JPH08504460A - ポリジメチルシロキサンブロックコポリマーの製造方法 - Google Patents

ポリジメチルシロキサンブロックコポリマーの製造方法

Info

Publication number
JPH08504460A
JPH08504460A JP6513803A JP51380394A JPH08504460A JP H08504460 A JPH08504460 A JP H08504460A JP 6513803 A JP6513803 A JP 6513803A JP 51380394 A JP51380394 A JP 51380394A JP H08504460 A JPH08504460 A JP H08504460A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymerization
hexamethylcyclotrisiloxane
temperature
block
polymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6513803A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3499871B2 (ja
Inventor
ホクスマイヤー,ロナルド・ジエイムズ
Original Assignee
シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー filed Critical シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー
Publication of JPH08504460A publication Critical patent/JPH08504460A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3499871B2 publication Critical patent/JP3499871B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/42Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
    • C08G77/442Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing vinyl polymer sequences
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F297/00Macromolecular compounds obtained by successively polymerising different monomer systems using a catalyst of the ionic or coordination type without deactivating the intermediate polymer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 モノビニル芳香族炭化水素、共役ジエンおよびそれらの混合物から成る群から選択されるアニオン重合性モノマーの第1ポリマーブロックとポリジメチルシロキサンの第2ポリマーブロックを含むブロックコポリマーの製造方法であって、(a)少なくともアニオン重合性モノマー、有機アルカリ金属開始剤、ヘキサメチルシクロトリシロキサンおよび極性促進剤を−10〜60℃の温度で合せて1つの反応混合物とし、アニオン重合性モノマーを重合させ、(b)アニオン性モノマーのブロック重合とそれに続くリビングポリマー鎖とヘキサメチルシクロトリシロキサンとの間のクロスオーバー反応とが完了するまで重合を進行させ、(c)温度を60〜120℃の間に上げて、ヘキサメチルシクロトリシロキサンをステップ(a)で得られたリビングポリマーブロックの末端で重合させ、(d)重合を停止させるステップを含む方法。

