JPH08297286A - 液晶表示装置 - Google Patents
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- JPH08297286A JPH08297286A JP7125863A JP12586395A JPH08297286A JP H08297286 A JPH08297286 A JP H08297286A JP 7125863 A JP7125863 A JP 7125863A JP 12586395 A JP12586395 A JP 12586395A JP H08297286 A JPH08297286 A JP H08297286A
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
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- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、特に投射型液晶表示装置に用いられ
る液晶ライトバルブに関し、表示輝度を向上させ、スペ
ーサによる配向ムラや配向不良を防止して表示品質を向
上させた投射型液晶表示装置を提供することを目的とす
る。 【構成】シリコン基板２上に、光反射膜としてのアルミ
ニウム（Ａｌ）薄膜からなる表示電極が各画素毎に形成
された画素アレイ領域４が形成され、対向基板であるガ
ラス基板１４には対向電極１６が設けられている。シリ
コン基板２とガラス基板１４とは対向して、画素アレイ
領域４の外側周囲に複数並列して設けられた、接着性樹
脂からなる帯状スペーサ６、８、１０、１２により貼り
合わされている。画素アレイ領域４と対向電極１６との
間の領域に液晶１８が封入されている。画素アレイ領域
４上にはスペーサは形成されていない。帯状スペーサ６
〜１２は、画素アレイ領域４の外周囲で上下基板を貼り
合わせ、且つ画素アレイ領域４と対向電極１６間の厚さ
（セルギャップ）を一定にさせるように構成する。
る液晶ライトバルブに関し、表示輝度を向上させ、スペ
ーサによる配向ムラや配向不良を防止して表示品質を向
上させた投射型液晶表示装置を提供することを目的とす
る。 【構成】シリコン基板２上に、光反射膜としてのアルミ
ニウム（Ａｌ）薄膜からなる表示電極が各画素毎に形成
された画素アレイ領域４が形成され、対向基板であるガ
ラス基板１４には対向電極１６が設けられている。シリ
コン基板２とガラス基板１４とは対向して、画素アレイ
領域４の外側周囲に複数並列して設けられた、接着性樹
脂からなる帯状スペーサ６、８、１０、１２により貼り
合わされている。画素アレイ領域４と対向電極１６との
間の領域に液晶１８が封入されている。画素アレイ領域
４上にはスペーサは形成されていない。帯状スペーサ６
〜１２は、画素アレイ領域４の外周囲で上下基板を貼り
合わせ、且つ画素アレイ領域４と対向電極１６間の厚さ
（セルギャップ）を一定にさせるように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置に係り、
特に投射型液晶表示装置に用いられる液晶ライトバルブ
に関する。
特に投射型液晶表示装置に用いられる液晶ライトバルブ
に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、ＣＲＴに取って代わる超高精細デ
ィスプレイとしての可能性を秘めているものとして、投
射型の液晶表示装置が脚光を浴びてきている。既にＨＤ
ＴＶやＯＨＰディスプレイ等に投射型液晶表示装置が用
いられるようになってきている。
ィスプレイとしての可能性を秘めているものとして、投
射型の液晶表示装置が脚光を浴びてきている。既にＨＤ
ＴＶやＯＨＰディスプレイ等に投射型液晶表示装置が用
いられるようになってきている。
【０００３】投射型液晶表示装置の投射光学系は、光
源、ライトバルブ、スクリーン、及び光学フィルタ、投
射レンズ等からなる。ライトバルブには液晶表示パネル
が用いられ、光源からの光を透過させてスクリーンに画
像を映し出す方式の透過型液晶ライトバルブと、光源か
らの光を反射させてスクリーンに画像を映し出す反射型
液晶ライトバルブとがある。
源、ライトバルブ、スクリーン、及び光学フィルタ、投
射レンズ等からなる。ライトバルブには液晶表示パネル
が用いられ、光源からの光を透過させてスクリーンに画
像を映し出す方式の透過型液晶ライトバルブと、光源か
らの光を反射させてスクリーンに画像を映し出す反射型
液晶ライトバルブとがある。
【０００４】投射型に限らず一般にアクティブマトリク
ス型の液晶表示装置は、スイッチング素子及びスイッチ
ング素子に接続された表示電極が形成されたアレイ基板
と、アレイ基板と所定の間隔（セルギャップ）を隔てて
対向して設けられた対向電極が形成された対向基板とか
らなり、アレイ基板と対向基板との間の領域に液晶が封
入されている。
ス型の液晶表示装置は、スイッチング素子及びスイッチ
ング素子に接続された表示電極が形成されたアレイ基板
と、アレイ基板と所定の間隔（セルギャップ）を隔てて
対向して設けられた対向電極が形成された対向基板とか
らなり、アレイ基板と対向基板との間の領域に液晶が封
入されている。
【０００５】そして、セルギャップにより液晶層を透過
或は反射する光の波長及び複屈折が決定されるため、そ
の厚さ精度及びその面内均一性は液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）の性能を左右する極めて重要なパラメータである。
或は反射する光の波長及び複屈折が決定されるため、そ
の厚さ精度及びその面内均一性は液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）の性能を左右する極めて重要なパラメータである。
【０００６】図９及び図１０に従来の投射形液晶表示装
置に用いられる反射型液晶ライトバルブの構造を示す。
シリコン基板２上に、アルミニウム（Ａｌ）薄膜からな
り光反射膜としての機能を備えた表示電極が各画素毎に
