JPH0859235A - 酸化セリウム及び酸化チタンを基とするコロイド分散体、その製造方法、基材のコーティングへのその利用及びこうしてコーティングされた基材 - Google Patents

酸化セリウム及び酸化チタンを基とするコロイド分散体、その製造方法、基材のコーティングへのその利用及びこうしてコーティングされた基材

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JPH0859235A JP7134686A JP13468695A JPH0859235A JP H0859235 A JPH0859235 A JP H0859235A JP 7134686 A JP7134686 A JP 7134686A JP 13468695 A JP13468695 A JP 13468695A JP H0859235 A JPH0859235 A JP H0859235A
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    • Y10T428/2991—Coated

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基材をコーティングして特に紫外線防止、反
射防止又は汚染防止を付与するのに有用な、酸化セリウ
ム及び酸化チタンを基とする新規のコロイド分散体を提
供すること。 【構成】 本発明は、酸化セリウムから成るコアーが少
なくとも部分的に酸化チタンの層で被覆されて成るコロ
イドを含むことを特徴とする、コロイド分散体に関す
る。このコロイド分散体は、パラジウム、タングステ
ン、白金及びロジウムを含む群から選択される少なくと
も１種の金属を追加的に含むこともできる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、酸化セリウム及び酸
化チタンを基とするコロイド分散体、その製造方法、特
に紫外線防止、反射防止又は汚染防止剤として基材をコ
ーティングすることへのその利用及びこうしてコーティ
ングされた基材に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラス及び金属のような基材のコーティ
ングには、問題が頻繁に生じている。実際、これらの基
材を保護し、これらに特に紫外線防止、反射防止及び汚
染防止性のような性質を付与するための試みが為されて
いる。汚染とは、例えば、グリース又は有機残留物、例
えば排気ガス、煤若しくは汚染物質によって自動車のフ
ロントガラスに付着するもの又は自動車の乗員区画室の
可塑剤から生じるものである。
【０００３】従って、光触媒的に（光を触媒として）こ
れらの汚染の分解をもたらすことができるコーティング
についての探究がある。
【０００４】また、基材に良好な光透過性を付与しなが
ら、基材に紫外線遮断剤の性質を導入する試みが為され
ることもある。
【０００５】このような性質を基材に付与するために、
コロイド分散体を用いてこれを処理すべき基材に塗布す
ることによって基材をコーティングすることが知られて
いる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな分散体の開発においては、ある種の問題が提起され
る。一方で、コーティングにある種の性質を付与する物
質が複数種組み込まれ、それらの個々の性質を各々の最
大限の効果で同時にコーティングに付与することができ
る分散体を見出すことが必要である。他方、工業的に利
用可能であるためには、分散体は満足できる安定性をさ
らに有していなければならないが、分散体の組成の複雑
さを考慮に入れると、この安定性を得るのは困難なこと
がある。
【０００７】本発明の主題は、これらの要件に適合する
コロイド分散体を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この目的のために、本発
明のコロイド分散体は、酸化セリウムから成るコアーが
少なくとも部分的に酸化チタンの層で被覆されて成るコ
ロイドを含むことを特徴とする。
【０００９】さらに、本発明は、酸化セリウムゾルとチ
タン塩とを一緒にする工程、及び、続いての、随意に尿
素の存在下で、前の工程で得られた媒体の温度を上昇さ
せ、それによってセリウムゾルコロイド上の酸化チタン
