JP5253095B2 - ジルコニアゾルの製造方法 - Google Patents
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Description
従来より、ジルコニアゾルの製造方法としては、オキシ塩化ジルコニウム等の水溶性ジルコニウム塩を含む水溶液を加水分解させる方法が知られている。
[1]下記の工程(a)〜(d)からなり、平均粒子径が5〜30nmの範囲にあるジルコ
ニア微粒子が分散したジルコニアゾルの製造方法;
(a)ジルコニウム化合物水溶液にアルカリ成分を加えてジルコニウム水酸化物ゲルの分散液を調製する工程
(b)前記ジルコニウム水酸化物ゲルを洗浄する工程
(c)前記洗浄したジルコニウム水酸化物ゲル分散液にアルカリ金属水酸化物水溶液および過酸化水素水溶液を添加してジルコニウム水酸化物ゲルを溶解する工程
(d)ついで、40〜300℃で水熱処理する工程。
(e)ジルコニウム溶解溶液に塩基性窒素化合物を添加してpHを9〜14に調整する工程を行う[1]のジルコニアゾルの製造方法。
[3]前記工程(c)または(e)の後に、
(f)過酸化水素を除去する工程を行う[1]または[2]のジルコニアゾルの製造方法。
[4]前記工程(c)、(e)または(f)の後に、
(g)粒子成長調整剤を添加する工程を行う[1]〜[3]のジルコニアゾルの製造方法。
[5]前記工程(c)において、ジルコニウム水酸化物ゲルのZrO2としてのモル数を(MZr)とし、アルカリ金属水酸化物のモル数を(MOH)とし、過酸化水素のH2O2としてのモル数を(MPO)としたときに、(MOH)/(MZr)が1〜20の範囲にあり、(MPO)/(MZr)が5〜30の範囲にある[1]〜[4]のジルコニアゾルの製造方法。
[6]前記工程(d)において、前記工程(a)〜(d)の工程により得られたジルコニアゾルま
たは該ジルコニアゾルを乾燥して得られたジルコニア微粒子をさらに添加し、水熱処理することを特徴とする請求項1〜5に記載のジルコニアゾルの製造方法。
[7]前記ジルコニア微粒子の屈折率が1.7〜2.20の範囲にある[1]〜[6]のジルコニ
アゾルの製造方法。
[8]前記工程(d)の後、下記の工程(h)〜(k)を行う[1]〜[7]のジルコニアゾルの
製造方法;
(h)工程(d)で得られたジルコニアゾルをZrO2としての濃度が0.1〜20重量%となるように調整する工程
(i)Zr以外の元素で、かつ周期律表の第3A族、第3B族、第4A族、第4B族、第5B族から選ばれる1種以上の元素の化合物水溶液であり、酸化物換算濃度が0.1〜20重量%の範囲にある水溶液と混合する工程
(j)混合した分散液を陽イオン交換樹脂と接触させる工程
(k)40〜200℃で熟成する工程。
[10]前記工程(i)で、ジルコニアゾルとZr以外の元素の化合物水溶液との混合比が、酸化物換算重量比MO/ZrO2(但し、MOはジルコニア以外の元素の酸化物)として0.01〜2.3の範囲にある[8]または[9]のジルコニアゾルの製造方法。
(a)ジルコニウム化合物水溶液にアルカリ成分を加えてジルコニウム水酸化物ゲルの分散液を調製する工程
(b)前記ジルコニウム水酸化物ゲルを洗浄する工程
(c)前記洗浄したジルコニウム水酸化物ゲル分散液にアルカリ金属水酸化物水溶液および過酸化水素水溶液を添加してジルコニウム水酸化物ゲルを溶解する工程
(d)ついで、40〜300℃で水熱処理する工程。
工程(a)
ジルコニウム化合物水溶液にアルカリ成分を加えてジルコニウム水酸化物ゲルの分散液を調製する
本発明に用いるジルコニウム化合物としては塩化ジルコニウム(ZrCl2)、オキシ塩化ジルコニウム(ZrOCl2)、硝酸ジルコニウム、硝酸ジルコニル、硫酸ジルコニウム、炭酸ジルコニウム、酢酸ジルコニウム等の他、ジルコニウムアルコキシド等が挙げられる。