Description

【発明の詳細な説明】 ポリジメチルシロキサンブロックコポリマーの製造方法 本発明はポリジメチルシロキサンブロックコポリマーの製造方法に関する。よ り詳しくは本発明は、アニオン重合性モノマーの第1ポリマーブロックとポリジ メチルシロキサンの第2ブロックとを含むブロックコポリマーの製造方法に関す る。 J.C.Saam等によるMACROMOLECULESVol.3,No. 1,p.1(1970)から、ポリスチレン−ポリジメチルシロキサンジブロッ クコポリマーの製造方法は知られており、その方法はヘキサメチルシクロトリシ ロキサンとリビング(すなわちリチウム末端)ポリスチレンとの重合を含む。す なわち、開示された方法は初めに、炭化水素溶媒中、アルキルリチウム開始剤の 存在下、スチレンをアニオン重合させてリビングポリスチレン鎖を製造し、次い でヘキサメチルシクロトリシロキサンの第1部分を加えることを含む。50〜6 0℃で約1時間攪拌した後にリビングポリスチレン鎖の典型的なオレンジ色が消 えたことから、シロキサンモノマーとリビ ングポリスチレン鎖との間のクロスオーバー反応が起こったことが示される。次 いで、残りのヘキサメチルシクロトリシロキサンを重合促進剤として作用するテ トラヒドロフランと共に導入する。約4時間後、重合は完了し、反応を停止させ る。 したがって、上述の参考文献におけるポリスチレンとポリジメチルシロキサン とのブロックコポリマーの製造には2つの独立した重合ステップが必須である。 第1にポリスチレンを所望の分子量にアニオン重合し、その後初めてヘキサメチ ルシクロトリシロキサンを加えて、ポリスチレンポリマー上にポリジメチルシロ キサンブロックを重合させることができる。この多段階の重合法が一般に必要で あると考えられている。なぜならば、このようなポリマーを両方のモノマーを同 時に存在させて、重合させるとブロック間でテーパーが起こるために、最終ポリ マーの相分離は不十分となりかつ分子量分布はブロードとなり、よって性能が低 下する(例えば低強度となる)と考えられていたからである。したがって、ビニ ル芳香族炭化水素および/または共役ジエンとポリジメチルシロキサンとのブロ ックコポリマーを、両方のモノマーの存在下、ブロック間にいかなるテーパーも 引き起こすことなしにかつ製造されたブロックコポリマ ーが許容し得る程狭い分子量分布を有するように製造し得ることは有利である。 したがって、本発明はモノビニル芳香族炭化水素、共役ジエンおよびそれらの 混合物からなる群から選択されるアニオン重合性モノマーの第1ポリマーブロッ クおよびポリジメチルシロキサンの第2ポリマーブロックを含むブロックコポリ マーの製造方法であって、 (a)少なくともアニオン重合性モノマー類、有機アルカリ金属開始剤、ヘキサ メチルシクロトリシロキサンおよび極性促進剤を−10〜60℃の温度で合わせ て1つの反応混合物として、アニオン重合性モノマーを重合させるステップ、 (b)アニオン性モノマーのブロック重合とそれに続くリビングポリマー鎖とヘ キサメチルシクロトリシロキサンとの間のクロスオーバー反応とが完了するまで 重合を進行させるステップ、 (c)温度を60〜120℃の間に上げて、ヘキサメチルシクロトリシロキサン をステップ(a)で得られたリビングポリマーブロックの末端で重合させるステ ップ、 (d)重合を停止させるステップを含む方法に関する。 本発明の方法においては、モノマー、有機アルカリ金属促進 剤、ヘキサメチルシクロトリシロキサンおよび極性促進剤を溶媒中0℃〜60℃ の温度で混合する。ビニル芳香族炭化水素および/または共役ジエンモノマーを モノマー−Li+種(これは最初に製造される)の色が褪せるまで重合させる。 すなわち、色が褪せることは、アニオン重合性モノマーの重合が完了し、シロキ サンモノマーとリビングポリマー鎖との間のクロスオーバー反応が起こったこと を明確に示すものである。温度をその後、60〜120℃に上げて、ヘキサメチ ルシクロトリシロキサンをリビングビニル芳香族炭化水素および/または共役ジ エンモノマーポリマー鎖の末端で重合させる。最後に重合を停止させる。 良く知られているように、芳香族性不飽和を有するポリマーはビニル芳香族炭 化水素モノマーをアニオン重合開始剤を使用してアニオン重合して適当に製造し 得る。このようなポリマーは塊状、溶液または乳化重合法で製造し得る。いずれ の場合でも、ポリマーは一般に小片、粉末、ペレット等のような固体として回収 する。共役ジエンをビニル芳香族炭化水素の代わりに使用してポリジエン/ポリ ジメチルシロキサンポリマーを形成し得る。ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン との混合物もア ニオン重合させることにより、ランダムまたはテーパーブロックとして得ること ができる。アニオン重合させ得る適当な共役ジエンには、1,3−ブタジエン、 イソプレン、ピペリレン、メチルペンタジエン、フェニルブタジエン、3,4− ジメチル−1,3−ヘキサジエン、4,5−ジエチル−1,3−オクタジエン等 のような4〜12個の炭素原子を有する共役ジエンが含まれる。ブタジエンおよ びイソプレンは好ましい共役ジエンである。適当なモノビニル芳香族炭化水素に はスチレンならびに例えばα−メチルスチレンおよびp−メチルスチレンのよう な色々なアルキル置換スチレンが含まれる。スチレンが最も好ましい。 本発明の方法においては、モノビニル芳香族炭化水素、好ましくはスチレンを 単一のアニオン重合性モノマーとして使用するのが好ましい。 