形成された画素アレイ領域４が形成されている。対向基
板としての例えばガラス基板１４には対向電極１６が設
けられている。シリコン基板２とガラス基板１４とは対
向してシール材３０により貼り合わされ、画素アレイ領
域４と対向電極１６との間の領域に液晶１８が封入され
ている。なお、液晶１８を配向させる配向膜は図示を省
略しているが、画素アレイ領域４上及び対向電極１６上
の液晶と接する側に形成されている。
置に用いられる反射型液晶ライトバルブの構造を示す。
シリコン基板２上に、アルミニウム（Ａｌ）薄膜からな
り光反射膜としての機能を備えた表示電極が各画素毎に
形成された画素アレイ領域４が形成されている。対向基
板としての例えばガラス基板１４には対向電極１６が設
けられている。シリコン基板２とガラス基板１４とは対
向してシール材３０により貼り合わされ、画素アレイ領
域４と対向電極１６との間の領域に液晶１８が封入され
ている。なお、液晶１８を配向させる配向膜は図示を省
略しているが、画素アレイ領域４上及び対向電極１６上
の液晶と接する側に形成されている。
【０００７】液晶材料の所定の電気光学的特性を得るた
めには、所定のセルギャップをパネルの表示面全体にわ
たって均一に得る必要があり、そのため直径数ミクロン
のガラス球或はプラスチック球をスペーサ球３２として
画素アレイ領域４と対向電極１６との間の領域に多数散
布して均一のセルギャップを得るようにしているものが
ある（図９）。しかし、このスペーサ球３２を用いる方
法は、スペーサ球３２の直径の均一性やスペーサ球３２
をパネルに均一に分散させるのが極めて困難であるとい
うプロセス上の問題を有し、また画素アレイ領域４上の
スペーサ球３２の位置により配向ムラ（表示ムラ）や輝
度／開口率の低下が生じるという問題を有している。
めには、所定のセルギャップをパネルの表示面全体にわ
たって均一に得る必要があり、そのため直径数ミクロン
のガラス球或はプラスチック球をスペーサ球３２として
画素アレイ領域４と対向電極１６との間の領域に多数散
布して均一のセルギャップを得るようにしているものが
ある（図９）。しかし、このスペーサ球３２を用いる方
法は、スペーサ球３２の直径の均一性やスペーサ球３２
をパネルに均一に分散させるのが極めて困難であるとい
うプロセス上の問題を有し、また画素アレイ領域４上の
スペーサ球３２の位置により配向ムラ（表示ムラ）や輝
度／開口率の低下が生じるという問題を有している。
【０００８】そこで、スペーサ球を分散させる方法に代
えて、セルギャップに絶縁膜等からなる柱を形成してス
ペーサとして利用する方法が提案されている（図１
０）。これは主として、半導体装置の製造工程で一般に
用いられるフォトリソグラフィ工程を利用し、シリコン
酸化膜の柱をスペーサ（柱状スペーサ３４）として画素
アレイ領域４と対向電極１６との間の領域に形成するこ
とにより所定のセルギャップを得るようにしたものであ
り、従来のスペーサ球を用いる場合と比較してスペーサ
の位置、数、高さを自由に制御できるという利点を有し
ている。
えて、セルギャップに絶縁膜等からなる柱を形成してス
ペーサとして利用する方法が提案されている（図１
０）。これは主として、半導体装置の製造工程で一般に
用いられるフォトリソグラフィ工程を利用し、シリコン
酸化膜の柱をスペーサ（柱状スペーサ３４）として画素
アレイ領域４と対向電極１６との間の領域に形成するこ
とにより所定のセルギャップを得るようにしたものであ
り、従来のスペーサ球を用いる場合と比較してスペーサ
の位置、数、高さを自由に制御できるという利点を有し
ている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら図１０に
示した反射型液晶ライトバルブにおいては、柱状スペー
サ３４は近傍の画素アレイに乗り上げて段差（図示せ
ず）を形成しており、Ａｌの光反射膜の光反射面積を減
少させているため、サブピクセルの開口率を下げる要因
となっている。
示した反射型液晶ライトバルブにおいては、柱状スペー
サ３４は近傍の画素アレイに乗り上げて段差（図示せ
ず）を形成しており、Ａｌの光反射膜の光反射面積を減
少させているため、サブピクセルの開口率を下げる要因
となっている。
【００１０】また、この段差の影響を受けて柱状スペー
サ３４端部に凹凸が生じており、セル工程中にこの凸部
に加重が集中し易いので、柱状スペーサ３４の柱が破損
しやすい。
サ３４端部に凹凸が生じており、セル工程中にこの凸部
に加重が集中し易いので、柱状スペーサ３４の柱が破損
しやすい。
【００１１】さらに、このスペーサ柱は配向膜の配向処
理前に形成されるため、ラビング時に邪魔になり柱近傍
の配向膜が配向処理されない原因となる。
理前に形成されるため、ラビング時に邪魔になり柱近傍
の配向膜が配向処理されない原因となる。
【００１２】このようにスペーサ球にしろ、スペーサ柱
にしろ、それが表示に寄与する画素アレイ領域上にある
ためにその部分の画素の液晶の配向を乱し、ＬＣＤを駆
動させた際にあたかもスペーサが見えるように視認され
てしまう。これらは高精細且つ大画面のプロジェクター
においては、表示画面が大きくなればなるほど液晶配向
の乱れが拡大投射されて目立ってしまうことになり、表
示品質の劣化となり是非とも解決しなければならない問
題である。
にしろ、それが表示に寄与する画素アレイ領域上にある
ためにその部分の画素の液晶の配向を乱し、ＬＣＤを駆
動させた際にあたかもスペーサが見えるように視認され
てしまう。これらは高精細且つ大画面のプロジェクター
においては、表示画面が大きくなればなるほど液晶配向
の乱れが拡大投射されて目立ってしまうことになり、表
示品質の劣化となり是非とも解決しなければならない問
題である。
【００１３】本発明の目的は、表示輝度を向上させ、ス
ペーサによる配向ムラや配向不良を防止して表示品質を
向上させた液晶表示装置を提供することにあり、特に、
表示輝度を向上させ、スペーサによる配向ムラや配向不
良を防止して表示品質を向上させた投射型液晶表示装置
を提供することにある。
ペーサによる配向ムラや配向不良を防止して表示品質を
向上させた液晶表示装置を提供することにあり、特に、
