後、混合物更に１５
分、８３℃で撹拌し、次いで溶液Ｃ３を加え、反応混合
物を更に９５℃で３０分撹拌した。
分、８３℃で撹拌し、次いで溶液Ｃ３を加え、反応混合
物を更に９５℃で３０分撹拌した。
【００９７】低減圧下、１８０ｍｌの溶媒を６０分間で
蒸発させ、１８０ｍｌの脱イオン水を加えた。冷却後ラ
テックスを濾過した。ｐＨは５．５に調整した。
蒸発させ、１８０ｍｌの脱イオン水を加えた。冷却後ラ
テックスを濾過した。ｐＨは５．５に調整した。
【００９８】収量：２３．３重量％の濃度で１６１３ｇ
のラテックス。 平均粒度：７３ｎｍ。
のラテックス。 平均粒度：７３ｎｍ。
【００９９】製造実施例 ７（ＬＡＴ７） 下記溶液を作った： Ａ：コアを形成するモノマー：７２ｇのＢＡ Ｂ：シェル予備乳剤：４４１ｍｌの脱イオン水 ３６ｍｌの HOSTAPON Tの１０％水性溶液 １８ｇのＡＭＰＳ、ｐＨ７．５で９０ｍｌの脱イオン水
中 ２５．２ｇのＡＡＥＭＡ ２２６．８ｇのＢＡ １８ｇのＳＴＹ Ｃ：開始剤 Ｃ１：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液 Ｃ２：５４ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液及び６ｍｌの水 Ｃ３：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液
中 ２５．２ｇのＡＡＥＭＡ ２２６．８ｇのＢＡ １８ｇのＳＴＹ Ｃ：開始剤 Ｃ１：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液 Ｃ２：５４ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液及び６ｍｌの水 Ｃ３：１８ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液
【０１００】５３１ｍｌの脱イオン水を７２ｍｌの HOS
TAPON Tの１０％水性溶液と混合し、２５０ｒｐｍで撹
拌し、Ｎ2 ですすぎ、８３℃に加熱した。溶液Ａを加
え、５分後溶液Ｃ１を加えた。この添加後２分で、Ｃ２
及びＢの両者を反応混合物に加えた、Ｃ２は２ｍｌ／分
で、Ｂは２８．８ｍｌ／分で加えた。
TAPON Tの１０％水性溶液と混合し、２５０ｒｐｍで撹
拌し、Ｎ2 ですすぎ、８３℃に加熱した。溶液Ａを加
え、５分後溶液Ｃ１を加えた。この添加後２分で、Ｃ２
及びＢの両者を反応混合物に加えた、Ｃ２は２ｍｌ／分
で、Ｂは２８．８ｍｌ／分で加えた。
【０１０１】Ｂ及びＣ２の添加完了後、混合物を更に１
５分間８３℃で撹拌し、次いで溶液Ｃ３を加え、反応混
合物を更に９５℃で３０分撹拌した。
５分間８３℃で撹拌し、次いで溶液Ｃ３を加え、反応混
合物を更に９５℃で３０分撹拌した。
【０１０２】低減圧下、１７０ｍｌの溶媒を６０分間で
蒸発させ、１７０ｍｌの脱イオン水を加えた。冷却後ラ
テックスを濾過した。ｐＨは５．７に調整した。
蒸発させ、１７０ｍｌの脱イオン水を加えた。冷却後ラ
テックスを濾過した。ｐＨは５．７に調整した。
【０１０３】収量：２４．０重量％の濃度で１６２９ｇ
のラテックス。 平均粒度：６９ｎｍ。
のラテックス。 平均粒度：６９ｎｍ。
【０１０４】製造実施例 ８（ＬＡＴ８） 下記溶液を作った： Ａ１：コア予備乳剤１：１００ｇのＳＴＹ １ｇのＡＡＥＭＡ ５１ｍｌの HOSTAPAL Bの１０％水性溶液 １６９ｍｌの水 Ａ２：コア予備乳剤２：３５０ｇのＳＴＹ ５４２ｍｌの脱イオン水 ４３．４ｍｌの HOSTAPAL Bの１０％水性溶液 ３．５ｇのＡＡＥＭＡ Ｂ ：シェル予備乳剤：７０ｍｌの脱イオン水 ５．６ｍｌの HOSTAPAL Bの１０％水性溶液 ５ｇのＡＭＰＳ、ｐＨ８．０で２５ｍｌの脱イオン水中 ０．５ｇのＡＡＥＭＡ ４０ｇのＥＡ Ｃ ：開始剤 Ｃ１：２５ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶
液 Ｃ２：７５ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液及び１５ｍｌの
水 Ｃ３：２５ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液
液 Ｃ２：７５ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液及び１５ｍｌの
水 Ｃ３：２５ｍｌの２％Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 溶液
【０１０５】３７７ｍｌの脱イオン水を５０ｍｌの HOS
TAPAL Bの１０％水性溶液と混合し、２５０ｒｐｍで撹
拌し、Ｎ2 ですすぎ、８３℃に加熱した。溶液Ａ１を加
え、５分後溶液Ｃ１を加えた。この添加後１分で、Ｃ２
及びＡ２の両者を反応混合物に加えた、Ｃ２は３ｍｌ／
分で、Ａ２は３７．３ｍｌ／分で加えた。Ａ２の添加完
了後、Ｂを反応混合物に２６．９ｍｌ／分で加えた。
TAPAL Bの１０％水性溶液と混合し、２５０ｒｐｍで撹
拌し、Ｎ2 ですすぎ、８３℃に加熱した。溶液Ａ１を加
え、５分後溶液Ｃ１を加えた。この添加後１分で、Ｃ２
及びＡ２の両者を反応混合物に加えた、Ｃ２は３ｍｌ／
分で、Ａ２は３７．３ｍｌ／分で加えた。Ａ２の添加完
了後、Ｂを反応混合物に２６．９ｍｌ／分で加えた。
【０１０６】添加完了後、混合物を更に１５分間８３℃
で撹拌し、次いで溶液Ｃ３を加え、反応混合物を更に９
５℃で３０分撹拌した。
で撹拌し、次いで溶液Ｃ３を加え、反応混合物を更に９
５℃で３０分撹拌した。
【０１０７】低減圧下、１３０ｍｌの溶媒を６０分で蒸
発させた。冷却後ラテックスを濾過した。ｐＨは５．５
に調整した。後安定剤として、２０３ｍｌの HOSTAPAL
Bの１０％水性溶液を加えた。
発させた。冷却後ラテックスを濾過した。ｐＨは５．５
に調整した。後安定剤として、２０３ｍｌの HOSTAPAL
Bの１０％水性溶液を加えた。
【０１０８】収量：２６．０重量％の濃度で１９４８ｇ
のラテックス。 平均粒度：９１ｎｍ。
のラテックス。 平均粒度：９１ｎｍ。
【０１０９】本発明及び比較コア−シェルラテックスの
重量％での組成の集計を下表１に示す。
重量％での組成の集計を下表１に示す。
【０１１０】
【表１】
【０１１１】
【表２】
【０１１２】写真実施例 １ 本実施例において、可塑剤を含有しない写真材料試料、
対照可塑剤ポリエチルアクリレート（Ｃ−１）を含有す
る写真材料試料、及び本発明ラテックスＬＡＴ５、ＬＡ
Ｔ６、及びＬＡＴ７を含有する写真材料試料の、寸法安
定性及び水吸収を比較する。
対照可塑剤ポリエチルアクリレート（Ｃ−１）を含有す
る写真材料試料、及び本発明ラテックスＬＡＴ５、ＬＡ
Ｔ６、及びＬＡＴ７を含有する写真材料試料の、寸法安
定性及び水吸収を比較する。
【０１１３】写真材料は次の如く作った。直接ポジ純臭
化銀乳剤を、二重ジェット法で沈澱させ、内部増感させ
た。乳剤は次いで所望感度を得るよう二酸化チオ尿素を
用いて外部的にかぶらせた。最後に乳剤を幾つかのアリ
コート部分に分け、各部分に異なるラテックスを、乳剤
部分中に存在するゼラチンに対してラテックスポリマー
５０重量％を有するように加えた。
化銀乳剤を、二重ジェット法で沈澱させ、内部増感させ
た。乳剤は次いで所望感度を得るよう二酸化チオ尿素を
用いて外部的にかぶらせた。最後に乳剤を幾つかのアリ