ついで、ジルコニウム化合物水溶液を充分に撹拌しながら、これにアルカリ成分を加える。
ことができる。また、アンモニア、有機アミンなどの塩基性化合物を用いることも、これらと混合して用いることもできる。
工程(b)
次いで、生成したジルコニウム水酸化物ゲルを洗浄する。
工程(c)
前記洗浄したジルコニウム水酸化物ゲル分散液にアルカリ金属水酸化物水溶液および過酸化水素水溶液を添加してジルコニウム水酸化物ゲルを溶解する。
用いることができる。本発明では、種々の用途でナトリウム含有量の少ないジルコニアゾルが求められることからKOH水溶液を用いることが推奨される。
カリ金属水酸化物のモル数を(MOH)とし、過酸化水素のH2O2としてのモル数を(MPO)としたときに、(MOH)/(MZr)が1〜20、さらには2〜15の範囲にあり、(MPO)/(MZr)が5〜30、さらには8〜25の範囲にあることが好ましい。(MOH)/(MZr)が小さすぎると、ジルコニウム水酸化物ゲルの溶解が不充分となり、平均粒子径が小さく、均一な粒子径分布を有するジルコニアゾルが得られないことがある。(MOH)/(MZr)が大きすぎても、さらにジルコニウム水酸化物ゲルの溶解が良くなることもなく、後の工程でアルカリを除去・洗浄する負担が大きくなり経済的でないこともある。
性が不充分となることがある。
程(f)については後述する。
アルカリ金属水酸化物水溶液および過酸化水素水溶液を添加した洗浄ジルコニウム水酸化物ゲル分散液の濃度はZrO2に換算して0.1〜20重量%、さらには0.2〜15重量%、特に0.5〜10重量%の範囲に調整することが好ましい。この濃度が低すぎると、
収率、生産効率が低下することがある。一方、濃度が高すぎると、最終的に得られるジルコニアゾルの粒子径分布が不均一になる場合がある。
なお、本発明では、溶解工程を経ることなく次工程(d)、または工程(e)を行う場合は工程(e)を行うことができるが、予め溶解して水熱処理する方が粒子径の分布が狭く
、均一で、分散性が高く、屈折率の高いジルコニア微粒子が得られる点で好ましい。
工程(e)
本発明では、溶解した後、塩基性窒素化合物を添加して溶解溶液のpHを9〜14、さらには11〜14の範囲と可能な範囲で高くすることが好ましい。
TMAH)、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド(TEAH)、テトラブチルアンモニウムハイドロオキサイド(TBAH)等が挙げられる。溶解溶液のpHを前記範囲に調整すると、結晶性が高く、屈折率の高いジルコニア微粒子、このようなジルコニア微粒子が安定に分散したジルコニアゾルを得ることができる。
本発明では、前記工程(c)後(工程(e)を行う場合は、(e)工程の前でも後でもどちらでも良い)に、過酸化水素を除去することが望ましい。
過酸化水素を除去する方法としては前記溶解後に加温下で開放系にすればよい。
工程(d)
ついで、40〜300℃で水熱処理する。
水熱処理温度が低すぎると、粒子成長に長時間を要したり、所望の高屈折率あるいは所望の粒子径のジルコニアゾルを得ることが困難となることがある。水熱処理温度が高すぎ
ても、粒子成長時間がさらに短くなる効果は小さく、また屈折率がさらに高くなる効果も小さくなり、場合によっては粒子径分布が不均一になったり、粗大な粒子が生成することがある。さらに好ましい水熱処理温度は100〜250℃である。
12時間である。
本発明では、このように水熱処理することによって平均粒子径が小さく、均一な粒子径分布を有し、非凝集体で、分散性、安定性に優れた屈折率の高いジルコニア微粒子が分散したジルコニアゾルを製造することができる。以上の工程(a)〜(d)(工程(e)〜(g)を行っている場合も含む)で得られたジルコニアゾルに、別途調製したジルコニウム水酸化物