表示輝度を向上させ、スペーサによる配向ムラや配向不
良を防止して表示品質を向上させた投射型液晶表示装置
を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記目的は、複数の表示
電極を有する画素アレイ領域が形成された基板と、画素
アレイ領域に対向する透明電極が形成された対向透明基
板と、基板の画素アレイ領域外周辺領域上に形成され、
所定のセルギャップで基板と対向透明基板とを接着する
スペーサとを備えたことを特徴とする液晶表示装置によ
って達成される。
電極を有する画素アレイ領域が形成された基板と、画素
アレイ領域に対向する透明電極が形成された対向透明基
板と、基板の画素アレイ領域外周辺領域上に形成され、
所定のセルギャップで基板と対向透明基板とを接着する
スペーサとを備えたことを特徴とする液晶表示装置によ
って達成される。
【００１５】そしてさらに、上記目的は、前記スペーサ
が、前記画素アレイ領域外周辺領域に帯状に複数並列し
て形成されていることによって達成される。
が、前記画素アレイ領域外周辺領域に帯状に複数並列し
て形成されていることによって達成される。
【００１６】また上記目的は、前記スペーサのうち外側
のスペーサが液晶を封止する封止材を兼ねていることに
よっても達成される
のスペーサが液晶を封止する封止材を兼ねていることに
よっても達成される
【００１７】上記目的は、複数の表示電極を有し、表示
電極間に遮光領域を有する画素アレイ領域が形成された
基板と、画素アレイ領域に対向する透明電極が形成され
た対向透明基板と、基板の遮光領域に、遮光領域の幅よ
り狭い幅で形成され、所定のセルギャップで基板と対向
透明基板とを接着するスペーサとを備えたことを特徴と
する液晶表示装置によって達成される。
電極間に遮光領域を有する画素アレイ領域が形成された
基板と、画素アレイ領域に対向する透明電極が形成され
た対向透明基板と、基板の遮光領域に、遮光領域の幅よ
り狭い幅で形成され、所定のセルギャップで基板と対向
透明基板とを接着するスペーサとを備えたことを特徴と
する液晶表示装置によって達成される。
【００１８】さらに、上記目的は、上述の液晶表示装置
において、前記スペーサが、接着性を有する感光性樹脂
材料で形成されていることにより達成される。
において、前記スペーサが、接着性を有する感光性樹脂
材料で形成されていることにより達成される。
【００１９】またさらに、上記目的は、上述の液晶表示
装置において、前記基板が、シリコン基板であり、前記
複数の表示電極は、光反射材料で形成されていることに
よっても達成される。
装置において、前記基板が、シリコン基板であり、前記
複数の表示電極は、光反射材料で形成されていることに
よっても達成される。
【００２０】
【作用】本発明によれば、基板の画素アレイ領域外周辺
領域上に所定のセルギャップで基板と対向透明基板とを
接着するスペーサを形成したので、液晶表示装置の表示
輝度を向上させ、スペーサによる配向ムラや配向不良を
防止して表示品質を向上させることができる。
領域上に所定のセルギャップで基板と対向透明基板とを
接着するスペーサを形成したので、液晶表示装置の表示
輝度を向上させ、スペーサによる配向ムラや配向不良を
防止して表示品質を向上させることができる。
【００２１】また、基板の遮光領域に遮光領域の幅より
狭い幅で所定のセルギャップで基板と対向透明基板とを
接着するスペーサを形成したので、液晶表示装置の表示
輝度を向上させ、スペーサによる配向ムラや配向不良を
防止して表示品質を向上させることができる。
狭い幅で所定のセルギャップで基板と対向透明基板とを
接着するスペーサを形成したので、液晶表示装置の表示
輝度を向上させ、スペーサによる配向ムラや配向不良を
防止して表示品質を向上させることができる。
【００２２】
【実施例】本発明の一実施例による反射型液晶ライトバ
ルブ及びその製造方法を図１乃至図８を用いて説明す
る。まず、図１及び図２を用いて本実施例の反射型液晶
ライトバルブの構造を説明する。図１は本実施例の反射
型ライトバルブの平面図、図２はそのＡ−Ａ断面図であ
る。
ルブ及びその製造方法を図１乃至図８を用いて説明す
る。まず、図１及び図２を用いて本実施例の反射型液晶
ライトバルブの構造を説明する。図１は本実施例の反射
型ライトバルブの平面図、図２はそのＡ−Ａ断面図であ
る。
【００２３】シリコン（Ｓｉ）基板２上に、光反射膜と
しての例えばアルミニウム（Ａｌ）薄膜からなる表示電
極が各画素毎に形成された画素アレイ領域４が形成さ
れ、対向基板としての例えばガラス基板１４には対向電
極１６が設けられている。
しての例えばアルミニウム（Ａｌ）薄膜からなる表示電
極が各画素毎に形成された画素アレイ領域４が形成さ
れ、対向基板としての例えばガラス基板１４には対向電
極１６が設けられている。
【００２４】シリコン基板２とガラス基板１４とは対向
して、画素アレイ領域４の外側周囲に複数並列して設け
られた、接着性樹脂からなる帯状スペーサ６、８、１
０、１２により貼り合わされている。画素アレイ領域４
と対向電極１６との間の領域に液晶１８が封入されてい
る。なお、液晶１８を配向させる配向膜は図示を省略し
ているが、画素アレイ領域４上及び対向電極１６上の液
晶１８と接する側に形成されている。画素アレイ領域４
上にはスペーサは形成されていない。
して、画素アレイ領域４の外側周囲に複数並列して設け
られた、接着性樹脂からなる帯状スペーサ６、８、１
０、１２により貼り合わされている。画素アレイ領域４
と対向電極１６との間の領域に液晶１８が封入されてい
る。なお、液晶１８を配向させる配向膜は図示を省略し
ているが、画素アレイ領域４上及び対向電極１６上の液
晶１８と接する側に形成されている。画素アレイ領域４
上にはスペーサは形成されていない。
【００２５】画素アレイ領域４の外周囲に複数並列して
設けられた帯状スペーサ６〜１２には、それぞれ液晶注
入口２０、２２、２４、２５が複数個設けられている。
図示は省略したが、柱状スペーサの外側には液晶を封止
するためシール材が設けられている。本実施例の帯状ス