コート部分に分け、各部分に異なるラテックスを、乳剤
部分中に存在するゼラチンに対してラテックスポリマー
５０重量％を有するように加えた。
【０１１４】かくして作った被覆溶液を、硝酸銀として
表した銀被覆量３．１８ｇ／ｍ2 で、そしてゼラチン被
覆量２．７ｇ／ｍ2 で、下塗した厚さ１００μｍのポリ
エチレンテレフタレート基体に適用した。ホルムアルデ
ヒド硬化したゼラチンを０．７ｇ／ｍ2 の被覆量で含有
する保護層を適用した。
表した銀被覆量３．１８ｇ／ｍ2 で、そしてゼラチン被
覆量２．７ｇ／ｍ2 で、下塗した厚さ１００μｍのポリ
エチレンテレフタレート基体に適用した。ホルムアルデ
ヒド硬化したゼラチンを０．７ｇ／ｍ2 の被覆量で含有
する保護層を適用した。
【０１１５】処理中の寸法変化は次の如く評価する。各
被覆した試料を２２℃で３０％の相対湿度に少なくとも
６時間馴致（ acclimated ）室中で状態調整した。３５
ｍｍ×２９６ｍｍの寸法を有する各フィルム試料中に、
２００ｍｍの間隔で、５ｍｍの直径を有する二つの孔を
パンチであけた。これらの孔間の正確な間隔は、１μｍ
の精度を有する指示ハーフブリッジ探針（ＴＥＳＡ Ｆ
ＭＳ１００）で測定し、これによってこの間隔をＸμｍ
と称した。続いてフィルム材料を、空気入口に乾燥器を
備えた自動装置ＰＡＫＯ ２６ＲＡ中で処理を受けさせ
た。試料を３８℃で現像し、３３℃で定着し、温度制御
せずにすすぎ、乾燥した、これによって空気入口を通し
て２２℃及び３０％ＲＨの空気を入れ、これによって温
度を５５℃まで上昇させた。フィルム中の二つの孔の間
隔を、３時間の馴致後再び測定し、Ｙμｍとして表す。
寸法安定性は、（Ｙ−Ｘ）・５として計算し、μｍ／ｍ
で表示する。
被覆した試料を２２℃で３０％の相対湿度に少なくとも
６時間馴致（ acclimated ）室中で状態調整した。３５
ｍｍ×２９６ｍｍの寸法を有する各フィルム試料中に、
２００ｍｍの間隔で、５ｍｍの直径を有する二つの孔を
パンチであけた。これらの孔間の正確な間隔は、１μｍ
の精度を有する指示ハーフブリッジ探針（ＴＥＳＡ Ｆ
ＭＳ１００）で測定し、これによってこの間隔をＸμｍ
と称した。続いてフィルム材料を、空気入口に乾燥器を
備えた自動装置ＰＡＫＯ ２６ＲＡ中で処理を受けさせ
た。試料を３８℃で現像し、３３℃で定着し、温度制御
せずにすすぎ、乾燥した、これによって空気入口を通し
て２２℃及び３０％ＲＨの空気を入れ、これによって温
度を５５℃まで上昇させた。フィルム中の二つの孔の間
隔を、３時間の馴致後再び測定し、Ｙμｍとして表す。
寸法安定性は、（Ｙ−Ｘ）・５として計算し、μｍ／ｍ
で表示する。
【０１１６】水吸収は重量で測定した。材料の乾燥試料
を正確に測定した（Ｗ１）、そして前述した如く露光処
理せずに、乾燥器前に処理装置から取り出した。処理し
たが乾燥してない材料を再び秤量した（Ｗ２）、そして
乾燥後再び秤量（Ｗ３）した。Ｗ２とＷ３の間の差が試
料の水吸収であった、即ち乾燥器中で蒸発させなければ
ならない１ｍ2 についての水の量であった。結果を表３
に示す。
を正確に測定した（Ｗ１）、そして前述した如く露光処
理せずに、乾燥器前に処理装置から取り出した。処理し
たが乾燥してない材料を再び秤量した（Ｗ２）、そして
乾燥後再び秤量（Ｗ３）した。Ｗ２とＷ３の間の差が試
料の水吸収であった、即ち乾燥器中で蒸発させなければ
ならない１ｍ2 についての水の量であった。結果を表３
に示す。
【０１１７】
【表３】
【０１１８】本発明のラテックスの添加は、対照可塑剤
を含有する材料の寸法安定性を、可塑剤無しの材料の低
水吸収を組合せた写真材料を有することを可能にするこ
とが明らかである。
を含有する材料の寸法安定性を、可塑剤無しの材料の低