適当なアニオン重合開始剤にはIA族金属ならびにそのアルキル、アミド、シ ラノレート、ナフタリド、ビフェニルおよびアントラセニル誘導体が含まれる。 好ましくは、有機アルカリ金属化合物を使用する。最も好ましいアニオン重合開 始剤は、n−ブチルリチウムおよびsec−ブチルリチウムのようなア ルキルリチウム化合物である。 ポリジメチルシロキサンポリマーはヘキサメチルシクロトリシロキサン((M e2SiO)3)を極性促進剤の存在下重合させて生成させる。促進剤は例えば、 テトラヒドロフラン、ジエトキシエタン、エチレングリコールジメチルエーテル 、N,N,N′,N′−テトラメチルエチレンジアミン等でよい。促進剤はヘキ サメチルシクロトリシロキサン重合の反応時間を短縮させることを目的とする。 重合反応は60〜120℃の温度で起こり、使用する促進剤の量は全重合混合物 に基づいて重量で100ppmくらいの少量から100%くらいの多量(すなわ ち、極性促進剤が溶媒として使用される)の間の範囲であり得る。促進剤を全重 合混合物を基にして0.5〜10重量%の量で使用するのが便利である。促進剤 の量が多ければ多いほど、反応時間は短いであろうことが明らかである。 本発明の方法は炭化水素溶媒中で適当に行い得る。この場合、従来技術におい てアニオン重合プロセスに有用であることが知られているいずれの溶媒も使用し 得る。最も適当な溶媒には例えばぺンタン、ヘキサンおよびヘプタンのような直 鎖および分枝鎖炭化水素ならびにシクロペンタン、シクロヘキサンおよび シクロヘプタンのような脂環式炭化水素が含まれる。このような溶媒の2種以上 の混合物も便利に使用し得る。 または、炭化水素溶媒を使用しない。この場合、モノビニル芳香族炭化水素が 最初ステップ(a)において他の成分に対する溶媒として働き、ステップ(b) においてモノビニル芳香族炭化水素の重合時に生成した反応熱によりヘキサメチ ルシクロトリシロキサンが溶融し、この溶融ヘキサメチルシクロトリシロキサン が生成したリビングポリ(モノビニル芳香族炭化水素)ポリマーの溶媒として働 く。このことが可能なのは、モノビニル芳香族炭化水素、適当にはスチレンの重 合が発熱反応であるからである。したがって、スチレンの重合が進むと、生成し た反応熱により反応混合物の温度が上がる。結局、ヘキサメチルシクロトリシロ キサンは(約63℃で)溶融する。溶融ヘキサメチルシクロトリシロキサンはそ の後、生成したリビングポリスチレンポリマーおよび存在する他の成分の溶媒と して働く。温度が(60℃より高く)上昇すると、リビングポリスチレン鎖の末 端でヘキサメチルシクロトリシロキサンの重合が進行する。適当には、ヘキサメ チルシクロトリシロキサンの重合は65℃〜100℃の間の温度で2〜5時間行 う。 本発明の特徴は、アニオン重合性モノマーおよびシロキサンモノマーの重合が 全ての反応物および促進剤を同時に混合した単一かつ同一の反応混合物中で起こ る点である。したがって、モノビニル芳香族炭化水素および/または共役ジエン モノマー、有機アルカリ金属促進剤、ヘキサメチルシクロトリシロキサンおよび 極性促進剤を混合する。溶媒を使用するのであれば、上述の溶媒から選択し得る 。ポリスチレンの重合を進行させるために、温度は初めは−10〜60℃、好ま しくは−5〜25℃の範囲である。スチレンのみをアニオン重合性モノマーとし て使用した場合、反応混合物は初めはPS-Li+種の存在によりオレンジ色を呈 している。好ましくはこの色は1〜1.5時間続く。この色が褪せたときに、ポ リスチレン反応およびそれに続くリビングポリマー鎖のリチオ化末端とヘキサメ チルシクロトリシロキサンモノマーとのクロスオーバー反応は本質的に完了する 。温度をその後、ポリスチレン重合の反応熱および必要であれば外部手段を使用 して60〜120℃、好ましくは65〜100℃に上げる。2〜5時間、好まし くは3〜4時間(ポリスチレン鎖の末端でヘキサメチルシクロトリシロキサンが 重合する間)の後、重合を停止させ、ポリスチレン/ポリジ メチルシロキサンブロックコポリマーを回収する。 上述の通り、溶媒非存在下にプロセスを実施することが本発明の好ましい実施 態様である。このことは、特に資本の観点から顕著に有利である。溶媒を取り扱 う必要がなく、プロセスには比較的少量の反応体を使用し、溶媒除去設備または 溶媒再利用装置の必要がない。プロセスサイクル時間も反応速度を速めることに よって減らし得る。反応を押出機中で行ってもよい。 プロセスの最後のステップは重合の停止である。このステップは、例えばトリ メチルクロロシランまたはビニルジメチルクロロシランを重合溶液に加えること によって達成し得る。他の停止方法にはジメチルジクロロシランの添加が含まれ る。こうして、カップリングしたトリブロックポリマーを製造することができる 。 本発明の方法は非常にうまく行く。なぜならば、スチレン(および/またはジ エン)が−10〜60℃の選択した温度範囲においてヘキサメチルシクロトリシ ロキサンとよりもそれ自身と非常に速く反応することが判明したからである。こ の理由は、前記温度において、重合速度が「クロスオーバー」反応速度(スチレ ンまたは短ポリスチレン鎖とヘキサメチルシクロトリシロキサンとの間の反応) に較べて非常に速いからである。 2種のジエンまたはスチレンおよびジエンのブロック共重合とは異なり、ブロッ ク間のテーパー(またはブロードな分子量分布を導くランダム化)は起こり難い 。