の沈殿を得る工程を含むことを特徴とする、前記コロイ
ド分散体の製造方法（第一の態様）に関する。
【００１０】第二の態様に従えば、本発明に従うコロイ
ド分散体の製造方法は、酸化セリウムゾルとチタン塩と
を一緒にする工程、及び、続いての、前の工程で得られ
た媒体に塩基を添加し、それによって酸化セリウムコロ
イド上の酸化チタンの沈殿を得る工程を含むことを特徴
とする。
【００１１】第三の態様に従えば、本発明に従うコロイ
ド分散体の製造方法は、 ・酸化セリウムゾルを塩基によって沈殿させる工程、 ・得られた沈殿をチタン塩と混合し、それによって酸化
セリウムゾルを得る工程、 ・形成されたゾルの温度を上昇させ、それによって酸化
セリウムコロイド上の酸化チタンの沈殿を得る工程を含
むことを特徴とする。
【００１２】最後に、第四の態様に従えば、本発明に従
うコロイド分散体の製造方法は、 ・酸化セリウムゾルを塩基によって沈殿させる工程、 ・得られた沈殿をチタン塩と混合し、それによって酸化
セリウムゾルを得る工程、 ・形成されたゾルに塩基を添加し、それによって酸化セ
リウムコロイド上の酸化チタンの沈殿を得る工程を含む
ことを特徴とする。
【００１３】本発明はまた、前記したタイプのコロイド
分散体を基材上に塗布することを特徴とする、基材のコ
ーティング方法にも関する。
【００１４】最後に、本発明は、前記の方法によって得
られたコーティングされた基材に関する。
【００１５】その他の特徴、詳細及び利点は、以下の説
明及び実施例を読めばより一層明らかになるだろう。
【００１６】まず第一に、本発明は、酸化セリウムから
成るコアーが少なくとも部分的に酸化チタンの層で被覆
されて成るコロイドの分散体に関する。
【００１７】本明細書においてコロイド分散体とは、酸
化セリウム及び（又は）水和酸化セリウム（水酸化セリ
ウム）を基とするコロイド的寸法の微細粒子を液相、特
に水性相中に懸濁状に含む任意の系を意味するものとす
る。セリウムは、全体的にコロイドの形で見出されるこ
ともでき、また、イオンの形及びコロイドの形で同時に
見出されることもできるが、しかし、イオンの形のもの
が占める割合がコロイド分散体中の全セリウムの約１０
％を越えることはないものとする。本発明に従えば、セ
リウムが全体的にコロイドの形にあるコロイド分散体を
用いるのが好ましい。
【００１８】より正確には、本発明に従うコロイド分散
体は、酸化チタンの沈殿で少なくとも部分的に表面を被
覆された酸化セリウム（IV）のコロイドの分散体であ
る。この酸化チタンは、各酸化チタンコロイドの一部だ
けを被覆していてもよく、全体的に被覆していてもよ
い。
【００１９】チタン層の厚さは、１〜７ｎｍ程度である
のが一般的である。コロイドの表面に沈殿したチタン
は、非晶質又は弱い結晶性のアナターゼの形で存在する
のが一般的である。
【００２０】本発明のコロイド分散体は、寸法が５〜１
００ｎｍの範囲、好ましくは５〜３０ｎｍの範囲である
コロイドを含むのが好ましい。この寸法はコロイドの平
均直径に相当し、「Analytical Chemistry」、５３、第
８号、１００７Ａ（１９８１年）にMichael L. McConne
llによって報告された方法に従って準弾性光散乱（quas
i-elastic light scattering）によって測定されるよう
な、コロイドの流体力学的平均直径と理解される。
【００２１】本発明に従うコロイド分散体が有するコロ
イド中の酸化セリウム対酸化チタンの重量比は、３０／
７０〜７０／３０の範囲であるのが一般的にであり、ほ
ぼ５０／５０であるのが好ましい。本発明の別の特徴に
従えば、分散体中の懸濁状の固体の割合は５〜５０重量
％の範囲であるのが好ましく、５〜２０重量％の範囲で
あるのがより好ましい。
【００２２】第一の態様に従えば、コロイド分散体を構
成する液相は水性相である。水性相は、硝酸塩、酢酸
塩、プロピオン酸塩、塩化物又はアンモニウムイオンを
含むことができる。
【００２３】第二の態様に従えば、コロイド分散体を構
成する液相は有機相である。かかる有機相コロイド分散
体は、ゾル−ゲル法によってコーティングされた基材の
コーティングを強化することができるという利点を有す
る。この最後の態様に従えば、有機相は有機酸及び液状
有機媒体又は溶剤を含むことができる。
【００２４】液状有機媒体は、不活性脂肪族若しくは環
状脂肪族炭化水素又はそれらの混合物、例えばミネラル