水吸収を組合せた写真材料を有することを可能にするこ
とが明らかである。
【０１１９】写真実施例 ２ 本実施例においては、可塑剤を含有しない写真材料試
料、対照可塑剤ポリエチルアクリレート（Ｃ−１）を含
有する写真材料試料、コア及びシェルの両方に存在する
モノマーの全重量に対して、反応性メチレン基を含有す
る成分を１重量％だけ有するコア−シェルラテックスを
含有する写真材料試料の水吸収性、寸法安定性及び物理
的引掻性を比較する。ＬＡＴ８においては、シェル
（コ）ポリマーは、反応性−ＣＨ2 −基を含有する不飽
和モノマーの１重量％のみ（前記シェルコポリマーを形
成するため使用した全モノマーの合計重量に対して）を
含有していた。ラテックスＬＡＴ３、ＬＡＴ４は、反応
性−ＣＨ2 −を含有する不飽和モノマーの１０重量％
（前記シェルコポリマーを形成するため使用した全モノ
マーの合計重量に対して）を含有していた。
料、対照可塑剤ポリエチルアクリレート（Ｃ−１）を含
有する写真材料試料、コア及びシェルの両方に存在する
モノマーの全重量に対して、反応性メチレン基を含有す
る成分を１重量％だけ有するコア−シェルラテックスを
含有する写真材料試料の水吸収性、寸法安定性及び物理
的引掻性を比較する。ＬＡＴ８においては、シェル
（コ）ポリマーは、反応性−ＣＨ2 −基を含有する不飽
和モノマーの１重量％のみ（前記シェルコポリマーを形
成するため使用した全モノマーの合計重量に対して）を
含有していた。ラテックスＬＡＴ３、ＬＡＴ４は、反応
性−ＣＨ2 −を含有する不飽和モノマーの１０重量％
（前記シェルコポリマーを形成するため使用した全モノ
マーの合計重量に対して）を含有していた。
【０１２０】写真材料は、写真実施例１に記載した如く
して作った。
して作った。
【０１２１】寸法安定性及び水吸収は前述した如く測定
した（写真実施例１参照）、そして物理的引掻性は次の
如く測定した：写真材料を、３８℃でメトール−ハイド
ロキノン現像液（ベルギー国、モートゼールの Agfa −
Gevaert NV の現像液の商標Ｇ１０１）中で現像後最
高濃度を与えるように露光した。処理は、空気入口を備
えた乾燥器を有する自動装置ＰＡＫＯ ２６ＲＡ中で行
った。試料を３８℃で現像し、３３℃で定着し、温度制
御せずにすすぎ、乾燥した、これによって空気入口を通
して２２℃、３０％ＲＨの空気を入れ、これによって温
度を５５℃まで上昇させた。現像し、乾燥した材料を、
直径５μｍを有するダイヤモンド球形を有する針の下を
通した。針は１〜３０ｇの間の重量を負荷させた、これ
は１ｇから３０ｇへと各工程で１ｇずつ増量させた。写
真材料が針の下を通過するとき、いくらかの乳剤は引掻
除去され、かくして引掻の密度は低下する。引掻下の光
透過度を、１ｇの各増量に対して測定し、針上に印加さ
れた重量に関連させた。透過率対重量の相関線が重量軸
を横切る重量を、物理的引掻性度のための測度とし、ｇ
で表示する。数値が大きければ大きい程、引掻性度は小
さい。結果を表４に示す。
した（写真実施例１参照）、そして物理的引掻性は次の
如く測定した：写真材料を、３８℃でメトール−ハイド
ロキノン現像液（ベルギー国、モートゼールの Agfa −
Gevaert NV の現像液の商標Ｇ１０１）中で現像後最
高濃度を与えるように露光した。処理は、空気入口を備
えた乾燥器を有する自動装置ＰＡＫＯ ２６ＲＡ中で行
った。試料を３８℃で現像し、３３℃で定着し、温度制
御せずにすすぎ、乾燥した、これによって空気入口を通
して２２℃、３０％ＲＨの空気を入れ、これによって温
度を５５℃まで上昇させた。現像し、乾燥した材料を、
直径５μｍを有するダイヤモンド球形を有する針の下を
通した。針は１〜３０ｇの間の重量を負荷させた、これ