ペーサ６〜１２は、画素アレイ領域４の外周囲で上下基
板を貼り合わせ、且つ画素アレイ領域４と対向電極１６
間の厚さ（セルギャップ）を一定にさせるように作用す
る。
設けられた帯状スペーサ６〜１２には、それぞれ液晶注
入口２０、２２、２４、２５が複数個設けられている。
図示は省略したが、柱状スペーサの外側には液晶を封止
するためシール材が設けられている。本実施例の帯状ス
ペーサ６〜１２は、画素アレイ領域４の外周囲で上下基
板を貼り合わせ、且つ画素アレイ領域４と対向電極１６
間の厚さ（セルギャップ）を一定にさせるように作用す
る。
【００２６】このように、画素アレイ領域４外周囲に複
数並列する樹脂製の柱状スペーサを設けたので、画素ア
レイ領域４内からスペーサを排除しても所定のセルギャ
ップを維持できるようになり、従って、表示輝度を向上
させ、スペーサによる配向ムラや配向不良を防止して表
示品質を向上させた投射型液晶表示装置を実現すること
ができる。
数並列する樹脂製の柱状スペーサを設けたので、画素ア
レイ領域４内からスペーサを排除しても所定のセルギャ
ップを維持できるようになり、従って、表示輝度を向上
させ、スペーサによる配向ムラや配向不良を防止して表
示品質を向上させた投射型液晶表示装置を実現すること
ができる。
【００２７】本実施例の反射型液晶ライトバルブの寸法
は、シリコン基板２の長さＡは縦横約２０〜３５ｍｍの
正方形形状であり、画素アレイ領域４の長さＢは約１５
〜３０ｍｍのほぼ正方形形状であり例えば、１６００行
１２８０列のマトリクス状に画素が形成されている。各
帯状スペーサの厚さＤ、Ｆ、Ｈは、約１０μｍ、それら
の高さＩは、約３．２μｍ、スペーサの間隔Ｃ、Ｅ、Ｇ
は、約１０μｍであり、セルギャップＪは、３μｍであ
る。
は、シリコン基板２の長さＡは縦横約２０〜３５ｍｍの
正方形形状であり、画素アレイ領域４の長さＢは約１５
〜３０ｍｍのほぼ正方形形状であり例えば、１６００行
１２８０列のマトリクス状に画素が形成されている。各
帯状スペーサの厚さＤ、Ｆ、Ｈは、約１０μｍ、それら
の高さＩは、約３．２μｍ、スペーサの間隔Ｃ、Ｅ、Ｇ
は、約１０μｍであり、セルギャップＪは、３μｍであ
る。
【００２８】本実施例の反射型液晶ライトバルブの一画
素の構造を図３を用いて説明する。シリコン基板１００
上に詳細な図示を省略したトランジスタ１０４が形成さ
れている。シリコン基板１００及びトランジスタ１０４
上に厚さ約２μｍのシリコン酸化膜１０２が形成され、
シリコン酸化膜１０２上には光吸収層１０６が形成され
ている。光吸収層１０６上に厚さ５０００Åのシリコン
窒化膜１０８が形成され、その上にＡｌからなる厚さ１
５００Åの光反射膜１１２が形成されている。
素の構造を図３を用いて説明する。シリコン基板１００
上に詳細な図示を省略したトランジスタ１０４が形成さ
れている。シリコン基板１００及びトランジスタ１０４
上に厚さ約２μｍのシリコン酸化膜１０２が形成され、
シリコン酸化膜１０２上には光吸収層１０６が形成され
ている。光吸収層１０６上に厚さ５０００Åのシリコン
窒化膜１０８が形成され、その上にＡｌからなる厚さ１
５００Åの光反射膜１１２が形成されている。
【００２９】光反射膜１１２は、シリコン酸化膜１０
２、シリコン窒化膜１０８に形成されたスルーホールに
埋め込まれたタングステン（Ｗ）のスタッド１１０によ
りトランジスタ１０４のソース電極（図示せず）に接続
されて、液晶を駆動する表示電極としても機能するよう
になっている。一つの光反射膜１１２で一つの表示画素
のサブピクセルが構成される。隣り合う光反射膜１１２
間（距離約１．７μｍ）にはＡｌ層が形成されておら
ず、従って光を反射させない遮光領域であるブラックマ
トリクス１１８となっている。
２、シリコン窒化膜１０８に形成されたスルーホールに
埋め込まれたタングステン（Ｗ）のスタッド１１０によ
りトランジスタ１０４のソース電極（図示せず）に接続
されて、液晶を駆動する表示電極としても機能するよう
になっている。一つの光反射膜１１２で一つの表示画素
のサブピクセルが構成される。隣り合う光反射膜１１２
間（距離約１．７μｍ）にはＡｌ層が形成されておら
ず、従って光を反射させない遮光領域であるブラックマ
トリクス１１８となっている。
【００３０】対向基板としてガラス保護基板１１６が形
成され、ガラス保護基板１１６の光反射膜側には全面に
対向電極１１４が形成されている。光反射膜１１２と対
向電極１１４間は所定のセルギャップに維持され、その
間に液晶が封入されて液晶層１２０となっている。
成され、ガラス保護基板１１６の光反射膜側には全面に
対向電極１１４が形成されている。光反射膜１１２と対
向電極１１４間は所定のセルギャップに維持され、その
間に液晶が封入されて液晶層１２０となっている。
【００３１】トランジスタ１０４は、ソース電極の他、
データ線に接続されたドレイン電極、及び走査線に接続
されたゲート電極（以上、図示を省略）が形成されたＦ
ＥＴ（電界効果型トランジスタ）であり、ゲートのオン
状態でデータ線に印加された電圧を表示電極である光反
射膜１１２に印加するスイッチング素子として機能す
る。
データ線に接続されたドレイン電極、及び走査線に接続
されたゲート電極（以上、図示を省略）が形成されたＦ
ＥＴ（電界効果型トランジスタ）であり、ゲートのオン
状態でデータ線に印加された電圧を表示電極である光反
射膜１１２に印加するスイッチング素子として機能す
る。
【００３２】トランジスタ１０４のオン時に表示電極で
ある光反射膜１１２と対向電極１１４との間に印加され
る電圧に応じて液晶分子１２２の向きを変化させて光の
透過率を変化させることにより、ガラス保護基板１１６
側から入射した光を、光反射膜１１２まで透過させ反射
させてガラス保護基板１１６から再出射させたり、或は
透過させないようにして表示を行う。本図においても、
配向膜は図示を省略した。
ある光反射膜１１２と対向電極１１４との間に印加され
る電圧に応じて液晶分子１２２の向きを変化させて光の
透過率を変化させることにより、ガラス保護基板１１６
側から入射した光を、光反射膜１１２まで透過させ反射
させてガラス保護基板１１６から再出射させたり、或は