なぜならば、選択した反応温度においては反応性が不十分であるのでポリジメ チルシロキサンの鎖末端はスチレンモノマーとクロスオーバーできないからであ る。もしもシロキサンとのクロスオーバーが全てのスチレンモノマーが消費され る前に起これば、ポリスチレンブロックの分子量分布が多少ブロードになる。し かしながら、分子量分布のブロード化は許容し得、非常に削減された経費および 反応時間でポリマーが製造できるであろう。 本発明で製造されたポリマーは表面不活性コーティングおよびエンジニアリン グサーモプラスチックの耐衝撃性の改善に有用である。なぜならば、本発明で製 造されたポリマーは、ポリスチレンのようなビニル芳香族炭化水素の強度とポリ ジメチルシロキサンの高い柔軟性とポリスチレンに較べて極めて低い溶解パラメ ーターとを有するからである。 実施例 実施例1 100mlの重合ビンに(Me2SiO)3モノマー10g、 シクロヘキサン40g、スチレンモノマー3.3gおよびジエトキシエタン促進 剤50mg(1000ppm)を加えた。溶液を25℃においてsec−ブチル リチウム(s−buLi)溶液(1.4M)でPS-Li+による黄色が約30秒 間残るまで滴定した。その後、s−buLi(シクロヘキサン中)0.67mm olを加えて、重合を開始した。 室温で攪拌しながら、PS-Li+によるオレンジ色が消えてスチレンブロック 重合が完了し、全てのリビング鎖末端がシロキサンモノマーとクロスオーバーし たことを示すまで(約90分)重合を進行させた。ポリスチレンブロックのピー クMWはゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で約5000であった。 その後、さらにジエトキシエタン0.5gを加え(全促進剤濃度約1重量%) 、反応物を3時間約80℃に加熱して、ポリジメチルシロキサンブロック(PD MS)を重合させた。3時間後、Me3SiClを2モル加えて重合を停止させ 、反応混合物を80℃に30分間加熱し、冷却した。 GPC分析により、最終生成物がピークMs(ポリスチレン当量MW)=12 ,900を有することが示された。分子量分 布値(MWD)は1.11であり、この値は従来のアニオン重合物のMWD値( 1.01〜1.10)に良く一致している。ポリマーをイソプロパノールで沈殿 させ、乾燥した。実施例2 スチレンブロックを0℃で90分間重合させたことを除いて反応は実施例1と 同じであった。最終生成物のMs=12,800、MWD=1.08。 以下の実施例では両方のモノマーの存在下、溶媒非存在下における逐次PS− PDMSブロックコポリマー重合を説明する。実施例3 50mlの重合ビンに(Me2SiO)3モノマー10g、スチレンモノマー3 .3gおよびジエトキシエタン促進剤14mg(1000ppm)を加えた。こ の系を攪拌しながら0℃に冷却し、s−buLi(シクロヘキサン中)0.4m molを注入した。強い発熱と共にPS-Li+を示唆する赤色の出現が観測され た。30秒以内に色が消えたことから、スチレンの重合およびシロキサンモノマ ーとのクロスオーバー反応が両方とも完了したことが示された。これは溶液中0 ℃、90分間に匹敵する(実施例2)。液体スチレンモノマーが消費される と、系は一時的に(PS-Li+ポリマーおよび固体(MeSiO)3モノマーか ら成る)溶融塊状態を経た。しかしながら、発熱が(Me2SiO)3の融点であ る63℃より上がるので、系は再び液化し、PS-Li+はシロキサンモノマー( ここでは溶媒)中に溶解した。 PS-Li+の色が消えた後、さらにジエトキシエタン0.4gを系に加え(全 促進剤濃度=3重量%)、温度を80℃に上げこの温度で2時間保った。(Me2 SiO)3が消費されるにつれて、この間に粘度が着実に上昇し、最終的には痕 跡量のモノマーと促進剤中にPS−PDMSポリマーを含む粘性シロップが得ら れた。 2時間後、Me3SiClを1.2mmol添加して重合を停止させた。反応 物を80℃に30分間加熱し、冷却した。ポリマーをテトラヒドロフラン中に溶 解し、イソプロパノールで沈殿させ、乾燥した。 GPC分析によりピークMs=16,900およびMWD=1.32が示され た。PSブロックは8,200と計算された。実施例4 PDMSブロックを3時間重合させたことを除いて反 応は実施例3と同じであった。最終生成物はピークMs=20,800およびM WD=1.35であった。シロキサンモノマーはこの実験においてより長い反応 時間でより完全に重合された。このことは最終生成物のMWがより高いことより 立証される。
【手続補正書】特許法第184条の8 【提出日】1994年12月7日 【補正内容】 本発明はポリジメチルシロキサンブロックコポリマーの製造方法に関する。よ り詳しくは本発明は、アニオン重合性モノマーの第1ポリマーブロックとポリジ メチルシロキサンの第2ブロックとを含むブロックコポリマーの製造方法に関す る。 J.C.Saam等によるMACROMOLECULESVol.3,No. 1,p.1(1970)から、ポリスチレン−ポリジメチルシロキサンジブロッ クコポリマーの製造方法は知られており、その方法はヘキサメチルシクロトリシ ロキサンとリビング(すなわちリチウム末端)ポリスチレンとの重合を含む。す なわち、開示された方法は初めに、炭化水素溶媒中、アルキルリチウム開始剤の 存在下、スチレンをアニオン重合させてリビングポリスチレン鎖を製造し、次い でヘキサメチルシクロトリシロキサンの第1部分を加えることを含む。