JPH08500910A - 平面スクリーン用回路の封止・パッシベーション装置 - Google Patents

平面スクリーン用回路の封止・パッシベーション装置

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JPH08500910A JP6502111A JP50211193A JPH08500910A JP H08500910 A JPH08500910 A JP H08500910A JP 6502111 A JP6502111 A JP 6502111A JP 50211193 A JP50211193 A JP 50211193A JP H08500910 A JPH08500910 A JP H08500910A
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Abstract

(57)【要約】 平面スクリーンの制御用集積回路の封止・パッシベーション装置。この装置は密封線（４、７，８，13）を有し、スペーサの役目、場合によってはアクティブマトリックス(1)の構成要素の光伝導性を遮断する役目、場合によっては「ブラックマトリックス(BlackMatrix)」の役目をする不透明な材料(16)の層を必要に応じて有し、密封線または不透明な材料の層で平面スクリーンの制御用集積回路の封止および／またはパッシベーションを確実に行う。

Description

【発明の詳細な説明】 平面スクリーン用回路の封止・パッシベーション装置 本発明は回路、特に平面スクリーン制御用集積回路の封止・パッシベーション 装置に関するものである。 平面液晶スクリーンは電場の値に応じて光学的特性が変化する液晶を挟んだ電 極を含む所定の数の電気光学変換セルで構成される。各電極はスイッチング装置 で制御される。基本となる個々のセルは画素とよばれる。 各画素へのアドレッシングは周辺アドレッシング回路（ドライバともよばれる ）によって制御される行（選択線）および列（データ線）から行う。 これらの電極、スイッチング装置および行・列は一つの基板上に成膜され、エ ッチングされてスクリーンのアクティブマトリックスを構成する。このアクティ ブマトリックスを有する基板上に周辺アドレッシング回路も集積できることが好 ましいが、その場合には周辺アドレッシング回路のパッシベーションおよび保護 の問題が生じる。 すなわち、これらの要素は脆く、その信頼性は全ての有害作用に対して有効に 保護できるか否かにかかっており、保護の仕方によっては電気的挙動が変化する 。有害作用には衝撃や傷で加わる物理理的なもの、化学的なもの（例えばスクリ ーンを有機溶剤やアルコールで拭いた時）あるいは電気的なもの（例えば水、ア ルコールまたは液晶の極性分子によって回路に寄生容量が生じた時）がある。光 は別の種類の有害作用であり、光伝導性によって回路の機能が変化することもあ る。 一般に、集積回路のパッシベーションはアクティブ層を絶縁する窒化珪素 (si Ｎ) と、光から保護する金属またはポリイミド型の不透明な有機ポリマーとで構 成される２層構造で行われる。平面スクリーンのアクティブマトリックスの場合 には、金属または不透明な有機ポリマーが液晶を収容する凹部を一定の寸法にす る (較正) する役目もする。平面スクリーンの場合にはアクティブマトリックス を有する基板と対向電極となる対向プレートとが密封線状物 (cordon de scelle ment、以下、密封線という) によって互いに接着されている。一般に、密封線は セルの内部に液晶を保持するエポキシで作られる。 本発明の目的は基板上に形成された電子回路を密封線を用いて最適にパッシベ ーション・保護することにある。本発明はアクティブマトリックスを有する平面 スクリーンのガラス上に形成されたアドレッシング用集積回路で使用するのに特 に適している。 本発明は、基板上に形成された電子回路を封止・パッシベーションする密封線 を含む装置において、密封線が電子回路をパッシベーション化し、保護するのに 用いることを特徴とする装置を提供する。 本発明はさらに、スペーサの役目と必要に応じて「ブラックマトリックス(bla ck matrix)」の役目をし且つ電気光学セルを制御するアクティブマトリックスの 構成要素の光伝導性を遮断する不透明層を有する、アクティブマトリックスが形 成された基板上に形成された電子回路を封止・パッシベーションする密封線を含 む装置において、不透明層が電子回路の封止とパッシベーションするのに利用す ることを特徴とする装置を提供する。 本発明の封止・パッシベーション法を用いることによって、 製造方法を複雑にしないで、スクリーンのアクティブ部分の周辺で失われる面積 を最小にすることができる。 