若しくはペトロリウムスピリット又はミネラル若しくは
ペトロリウムエーテル（芳香族成分を含有していること
もできる）、特にヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナ
ン、デカン、シクロヘキサン、シクロペンタン、シクロ
ヘプタン及び液状ナフテン類であることができる。ま
た、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン及びキシレン
のような芳香族溶媒、並びにSolvesso｛エクソン(Exxo
n) 社の登録商標｝タイプの石油留分、特にSolvesso 10
0（本質的にメチルエチルベンゼン及びトリメチルベン
ゼンの混合物を含有する）及びSolvesso 150（アルキル
ベンゼンの混合物、特にジメチルエチルベンゼン及びテ
トラメチルベンゼンの混合物を含有する）も好適であ
る。また、液状有機相は、クロルベンゼン又はジクロル
ベンゼン及びクロルトルエンのような塩素化炭化水素、
並びにジイソプロピルエーテル又はジブチルエーテルの
ような脂肪族及び環状脂肪族エーテル並びにメチルイソ
ブチルケトン、ジイソブチルケトン又はメシチルオキシ
ドのような脂肪族及び環状脂肪族ケトンを基とすること
もできる。
【００２５】有機酸は、約１０〜４０個の炭素原子を有
する天然又は合成の脂肪族カルボン酸、脂肪族スルホン
酸、脂肪族ホスホン酸、アルキルアリールスルホン酸及
びアルキルアリールホスホン酸から選択することができ
る。これらは単独で用いることもでき、また、互いの混
合物として用いることもできる。例としては、タル油、
椰子油、大豆油、獣脂油若しくは亜麻仁油の脂肪酸、オ
レイン酸、リノール酸、ステアリン酸、イソステアリン
酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチ
ン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、２−エチルヘキサ
ン酸、ナフテン酸、ヘキサン酸、トルエンスルホン酸、
トルエンホスホン酸、ラウリルホスホン酸、パルミチル
スルホン酸又はパルミチルホスホン酸を挙げることがで
きる。
【００２６】有利には、コロイド分散体は、酸化チタン
の光触媒的機能を強化する目的を有するドープ剤として
用いられる少なくとも１種の金属を追加的に含むことが
できる。この金属は、パラジウム、タングステン、白金
及びロジウムより成る群から選択するのが好ましい。こ
れらの元素は、酸化セリウムのコアーが酸化チタンでコ
ーティングされて成るコロイド内に包まれた形で、又は
酸化チタン及び（若しくは）酸化セリウムの表面に吸着
させた形で、コロイド分散体中に存在させることができ
るだろう。金属の濃度は、コロイド塊に対して０．００
１〜０．１重量％の範囲であるのが有利である。
【００２７】一つの実施態様に従えば、コロイド分散体
は０．５〜４の範囲、より特定的には０．５〜２．５の
範囲のｐＨを有する。別の実施態様に従えば、コロイド
分散体は７〜９の範囲のｐＨを有する。
【００２８】本発明のコロイド分散体の製造には、様々
な態様が可能である。第一の態様に従えば、この製造方
法は、酸化セリウムゾルとチタン塩とを一緒にする工
程、及び、続いての、随意に尿素の存在下で、前の工程
で得られた媒体の温度を上昇させ、それによってセリウ
ムゾルコロイド上の酸化チタンの沈殿を得る工程を含
む。
【００２９】本発明に従って用いることができる酸化セ
リウムゾルは、当業者によく知られた、文献にすでに記
載されている方法によって製造される。これらは、特
に、フランス国特許第２５８３７３５号、同第２５８３
７３６号、同第２５８３７３７号、同第２５９６３８０
号、同第２５９６３８２号、同第２６２１５７６号及び
同第２６５５９７２号（全て本出願人による）の各明細
書に記載された方法に従って製造することができる。必
要ならばこれらを参照されたい。これらのゾルの液相
は、酢酸塩又は硝酸塩イオンを含むことができる。酸化
セリウムのコロイド的寸法の微細粒子が液相中に懸濁さ
れることによって形成された系は、さらに、残留量の結
合され又は吸着されたイオン（例えば、これらのゾルの
製造方法に応じて、硝酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩又