透過させないようにして表示を行う。本図においても、
配向膜は図示を省略した。
【００３３】次に、本実施例による反射型液晶ライトバ
ルブを用いた投射型液晶表示装置の概略を図４を用いて
説明する。光源４２から出射した直線偏光した光は偏光
ビームスプリッタ４４で反射されてカラーセパレーショ
ンプリズム４６に入射し、ここで赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、
青（Ｂ）の三原色に分離されて赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青
（Ｂ）用の反射型液晶ライトバルブ４８、５０、５２に
夫々入射する。各反射型液晶ライトバルブで各サブピク
セルに対する輝度変調が行われた光は反射して再びカラ
ーセパレーションプリズム４６に入射し、元の偏光とは
９０度ずれた直線偏光の光となって偏光ビームスプリッ
タ４４に入射する。反射型液晶ライトバルブ４８、５
０、５２からの反射光は偏光ビームスプリッタ４４を通
過して投影レンズ５４に入射し、拡大されてスクリーン
５６に投影される。
ルブを用いた投射型液晶表示装置の概略を図４を用いて
説明する。光源４２から出射した直線偏光した光は偏光
ビームスプリッタ４４で反射されてカラーセパレーショ
ンプリズム４６に入射し、ここで赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、
青（Ｂ）の三原色に分離されて赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青
（Ｂ）用の反射型液晶ライトバルブ４８、５０、５２に
夫々入射する。各反射型液晶ライトバルブで各サブピク
セルに対する輝度変調が行われた光は反射して再びカラ
ーセパレーションプリズム４６に入射し、元の偏光とは
９０度ずれた直線偏光の光となって偏光ビームスプリッ
タ４４に入射する。反射型液晶ライトバルブ４８、５
０、５２からの反射光は偏光ビームスプリッタ４４を通
過して投影レンズ５４に入射し、拡大されてスクリーン
５６に投影される。
【００３４】次に、本実施例の反射型液晶ライトバルブ
の製造方法を図５乃至図８を用いて説明する。本実施例
の反射型液晶ライトバルブは、画素アレイ領域４の外周
囲に形成された樹脂製の帯状スペーサ６〜１２に特徴を
有しており、その他の構造は原則として従来の製造方法
により製造できるので、帯状スペーサ６〜１２の製造方
法について詳述することとし、他の部分の製造方法の説
明は省略する。
の製造方法を図５乃至図８を用いて説明する。本実施例
の反射型液晶ライトバルブは、画素アレイ領域４の外周
囲に形成された樹脂製の帯状スペーサ６〜１２に特徴を
有しており、その他の構造は原則として従来の製造方法
により製造できるので、帯状スペーサ６〜１２の製造方
法について詳述することとし、他の部分の製造方法の説
明は省略する。
【００３５】まず、帯状スペーサ６〜１２の形成材料は
感光性と接着性とを合わせ持つ樹脂である。この感光性
と接着性とを有する樹脂は、ネガ型フォトレジスト材料
に硬化材を一定の比率で混合したものを使用する。例え
ば（これに限定されないが）、東京応化製ＴＰＡＲ Ｎ
−２５ ＭＢ（主剤）とＴＰＡＲ−硬化剤を溶剤にて３
０．６：６に混合した樹脂等がある（参考文献：K. Mat
sui, K. Utsumi, H. Ohkubo and C. Sugitani, "Resin
and Flexible Metal Bumps for Chip-On-GlassTechnolo
gy," 43rd Electronic Components and Technology Con
ference, pp.205-210, Orlando, Florida, June, 199
3）。前記参考文献では、感光性と接着性とを有する樹
脂が、電極間隔数十ミクロン対応の液晶表示装置の駆動
チップと透明導電膜で配線された液晶表示装置のガラス
基板とを直接接続するチップ・オン・グラス（COG: Chi
p On Glass）実装技術に使用され、その優れた感光性と
接着性が活用されている。
感光性と接着性とを合わせ持つ樹脂である。この感光性
と接着性とを有する樹脂は、ネガ型フォトレジスト材料
に硬化材を一定の比率で混合したものを使用する。例え
ば（これに限定されないが）、東京応化製ＴＰＡＲ Ｎ
−２５ ＭＢ（主剤）とＴＰＡＲ−硬化剤を溶剤にて３
０．６：６に混合した樹脂等がある（参考文献：K. Mat
sui, K. Utsumi, H. Ohkubo and C. Sugitani, "Resin
and Flexible Metal Bumps for Chip-On-GlassTechnolo
gy," 43rd Electronic Components and Technology Con
ference, pp.205-210, Orlando, Florida, June, 199
3）。前記参考文献では、感光性と接着性とを有する樹
脂が、電極間隔数十ミクロン対応の液晶表示装置の駆動
チップと透明導電膜で配線された液晶表示装置のガラス
基板とを直接接続するチップ・オン・グラス（COG: Chi
p On Glass）実装技術に使用され、その優れた感光性と
接着性が活用されている。
【００３６】一般に感光性接着樹脂は、光照射や加熱の
条件によって粘着状態から完全な接着硬化状態まで種々
の状態をとれる利点がある。この特徴を活用すれば、接
着プロセスを半硬化状態のプリキュア接着と、完全硬化
のポストキュア接着の２段階に区別できるので、リワー
クやリペアが可能になる。感光性膜のリワークではその
厚さ制御だけであるが、接着性が可変であるから、仮付
け後リワーク／リペアも活用でき高精度のセルギャップ
制御が実現できる。
条件によって粘着状態から完全な接着硬化状態まで種々
の状態をとれる利点がある。この特徴を活用すれば、接
着プロセスを半硬化状態のプリキュア接着と、完全硬化
のポストキュア接着の２段階に区別できるので、リワー
クやリペアが可能になる。感光性膜のリワークではその