は１ｇから３０ｇへと各工程で１ｇずつ増量させた。写
真材料が針の下を通過するとき、いくらかの乳剤は引掻
除去され、かくして引掻の密度は低下する。引掻下の光
透過度を、１ｇの各増量に対して測定し、針上に印加さ
れた重量に関連させた。透過率対重量の相関線が重量軸
を横切る重量を、物理的引掻性度のための測度とし、ｇ
で表示する。数値が大きければ大きい程、引掻性度は小
さい。結果を表４に示す。
【０１２２】
【表４】
【０１２３】写真材料中での、対照ラテックスの代りの
本発明ラテックスの使用は、対照ラテックスの使用と同
じ程度に寸法安定性を改良するが、対照ラテックスを含
有する材料と比較して材料の引掻性度を改良することが
明らかである。シェル中に反応性メチレン基の１％のみ
しか有しない本発明ラテックス（ＬＡＴ８）は、シェル
中に反応性メチレン基を１％より多く含有する本発明ラ
テックスよりも効果が小さい。
本発明ラテックスの使用は、対照ラテックスの使用と同
じ程度に寸法安定性を改良するが、対照ラテックスを含
有する材料と比較して材料の引掻性度を改良することが
明らかである。シェル中に反応性メチレン基の１％のみ
しか有しない本発明ラテックス（ＬＡＴ８）は、シェル
中に反応性メチレン基を１％より多く含有する本発明ラ
テックスよりも効果が小さい。
【０１２４】写真実施例 ３ 本実施例は、可塑剤を含有しない写真材料試料、対照可
塑剤ポリエチルアクリレート（Ｃ−１）を含有する写真
材料試料及び本発明ラテックスＬＡＴ１、ＬＡＴ２を含
有する写真材料試料の水吸収及び物理的引掻性を比較す
る。
塑剤ポリエチルアクリレート（Ｃ−１）を含有する写真
材料試料及び本発明ラテックスＬＡＴ１、ＬＡＴ２を含
有する写真材料試料の水吸収及び物理的引掻性を比較す
る。
【０１２５】写真材料は次の如く作ったネガ作用材料で
あった：二重ジェット乳剤法によって０．４％の沃化
銀、１６％の臭化銀及び８３．４％の塩化銀を含有する
立方晶ハロゲン化銀乳剤を作り、Ｉｒ及びＲｈでドープ
した。平均結晶直径は０．３０μｍであった。ハロゲン
化銀１．１モルを含有する金−硫黄増感乳剤１Ｋｇに、
通常の置換テトラアザインデン及び通常の置換メルカプ
トテトラゾールを加えた。青スペクトル増感剤を加え
た。
あった：二重ジェット乳剤法によって０．４％の沃化
銀、１６％の臭化銀及び８３．４％の塩化銀を含有する
立方晶ハロゲン化銀乳剤を作り、Ｉｒ及びＲｈでドープ
した。平均結晶直径は０．３０μｍであった。ハロゲン
化銀１．１モルを含有する金−硫黄増感乳剤１Ｋｇに、
通常の置換テトラアザインデン及び通常の置換メルカプ
トテトラゾールを加えた。青スペクトル増感剤を加え
た。
【０１２６】かくして作った被覆溶液を、７．４５ｇ／
ｍ2 の硝酸銀として表示した銀被覆量及び３．３５ｇ／
ｍ2 のゼラチン被覆量で、下塗した厚さ１７５μｍのポ
リエチレンテレフタレートに適用した。０．９３ｇ／ｍ
2 の被覆量で、ホルムアルデヒドで硬化したゼラチンを
含有する保護層を適用した。乳剤層と保護層の間に、１
ｇ／ｍ2 のゼラチン被覆量を有する中間層を適用した。
ｍ2 の硝酸銀として表示した銀被覆量及び３．３５ｇ／
ｍ2 のゼラチン被覆量で、下塗した厚さ１７５μｍのポ
リエチレンテレフタレートに適用した。０．９３ｇ／ｍ
2 の被覆量で、ホルムアルデヒドで硬化したゼラチンを
含有する保護層を適用した。乳剤層と保護層の間に、１
ｇ／ｍ2 のゼラチン被覆量を有する中間層を適用した。
【０１２７】被覆する前に、中間層のための被覆溶液を
五つの部分に分けた。第一部分にはラテックスを加えな
かった、第二部分には対照ラテックス（ポリエチルアク
リレート）を加えた、第三部分及び第四部分にはそれぞ