はアンモニウム）を随意に含有することができる。
【００３０】これらのゾルは、酸性ゾルであるのが一般
的である。酸化セリウム粒子の寸法は、１００ｎｍより
小さいのが好ましく、２０ｎｍより小さいのがより好ま
しい。
【００３１】チタン塩は、硝酸塩、塩化物又は硫酸塩で
あるのが有利である。硝酸チタンは、例えば、塩化チタ
ンを水性アンモニアのような塩基によって沈殿させ、次
いで塩素イオンを除去するために洗浄し、沈殿に硝酸を
作用させることによって得られる。硫酸チタンは、イル
メナイトに硫酸を作用させることによって得られる黒い
母液を精製することによって得ることができる。塩化チ
タンは、チタン鉱石に塩素を作用させることによって得
ることができる。塩化チタン及び硫酸チタンを用いる場
合、ｐＨを高くするためにこの塩の前中和を行なうこと
ができる。
【００３２】第一の工程において、酸化セリウムゾルと
チタン塩とを一緒にする。一般的には、チタン塩をセリ
ウムゾルに導入する。セリウムゾル中の可溶性チタン種
の均質性を達成するために、この混合物を数分間放置す
る。次いで、コロイド状酸化セリウム粒子の表面に酸化
チタンの沈殿を得るために、温度を上昇させる。この温
度は６０〜１００℃の範囲であることができる。例え
ば、この温度は、硝酸チタンを用いる場合には約６０℃
であり、塩化チタンについては約８０℃であり、硫酸チ
タンについては約１００℃である。この時、粒子が少な
くとも部分的に酸化チタンで被覆された酸化セリウム分
散体が得られる。
【００３３】この第一の態様の変法に従えば、温度を上
昇させる工程の際に、この工程を尿素の存在下で実施す
ることができる。
【００３４】第二の態様に従えば、本発明に従うコロイ
ド分散体の製造方法は、酸化セリウムゾルとチタン塩と
を一緒にする工程、及び、続いての、前の工程で得られ
た媒体に塩基を添加し、それによって酸化セリウムコロ
イド上の酸化チタンの沈殿を得る工程を含むことを特徴
とする。
【００３５】用いられる出発のセリウムゾル及びチタン
塩は、第一の製造態様の説明の際に規定したものと同じ
特徴を有するものである。セリウムゾルとチタン塩とを
接触させる工程は、第一の実施態様の第一の工程と同一
である。第二の工程において、コロイド状酸化セリウム
粒子の表面に酸化チタンの沈殿を得るために、塩基を添
加する。この時、粒子が少なくとも部分的に酸化チタン
で被覆されたセリウム酸化物分散体が得られる。用いら
れる塩基は、水性アンモニア又はアルカリ金属及びアル
カリ土類金属水酸化物から有利に選択することができ
る。
【００３６】第三の態様に従えば、本発明に従うコロイ
ド分散体の製造方法は、 ・酸化セリウムゾルを塩基によって沈殿させる工程、 ・得られた沈殿をチタン塩と混合し、それによって酸化
セリウムゾルを得る工程、 ・形成されたゾルの温度を上昇させ、それによって酸化
セリウムコロイド上の酸化チタンの沈殿を得る工程を含
む。
【００３７】用いられる出発のセリウムゾルは、前記し
た製造態様の説明の際に規定したセリウムゾルと同じ特
徴を有するものである。これを、第一の工程の際に塩基
と接触させることによって沈殿させる。この塩基は、例
えば、水性アンモニア又はアルカリ若しくはアルカリ土
類金属水酸化物であることができる。この場合、この沈
殿形成（操作）は酸化セリウム又は水酸化セリウムケー
クの形成を導き、これをろ過する。
【００３８】次いで、このケークを、前記した製造方法
について規定したもののようなチタン塩の溶液中に再分
散させて、酸化セリウムをコロイド分散体の形で解凝固
させる。最後に、第一の製造態様におけるように、同じ
条件に従って温度を上昇させ、それによって酸化チタン
を酸化セリウムコロイドの表面に沈殿させる。
【００３９】第四の態様に従えば、本発明に従うコロイ
ド分散体の製造方法は、 ・酸化セリウムゾルを塩基によって沈殿させる工程、 ・得られた沈殿をチタン塩と混合し、それによって酸化
セリウムゾルを得る工程、 ・形成されたゾルに塩基を添加し、それによって酸化セ
リウムコロイド上の酸化チタンの沈殿を得る工程を含む
ことを特徴とする。
【００４０】先の２つの工程は、第三の実施態様におけ
るのと同様にして実施される。他方、セリウムコロイド
の表面における酸化チタンの沈殿形成は、塩基を添加す
ることによってもたらされる。この塩基は、水性アンモ