厚さ制御だけであるが、接着性が可変であるから、仮付
け後リワーク／リペアも活用でき高精度のセルギャップ
制御が実現できる。
【００３７】次に、上述の樹脂材料をシリコン基板上に
形成してガラス基板と接着するプロセスを説明する。ま
ず、主材と硬化剤を一定の比率で混合した調液（例え
ば、東京応化製ＴＰＡＲ Ｎ−２５ ＭＢ（主剤）とＴ
ＰＡＲ−硬化剤を溶剤にて３０．６：６に混合した樹
脂）をスピンナー法にてシリコン基板上に毎分１５００
回転で膜厚３．０μｍに塗布する。次に、このシリコン
基板をホットプレート上で９０℃、３分間プリベークし
た後、ミラープロジェクションにより露光量７５〜１５
０ｍＪ／ｃｍ２で露光する。露光後、現像液（５％トリ
エタノールアミン）を用い２５℃で浸漬揺動法にて５０
秒間現像してパターニングし所望のスペーサを形成す
る。
形成してガラス基板と接着するプロセスを説明する。ま
ず、主材と硬化剤を一定の比率で混合した調液（例え
ば、東京応化製ＴＰＡＲ Ｎ−２５ ＭＢ（主剤）とＴ
ＰＡＲ−硬化剤を溶剤にて３０．６：６に混合した樹
脂）をスピンナー法にてシリコン基板上に毎分１５００
回転で膜厚３．０μｍに塗布する。次に、このシリコン
基板をホットプレート上で９０℃、３分間プリベークし
た後、ミラープロジェクションにより露光量７５〜１５
０ｍＪ／ｃｍ２で露光する。露光後、現像液（５％トリ
エタノールアミン）を用い２５℃で浸漬揺動法にて５０
秒間現像してパターニングし所望のスペーサを形成す
る。
【００３８】ホットプレートで８０℃で２分間加熱後、
１ｋｇ、３０分の条件で、シリコン基板に形成されたス
ペーサとガラス基板とを加圧接着する。次に、必要に応
じて、ホットプレートで１５０℃、３０分の加熱、或は
紫外線（ＵＶ）照射の場合は２−３Ｊ／ｃｍ２にて照射
を行い、ポストベークを行う。
１ｋｇ、３０分の条件で、シリコン基板に形成されたス
ペーサとガラス基板とを加圧接着する。次に、必要に応
じて、ホットプレートで１５０℃、３０分の加熱、或は
紫外線（ＵＶ）照射の場合は２−３Ｊ／ｃｍ２にて照射
を行い、ポストベークを行う。
【００３９】上記のプロセス条件にて形成した帯状のス
ペーサを図５及び図６に示す。形成した複数の並列した
スペーサの幅並びに間隔（ピッチ）は１０μｍであり、
スペーサの厚さは、３μｍである。露光エネルギーを変
えることで帯状スペーサの壁部の勾配を変えることがで
きる。図５（ａ）は、露光量を７５ｍＪ／ｃｍ２にて露
光したスペーサの電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真であり、同
図（ｂ）はその拡大写真である。図６（ａ）は、露光量
を１００ｍＪ／ｃｍ２にて露光したスペーサの電子顕微
鏡（ＳＥＭ）写真であり、同図（ｂ）はその拡大写真で
ある。これらの様に露光量を大きくすると相対的に壁部
の勾配を急峻にすることができる。
ペーサを図５及び図６に示す。形成した複数の並列した
スペーサの幅並びに間隔（ピッチ）は１０μｍであり、
スペーサの厚さは、３μｍである。露光エネルギーを変
えることで帯状スペーサの壁部の勾配を変えることがで
きる。図５（ａ）は、露光量を７５ｍＪ／ｃｍ２にて露
光したスペーサの電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真であり、同
図（ｂ）はその拡大写真である。図６（ａ）は、露光量
を１００ｍＪ／ｃｍ２にて露光したスペーサの電子顕微
鏡（ＳＥＭ）写真であり、同図（ｂ）はその拡大写真で
ある。これらの様に露光量を大きくすると相対的に壁部
の勾配を急峻にすることができる。
【００４０】図７（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、シリコン
基板上に形成した帯状スペーサの例である。これらの帯
状スペーサをシリコン基板上に形成した後、帯状スペー
サと対向ガラス基板とを加圧加熱して接着させたＳＥＭ
写真を図８に示す。図８（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の順に
拡大して示している。
基板上に形成した帯状スペーサの例である。これらの帯
状スペーサをシリコン基板上に形成した後、帯状スペー
サと対向ガラス基板とを加圧加熱して接着させたＳＥＭ
写真を図８に示す。図８（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の順に
拡大して示している。
【００４１】このようにして画素アレイ領域４外周囲に
多数の帯状スペーサを並列に配置することができる。感
光性を利用して望みのパターンを自由に形成できると同
時に、接着性を利用して何列ものスペーサを配置できる
ので、充分な機械的強度を得ることができる。上述の帯
状スペーサの場合、スペーサ１列の接着強度は、０．５
ＭＰａ（５Ｋｇｆ／ｃｍ２）であった。また形成され
たセルギャップの面内ばらつきは３μｍ±３％（９００
Å）となり、ガラスの厚さと総面積に依存するガラスの
たわみ等を回避して一定のセルギャップを得られる高精
度のセルギャップ制御を実現できた。
多数の帯状スペーサを並列に配置することができる。感
光性を利用して望みのパターンを自由に形成できると同
時に、接着性を利用して何列ものスペーサを配置できる
ので、充分な機械的強度を得ることができる。上述の帯
状スペーサの場合、スペーサ１列の接着強度は、０．５
ＭＰａ（５Ｋｇｆ／ｃｍ２）であった。また形成され
たセルギャップの面内ばらつきは３μｍ±３％（９００
Å）となり、ガラスの厚さと総面積に依存するガラスの
たわみ等を回避して一定のセルギャップを得られる高精
度のセルギャップ制御を実現できた。
【００４２】スペーサの接着強度は、加熱温度を５０℃
〜１６０℃の範囲で、且つ加圧圧力を０．４Ｋｇ／ｃｍ
２より５．５Ｋｇ／ｃｍ２の範囲で変えることにより、
或は紫外線を２Ｊ／ｃｍ２以上照射することにより、
０．１〜１．５ＭＰａの範囲で変化させることができ
る。
〜１６０℃の範囲で、且つ加圧圧力を０．４Ｋｇ／ｃｍ
２より５．５Ｋｇ／ｃｍ２の範囲で変えることにより、