本発明は添付図面を参照した下記の説明からより明らかになろう。 図１は本発明の第１実施例の液晶スクリーンの断面図。 図２は本発明の第２実施例の液品スクリーンの断面図。 図３は第２実施例の装置を有する液晶スクリーンの平面図。 図４は本発明の第３実施例の液晶スクリーンの断面図。 図５は第３実施例の装置を有する液晶スクリーンの平面図。 先ず最初に、未処理の基板を通常の方法でパッシベーション化する。例えば窒 化珪素の層を付ける。この基板は光透過型の場合 (例えば投射型スクリーンの場 合) には透明な材料（例えばガラス、水品またはペレキシグラス）であるが、反 射型の場合にはその他の任意の材料でよい。 本発明で重要なことは、周辺アドレッシング（ドライバ）回路がアクティブマ トリックスと同じ材料で同時に形成されることである。この形式のスクリーンは ホシデムエレクトロニクス(Hosidem Electronics) 社のフランス国特許第 87 03 ,737号またはトムソン−セーエスエフ(THOMSON-CSF) 社のフランス国特許第 87 07,941号に記載されている。 本発明では２枚のプレートを密封する密封線を用いて集積されたドライバ回路 を保護する。 図１、図２、図３、図４および図５では、同一要素には同一の参照番号が付け てある。 図１ではプレート３上にアクティブマトリックス１と、アドレッシング集積回 路２とが成膜され、エッチングされている。従来は液晶を収容する区域を区画し 、プレート３と５の間に一 定の (較正された) 間隔を維持するために、スクリーン密封用の密封線はアクテ ィブマトリックス１とアドレッシング集積回路２との間に配置されていた。本発 明では密封線４はアドレッシング制御回路２全体を被い且つ液品を収容する区域 ６を区画している。従って、この密封線はスペーサの役目だけではなく、アドレ ッシング集積回路を物理的、化学的および電気的な有害作用から保護するパッシ ベーション層を構成し、その電気的挙動を完全に維持させる役目をする。 また、本発明では、従来は密封線の外側にあるアドレッシング用電子要素が密 封線の下側にあるので、余分な場所が不用になり、スクリーンの周辺で失われる 有効部分を最小にすることができる。 密封線は加熱重合性のエポキシまたは紫外線重合性のエポキシ（アクリル系、 接着剤）を用いて作ることができる。いずれにせよ、密封線の塗布時に区画内に 封入されたガスの逃げ孔となる開口を残し、プロセスの最後にこの開口を塞ぐこ とができる。液晶スクリーンの場合にはこの開口を介して区画内に液晶を充填す ることができる。ガスの種類（空気、アルゴン、その他任意の不活性ガス）は作 業を実施する雰囲気で決まる。ドライバーの光伝導性を無くすために、密封線を 不透明材料で作ることもできる。 図２は密封線を同じ材料を用いた第２実施例を示している。この図ではプレー ト３、５の密封線をアドレッシング回路２の両側に付け (要素７、８) て完全密 封された区画９を形成する。この場合、密封線は集積回路に決して触れないよう にする。密封線が触れると集積回路の特性が局部的に変化する。換言すれば、密 封線で被覆すなわち触れた区域と被覆されない区域とで 集積回路で使用した材料の電気特性が等価ではなくなり、回路の機能不全の原因 になる。 本発明の第１実施例と同様に、区画内に封入されたガスを抜き出すために密封 線に開口を形成し、封止作業の最後にドライバーを収容した区画９を完全密封す る。 図３は図２に示した第２実施例の密封線構造を有する平面スクリーンの平面図 である。アクティブマトリックス１および集積化されたドライバ回路10、11、12 がプレート３上に形成されている。このドライバ回路の周りに上記の密封線13を 形成する。こうして囲んだ区画からガスを逃がすための開口14を密封線13には残 しておく。図示した例では、スクリーンの３つの側面にドライバー集積回路10、 11、12を有し、第４の側面に２枚のプレート間に液晶を封入するための従来機能 の密封線を形成する。密封線には上記と同じ理由で (液品の充填用の) 開口15を 残しておく。 第１実施例のようにドライバ上に形成する密封線または第２実施例のようにド ライバの周りに形成する密封線を用いることによって、集積したスクリーンの行 ・列アドレッシング回路の保護とパッシベーションとを同時に行うことができる 。例えば、スクリーンの各行を第１実施例でパッシベーションし、同じスクリー ンの各列を第２実施例でパッシベーションすることもできる。また、この逆も可 能である。 スクリーンの表面体でプレート間の間隙を密封線の高さと完全に同じ高さに維 持するために、密封線の区域にスペーサを入れることができる。このスペーサは 所定直径を有するボールを塗布前の密封線中に入れるか、スクリーンの組立工程 中にアクティブマトリックスの形成時に較正された厚さの層を同時に 形成して作ることができる。 