ニア又はアルカリ金属及びアルカリ土類金属水酸化物か
ら選択することができる。
【００４１】前記した各実施態様の変法に従えば、酸化
セリウム及び酸化チタンに加えて前記したような金属ド
ープ剤をさらに含むコロイド分散体から沈殿形成を行な
う。
【００４２】この金属は、前記した実施態様の様々な工
程において導入することができる。従って、この金属は
前記した４つの実施態様において、出発の工程で酸化セ
リウムゾルに添加することができる。また、先の２つの
態様に従えば、酸化セリウムゾルとチタン塩とを一緒に
する工程の際に金属を添加することもできる。また、第
三及び第四の態様に従えば、セリウムゾルの沈殿形成後
に得られた沈殿に金属を添加することもできる。さらに
これら後の方の２つの態様に従えば、前記沈殿とチタン
塩との混合物に金属を添加することもできる。最後に、
これら４つの態様に従えば、酸化セリウム上の酸化チタ
ンの沈殿形成後に得られたコロイド分散体に金属を添加
することもできる。
【００４３】金属ドープ剤は、塩の形、より特定的には
硝酸塩又は塩化物の形で導入することができる。
【００４４】本発明の分散体は、広い酸性又は塩基性ｐ
Ｈ範囲を持つことができる。この範囲は、次のようにし
て得ることができる。即ち、前記した方法を用い、且
つ、追加の工程、即ち、酸化セリウム上の酸化チタンの
沈殿形成及び随意としての金属の添加の後に得られたコ
ロイド分散体を凝集させ、凝集塊を洗浄し、撹拌しなが
ら所望のｐＨの水性相中に分散させる工程を加える。
【００４５】本発明に従う水性相中のコロイド分散体か
ら有機相中のコロイド分散体を得るためには、水性相中
のコロイド分散体から有機相中のコロイド分散体を製造
するための任意の既知の方法が用いられる。特に、本出
願人によるフランス国特許第２５８３７６１号明細書に
記載されたような方法を用いることができる。
【００４６】この方法によれば、前記した態様の１つに
従って酸化セリウムコロイド上の酸化チタンの沈殿形成
後に得られた水性相中のコロイド分散体から、この水性
コロイド分散体を有機酸及び液状有機媒体又は溶剤を含
む有機相と接触させ、そして水性相と有機相とを分離す
ることによって、有機相中のコロイド分散体を得ること
ができる。液状有機媒体及び有機相は、前に規定した特
徴を有するものである。
【００４７】さらに、本発明はまた、基材のコーティン
グ方法、特に反射防止、紫外線防止及び汚染防止のため
のコーティング方法にも関する。この方法は、前記した
タイプ又は前記した方法によって得られるタイプのコロ
イド分散体を基材に塗布することから本質的に成る。酸
化チタンはその光触媒的機能により、本発明に従う分散
体を使用した時に、コーティングに汚染防止特性を導入
する。
【００４８】本発明は特に、自動車産業又は建築産業に
おいて用いられる金属又はガラス基材の処理に利用され
る。処理前の基材の状態は、通常の洗浄及び脱脂処理以
外には、特に何らかの操作を必要としない。
【００４９】この分散体の塗布は、本発明のコロイド分
散体から、例えば浸漬、スプレー、真空蒸発又はゾル−
ゲルタイプの慣用のコーティング技術を用いることによ
って、直接実施することができる。塗布は、熱い基材に
対して実施するのが好ましい。次いで、水又は有機化合
物のような各種の存在する物質種を除去するために、基
材を熱処理する。
【００５０】こうして、液相を消失させた後に、酸化セ
リウムから成るコアーが少なくとも部分的に酸化チタン
で被覆されて成る粒子で不連続的に且つ均質にコーティ
ングされた基材が形成される。
【００５１】最後に、本発明は、前記したタイプのコロ
イド分散体、特に紫外線防止特性を有するコロイド分散
体を含む、化粧用組成物に関する。
【００５２】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。
【００５３】例１ （１）セリウムゾルの調製 セリウム（IV）ゾルは、フランス国特許第２５７００８
７号明細書に記載された、硝酸第一セリウム溶液につい
ての電解酸化法によって得られた水性硝酸第二セリウム
溶液から出発して、フランス国特許第２５８３７３６号
明細書に記載された方法に従って調製される。この硝酸
第二セリウムを水性アンモニアと接触させてコロイド状
Ｃｅ（IV）分散体を得て、次いでこれを熱処理によって
沈殿させる。この沈殿をろ過し、蒸留水中に再分散させ