或は紫外線を２Ｊ／ｃｍ２以上照射することにより、
０．１〜１．５ＭＰａの範囲で変化させることができ
る。
【００４３】以上の例においては、例えばスペーサのピ
ッチを１０μｍとしたがこれらの値はマスクパターンを
変えることにより自由に変更することができる。
ッチを１０μｍとしたがこれらの値はマスクパターンを
変えることにより自由に変更することができる。
【００４４】このように本実施例によれば、樹脂薄膜
は、フォトレジストの処理と同様に、その厚さ及び基板
面内の均一性を高い精度で容易にプロセスできるので、
極めて高精度のセルギャップの制御が可能になる。
は、フォトレジストの処理と同様に、その厚さ及び基板
面内の均一性を高い精度で容易にプロセスできるので、
極めて高精度のセルギャップの制御が可能になる。
【００４５】この樹脂薄膜は強い接着性があるので、下
地は、シリコン酸化膜等の絶縁膜に限定されず、金属、
或は透明電極として用いられるＩＴＯ（インジウム・テ
ィン・オキサイド）、又はガラスでもよいので、アレイ
基板側、対抗基板側のいずれにも形成することができ
る。
地は、シリコン酸化膜等の絶縁膜に限定されず、金属、
或は透明電極として用いられるＩＴＯ（インジウム・テ
ィン・オキサイド）、又はガラスでもよいので、アレイ
基板側、対抗基板側のいずれにも形成することができ
る。
【００４６】さらに、この帯状スペーサを画素アレイの
外側周辺に並列に配置することにより、充分な機械的強
度が確保できるので、画素アレイ上のスペーサを皆無に
しても高精度のセルギャップ制御が可能になる。従っ
て、画素上のスペーサに起因する液晶配向の乱れを除去
できるので従来の柱状スペーサに起因する問題も解決す
ることができるようになる。
外側周辺に並列に配置することにより、充分な機械的強
度が確保できるので、画素アレイ上のスペーサを皆無に
しても高精度のセルギャップ制御が可能になる。従っ
て、画素上のスペーサに起因する液晶配向の乱れを除去
できるので従来の柱状スペーサに起因する問題も解決す
ることができるようになる。
【００４７】本実施例による帯状スペーサの製造方法の
特徴を要約すれば、幅と厚さがミクロン・オーダで、そ
の１／１０以下の加工精度で加工制御できなければなら
ないという要求をフォトリソグラフィプロセスによる加
工で実現し、２０〜３０ｍｍ程度の基板２枚を挟んで充
分な機械的強度が保てなければならないと言う要求をス
ペーサに接着性を持たせることで解決した点にある。そ
のため形成する柱状スペーサに感光性と接着性を併せ持
つ樹脂を形成材料として採用し、さらに、接着強度を高
めるために帯状のパターンとしたスペーサを多数並列に
画素アレイ領域周辺に配置した点に特徴を有している。
特徴を要約すれば、幅と厚さがミクロン・オーダで、そ
の１／１０以下の加工精度で加工制御できなければなら
ないという要求をフォトリソグラフィプロセスによる加
工で実現し、２０〜３０ｍｍ程度の基板２枚を挟んで充
分な機械的強度が保てなければならないと言う要求をス
ペーサに接着性を持たせることで解決した点にある。そ
のため形成する柱状スペーサに感光性と接着性を併せ持
つ樹脂を形成材料として採用し、さらに、接着強度を高
めるために帯状のパターンとしたスペーサを多数並列に
画素アレイ領域周辺に配置した点に特徴を有している。
【００４８】本発明は、上記実施例に限らず種々の変形
が可能である。例えば、上記実施例においては投射形液
晶表示装置に使用されるＳｉ−ＬＣＤの反射形液晶ライ
トバルブに本発明を適用したが、他の液晶表示装置、例
えば、透過形液晶ライトバルブ、或はガラス基板上に画
素領域を形成した液晶表示装置にも、本発明はもちろん
適用することができる。
が可能である。例えば、上記実施例においては投射形液
晶表示装置に使用されるＳｉ−ＬＣＤの反射形液晶ライ
トバルブに本発明を適用したが、他の液晶表示装置、例
えば、透過形液晶ライトバルブ、或はガラス基板上に画
素領域を形成した液晶表示装置にも、本発明はもちろん
適用することができる。
【００４９】なお、上記スペーサの製造方法を用いて、
画素アレイ領域４内のブラックマトリクスの領域上に、
当該ブラックマトリクスの幅より狭い幅で帯状スペーサ
を形成することも可能である。この場合は、上記実施例
で得られる効果が減少するが、従来のスペーサと比較す
れば数段の表示品質の改善を図ることができる。
画素アレイ領域４内のブラックマトリクスの領域上に、
当該ブラックマトリクスの幅より狭い幅で帯状スペーサ
を形成することも可能である。この場合は、上記実施例
で得られる効果が減少するが、従来のスペーサと比較す
れば数段の表示品質の改善を図ることができる。
【００５０】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、セルギャ
ップ精度及びその面内均一性を著しく向上させた液晶表
示装置を実現できる。また、本発明の半導体装置の製造
方法により、セルギャップを容易に制御することができ
るようになる。
ップ精度及びその面内均一性を著しく向上させた液晶表
示装置を実現できる。また、本発明の半導体装置の製造
方法により、セルギャップを容易に制御することができ
るようになる。
【図１】本発明の一実施例による反射型液晶ライトバル
ブの平面図である。
ブの平面図である。
【図２】本発明の一実施例による反射型液晶ライトバル
ブのＡ−Ａ断面図である。
ブのＡ−Ａ断面図である。
【図３】本発明の一実施例による反射型液晶ライトバル
ブの断面図である。
ブの断面図である。
【図４】本実施例の反射型液晶ライトバルブを用いた投
射型液晶表示装置を示す図である。
射型液晶表示装置を示す図である。
【図５】本発明の一実施例による帯状スペーサを示す顕
微鏡写真である。
微鏡写真である。
【図６】本発明の一実施例による帯状スペーサを示す顕
微鏡写真である。
微鏡写真である。
【図７】本発明の一実施例による帯状スペーサを示す顕
微鏡写真である。
微鏡写真である。
【図８】シリコン基板上のスペーサと対向ガラス基板の
接着状態を示す顕微鏡写真である。
接着状態を示す顕微鏡写真である。
【図９】従来の反射型液晶ライトバルブの断面図であ