ゲルの溶解溶液を添加し、水熱処理することによって粒子成長したジルコニアゾルを得ることもできる。
ることができる。また、アンモニア、有機アミンなどの塩基性化合物を用いることができる。
前記工程(c)、工程(e)、工程(f)のいずれかの工程についで(すなわち工程(d)の前に)、下記の工程(g)を行うことが好ましい。
工程(g)
粒子成長調整剤を溶解溶液ないし分散液に添加する。
.1〜20モル、さらには1〜8モル添加することが好ましい。粒子成長調整剤の使用量が少なければ、最終的に得られるジルコニアゾル中の微粒子の粒子径分布が不均一となったり、平均粒子径が30nmを越える場合があり、多すぎても、ジルコニア微粒子が得られない場合や、得られたとしても収率が低すぎたり、所望の屈折率が得られない場合がある。
本発明では、さらに、前記工程(d)についで、下記の工程(h)〜(k)を行うことができる。
(h)工程(d)で得られたジルコニアゾルをZrO2としての濃度が0.1〜20重量%となるように調整する工程
(i)Zr以外の元素であって、周期律表の第3A族、第3B族、第4A族、第4B族、第5B族から選ばれる1種または2種以上の元素の化合物水溶液であって酸化物としての濃度が0.1〜20重量%の範囲にある水溶液と混合する工程
(j)混合した分散液を陽イオン交換樹脂と接触させる工程
(k)40〜200℃で熟成する工程
以上のような工程を行うことで、ジルコニアと他の酸化物の複合ゾルが得られ、前記ジルコニアゾルの特性を維持しつつ、Zr以外の成分を含むジルコニア系微粒子を製造することもできるので、所望の屈折率に調整することも可能であり、かつ、必要に応じて導電性を付与したり、バインダーとの結合性等に優れた特性を付与させることも可能であり、各種フィラーに好適なジルコニア系ゾルが得られる。なお、他の酸化物の複合状態は特に制限されるものではないが、本発明の製造方法によれば、通常、ジルコニア微粒子表面に、他の酸化物の被覆層が形成されている。
工程(h)
工程(d)で得られたジルコニアゾルをZrO2としての濃度が0.1〜20重量%、好ましくは0.2〜15重量%となるように調整する。濃度を調整する方法として、希釈する場合は水を添加すればよく、濃縮する方法としては限外濾過膜法が好適である。
工程(i)
Zr以外の元素であって、周期律表の第3A族、第3B族、第4A族、第4B族、第5B族から選ばれる1種以上の元素の化合物水溶液を工程(h)のジルコニアゾルに混合する
。
て0.1〜20重量%、さらには0.2〜15重量%の範囲にあることが好ましい。
混合分散液の濃度が低すぎると、大きな処理設備を必要としたり、生産性が低く経済的でないことがある。混合分散液の濃度が高すぎると、工程(k)で得られるジルコニアゾルが凝集する場合がある。
工程(j)
混合した分散液を陽イオン交換樹脂と接触させる。 陽イオン交換樹脂としては、従来公知の陽イオン交換樹脂(H型)を用いることができ、混合した分散液を陽イオン交換樹脂と接触させることによって、Zr以外の元素の化合物水溶液のカチオンが脱離し、一方でZr以外の元素の化合物の酸素酸がジルコニア微粒子表面に析出し、複合化したり被覆層を形成することができる。
工程(k)
ついで、分散液を熟成するが、熟成温度は40〜200℃、さらには60〜120℃が好ましい。
熟成温度が200℃を越えてもジルコニアゾルの安定性がさらに向上することもなく、熟成時間を短縮できる効果もなく、経済性の点からも有意とはいえない。
上記した方法は、酸化ジルコニウム粒子分散液に、アンチモン酸アルカリ等の水溶液を混合した後、イオン交換樹脂等によりイオン除去する前に熟成する方法に比して、安定性に優れたジルコニアゾルを得ることができる。