ドライバ上に密封線を直接堆積させると接着に問題が生じたり、ドライバを劣 化させることがある。この問題は第３の実施例で回避することができる。 すなわち、この形式の場合には、アクティブマトリックスの構成要素および接 続線の上に、スペーサを含む密封線と平行にＬＢＬ(Light Blocking Layer)層を 設けることができる。このＬＢＬ層はアクティブマトリックスの光透過性を遮断 する光学的マスクの役目と、液品セルのスペーサの役目と、場合によってはスク リーンのコントラストを改善するブラックマトリックス(Black Matrix)の役目を する。 図４と図５に示した本発明の第３実施例ではＬＢＬ層16が用いられている。こ のＬＢＬ層16は集積化されたドライバ２をパッシベーションし、保護すると同時 に上記の役目をする。この場合、密封線４はＬＢＬ層16によってパッシベーショ ン化され、保護された集積化された周辺ドライバ２およびアクティブマトリック ス１の外部に配置される。液品セルの製造でＬＢＬを用いる場合には、集積化さ れたドライバ上にその層を堆積する工稈を同じ製造工程の一部として入れること によって容易にコストなしに作ることができる。 また、密封線４が金属層、絶縁層または半導体層の上ではなく、基板３自体の 上に形成され、しかも、アクティブマトリックス１の集積化された周辺ドライバ ２上に堆積されるＬＢＬ16に必要な間隔 (約１mm以下) だけ離れて形成されるの で、密封線４のプレート３への接着性がより良くなる。 この第３実施例はスペーサ兼密封線を有するスクリーンに限定されものではな く、任意の形式の密封線およびＬＢＬに適用 できることは明らかである。 図５はＬＢＬ層１６によってパッシベーション化され、保護されたアクティブ マトリックス１の外周に集積化された３つのドライバを有するスクリーンが示し てある。 本発明の上記３つの異なる実施例を同一スクリーンで組み合わせて使用するこ ともできる。 本発明は単一形式のアドレッシング集積回路（行または列）しか有していない スクリーンにも適用できる。 また、アクティブマトリックスおよびアドレッシング集積回路の形成に使用さ れる半導体材料はアモルファスシリコンまたはセレン化カドミウム(CaSe)でもよ い。ベース要素はトランジスタでもダイオードでもよい。 本発明は電気的に複屈折を制御するスクリーン、螺旋状ネマチック型または強 誘電性型の液晶スクリーンさらにはプラズマスクリーン等のアドレッシング集積 回路を有する任意の形式の平面スクリーンで使用することができる。
【手続補正書】特許法第１８４条の８ 【提出日】１９９４年６月２３日 【補正内容】 一般に、集積回路のパッシベーションはアクティブ層を絶縁する窒化珪素(SiN )と、光から保護する金属またはポリイミド型の不透明な有機ポリマーとで構成 される２層構造で行われる。平面スクリーンのアクティブマトリックスの場合に は、金属または不透明な有機ポリマーが液晶を収容する凹部を一定の寸法にする （較正）する役目もする。平面スクリーンの場合にはアクティブマトリックスを 有する基板と対向電極となる対向プレートとが密封線状物(cordon de scellemen t、以下、密封線という)によって互いに接着されている。一般に、密封線はセル の内部に液晶を保持するエポキシで作られる。この型の装置はカシオ(CASIO)社 のヨーロッパ特許出願第0,444,621号に詳細に記載されている。 本発明の目的は基板上に形成された電子回路を密封線を用いて最適にパッシベ ーション・保護することにある。本発明はアクティブマトリックスを有する平面 スクリーンのガラス上に形成されたアドレッシング用集積回路で使用するのに特 に適している。 本発明は、基板上に形成された電子回路を封止・パッシベーションする密封線 を含む装置において、密封線が電子回路をパッシベーション化し、保護するのに 用いることを特徴とする装置を提供する。 本発明はさらに、スペーサの役目と必要に応じて「ブラックマトリックス(bla ck matrlx)」の役目をし且つ電気光学セルを制御するアクティブマトリックスの 構成要素の光伝導性を遮断する不透明層を有する、アクティブマトリックスが形 成された基板上に形成された電子回路を封止・パッシベーションする密封線を含 む装置において、不透明層が電子回路の封止とパッシ ベーションをするのに利用することを特徴とする装置を提供する。請求の範囲 １．基板(3)上に形成された電子回路(2、10、11、12)を封止・パッシベーション する密封線(4，7，8，13)を含む装置において、密封線(7、8)が電子回路(2)の両 側に形成されて一つの区域を密閉していることを特徴とする装置。 ２．