る。得られたゾルは、次の特徴を有していた。 ・コロイドの濃度＝５０ｇ／リットル ・コロイドの平均寸法＝５ｎｍ ・ｐＨ＝１ この酸化セリウムゾルを室温において撹拌し続ける。
【００５４】（２）チタン塩の調製 １００ｇ／リットルの濃度の硝酸チタンを調製する。
【００５５】（３）コロイド分散体の調製 硝酸チタン溶液２００ミリリットルをセリウムゾル０．
５リットル中に冷却しながらゆっくり注ぐ。セリウムゾ
ル中における可溶性チタン種の均質性を得るために、
０．５分間待つ。次いで、温度を毎分１℃程度の速度で
６０℃に達するまで非常にゆっくり上昇させる。９５％
の酸化チタン沈殿収率を得るために、この温度を１時間
保つ。このコロイド分散体を室温に戻す。ｐＨは０．５
だった。準弾性光散乱によって、酸化チタンが沈殿した
酸化セリウムコロイドの平均寸法が１２ｎｍであること
が観察された。
【００５６】例２ （１）セリウムゾルの調製 例１に記載した方法に従ってセリウムゾルを調製する。
【００５７】（２）セリウムゾルの沈殿 得られたセリウムゾルを、充分な量の水性アンモニアを
添加することによって沈殿させる。ｐＨ５．５の酸化セ
リウムケークが得られた。
【００５８】（３）コロイド分散体の調製 酸化セリウムの沈殿を、例１において用いたものと同一
の硝酸チタン溶液０．５リットル中に再分散させて、ゾ
ルの形に解凝固させる。次いで、得られたゾルの温度を
毎分１℃程度の速度で６０℃に達するまで非常にゆっく
り上昇させる。９５％の酸化チタン沈殿収率を得るため
に、この温度を１時間保つ。このコロイド分散体を室温
に戻す。ｐＨは２だった。準弾性光散乱によって、酸化
チタンが沈殿した酸化セリウムコロイドの平均寸法が１
２ｎｍであると測定された。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成７年７月３１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０１Ｇ 23/04 Ｚ (72)発明者 アラン・マテュラン フランス国ウイストルアン、リュ・ジャン メルモ、８

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 酸化セリウムから成るコアーが少なくと
    も部分的に酸化チタンの層で被覆されて成るコロイドを
    含むことを特徴とする、コロイド分散体。
  2. 【請求項２】 コロイドが５〜１００ｎｍの範囲、好ま
    しくは５〜３０ｎｍの範囲の寸法を有することを特徴と
    する、請求項１記載のコロイド分散体。
  3. 【請求項３】 コロイド中の酸化セリウム対酸化チタン
    の重量比が３０／７０〜７０／３０の範囲であることを
    特徴とする、請求項１又は２記載のコロイド分散体。
  4. 【請求項４】 分散体中の懸濁状の固体の割合が５〜５
    ０重量％の範囲、好ましくは５〜２０重量％の範囲であ
    ることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の
    コロイド分散体。
  5. 【請求項５】 水性相である液相を含むことを特徴とす
    る、請求項１〜４のいずれかに記載のコロイド分散体。
  6. 【請求項６】 水性相が硝酸塩、酢酸塩、プロピオン酸
    塩、塩化物又はアンモニウムイオンを含むことを特徴と
    する、請求項５記載のコロイド分散体。
  7. 【請求項７】 有機相である液相を含むことを特徴とす
    る、請求項１〜４のいずれかに記載のコロイド分散体。
  8. 【請求項８】 パラジウム、タングステン、白金及びロ
    ジウムを含む群から選択される少なくとも１種の金属を
    追加的に含むことを特徴とする、請求項１〜７のいずれ
    かに記載のコロイド分散体。
  9. 【請求項９】 金属の濃度が０．００１〜０．１重量％
    の範囲であることを特徴とする、請求項８記載のコロイ
    ド分散体。
  10. 【請求項１０】 ０．５〜４の範囲のｐＨを有すること
    を特徴とする、請求項１〜６、８及び９のいずれかに記
    載のコロイド分散体。
  11. 【請求項１１】 ７〜９の範囲のｐＨを有することを特
    徴とする、請求項１〜６、８及び９のいずれかに記載の
    コロイド分散体。
  12. 【請求項１２】 酸化セリウムゾルとチタン塩とを一緒