濃縮する方法として、従来公知の方法を採用することができ、例えば、ロータリーエバポレーター等で加熱濃縮してもよく、さらには減圧下で加熱濃縮してもよく、限外濾過膜
法で濃縮することもできる。
また、分散媒を所望の有機溶媒、例えば、グリコール、エステル、エーテル、ケトン等の有機溶媒に置換してオルガノゾルとすることもできる。このようなオルガノゾルは、例えば、樹脂基材あるいは光学材料として、樹脂レンズ基材等のハードコート膜の屈折率調整用、反射防止膜の下層に設ける高屈折率膜の屈折率調整用等に好適に用いることができる。
また、本発明のジルコニア微粒子は単斜晶形、立方晶形の結晶形を有する微粒子である。X線回折により同定することができる。
また、本発明のジルコニア微粒子は、光散乱法による平均粒子径(D2)(これを2次
粒子径という)を求め、(D2)/(D1)を粒子の凝集程度を表す使用として用る。例えば、この比が大きくなるほど一次粒子が凝集していることを示す。
本発明で得られた上記水を分散媒とするジルコニアゾルは、必要に応じてアルコール、グリコール、エステル、エーテル、ケトン等の有機溶媒に置換してオルガノジルコニアゾルとすることもできる。このようなオルガノジルコニアゾルは、例えば、樹脂基材あるいは光学材料として、樹脂レンズ基材等のハードコート膜の屈折率調整用、反射防止膜の下層に設ける高屈折率膜の屈折率調整用等に好適に用いることができる。
以下、実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
ジルコニアゾル(1)の調製
純水1,300gにオキシ塩化ジルコニウム8水和物(ZrOCl2・8H2O)35gを溶解し、これに濃度10重量%のKOH水溶液123gを添加してジルコニウム水酸化物ヒドロゲル(ZrO2濃度1重量%)を調製した。ついで、限外濾過膜法で電導度が0.5mS/c
m以下になるまで洗浄した。
%のジルコニアゾル(1)を調製した。ジルコニア微粒子(1)の平均一次粒子径(D1)は1
5nm、平均二次粒子径(D2)は38nmであった。また、屈折率は2.10であった
。
屈折率の測定
(1)ジルコニアゾル(1)をエバポレーターに採り、分散媒を蒸発させる。
(3)屈折率が既知の標準屈折率液を2,3滴ガラス基板状に滴下し、これにジルコニ
ア粉末を混合する。
[実施例2]
ジルコニアゾル(2)の調製
実施例1おいて、濃度28.8重量%のアンモニア水溶液140gを加えることなく充分撹拌した。この時pHは13.1であった。以降、実施例1と同様にしてZrO2とし
ての濃度1.5重量%のジルコニアゾル(2)を調製した。ジルコニア微粒子(2)の平均一次粒子径は(D1)25nm、平均二次粒子径(D2)は60nmであった。また、結晶形は単斜晶で、屈折率は1.90であった。
ジルコニアゾル(3)の調製
実施例1において、ZrO2として濃度1重量%のジルコニウム水酸化物ヒドロゲル2,000gに濃度10重量%のKOH水溶液273gを加えた以外は同様にして濃度1.5重量%のジルコニアゾル(3)を調製した。ジルコニア微粒子(3)の平均粒一次子径(D1)
は20nm、平均二次粒子径(D2)は58nmであった。また、屈折率は2.00であ
った。
ジルコニアゾル(4)の調製
実施例1において、ZrO2として濃度1重量%のジルコニウム水酸化物ヒドロゲル2,000gに濃度10重量%のKOH水溶液729gを加えた以外は同様にして濃度1.5重量%のジルコニアゾル(4)を調製した。ジルコニア微粒子(4)の平均一次粒子径は(D1
)15nm、平均二次粒子径(D2)は39nmであった。また、屈折率は2.10であ
った。
ジルコニアゾル(5)の調製
実施例1において、ZrO2として濃度1重量%のジルコニウム水酸化物ヒドロゲル2,000gに濃度10重量%のKOH水溶液400gを加えて十分攪拌した後、濃度35重量%の過酸化水素水溶液158gを加えた以外は同様にして濃度1.5重量%のジルコニアゾル(5)を調製した。ジルコニア微粒子(5)の平均一次粒子径(D1)は25nm、平均