る。
る。
【図１０】従来の反射型液晶ライトバルブの断面図であ
る。
る。
２ シリコン基板 ４ 画素アレイ領域 ６、８、１０、１２ 帯状スペーサ １４ ガラス基板 １６ 対向電極 １８ 液晶 ２０、２２、２４ 液晶注入口 ３０ シール材 ３２ スペーサ球 ３４ 柱状スペーサ ４２ 光源 ４４ 偏光ビームスプリッタ ４６ カラーセパレーションプリズム ４８、５０、５２ 反射型液晶ライトバルブ ５４ 投影レンズ ５６ スクリーン １００ シリコン基板 １０２ シリコン酸化膜 １０４ トランジスタ １０６ 光吸収層 １０８ シリコン窒化膜 １１０ スタッド １１２ 光反射膜 １１４ 対向電極 １１６ ガラス保護基板 １１８ ブラックマトリクス １２０ 液晶層
Claims (6)
- 【請求項１】複数の表示電極を有する画素アレイ領域が
形成された基板と、 前記画素アレイ領域に対向する透明電極が形成された対
向透明基板と、 前記基板の前記画素アレイ領域外周辺領域上に形成さ
れ、所定のセルギャップで前記基板と前記対向透明基板
とを接着するスペーサとを備えたことを特徴とする液晶
表示装置。 - 【請求項２】請求項１記載の液晶表示装置において、 前記スペーサは、前記画素アレイ領域外周辺領域に帯状
に複数並列して形成されていることを特徴とする液晶表
示装置。 - 【請求項３】請求項２記載の液晶表示装置において、 前記スペーサのうち外側のスペーサが液晶を封止する封
止材を兼ねていることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項４】複数の表示電極を有し、前記表示電極間に
遮光領域を有する画素アレイ領域が形成された基板と、 前記画素アレイ領域に対向する透明電極が形成された対
向透明基板と、 前記基板の前記遮光領域に、前記遮光領域の幅より狭い
幅で形成され、所定のセルギャップで前記基板と前記対
向透明基板とを接着するスペーサとを備えたことを特徴
とする液晶表示装置。 - 【請求項５】請求項１乃至４のいずれかに記載の液晶表
示装置において、 前記スペーサは、接着性を有する感光性樹脂材料で形成
されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項６】請求項１乃至５のいずれかに記載の液晶表
示装置において、 前記基板は、シリコン基板であり、 前記複数の表示電極は、光反射材料で形成されているこ
とを特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7125863A JPH08297286A (ja) | 1995-04-26 | 1995-04-26 | 液晶表示装置 |
| EP96301357A EP0740186A3 (en) | 1995-04-26 | 1996-02-28 | Liquid crystal display unit |
| KR1019960010901A KR100242481B1 (ko) | 1995-04-26 | 1996-04-12 | 액정 표시 장치 |
| US08/666,682 US5777713A (en) | 1995-04-26 | 1996-06-17 | Liquid crystal display unit with spacers form in the light shielding regions |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7125863A JPH08297286A (ja) | 1995-04-26 | 1995-04-26 | 液晶表示装置 |
| US08/666,682 US5777713A (en) | 1995-04-26 | 1996-06-17 | Liquid crystal display unit with spacers form in the light shielding regions |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08297286A true JPH08297286A (ja) | 1996-11-12 |
Family
ID=26462167
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7125863A Pending JPH08297286A (ja) | 1995-04-26 | 1995-04-26 | 液晶表示装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5777713A (ja) |
| EP (1) | EP0740186A3 (ja) |
| JP (1) | JPH08297286A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005309446A (ja) * | 2004-04-23 | 2005-11-04 | Samsung Electronics Co Ltd | 平板表示装置の接合構造体、平板表示装置の接合構造体の形成方法、及び平板表示装置 |
| US7355667B2 (en) | 2002-09-03 | 2008-04-08 | Hitachi Displays, Ltd. | Liquid crystal display device and manufacturing method thereof |
| JP2009140666A (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Hitachi Chem Co Ltd | 接続構造体の製造方法 |
| US7923080B2 (en) | 2002-05-14 | 2011-04-12 | Fujitsu Limited | Liquid crystal display and manufacturing method of same |
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