50〜6 0℃で約1時間攪拌した後にリビングポリスチレン鎖の典型的なオレンジ色が消 えたことから、シロキサンモノマーとリビングポリスチレン鎖との間でクロスオ ーバー反応が起こったことが示される。次いで、残りのへキサメチルシクロトリ シロキサンを重合促進剤として作用するテトラヒドロフランと共に導入する。約 4時間後、重合は完了し、反応を停止させる。 他方、英国特許第1267644号明細書から、式 [式中、Rは1〜30個の炭素原子を含有する1価の炭化水素基であり、R1は 水素原子またはメチル基であり、各R11は1〜18個の炭素原子を含有する1価 の炭化水素基であり、ZはR11基またはヒドロキシル基であり、Gは1〜3個の ベンゼノイド環からなる1価の芳香族基であって、各環は3個までの、それぞれ 1〜6個の炭素原子を有するアルキル基、シクロアルキル基およびアルコキシ基 から選択される脂肪族有機置換基を有し得かつG中において−CR1−基のオル ト位には2個以上の炭素原子を有する脂肪族有機置換基は存在せず、Xは平均値 で20〜5000であり、yは平均値で200〜5000である]で示される芳 香族含有有機ブロックとシリル含有ブロックとを含み、分子量が7000〜1, 000,000でありかっケイ素含有ユニットの割合が20〜70重量%であり かつ有機ブロックユニットの割合が30〜80重量%であるブロックコポ リマーを、 (A)酸素、水および酸性物質を含まない条件下、 (1)式CH2=CR′G[式中、R1およびGは上で定義した通りである]のビ ニル芳香族化合物、 (2)式LiR[式中、Rは上で定義した通りである]の有機リチウム化合物を 溶液の全重量を基にして少なくとも70重量%の炭化水素溶媒の存在下混合し、 (B)(A)で得られた混合物を、CH2=CR′Gが重合するまで、還流温度 より低くかつ凝固点より高い温度に保ち、 (C)酸素、水および酸性物質を含まない条件下、 (3)ヘキサメチルシクロトリシロキサンと (4)(3)と(4)との全重量を基にして少なくとも50重量%の(4)を含 有する混合物を得るのに十分な量の炭化水素溶媒とを混合し、 (D)(B)で得られた生成物に、(C)で製造した混合物を(B)で得られた 生成物中のリチウム原子1個に対して少なくとも1分子のヘキサメチルシクロト リシロキサンを与えるのに十分であるが(C)の全混合物の40重量%以下の量 、酸素、水および酸性物質に暴露させることなしに加え、(E)(D) で得られた混合物を−50℃よりも高くかつ混合物の還流温度を超えない温度で 少なくとも30分間、混合物の色が消えるまで保ち、その後、 (F)残っている(C)の混合物および重合促進剤溶媒を(E)で得られた混合 物に加え、 (G)(F)で得られた混合物を−50℃よりも高くかつ混合物の還流温度を超 えない温度で少なくとも30分間保ち、その後、 (H)酢酸またはZR″2SiCl[式中、R″およびZは上で定義した通りで ある]から選択される化合物を、混合物のリチウム原子1個に対して少なくとも 1分子の化合物を与えるのに十分な量加え、 (I)上で特定したブロックコポリマーを回収する プロセスを含む方法で製造することは知られている。 さらに、英国特許第1308459号明細書から、シロキサン有機ブロックコ ポリマーの製造方法は知られており、その方法は、 (1)1種以上のビニルまたはジエンモノマーをリチウム含有カルボアニオン生 成重合開始剤、特にアルキルリチウム化合物 と非プロトン性溶媒との存在下アニオン重合させ、 (2)(1)で得られたアニオン重合体を環状オルガ,トリシロキサンまたは環 状オルガノシルエチレンシロキサンと接触させ、 (3)環状有機ケイ素化合物を重合させる ことを含む。 したがって、上述の参考文献におけるポリスチレンとポリジメチルシロキサン とのブロックコポリマーの製造には2つの独立した重合ステップが必須である。 第1にポリスチレンを所望の分子量にアニオン重合し、その後初めてヘキサメチ ルシクロトリシロキサンを加えて、ポリスチレンポリマー上にポリジメチルシロ キサンブロックを重合させることができる。この多段階の重合法が一般に必要で あると考えられている。なぜならば、このようなポリマーを両方のモノマーを同 時に存在させて重合させるとブロック間でテーパーが起こるために、最終ポリマ ーの相分離は不十分となりかつ分子量分布はブロードとなり、よって性能が低下 する(例えば強度が低下する)と考えられていたからである。 したがって、ビニル芳香族炭化水素および/または共役ジエ ンとポリジメチルシロキサンとのブロックコポリマーを、両方のモノマーの存在 下、ブロック間にいかなるテーパーも引き起こすことなしにかつ製造されたブロ ックコポリマーが許容し得る程狭い分子量分布を有するように製造し得ることは 有利である。 したがって、本発明はモノビニル芳香族炭化水素、共役ジエンおよびそれらの 混合物からなる群から選択されるアニオン重合性モノマーの第1ポリマーブロッ クおよびポリジメチルシロキサンの第2ポリマーブロックを含むブロックコポリ マーの製造方法であって、 (a)少なくともアニオン重合性モノマー(類)、有機アルカリ金属開始剤、ヘ キサメチルシクロトリシロキサンおよび極性促進剤を−10〜60℃の温度で合 わせて1つの反応混合物として、アニオン重合性モノマーを重合させるステップ 、 (b)アニオン性モノマーのブロック重合とそれに続くリビングポリマー鎖とヘ キサメチルシクロトリシロキサンとの間のクロスオーバー反応とが完了するまで 重合を進行させるステップ、 (c)温度を60〜120℃の間に上げて、ヘキサメチルシクロトリシロキサン をステップ(a)で得られたリビングポリマ ーブロックの末端で重合させるステップ、 (d)重合を停止させるステップ を含む方法に関する。 