二次粒子径(D2)は62nmであった。また、屈折率は2.00であった。
ジルコニアゾル(6)の調製
実施例1において、ZrO2として濃度1重量%のジルコニウム水酸化物ヒドロゲル2,000gに濃度10重量%のKOH水溶液400gを加えて十分攪拌した後、濃度35重量%の過酸化水素水溶液316gを加えた以外は同様にして濃度1.5重量%のジルコニアゾル(6)を調製した。ジルコニア微粒子(6)の平均(D1)粒子径は13nm、平均二次
粒子径(D2)は35nmであった。また、屈折率は2.10であった。
ジルコニアゾル(7)の調製
実施例1において、オートクレーブで、120℃で24時間水熱処理を行った以外は同様にして濃度1.5重量%のジルコニアゾル(7)を調製した。ジルコニア微粒子(7)の平均一次粒子径(D1)は10nm、平均二次粒子径(D2)は32nmであった。また、結晶形は単斜晶で、屈折率は2.10であった。
ジルコニアゾル(8)の調製
実施例1において、オートクレーブで、200℃で8時間水熱処理を行った以外は同様にして濃度1.5重量%のジルコニアゾル(8)を調製した。ジルコニア微粒子(8)の平均一次粒子径(D1)は25nm、平均二次粒子径(D2)は70nmであった。また、屈折率は2.10であった。
ジルコニアゾル(9)の調製
実施例1において、過酸化水素水溶液を加えて溶解し、透明になった後、充分に撹拌して過酸化水素を除去した以外は同様にして濃度1.5重量%のジルコニアゾル(9)を調製
した。ジルコニア微粒子(9)の平均一次粒子径(D1)は15nm、平均二次粒子径(D2
)は37nmであった。また、屈折率は2.10であった。
ジルコニアゾル(10)の調製
実施例1と同様にして調製したジルコニアゾル(1)を100℃で15時間乾燥し、つい
で、600℃で2時間焼成し、ついで、ジルコニア微粒子(1)粉末56gを純水282g
に分散させ、これに、酒石酸7g、濃度10重量%のKOH水溶液22gを加えて充分攪拌した。
ジルコニア微粒子(10)の平均一次粒子径(D1)は30nm、平均二次粒子径(D2)は72nmであった。また、屈折率は2.20であった。
[実施例11]
ジルコニアゾル(11)の調製
実施例1において、濃度28.8重量%のアンモニア水溶液140gの代わりに濃度25重量%のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)水溶液430gを用いた以外は同様にして濃度1.5重量%のジルコニアゾル(11)を調製した。ジルコニア微粒子(11)の平均一次粒子径(D1)は10nm、平均二次粒子径(D2)は24nmであった。また、結晶形は単斜晶で、屈折率は2.10であった。
[実施例12]
ジルコニアゾル(12)の調製
純水1,300gにオキシ塩化ジルコニウム8水和物(ZrOCl2・8H2O)35gを溶解し、これに濃度10重量%のKOH水溶液123gを添加してジルコニウム水酸化物ヒドロゲル(ZrO2濃度1重量%)を調製した。ついで、限外濾過膜法で電導度が0.5mS/c
m以下になるまで洗浄した。
この溶液に粒子成長調整剤として酒石酸を100g添加して溶解し、ついで、オートク
レーブに充填し、150℃で11時間水熱処理を行った後、遠心沈降法によりジルコニア微粒子を分離し、充分に洗浄した。
SAND)にて分散処理してジルコニアゾルとした。ついで、限外濾過膜を用いて洗浄した後、陰イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:SANUPC)40gを加えて脱イオン処理をして、ZrO2としての濃度1.5重量%のジルコニアゾル(12)を調製した。ジルコニア