れ本発明のラテックスＬＡＴ１及びＬＡＴ２を加えた。
全てのラテックスはゼラチンに対して５０重量％の量で
加えた。結果を表５に示す。
五つの部分に分けた。第一部分にはラテックスを加えな
かった、第二部分には対照ラテックス（ポリエチルアク
リレート）を加えた、第三部分及び第四部分にはそれぞ
れ本発明のラテックスＬＡＴ１及びＬＡＴ２を加えた。
全てのラテックスはゼラチンに対して５０重量％の量で
加えた。結果を表５に示す。
【０１２８】
【表５】
【０１２９】写真材料への本発明ラテックスの添加は、
低水吸収と組合された良好な耐引掻性（低引掻性度）を
有する材料を提供する。
低水吸収と組合された良好な耐引掻性（低引掻性度）を
有する材料を提供する。
【０１３０】写真実施例 ４ 本実施例においては、可塑剤を含有しない写真材料試
料、本発明ラテックスＬＡＴ１及び本発明ラテックスＬ
ＡＴ２を含有する写真材料試料の水吸収及び物理的引掻
性を比較する。
料、本発明ラテックスＬＡＴ１及び本発明ラテックスＬ
ＡＴ２を含有する写真材料試料の水吸収及び物理的引掻
性を比較する。
【０１３１】写真材料は写真実施例３に記載したのと同
じ材料であった、しかしここでラテックスを保護層に加
えた。被覆する前に、保護層用被覆溶液を四つの部分に
分けた。第一部分にはラテックスを加えなかった、第二
部分及び第三部分には、それぞれ本発明のラテックスＬ
ＡＴ１及びＬＡＴ２を加えた。全てのラテックスを、ゼ
ラチンに対して３５重量％の量で加えた。
じ材料であった、しかしここでラテックスを保護層に加
えた。被覆する前に、保護層用被覆溶液を四つの部分に
分けた。第一部分にはラテックスを加えなかった、第二
部分及び第三部分には、それぞれ本発明のラテックスＬ
ＡＴ１及びＬＡＴ２を加えた。全てのラテックスを、ゼ
ラチンに対して３５重量％の量で加えた。
【０１３２】結果を表６に示す。
【０１３３】
【表６】
【０１３４】写真実施例 ５ 本実施例においては、可塑剤を含有しない写真材料試
料、本発明のラテックスＬＡＴ３及びＬＡＴ４を含有す
る写真材料試料の比較をする。
料、本発明のラテックスＬＡＴ３及びＬＡＴ４を含有す
る写真材料試料の比較をする。
【０１３５】写真材料は写真実施例３に記載したのと同
じ材料であった。ラテックスは保護層に加えた。従って
保護層の被覆溶液は四つの部分に分けた。第一の部分に
はラテックスを加えなかった、第二部分及び第三部分に
はそれぞれ本発明のラテックスＬＡＴ３及びＬＡＴ４を
加えた。全てのラテックスは、保護被覆の被覆溶液中に
含有されたゼラチンに対して３５重量％の量で加えた。
結果を表７に示す。
じ材料であった。ラテックスは保護層に加えた。従って
保護層の被覆溶液は四つの部分に分けた。第一の部分に
はラテックスを加えなかった、第二部分及び第三部分に
はそれぞれ本発明のラテックスＬＡＴ３及びＬＡＴ４を
加えた。全てのラテックスは、保護被覆の被覆溶液中に
含有されたゼラチンに対して３５重量％の量で加えた。
結果を表７に示す。
【０１３６】
【表７】
【０１３７】写真材料の保護層に加えたとき、本発明の
ラテックスは、同じ水吸収及び寸法安定性を提供する
が、大きく改良された引掻性度（耐引掻性）を提供す
る。
ラテックスは、同じ水吸収及び寸法安定性を提供する
が、大きく改良された引掻性度（耐引掻性）を提供す
る。
【０１３８】写真実施例 ６ 本実施例においては、可塑剤を含有しない写真材料試
料、本発明のラテックスＬＡＴ３及びＬＡＴ４を含有す
る写真材料試料の水吸収寸法安定性及び物理的引掻性を
比較した。
料、本発明のラテックスＬＡＴ３及びＬＡＴ４を含有す
る写真材料試料の水吸収寸法安定性及び物理的引掻性を
比較した。
【０１３９】写真材料は、写真実施例３に記載したのと