本発明の方法においては、モノマー、有機アルカリ金属促進剤、ヘキサメチル シクロトリシロキサンおよび極性促進剤を溶媒中−10℃〜60℃の温度で混合 する。ビニル芳香族炭化水素および/または共役ジエンモノマーをモノマー−L i+種(これは最初に製造される)の色が褪せるまで重合させる。 請求の範囲 1. モノビニル芳香族炭化水素、共役ジエンおよびそれらの混合物から成る群 から選択されるアニオン重合性モノマーの第1ポリマーブロックとポリジメチル シロキサンの第2ポリマーブロックを含むブロックコポリマーの製造方法であっ て、 (a)少なくともアニオン重合性モノマー(類)、有機アルカリ金属開始剤、ヘ キサメチルシクロトリシロキサンおよび極性促進剤を−10〜60℃の温度で合 わせて1つの反応混合物として、アニオン重合性モノマーを重合させるステップ 、 (b)アニオン性モノマーのブロック重合とそれに続くリビングポリマー鎖とヘ キサメチルシクロトリシロキサンとの間のクロスオーバー反応とが完了するまで 重合を進行させるステップ、 (c)60〜120℃の間の温度でヘキサメチルシクロトリシロキサンをステッ プ(a)で得られたリビングポリマーブロックの末端で重合させるステップ、 (d)重合を停止させるステップ を含む方法。 2. アニオン重合性モノマーがモノビニル芳香族炭化水素で ある請求項1の方法。 3. モノビニル芳香族炭化水素がスチレンである請求項2の方法。 4. ステップ(a)および(b)を−5〜25℃の範囲の温度で行い、かつス テップ(c)を65〜100℃の範囲の温度で行う請求項1〜3のいずれか1項 の方法。 5. ステップ(a)、(b)、(c)および(d)を炭化水素溶媒中で行う請 求項1〜4のいずれか1項の方法。 6. ステップ(a)において、モノビニル芳香族炭化水素が最初他の成分の溶 媒として働き、一方、ステップ(b)においてモノビニル芳香族炭化水素の重合 時に生成した反応熱によりヘキサメチルシクロトリシロキサンが溶融し、溶融し たヘキサメチルシクロトリシロキサンが生成したリビングポリ(モノビニル芳香 族炭化水素)ポリマーの溶媒として働く請求項2〜5のいずれか1項の方法。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. モノビニル芳香族炭化水素、共役ジエンおよびそれらの混合物から成る群 から選択されるアニオン重合性モノマーの第1ポリマーブロックとポリジメチル シロキサンの第2ポリマーブロックを含むブロックコポリマーの製造方法であっ て、 (a)少なくともアニオン重合性モノマー類、有機アルカリ金属開始剤、ヘキサ メチルシクロトリシロキサンおよび極性促進剤を−10〜60℃の温度で合わせ て1つの反応混合物として、アニオン重合性モノマーを重合させるステップ、 (b)アニオン性モノマーのブロック重合とそれに続くリビングポリマー鎖とヘ キサメチルシクロトリシロキサンとの間のクロスオーバー反応とが完了するまで 重合を進行させるステップ、 (c)温度を60〜120℃の間に上げ、ヘキサメチルシクロトリシロキサンを ステップ(a)で得られたリビングポリマーブロックの末端で重合させるステッ プ、 (d)重合を停止させるステップを含む方法。 2. アニオン重合性モノマーがモノビニル芳香族炭化水素である請求項1の方 法。 3. モノビニル芳香族炭化水素がスチレンである請求項2の方法。 4. ステップ(a)および(b)を−5〜25℃の範囲の温度で行い、かつス テップ(c)において温度を65〜100℃の範囲に上昇させる請求項1〜3の いずれか1項の方法。 5. ステップ(a)、(b)、(c)および(d)を炭化水素溶媒中で行う請 求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。 6. ステップ(a)において、モノビニル芳香族炭化水素が最初他の成分の溶 媒として働き、一方、ステップ(b)においてモノビニル芳香族炭化水素の重合 時に生成した反応熱によりヘキサメチルシクロトリシロキサンが溶融し、溶融し たヘキサメチルシクロトリシロキサンが生成したリビングポリ(モノビニル芳香 族炭化水素)ポリマーの溶媒として働く請求項2〜5のいずれか1項の方法。
JP51380394A 1992-12-15 1993-12-13 ポリジメチルシロキサンブロックコポリマーの製造方法 Expired - Fee Related JP3499871B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/990,587 US5296574A (en) 1992-12-15 1992-12-15 Method of synthesis of block copolymers of vinyl aromatic hydrocarbons and polydimethylsiloxane
US07/990,587 1992-12-15
PCT/EP1993/003558 WO1994013728A2 (en) 1992-12-15 1993-12-13 Process for the preparation of polydimethylsiloxane block copolymers