微粒子(12)の平均一次粒子径(D1)は8nm、平均二次粒子径(D2)は20nmであった。また、屈折率は
2.08であった。
[実施例13]
ジルコニアゾル(13)の調製
実施例12と同様にして調製した濃度1.5重量%のジルコニアゾル(12)を210gとアンチモン酸カリウム水溶液(Sb2O5として濃度1重量%)90gを混合し、陽イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:DAIAION PK-216H)330gを充填したイオン交換塔を通過さ
せた後、90℃で1時間熟成して五酸化アンチモン被覆ジルコニアゾル(13)を調製した。
得られたゾルのpHは2.6であった。ジルコニア微粒子(13)の平均一次粒子径(D1)
は13nm、平均二次粒子径(D2)は34nmであった。また、屈折率は 1.98で
あった。
[実施例14]
ジルコニアゾル(14)の調製
実施例11と同様にして調製した濃度1.5重量%のジルコニアゾル(12)を210gとスズ酸カリウム水溶液(SnO2として濃度1重量%)30gを混合し、陽イオン交換樹脂(
三菱化学(株)製:DAIAION PK-216H)330gを充填したイオン交換塔を通過させた後
、90℃で1時間熟成して酸化スズ被覆ジルコニアゾル(14)を調製した。得られたゾルの
pHは2.5であった。ジルコニア微粒子(14)の平均一次粒子径(D1)は12nm、平
均二次粒子径(D2)は28nmであった。また、屈折率は2.09であった。
[実施例15]
ジルコニアゾル(15)の調製
実施例11と同様にして調製した濃度1.5重量%のジルコニアゾル(11)を210gとアルミン酸ナトリウム水溶液(Al2O3として濃度1重量%)30gを混合し、陽イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:DAIAION PK-216H)330gを充填したイオン交換塔を通過さ
せた後、90℃で1時間熟成してアルミナ被覆ジルコニアゾル(15)を調製した。得られた
ゾルのpHは2.4であった。ジルコニア微粒子(15)の平均一次粒子径(D1)は12n
m、平均二次粒子径(D2)は28nmであった。また、屈折率は2.06であった。
特許文献4の実施例1に準拠して調製した。
ジルコニアゾル(R1)の調製
純水2432gにオキシ塩化ジルコニウム8水塩(ZrOCl2・8H2O)65.5gを溶解し、これにリンゴ酸2.7gを添加し、ついで、濃度10重量%のKOH水溶液313gを添加してジルコニウム水酸化物ヒドロゲル分散液(ZrO2濃度1重量%)を調製した。このときの分散液のpHは10.5、温度は19℃であった。
ンした。このようにして得られた洗浄ジルコニウム水酸化物ヒドロゲル分散液(ZrO2濃度1重量%)の電導度は10μS/cm、pHは6であった。
ジルコニアゾルのpHは3.6であった。
ジルコニア微粒子(R1)の平均一次粒子径(D1)は16nm、平均二次粒子径(D2)は100nmであった。また、屈折率は2.00であった。
ジルコニアゾル(R2)の調製
実施例1において、ZrO2として濃度1重量%のジルコニウム水酸化物ヒドロゲル2,000gにKOH水溶液を加えなかった以外は同様にして濃度1.5重量%のジルコニアゾル(R2)を調製した。ジルコニア微粒子(R2)の平均粒一次子径(D1)は40nm、平均
二次粒子径(D2)は100nmであった。また、屈折率は1.70であった。
ジルコニアゾル(R3)の調製
実施例1において、ZrO2として濃度1重量%のジルコニウム水酸化物ヒドロゲル2,000gに濃度10重量%のKOH水溶液400gを加えて十分攪拌した後、過酸化水素水溶液を加えなかった以外は同様にして濃度1.5重量%のジルコニアゾル(R3)を調製した。ジルコニア微粒子(R3)の平均一次粒子径(D1)は50nm、平均二次粒子径(D2)は120nmであった。また、屈折率は1.65であった。