同じ材料であった。ラテックスは中間層に加えた。従っ
て中間層の被覆溶液を四つの部分に分けた。第一部分に
はラテックスを加えなかった、そして第二部分及び第三
部分には本発明のラテックスＬＡＴ３及びＬＡＴ４をそ
れぞれ加えた。全てのラテックスは、中間層の被覆溶液
中に含まれるゼラチンに対して５０重量％の量で加え
た。結果を表８に示す。
同じ材料であった。ラテックスは中間層に加えた。従っ
て中間層の被覆溶液を四つの部分に分けた。第一部分に
はラテックスを加えなかった、そして第二部分及び第三
部分には本発明のラテックスＬＡＴ３及びＬＡＴ４をそ
れぞれ加えた。全てのラテックスは、中間層の被覆溶液
中に含まれるゼラチンに対して５０重量％の量で加え
た。結果を表８に示す。
【０１４０】
【表８】
【０１４１】写真実施例 ７ 下塗した厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート
フィルムの一層に、ゼラチン１．５４ｇ／ｍ2 を有する
ようゼラチン系裏塗層を被覆した。被覆溶液に、種々の
ラテックスを、１ｍ2 について前記ラテックスの３０％
分散液の１ｇを有する量で加えた。各種被覆溶液に加え
た各ラテックスは：対照例としてのポリエチルアクリレ
ート、ＬＡＴ１、ＬＡＴ３及びＬＡＴ５であった。被覆
し、乾燥した後、被覆裏塗層中の点欠陥を材料３０ｍ2
中で計算し、１００ｍ2 について数（＃）に標準化し
た。軟い（即ち低Ｔｇを有する）シェルを有するラテッ
クスを含む裏塗層は点欠陥を示さなかったが、比較ラテ
ックス及び硬い（即ち高Ｔｇを有する）シェル及び硬い
コアを有する本発明ラテックスは、多くの点欠陥を示し
た。結果を表９に示す。
フィルムの一層に、ゼラチン１．５４ｇ／ｍ2 を有する
ようゼラチン系裏塗層を被覆した。被覆溶液に、種々の
ラテックスを、１ｍ2 について前記ラテックスの３０％
分散液の１ｇを有する量で加えた。各種被覆溶液に加え
た各ラテックスは：対照例としてのポリエチルアクリレ
ート、ＬＡＴ１、ＬＡＴ３及びＬＡＴ５であった。被覆
し、乾燥した後、被覆裏塗層中の点欠陥を材料３０ｍ2
中で計算し、１００ｍ2 について数（＃）に標準化し
た。軟い（即ち低Ｔｇを有する）シェルを有するラテッ
クスを含む裏塗層は点欠陥を示さなかったが、比較ラテ
ックス及び硬い（即ち高Ｔｇを有する）シェル及び硬い
コアを有する本発明ラテックスは、多くの点欠陥を示し
た。結果を表９に示す。
【０１４２】
【表９】
フロントページの続き (72)発明者 ミヒャエル・ミュラー ドイツ連邦共和国51469 ベルギシュ グ ラドバハ ２、リヒャルト ツァンデルス シュトラーセ 34 (72)発明者 ステファーン・ランギール ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内
Claims (14)
- 【請求項１】 支持体、下塗層、少なくとも一つの親水
性ゼラチン系ハロゲン化銀乳剤層、所望により一つ以上
の他の親水性ゼラチン系層、及びコア（コ）ポリマー及
びシェル（コ）ポリマーを含むコア−シェルラテックス
ポリマーを含有する写真材料において、 (i) 前記コア−シェルラテックスが、前記親水性ゼラチ
ン系層の少なくとも一つの中に存在し、 (ii)前記シェル（コ）ポリマーが、反応性メチレン基を
有する少なくとも１種のエチレン性不飽和モノマーから
誘導された成分Ａを含有し、 (iii) 前記シェル（コ）ポリマー中に存在する前記成分
Ａが、前記コア及び前記シェル（コ）ポリマーの両者中
に存在する全成分の１〜３０重量％を構成し、 (iv)前記シェル（コ）ポリマー中に存在する前記成分Ａ
が、前記シェル（コ）ポリマー中に存在する全成分の２