    にする工程、及び、続いての、随意に尿素の存在下で、
    前の工程で得られた媒体の温度を上昇させ、それによっ
    て酸化セリウムコロイド上の酸化チタンの沈殿を得る工
    程を含むことを特徴とする、請求項１〜６及び８〜１１
    のいずれかに記載のコロイド分散体の製造方法。
  13. 【請求項１３】 酸化セリウムゾルとチタン塩とを一緒
    にする工程、及び、続いての、前の工程で得られた媒体
    に塩基を添加し、それによって酸化セリウムコロイド上
    の酸化チタンの沈殿を得る工程を含むことを特徴とす
    る、請求項１〜６及び８〜１１のいずれかに記載のコロ
    イド分散体の製造方法。
  14. 【請求項１４】 ・酸化セリウムゾルを塩基によって沈
    殿させる工程、 ・得られた沈殿をチタン塩と混合し、それによって酸化
    セリウムゾルを得る工程、 ・形成されたゾルの温度を上昇させ、それによって酸化
    セリウムコロイド上の酸化チタンの沈殿を得る工程を含
    むことを特徴とする、請求項１〜６及び８〜１１のいず
    れかに記載のコロイド分散体の製造方法。
  15. 【請求項１５】 ・酸化セリウムゾルを塩基によって沈
    殿させる工程、 ・得られた沈殿をチタン塩と混合し、それによって酸化
    セリウムゾルを得る工程、 ・形成されたゾルに塩基を添加し、それによって酸化セ
    リウムコロイド上の酸化チタンの沈殿を得る工程を含む
    ことを特徴とする、請求項１〜６及び８〜１１のいずれ
    かに記載のコロイド分散体の製造方法。
  16. 【請求項１６】 チタン塩として硝酸塩、塩化物又は硫
    酸塩を用いることを特徴とする、請求項１２〜１５のい
    ずれかに記載の方法。
  17. 【請求項１７】 温度を６０〜１００℃の範囲の値に上
    昇させることを特徴とする、請求項１２又は１４記載の
    方法。
  18. 【請求項１８】 パラジウム、タングステン、ロジウム
    及び白金を含む群から選択される少なくとも１種の金属
    を、 ・出発の酸化セリウムゾル、 ・酸化セリウムゾルとチタン塩とを一緒にする工程の際
    に形成する媒体、 ・セリウムゾルの沈殿形成後に得られた沈殿、 ・前記沈殿とチタン塩との混合物又は ・酸化セリウムコロイド上の酸化チタンの沈殿形成後に
    得られたコロイド分散体のいずれかに添加することを特
    徴とする、請求項１２〜１７のいずれかに記載の方法。
  19. 【請求項１９】 金属を塩の形、より特定的には硝酸塩
    又は塩化物の形で添加することを特徴とする、請求項１
    ８記載の方法。
  20. 【請求項２０】 酸化セリウムコロイド上の酸化チタン
    の沈殿形成後に得られたコロイド分散体を凝集させ、凝
    集塊を洗浄し、所望のｐＨの水性相中に分散させる追加
    の工程を含むことを特徴とする、請求項１２〜１９のい
    ずれかに記載の方法。
  21. 【請求項２１】 請求項１２〜２０のいずれかに記載の
    方法の工程、並びに、酸化セリウムコロイド上の酸化チ
    タンの沈殿形成後に得られた水性相中のコロイド分散体
    を有機酸及び液状有機媒体又は溶剤を含む有機相と接触
    させ、そして水性相と有機相とを分離する別の工程を含
    むことを特徴とする、請求項７記載のコロイド分散体の
    製造方法。
  22. 【請求項２２】 請求項１〜１１のいずれかに記載のコ
    ロイド分散体を基材に塗布する、基材のコーティング方
    法。
  23. 【請求項２３】 浸漬又はスプレーによって分散体を塗
    布することを特徴とする、請求項２２記載の方法。
  24. 【請求項２４】 請求項２２又は２３記載の方法から得
    られたことを特徴とする、コーティングされた基材。
  25. 【請求項２５】 酸化セリウムから成るコアーが少なく
    とも部分的に酸化チタンで被覆されて成る粒子で不連続
    的に且つ均質にコーティングされたことを特徴とする、
    基材。
  26. 【請求項２６】 請求項１〜１１のいずれかに記載のコ
    ロイド分散体を含むことを特徴とする、化粧用組成物。
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