Claims (10)
- 平均粒子径が5〜30nmの範囲にあるジルコニア微粒子が分散したジルコニアゾルの製造方法であって、
(a)ジルコニウム化合物水溶液にアルカリ成分を加えてジルコニウム水酸化物ゲルの分散液を調製する工程と、
(b)前記ジルコニウム水酸化物ゲルを洗浄する工程と、
(c)前記洗浄したジルコニウム水酸化物ゲルの分散液にアルカリ金属水酸化物水溶液および過酸化水素水溶液を添加して、ジルコニウム水酸化物ゲルを溶解する工程と、
(d)前記ジルコニウム水酸化物ゲルの溶解溶液を100〜250℃で水熱処理する工程と、
含むことを特徴とするジルコニアゾルの製造方法。 - 前記工程(c)の後に、
(e)ジルコニウム溶解溶液に塩基性窒素化合物を添加してpHを9〜14に調整する工程を行うことを特徴とする請求項1に記載のジルコニアゾルの製造方法。 - (f)前記工程(c)で添加された過酸化水素を除去する工程を備えることを特徴とする請求項1または2に記載のジルコニアゾルの製造方法。
- 前記工程(d)の前に、
(g)粒子成長調整剤を添加する工程を備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のジルコニアゾルの製造方法。 - 前記工程(c)において、ジルコニウム水酸化物ゲルのZrO2としてのモル数を(MZr)とし、アルカリ金属水酸化物のモル数を(MOH)とし、過酸化水素のH2O2としての
モル数を(MPO)としたときに、(MOH)/(MZr)が1〜20の範囲にあり、(MPO)/(MZr)が5〜30の範囲にあることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のジルコニアゾルの製造方法。 - 前記工程(d)において、前記工程(a)〜(d)の工程により得られたジルコニアゾルまたは該ジルコニアゾルを乾燥して得られたジルコニア微粒子をさらに添加し、水熱処理することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のジルコニアゾルの製造方法。
- 前記ジルコニア微粒子の屈折率が1.7〜2.20の範囲にあることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のジルコニアゾルの製造方法。
- 前記工程(d)の後、下記の工程(h)〜(k)を行うことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のジルコニアゾルの製造方法;
(h)前記工程(d)で得られたジルコニアゾルをZrO2としての濃度が0.1〜20重量%となるように調整する工程
(i)周期律表の第3A族、第3B族、第4A族、第4B族、第5B族から選ばれるZr以外の元素を1種以上含む化合物の水溶液を、該化合物の酸化物換算濃度が0.1〜20重量%の範囲になるように作成し、該水溶液と前記工程(h)で得られたジルコニアゾルを混合する工程
(j)混合した分散液を陽イオン交換樹脂と接触させる工程
(k)40〜200℃で熟成する工程。 - 前記化合物がSb、Ti、Y、Ce、Si、Sn、Alから選ばれる1種以上の元素を含むことを特徴とする請求項8に記載のジルコニアゾルの製造方法。
- 前記工程(i)で、前記化合物の水溶液と前記ジルコニアゾルとの混合比が、酸化物換算重量比MO/ZrO2(但し、MOはジルコニア以外の元素の酸化物)として0.01〜2.3の範囲にあることを特徴とする請求項8または9に記載のジルコニアゾルの製造方法。
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