〜５０重量％を構成することを特徴とする写真材料。 - 【請求項２】 前記シェル（コ）ポリマー中に存在する
前記成分Ａが、前記コア及び前記シェル（コ）ポリマー
の両者中に存在する全成分の１〜１５重量％を構成し、
前記シェル（コ）ポリマー中に存在する前記成分Ａが、
前記シェル（コ）ポリマー中に存在する全成分の２〜２
０重量％を構成することを特徴とする請求項１の写真材
料。 - 【請求項３】 反応性−ＣＨ2 −基を含有する前記エチ
レン性不飽和モノマーが、２−アセトアセトキシエチル
アクリレート；２−シアノ−Ｎ−２−プロペニルアセト
アミド；５−ヘキセン−２，４−ジオン；５−メチル−
５−ヘキセン−２，４−ジオン；２−メチル−２−プロ
ペン酸２−〔（シアノアセチル）−オキシ〕エチルエス
テル；２−アセトアセトキシ−２，２−ジメチルプロピ
ルメタクリレート；３−オキソ−４−ペンテン酸エチル
エステル；３−オキソ−ブタン酸２−〔（２−メチル−
１−オキソ−２−プロペニル）オキシ〕エチルエステル
及び２−アセトアセトキシエチルメタクリレートからな
る群から選択した１員であることを特徴とする請求項１
又は２の写真材料。 - 【請求項４】 前記成分Ａが、シェル（コ）ポリマー中
にのみ存在することを特徴とする請求項１〜３の何れか
１項の写真材料。 - 【請求項５】 前記コア−シェルラテックスが、前記親
水性ゼラチン系層の一つ中にのみ存在することを特徴と
する請求項１〜４の何れか１項の写真材料。 - 【請求項６】 前記コア−シェルラテックスが、前記乳
剤層中に存在することを特徴とする請求項１〜４の何れ
か１項の写真材料。 - 【請求項７】 ゼラチン系保護層が存在し、前記コア−
シェルラテックスが前記保護層中に存在することを特徴
とする請求項１〜４の何れか１項の写真材料。 - 【請求項８】 ゼラチン系中間層が存在し、前記コア−
シェルラテックスが前記中間層中に存在することを特徴
とする請求項１〜４の何れか１項の写真材料。 - 【請求項９】 前記親水性ゼラチン系ハロゲン化銀乳剤
層に対して反対の側上に、裏塗層が存在し、前記コア−
シェルラテックスが前記裏塗層中に存在することを特徴
とする請求項１〜４の何れか１項の写真材料。 - 【請求項１０】 前記コア（コ）ポリマーがＴｇ＞５０
℃を有し、前記シェル（コ）ポリマーがＴｇ＜３０℃を
有することを特徴とする請求項１〜９の何れか１項の写
真材料。 - 【請求項１１】 前記コア（コ）ポリマーがＴｇ＞８０
℃を有し、前記シェル（コ）ポリマーがＴｇ＜０℃を有
することを特徴とする請求項１〜９の何れか１項の写真
材料。 - 【請求項１２】 前記コア−シェルラテックスが、コア
中のみならずシェル中にＴｇ＜３０℃を有する（コ）ポ
リマーを含有する請求項１〜９の何れか１項の写真材
料。 - 【請求項１３】 前記コア−シェルラテックスが少なく
とも一つの親水性ゼラチン系層中に存在し、前記層中に
含有された可塑剤対ゼラチンの比が０．１：１〜１：１
の間に含まれることを特徴とする請求項１〜１２の何れ
か１項の写真材料。 - 【請求項１４】 請求項１〜１２の何れか１項に記載し
た重合体ラテックス。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP94202476 | 1994-08-30 | ||
| DE94202476.1 | 1994-08-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JPH0876309A true JPH0876309A (ja) | 1996-03-22 |
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