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08504460A true JPH08504460A (ja) 1996-05-14
JP3499871B2 JP3499871B2 (ja) 2004-02-23

Family

ID=25536303

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP51380394A Expired - Fee Related JP3499871B2 (ja) 1992-12-15 1993-12-13 ポリジメチルシロキサンブロックコポリマーの製造方法

Country Status (11)

Country Link
US (1) US5296574A (ja)
EP (1) EP0674676B1 (ja)
JP (1) JP3499871B2 (ja)
KR (1) KR100279347B1 (ja)
CN (1) CN1036657C (ja)
BR (1) BR9307638A (ja)
DE (1) DE69312737T2 (ja)
ES (1) ES2105620T3 (ja)
MX (1) MX9307887A (ja)
TW (1) TW262483B (ja)
WO (1) WO1994013728A2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001214064A (ja) * 1999-12-20 2001-08-07 Soc De Technol Michelin タイヤ製造用加硫性ゴム組成物及びトレッドがその組成物を含むタイヤ
JP2002161139A (ja) * 2000-11-24 2002-06-04 Bridgestone Corp ブロック共重合体及びその製造方法、並びに、ゴム組成物
JP2010275489A (ja) * 2009-05-29 2010-12-09 Bridgestone Corp 変性共役ジエン系重合体の製造方法、変性共役ジエン系重合体、ゴム組成物、空気入りタイヤ
JP2016176002A (ja) * 2015-03-20 2016-10-06 信越化学工業株式会社 オルガノポリフルオロシロキサンの製造方法

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5260123A (en) * 1991-06-28 1993-11-09 Bridgestone Corporation Block copolymers of polysiloxanes and copolymers of conjugated dienes and aromatic vinyl compounds, and multilayer structures containing same
US5561210A (en) * 1995-05-30 1996-10-01 Dow Corning Corporation Synthesis of siloxane-functional telechelic hydrocarbon polymers
US5521255A (en) * 1995-05-30 1996-05-28 Dow Corning Corporation Synthesis of silyl-functional telechelic hydrocarbon polymers
WO1996039459A1 (en) * 1995-06-06 1996-12-12 Shell Internationale Research Maatschappij B.V. Anionically polymerized block copolymers of ethylene and cyclic siloxane monomers
EP1007998A1 (en) 1997-02-11 2000-06-14 Massachusetts Institute Of Technology Polymeric photonic band gap materials
US6031060A (en) * 1997-05-22 2000-02-29 Fmc Corporation Functionalized silicone polymers and processes for making the same
US6020430A (en) * 1998-05-20 2000-02-01 Fmc Corporation Functionalized diene and alkenylsubstituted aromatic silicone copolymers and processes for making the same
US6344521B1 (en) 1998-05-20 2002-02-05 Fmc Corporation Protected functionalized diene and alkenyl substituted aromatic silicone triblock copolymers and processes for making the same
US7799416B1 (en) 1998-07-02 2010-09-21 Massachusetts Institute Of Technology Periodic porous and relief nanostructured articles
US6258891B1 (en) 1998-12-03 2001-07-10 Shell Oil Company Solventless process for making polysiloxane polymers
US6090902A (en) * 1998-12-21 2000-07-18 Dow Corning Corporation Organopolysiloxane-modified graft copolymers
KR100332466B1 (ko) 2000-05-17 2002-04-13 박찬구 할로겐으로 치환된 다가 반응성 폴리실록산 화합물 및 그제조방법
WO2002004023A2 (en) * 2000-07-06 2002-01-17 Massachusetts Institute Of Technology Photoactivated drug therapy
KR100515453B1 (ko) 2004-02-06 2005-09-20 금호석유화학 주식회사 공중합체의 제조방법
CN1986644A (zh) * 2005-12-21 2007-06-27 汉高股份两合公司 稳定的硅烷化聚合物乳液及其制备方法和应用
KR100953492B1 (ko) * 2007-04-13 2010-04-16 주식회사 엘지화학 광학 필름, 위상차 필름 및 이들을 포함하는 액정 표시장치
KR100961383B1 (ko) 2007-05-31 2010-06-07 주식회사 엘지화학 폴리실록산 말단변성 비닐 방향족 탄화수소-공액디엔 블록공중합체 및 이의 제조방법
KR101265254B1 (ko) 2011-10-07 2013-05-16 금호석유화학 주식회사 실리카 보강재에 대한 상용성이 우수한 말단변성 디엔계 공중합체 및 이의 제조방법
JP2015129261A (ja) * 2013-12-31 2015-07-16 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC ブロックコポリマーのアニール方法およびブロックコポリマーから製造する物品
JP6558894B2 (ja) 2013-12-31 2019-08-14 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC コポリマーの設計、その製造方法およびそれを含む物品
JP6702649B2 (ja) 2013-12-31 2020-06-03 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC ブロックコポリマーの性質を制御する方法及びブロックコポリマーから製造された物品
JP7076701B2 (ja) * 2018-03-05 2022-05-30 東京応化工業株式会社 ブロック共重合体及びその製造方法、ならびに相分離構造を含む構造体の製造方法
CN112430431A (zh) * 2020-11-25 2021-03-02 浙江欣苗化工有限公司 一种户外地板水性沥青防腐涂料及其制备方法
CN114763413A (zh) * 2021-01-14 2022-07-19 万华化学集团股份有限公司 一种制备烷基甲氧基硅油方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3051684A (en) * 1959-03-26 1962-08-28 Directors Of The University Of Organosiloxane polymers containing polydiene blocks
US3483270A (en) * 1966-04-11 1969-12-09 Gen Electric Stereospecific organosiloxane-macromolecular hydrocarbon block copolymers
GB1257304A (ja) * 1968-03-29 1971-12-15
BR6915744D0 (pt) * 1969-03-10 1973-05-17 Dow Corning Processo para preparar um copolimero de bloco
GB1308459A (en) * 1969-06-20 1973-02-21 Dow Corning Ltd Siloxane organic block copolymers
US3665052A (en) * 1970-08-25 1972-05-23 Dow Corning Method of preparing a block copolymer containing a poly-alpha-methylstyrene block and a polydiorganosiloxane block
US3760030A (en) * 1971-06-02 1973-09-18 Gen Electric Multiple sequence block copolymers of silicones and styrene
US3928490A (en) * 1972-03-07 1975-12-23 Firestone Tire & Rubber Co Block polymers of polysiloxanes and polybutadiene
CA1065334A (en) * 1974-12-16 1979-10-30 Eugene R. Martin Silylated polymers and silylated organic-organopolysiloxane block copolymers
US4273896A (en) * 1978-07-12 1981-06-16 Sws Silicones Corporation Silylated polymers and silylated organic-organopolysiloxane block copolymers
FR2436155A1 (fr) * 1978-09-13 1980-04-11 Rhone Poulenc Ind Elastomeres thermoplastiques polystyreniques-diorganopolysiloxaniques
US4768750A (en) * 1987-01-16 1988-09-06 Fisher Controls International, Inc. Valve joint connection