スペーサの役目と、場合によっては「ブラックマトリックス」の役目をする アクティブマトリックス(1)の構成要素の光伝導性を遮断する役目をする不透明 な層(16)を有し、電気光学セルを制御するアクティブマトリックス(1)が形成さ れた基板(3)上に形成された電子回路(2、10、11、12)の封止・パッシベーション 装置において、不透明な層(16)が電子回路(2、10、11、12)の封止とパッシベー ションに用いることを特徴とする装置。 ３．封止とパッシベーションに用いる層(16)が電子回路(2、10、11、12)上に形 成されてこの電子回路全体を被っている請求項２に記載の装置。 ４．スペーサの役目と、場合によっては「ブラックマトリックス」の役目をする アクティブマトリックス(1)の構成要素の光伝導性を遮断する役目をする不透明 な層(16)を有し、電気光学セルを制御するアクティブマトリックス(1)が形成さ れた基板(3)上に形成された電子回路(2、10、11、12)の封止・パッシベーション する密封線(4、7、8、13)を含む装置において、 密封線(7、8)が電子回路(2)の周囲に形成されて電子回路を 確実に封止し、不透明な層(16)が電子回路(2、10、11、12)上に形成されて電子 回路全体を被っていることを特徴とする装置。 ５．電子回路(2、10、11、12)が液晶スクリーンまたはプラズマスクリーンのア クティブマトリックス(1)のアドレッシング集積回路である請求項１〜４のいず れか一項に記載の装置。 ６．電子回路(2、10、11、12)が形成されている基板(3)が透明な材料で作られて いる請求項１〜５のいずれか一項に記載の装置。 ７．電子回路(2、10、11、12)で使用される基本構成要素の少なくとも一つがト ランジスタまたはダイオードである請求項１〜６のいずれか一項に装置。 ８．電子回路(2、10、11、12)で使用される半導体材料の少なくとも一つがアモ ルファスシリコンまたは多結晶質シリコンまたはセレン化カドミウムである請求 項１〜７のいずれか一項に記載の装置。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １．基板(3) 上に形成された電子回路(2、10、11、12) を封止・パッシベーショ ンする密封線(4，7，8，13) を含む装置において、密封線(7、8)が電子回路(2) の回りに形成されていることを特徴とする装置。 ２．スペーサの役目と、場合によっては「ブラックマトリックス」の役目をする アクティブマトリックス(1) の構成要素の光伝導性を遮断する役目をする不透明 な層(16)を有し、電気光学セルを制御するアクティブマトリックス(1) が形成さ れた基板(3) 上に形成された電子回路(2、10、11、12) の封止・パッシベーショ ン装置において、不透明な層(16)が電子回路(2、10、11、12) の封止とパッシベ ーションに用いることを特徴とする装置。 ３．封止とパッシベーションに用いる層(16)が電子回路(2、10、11、12) 上に形 成されてこの電子回路全休を被っている請求項２に記載の装置。 ４．スペーサの役目と、場合によっては「ブラックマトリックス」の役目をする アクティブマトリックス(1) の構成要素の光伝導性を遮断する役目をする不透明 な層(16)を有し、電気光学セルを制御するアクティブマトリックス(1) が形成さ れた基板(3) 上に形成された電子回路(2、10、11、12) の封止・パッシベーショ ンする密封線(4，7，8，13) を含む装置において、 密封線(7、8)が電子回路(2) の周囲に形成されて電子回路を 確実に封止し、不透明な層(16)が電子回路(2、10、11、12) 上に形成されて電子 回路全体を被っていることを特徴とする装置。 ５．電子回路(2、10、11、12) が液晶スクリーンまたはプラズマスクリーンのア クティブマトリックス(1) のアドレッシング集積回路である請求項１〜４のいず れか一項に記載の装置。 ６．電子回路(2、10、11、12) が形成されている基板(3) が透明な材料で作られ ている請求項１〜５のいずれか一項に記載の装置。 ７．電子回路(2、10、11、12) で使用される基本構成要素の少なくとも一つがト ランジスタまたはダイオードである請求項１〜６のいずれか一項に装置。 ８．電子回路(2、10、11、12) で使用される半導体材料の少なくとも一つがアモ ルファスシリコンまたは多結晶質シリコンまたはセレン化カドミウムである請求 項１〜７のいずれか一項に記載の装置。
JP6502111A 1992-06-26 1993-06-25 平面スクリーン用回路の封止・パッシベーション装置 Pending JPH08500910A (ja)

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