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001214064A (ja) * 1999-12-20 2001-08-07 Soc De Technol Michelin タイヤ製造用加硫性ゴム組成物及びトレッドがその組成物を含むタイヤ
JP2002161139A (ja) * 2000-11-24 2002-06-04 Bridgestone Corp ブロック共重合体及びその製造方法、並びに、ゴム組成物
JP2010275489A (ja) * 2009-05-29 2010-12-09 Bridgestone Corp 変性共役ジエン系重合体の製造方法、変性共役ジエン系重合体、ゴム組成物、空気入りタイヤ
JP2016176002A (ja) * 2015-03-20 2016-10-06 信越化学工業株式会社 オルガノポリフルオロシロキサンの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
BR9307638A (pt) 1999-08-31
EP0674676A1 (en) 1995-10-04
MX9307887A (es) 1994-06-30
JP3499871B2 (ja) 2004-02-23
WO1994013728A2 (en) 1994-06-23
CN1036657C (zh) 1997-12-10
ES2105620T3 (es) 1997-10-16
TW262483B (ja) 1995-11-11
US5296574A (en) 1994-03-22
DE69312737D1 (de) 1997-09-04
WO1994013728A3 (en) 1994-08-04
CN1089274A (zh) 1994-07-13
KR100279347B1 (ko) 2001-01-15
EP0674676B1 (en) 1997-07-30
KR950704405A (ko) 1995-11-20
DE69312737T2 (de) 1997-12-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3499871B2 (ja) ポリジメチルシロキサンブロックコポリマーの製造方法
JP2002540268A (ja) スチレンブタジエンブロック共重合体を基礎とした透明耐衝撃性改良ポリスチレン
JP7110118B2 (ja) 高度なビニルブロック共重合のための極性改質剤系
EP0413294A2 (en) Narrow molecular weight distribution block polymers and process therefor
EP0675916B1 (en) Star-shaped polydimethylsiloxane block copolymers and process for the preparation thereof
JPH08337625A (ja) 非対称性放射状重合体の製造方法
EP0430014A2 (en) Tapered block copolymers
JPS6035922B2 (ja) 分板状ブロック共重合物の製法
WO1994013729A2 (en) Process for the preparation of polydimethylsiloxane block copolymers
CN107586362B (zh) 改性的共轭二烯烃聚合物及其制备方法和丁苯橡胶
JPH05155917A (ja) 分枝状水素化ブロックコポリマー、その製法及び用途
JPH06298881A (ja) ブロツクコポリマー類の製造方法
US20050065287A1 (en) Conjugated diene polymers and copolymer blocks having high vinyl content prepared using mixed microstructure control agents and process for preparing same
JP3100924B2 (ja) モノビニル芳香族炭化水素と共役ジエンのブロック共重合体の製造方法
JPH11171948A (ja) インサイチユーでポリスチレンと一緒に共重合したブロツクコポリマー類およびそれの製造方法
EP0649861B1 (en) 2,5-Substituted tetrahydrofurans as anionic initiator modifiers
US7396887B1 (en) Insitu removal of chelator from anionic polymerization reactions
JPS59170111A (ja) ジエン−スチレン−α−メチルスチレンブロツクポリマ−およびそれからのポリマ−の製法
JPS6223961B2 (ja)
JPH02265913A (ja) アニオン重合によるポリマーの製造方法
US20040147686A1 (en) Process for preparing hydrogenated conjugated diene block copolymers
JPH1180220A (ja) 共役ジエン系重合体の製造方法
KR100729434B1 (ko) 루이스산을 중합 종결제로 이용한 비극성 공역디엔 중합체의 제조방법
JPH0610202B2 (ja) 分岐重合体の製造方法
JPH10152539A (ja) 環状共役ジエン系ブロック共重合体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071205

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081205

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081205

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091205

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees