JPH0849073A - 基板処理装置の基板保持具 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板保持溝内に処理液が残留する不都合を改
善して、基板の浸漬処理工程におけるクロスコンタミネ
ーションの問題を解消する。 【構成】 本基板保持具２０は、複数の基板Ｗを起立姿
勢で前後に並列させて保持する複数の基板保持枠２１Ａ
〜２１Ｂを有し、起立姿勢で保持した複数の基板Ｗを処
理液中から相対的に引き上げる基板処理装置において用
いられる。上記基板保持枠２１Ａ〜２１Ｂの各基板保持
溝２２の底部に基板Ｗの厚さより大きな直径を有する液
抜き孔２３ａ・２３ｂを貫通形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、半導体ウエハや液晶
用ガラス基板等の表面処理（洗浄処理や乾燥等を含む）
をなす基板処理装置において用いられる基板保持具に関
し、さらに詳しくは、起立姿勢で保持した複数の基板を
処理液中から相対的に引き上げる際に用いられる基板保
持具に関する。なお、後述するウエハボートやウエハチ
ャックも本発明に係る基板保持具である。

【０００２】

【従来の技術】この種の基板保持具が用いられる基板処
理装置の一例として、例えば本出願人の提案に係るもの
で、特願平５−１４００８６号に開示された基板の洗浄
・乾燥装置がある。

【０００３】それは図１８(Ａ)に示すように、密閉可能
に構成された密閉チャンバ１と、この密閉チャンバ１内
の底部に設けられたオーバーフロー型の洗浄槽２と、基
板保持具２０で保持した複数の基板Ｗを洗浄液３中に浸
漬し又洗浄済みの基板Ｗを引き上げるためのリフター１
０とから構成されている。この洗浄・乾燥装置によれ
ば、基板Ｗを洗浄液３中に浸漬して洗浄するとともに、
洗浄液３中から基板Ｗを引き上げる際に、減圧下でアル
コール蒸気等を基板Ｗの周囲に供給して乾燥を促進する
ことができる。なお、図１８(Ａ)中の符号４は洗浄液の
供給口、５はオーバーフローした洗浄液の受け部、６は
開閉自在な上部開口、７は上部開口６の密閉蓋、８はラ
バーヒータ、９は例えばアルコール等の供給口である。

【０００４】上記リフター１０は、スラスト軸受１１で
支持した出力ロッド１２の上端部に逆Ｌ字状の部材１３
を固設し、この部材１３の下端部にウエハボート２０を
略水平に固設して構成されている。上記ウエハボート２
０は、図１８(Ｂ)に示すように、複数の基板Ｗを起立姿
勢で前後に並列させて保持する複数の基板保持枠２１Ａ
〜２１Ｂを有し、これらの基板保持枠２１Ａ〜２１Ｂの
前後両端部は固定枠２６で固定されている。これらの基
板保持枠２１には、図１８(Ｃ)に示すように、複数の基
板Ｗを起立姿勢で前後に並列させて保持する多数のＹ字
状の基板保持溝２２が形成されている。なお、図１８
(Ｄ)に示すように、上記ウエハボート２０に代えてウエ
ハチャック４０で保持した複数の基板Ｗを洗浄液３中に
浸漬し、洗浄済みの基板Ｗを引き上げる場合もあるが、
このウエハチャック４０の基板保持枠２１にもＹ字状又
はＶ字状の基板保持溝が形成されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記従来例では、処理
液中からウエハボート２０やウエハチャック４０を引き
上げる際に、基板保持溝２２内の処理液が抜け難いとい
う問題がある。つまり基板保持溝２２内に基板Ｗを収容
した状態では、基板保持溝２２と基板Ｗとの隙間が狭く
なり、毛細管現象により当該隙間に処理液が残留するも
のと考えられる。このため、基板の浸漬処理工程におい
ては処理液の持ち出しに伴うクロスコンタミネーション
の問題が生ずる。また、引上式乾燥工程においては、基
板保持溝２２内に処理液が残留するために基板を迅速に
乾燥をすることができない。本発明は基板保持溝内に処
理液が残留する不都合を大幅に改善して、基板の浸漬処
理工程におけるクロスコンタミネーションの問題を解消
することを主要な技術課題とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は以下のように構成される。請求項１の発明
は、複数の基板を起立姿勢で前後に並列させて保持する
複数の基板保持枠を有し、起立姿勢で保持した複数の基
板を処理液中から相対的に引き上げる基板処理装置の基
板保持具において、上記基板保持枠の各基板保持溝の底
部に基板の厚さより大きな直径を有する液抜き孔を貫通
形成したことを特徴とするものである。

【０００７】請求項２の発明は、複数の基板を起立姿勢
で前後に並列させて保持する複数の基板保持枠を有し、
起立姿勢で保持した複数の基板を処理液中から相対的に
引き上げる基板処理装置の基板保持具において、上記基
板保持枠の各基板保持溝の少なくとも左右いずれかの側
より液抜き段落凹部を凹入形成したことを特徴とするも
のである。

【０００８】請求項３の発明は、複数の基板を起立姿勢
で前後に並列させて保持する複数の基板保持枠を有し、
起立姿勢で保持した複数の基板を処理液中から相対的に
引き上げる基板処理装置の基板保持具において、上記基
板保持枠の各基板保持溝の溝幅を液抜き可能に大きく形
成するとともに、その溝部の前後の対向面に基板を保持
する突起を形成したことを特徴とするものである。

【０００９】請求項４の発明は、複数の基板を起立姿勢
で前後に並列させて保持する複数の基板保持枠を有し、
起立姿勢で保持した複数の基板を処理液中から相対的に
引き上げる基板処理装置の基板保持具において、上記複
数の基板保持枠は、それぞれ上部に基板を保持する基板
保持溝が形成された薄板材を間隔を空けて起立状態で固
定部材に固定して構成した、ことを特徴とするものであ
る。

【００１０】請求項５の発明は、請求項４に記載した基
板処理装置の基板保持具において、各基板保持枠は、基
板の一方の面と接触する基板保持溝が設けられた第１薄
板材と、前記基板の他方の面と接触する基板保持溝が設
けられた第２薄板材とを有するものである。

【００１１】請求項６の発明は、請求項５に記載した基
板処理装置の基板保持具において、各基板保持枠は、相
互に対向して設けられ、基板の厚み方向に相対移動可能
な一組の第１薄板材と第２薄板材とを有するものであ
る。

【００１２】請求項７の発明は、請求項４乃至請求項５
のいずれかに記載した基板処理装置の基板保持具におい
て、各基板保持枠は、２枚の薄板材と、当該２枚の薄板
材を対向させて固定する薄板固定部材とを備え、各薄板
材は、その厚み方向に前記薄板固定部材上の処理液を排
出する排液孔を貫通形成したものである。

【００１３】

【作用】請求項１の発明では、基板保持枠の各基板保持
溝の底部に基板の厚さより大きな直径を有する液抜き孔
を貫通形成したことから、起立姿勢で保持した複数の基
板を処理液中から相対的に引き上げる際に、処理液が自
重により引きつられて基板保持溝から液抜き孔内へと流
下し、基板保持溝内に残留する処理液はごく僅かにな
る。

【００１４】請求項２の発明では、基板保持枠の各基板
保持溝の少なくとも左右いずれかの側より液抜き段落凹
部を凹入形成したことから、各基板保持溝の長さが十分
に短くなり、基板と基板保持溝との接触面積は小さくな
る。従って起立姿勢で保持した複数の基板を処理液中か
ら相対的に引き上げる際に、処理液は基板保持溝から流
出して液抜き段落凹部へ流下し、基板保持溝内に残留す
る処理液はごく僅かになる。

【００１５】請求項３の発明では、基板保持枠の各基板
保持溝の溝幅を液抜き可能に大きく形成するとともに、
その溝部の前後の対向面に基板を保持する突起を形成し
たことから、基板と突起との接触面積は極端に小さくな
り、基板は実質的に点接触状態で保持される。従って、
起立姿勢で保持した複数の基板を処理液中から相対的に
引き上げる際に、処理液は溝幅を液抜き可能に大きく形
成した基板保持溝より流出して、基板保持溝内に残留す
ることが殆ど無くなる。

【００１６】請求項４の発明では、複数の基板保持枠
は、それぞれ上部に基板を保持する基板保持溝が形成さ
れた薄板材を間隔を空けて起立状態で固定部材に固定し
て構成したことから、基板は間隔を空けて起立状態で固
定された複数の薄板材によって保持される。つまり、複
数の薄板材に形成された基板保持溝と各基板との接触面
積は小さく、実質的に線接触状態で基板を保持できる。
これにより起立姿勢で保持した複数の基板を処理液中か
ら相対的に引き上げる際に、処理液は薄板材の基板保持
溝から流出して当該基板保持溝内に残留することは殆ど
無くなる。

【００１７】請求項５の発明では、各基板保持枠が、基
板の一方の面と接触する基板保持溝が設けられた第１薄
板材と、前記基板の他方の面と接触する基板保持溝が設
けられた第２薄板材とを有することから、各基板は第１
薄板材と第２薄板材とによって形成される基板保持溝で
保持される。従って、前記と同様に基板と基板保持溝と
の接触面積は小さく、起立姿勢で保持した複数の基板を
処理液中から相対的に引き上げる際に、処理液は基板保
持溝から流出して基板保持溝内に残留することが殆ど無
くなる。

【００１８】請求項６の発明では、各基板保持枠が、相
互に対向して設けられ、基板の厚み方向に相対移動可能
な一組の第１薄板材と第２薄板材とを有することから、
第１薄板材と第２薄板材とを相対移動させることによ
り、基板を保持する基板保持溝のギャップを調節するこ
とができ、また、そのギャップを調節することにより、
基板保持溝の側面視の形状を適宜変更することができ
る。

【００１９】請求項７の発明では、各基板保持枠が、２
枚の薄板材と当該２枚の薄板材を対向させて固定する薄
板固定部材とを備え、各薄板材には、その厚み方向に排
液孔が貫通形成されていることから、起立姿勢で保持し
た複数の基板を処理液中から相対的に引き上げる際に、
処理液は上記排液孔から流出して薄板固定部材上に残留
することが殆ど無くなる。

【００２０】

【実施例】以下本発明の実施例を図面に基づいてさらに
詳しく説明する。図１は請求項１の発明に係る基板保持
枠を備えるウエハボートを示し、同図(Ａ)はそのウエハ
ボートの縦断正面図、同図(Ｂ)はそのウエハボートの平
面図、同図(Ｃ)は同図(Ａ)中の要部Ａの拡大側面図、同
図(Ｄ)は当該要部Ａを拡大して示す斜視図である。

【００２１】この実施例では、基板保持具２０がウエハ
ボートとして構成されており、例えば前記基板洗浄・乾
燥装置にあってはリフターでチャック可能に構成され、
また、他の基板処理装置にあっては処理槽内に設置され
るが、いずれも起立姿勢で保持した複数の基板Ｗを処理
液中から相対的に引き上げる際に、基板保持溝からの処
理液の流出に優れる。

【００２２】上記ウエハボート２０は、図１(Ａ)(Ｂ)に
示すように、複数の基板Ｗを起立姿勢で前後に並列させ
て保持する３個の基板保持枠２１Ａ〜２１Ｂを有し、こ
れらの基板保持枠２１Ａ〜２１Ｂの前後両端部は固定枠
２６で固定されている。上記固定枠２６の前後の端面に
は、それぞれ一対のリフター用チャックピン２７が突設
され、各固定枠２６の下端面には、当該ウエハボート２
０を水平設置するための調節可能な４個の脚２８が立設
されている。そして上記基板保持枠２１Ａ〜２１Ｂに
は、複数の基板Ｗを起立姿勢で前後に並列させて保持す
る多数の基板保持溝が形成されている。

【００２３】先ず、請求項１の発明の実施例に係る基板
保持枠の構造について説明する。上記基板保持枠２１Ａ
〜２１Ｂのうち、中央部の基板保持枠２１Ａには、図１
(Ｃ)(Ｄ)に示すように、Ｙ字状の基板保持溝２２のＶ字
溝部２２ａと垂直溝部２２ｂと溝底面２２ｃとにわたり
垂直溝部２２ｂの溝幅より大きな液抜き孔２３ａが貫通
形成されている。この液抜き孔２３ａを垂直溝部２２ｂ
の溝幅より大きくしたのは、当該垂直溝部２２ｂの中央
を欠落させて基板Ｗの接触面積を実質的に小さくすると
ともに、液滴の流下を容易にするためである。上記垂直
溝部２２ｂの下側には、溝底面２２ｃと平行をなす別の
液抜き孔２３ｂが貫通形成されており、上記液抜き孔２
３ａの下端を上記別の液抜き孔２３ｂに連通してある。
なお、溝底面２２ｃ及び液抜き孔２３ｂは、処理液の流
下を促進するように少し傾斜させてある。

【００２４】この実施例では、基板保持枠２１Ａの各基
板保持溝２２の底部に液抜き孔２３ａ・２３ｂを貫通形
成したことから、起立姿勢で保持した複数の基板Ｗを処
理液中から相対的に引き上げる際に、液滴が自重により
引きづられて基板保持溝２２の垂直溝部２２ｂから液抜
き孔２３ａ・２３ｂ内へと流下するので、当該垂直溝部
２２ｂ内に残留する処理液はごく僅かになる。従って、
浸漬型基板処理装置においては、処理液の持ち出しによ
るクロスコンタミネーションが大幅に改善される。ま
た、前記基板洗浄・乾燥装置（図１８）における引上式
乾燥工程においては、基板の乾燥を一層促進することが
できる。なお、これらの効果は後述する実施例において
も共通する効果である。

【００２５】上記実施例では中央部の基板保持枠２１Ａ
の基板保持溝２２をＹ字状に形成したことから、基板と
溝との接触面積を減少させつつ、基板の倒れを確実に防
止することができるという利点がある。ただし、中央部
の基板保持枠２１Ａの基板保持溝２２をＶ字状に形成す
る場合を排除するものではない。この場合でも複数の基
板Ｗを起立姿勢で前後に並列させて保持することができ
るからである。また、上記実施例では従来の基板保持枠
２１に液抜き孔２３ａ・２３ｂを追加加工するだけでよ
く改造が容易である。なお、上記液抜き孔２３ａは、図
１(Ｄ)中の２点鎖線で示すように、基板保持枠２１Ａの
下面に達するように貫通させてもよい。さらに、上記液
抜き孔２３ａ・２３ｂは少なくとも基板Ｗの厚さより大
きな直径を有するものであれば足りる。毛細管現象を回
避して液滴の流下を促進できるからである。

【００２６】図２は中央部の基板保持枠２１Ａについて
の他の実施例であり、請求項２の発明に係る基板保持枠
の第１の実施例を示す。即ち、同図(Ａ)はその基板保持
枠２１Ａの縦断正面図、同図(Ｂ)はその基板保持枠２１
Ａの平面図、同図(Ｃ)はその基板保持枠２１Ａの要部の
拡大側面図、同図(Ｄ)はその基板保持枠２１Ａの要部の
拡大斜視図である。この基板保持枠２１Ａは、前記Ｙ字
状の各基板保持溝２２の左右両側より、そのＶ字溝部２
２ａの溝幅と同程度の円弧幅の液抜き段落凹部２４を凹
入形成したものである。

【００２７】上記液抜き段落凹部２４は、上記基板保持
溝２２のＶ字溝部２２ａから溝底面２２ｃにかけて凹入
形成され、その底面２４ｂは基板保持溝２２の溝底面２
２ｃよりも段落状に低く、かつ、左右両側へ下り傾斜さ
せて形成されている。この液抜き段落凹部２４を形成す
ることにより、上記基板保持溝２２の垂直溝部２２ｂの
長さを短くして、基板Ｗと垂直溝部２２ｂとの接触面積
を小さくすることができるという利点がある。これによ
り、起立姿勢で保持した複数の基板Ｗを処理液中から相
対的に引き上げる際に、処理液は垂直溝部２２ｂから流
出して液抜き段落凹部２４へ流下するので、垂直溝部２
２ｂ内に残留する処理液はごく僅かになる。

【００２８】図３は図１(Ａ)中の左右一対の基板保持枠
２１Ｂについての実施例であり、請求項２の発明に係る
基板保持枠の第２の実施例を示す。即ち、同図(Ａ)は図
１(Ａ)中の基板保持枠２１Ｂの要部Ｂの縦断正面図、同
図(Ｂ)はその基板保持枠２１Ｂの平面図、同図(Ｃ)はそ
の要部Ｂの拡大側面図、同図(Ｄ)はその要部Ｂの拡大斜
視図である。この基板保持枠２１Ｂは、図２と同様に当
該基板保持枠２１ＢのＹ字状の各基板保持溝２２の左右
両側より、液抜き段落凹部２４を凹入形成したものであ
る。この場合も垂直溝部２２ｂ内に残留する処理液はご
く僅かになる。

【００２９】図４は左右一対の基板保持枠２１Ｂについ
ての別の実施例であり、請求項２の発明に係る基板保持
枠の第３の実施例を示す。即ち、同図(Ａ)はその基板保
持枠２１Ｂの要部の縦断正面図、同図(Ｂ)はその基板保
持枠２１Ｂの平面図、同図(Ｃ)はその要部の拡大側面
図、同図(Ｄ)はその要部の拡大斜視図である。この基板
保持枠は、上記一対の基板保持枠２１ＢのＹ字状の各基
板保持溝２２の対向する内側（片側）より前記同様の液
抜き段落凹部２４を凹入形成したものである。なお、上
記基板保持溝２２は対向する内側へ向けて傾斜させてあ
る。この場合も垂直溝部２２ｂ内に残留する処理液はご
く僅かになる。

【００３０】図５は中央部の基板保持枠２１Ａ及び左右
一対の基板保持枠２１Ｂについてのさらに別の実施例で
あり、請求項３の発明に係る基板保持枠の実施例を示
す。即ち、同図（Ａ）はその基板保持枠の要部の拡大側
面図、同図（Ｂ）はその基板保持枠の要部の拡大斜視図
である。この基板保持枠は、上記Ｙ字状の基板保持溝２
２の垂直溝部２２ｂの溝幅を液抜き可能に大きく形成す
るとともに、その溝部の前後の対向面に基板Ｗを保持す
る一対の突起２５を形成したものである。

【００３１】上記一対の突起２５は、基板保持溝２２の
垂直溝部２２ｂに基板Ｗを収納する際の障害とならない
ように、Ｖ字状溝部２２ａの傾斜面に添わせて設けるこ
とが望ましい。また、基板保持溝２２の溝底面２２ｃは
上向きに山形をなすように形成する。上記構成により、
基板Ｗと突起２５との接触面積は極端に小さくなり、基
板Ｗは溝底面２２ｃの山頂部で実質的に点接触状態で支
持され、この基板Ｗを処理液中から相対的に引き上げる
際に、処理液は溝幅を大きく形成した基板保持溝より流
出して、基板保持溝２２内に残留することはない。

【００３２】図６は請求項４の発明に係るウエハボート
の第１の実施例を示す縦断正面図、図７はその斜視図で
ある。このウエハボート２０は、複数の基板Ｗを起立姿
勢で前後に並列させて保持する３組の基板保持枠２１Ａ
〜２１Ｂを有し、これらの基板保持枠２１Ａ〜２１Ｂの
前後の両端部は固定梁２６ｂに固定されている。そして
図６に示すように、各組の基板保持枠２１Ａ〜２１Ｂ
は、それぞれ２枚の薄板材３２で構成され、各薄板材３
２相互間には処理液が流下可能なスペースＳが設けてあ
る。

【００３３】図７に示すように、中央部の基板保持枠２
１Ａを構成する各薄板材３２ａにはＹ字状の基板保持溝
２２が形成され、左右一対の基板保持枠２１Ｂを構成す
る各薄板材３２ｂにはＶ字状の基板保持溝２２ｄが形成
されている。上記構成により各薄板材３２の幅で基板Ｗ
が保持され、基板Ｗと各基板保持溝２２・２２ｄとの接
触面積は小さくなる。また、起立姿勢で保持した複数の
基板Ｗを処理液中から相対的に引き上げる際に、処理液
は上記スペースＳから流下して基板保持溝２２・２２ｄ
内に残留することはない。

【００３４】図８は請求項４の発明に係るウエハボート
の第２の実施例を示す斜視図である。このウエハボート
２０は、図８に示すように、上記図６と同様のスペース
Ｓを有し、３組の基板保持枠２１Ａ〜２１Ｂはそれぞれ
２枚の薄板材３２で構成されている。各基板保持枠２１
Ａ〜２１Ｂを構成する各薄板材３２には、その上端縁に
沿って基板Ｗの配列ピッチの２倍のピッチで凸部３３と
凹部３４とが交互に形成されている。

【００３５】ただし、中央部の１組の基板保持枠２１Ａ
を構成する各薄板材３２ａと、左右一対の基板保持枠２
１Ｂを構成する各薄板材３２ｂとでは凹部３４の深さが
少し異なる。そして各組みの薄板材３２・３２の凸部３
３と凹部３４とを組み合わせることにより、中央部の１
組の基板保持枠２１Ａでは、側面視でＹ字状の基板保持
溝２２が形成され、左右一対の基板保持枠２１Ｂでは側
面視でＶ字状の基板保持溝２２ｄが形成される。

【００３６】上記実施例では基板配列の２倍のピッチで
凸部３３と凹部３４とが交互に形成さることから、図７
のように単にＹ字状の基板保持溝２２やＶ字状の基板保
持溝２２ｄを形成する場合に比較して簡単に製造でき、
また、各組みの薄板材３２・３２の凸部３３と凹部３４
とを組み合わせるだけでＹ字状の基板保持溝２２やＶ字
状の基板保持溝２２ｄを簡単に形成することができると
いう利点がある。この実施例においても基板Ｗと各基板
保持溝２２・２２ｄとの接触面積は小さくなり、処理液
が基板保持溝２２・２２ｄ内に残留することはない。

【００３７】図９は請求項４の発明に係るウエハボート
の第３の実施例を示す斜視図である。この実施例では中
央部の基板保持枠２１Ａのみが、２枚の薄板材３２ａ・
３２ａを組み合わせて構成されており、図８と同様のス
ペースＳと側面視でＹ字状の基板保持溝２２とを有して
いる。そして左右一対の基板保持枠２１Ｂは、図８と同
様の１枚の薄板材３２ｂで構成されているが、２枚の薄
板材３２ｂで基板Ｗを支持するために各薄板材３２ｂの
凸部３３と凹部３４とを互い違いに配置している。この
実施例においてもウエハボートを簡単に製造でき、処理
液が基板保持溝２２内に残留することはない。

【００３８】図１０は請求項４の発明に係るウエハボー
トの第４の実施例を示す斜視図である。この実施例では
中央部の基板保持枠２１Ａ及び左右一対の基板保持枠２
１Ｂがそれぞれ図８中の薄板材３２ａと同一形状のもの
で構成されている。ただし、左右一対の基板保持枠２１
Ｂの凹部３４に対して中央部の基板保持枠２１Ａの凸部
３３が対応するように配置されており、全体として側面
視ではＹ字状の基板保持溝を形成する。従って、この実
施例においても複数の基板Ｗを起立姿勢で前後に並列さ
せて保持することが可能である。また、ウエハボートを
簡単に製造でき、処理液が基板保持枠２１Ａ・２１Ｂを
組み合わせることにより形成される基板保持溝内に残留
することはない。

【００３９】図１１は請求項４の発明に係る基板保持枠
を、例えば図１８（Ａ）中のリフター１０に適用した第
５の実施例を示し、同図（Ａ）は当該リフター１０を部
分的に破断して示した側面図、同図（Ｂ）は図１１
（Ａ）中のＢ−Ｂ線矢視正面図、同図（Ｃ）は図１１
（Ｂ）中の中央部の基板保持枠２１Ａの先端部分の拡大
平面図、同図（Ｄ）は当該基板保持枠２１Ａの基板保持
部Ｄの拡大側面図、同図（Ｅ）は図１１（Ｂ）中の左右
の基板保持枠２１Ｂの基板保持部Ｅの拡大側面図であ
る。

【００４０】このリフター１０は、図１１(Ａ)(Ｂ)に示
すように、リフト部材１３の下部前面中央部に基板保持
枠２１Ａを、その左右に一対の基板保持枠２１Ｂ・２１
Ｂを並設固定して成り、これら３組の基板保持枠２１Ａ
・２１Ｂ・２１Ｂにより複数の基板Ｗを起立姿勢で前後
に並列させて保持するように構成されている。上記リフ
ト部材１３は、石英ガラスから成り、その表面は処理液
に対して耐食性を有する樹脂でコーティングされてい
る。また、基板保持枠２１Ａ〜２１Ｂの先端部は固定枠
２６で固定されている。以下、各基板保持枠２１Ａ・２
１Ｂについて説明する。

【００４１】先ず、中央部の基板保持枠２１Ａについて
説明する。この基板保持枠２１Ａは、上記リフト部材１
３の下部前面中央部にその一端が固設された薄板固定部
材３２Ａと、この薄板固定部材３２Ａに固定され、複数
の基板Ｗの下縁中央部を支える２枚の薄板材３２ａ・３
２ｂとから成る。上記薄板固定部材３２Ａは、後述する
薄板固定部材３２Ｂとともに、その先端部を固定枠２６
により一体に固定して剛性をもたせてある。また、上記
薄板固定部材３２Ａには、図１１(Ｂ)(Ｃ)に示すよう
に、前後方向に走るスリット状の液抜き孔２３が縦向き
に貫通形成され、この薄板固定部材３２Ａの上面の液抜
き孔２３の周囲には傾斜部２３ｃが形成されている。処
理液の流下を促進するためである。

【００４２】上記薄板材３２ａ・３２ｂは、フッ素樹
脂、ＰＣＴＦＥ（ポリクロロトリフルオロエチレン）、
ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等の樹脂から
成り、上記各薄板材３２ａ・３２ｂには、基板Ｗの配列
ピッチと略等しい基板保持溝２２が形成されている。ま
た、図１１(Ａ)(Ｃ)に示すように、各薄板材３２ａ・３
２ｂの厚手方向には、排液孔２３ｅと当該薄板材３２ａ
・２３ｂを薄板固定部材３２Ａに組付けるための長孔３
８が貫通形成され、薄板固定部材３２Ａの左右両側面に
ボルト３９ａ及びナット３９ｂで垂直に固定されてい
る。つまり、組み付け時に左右一組の薄板材３２ａ・３
２ｂを長手（水平）方向に相対移動させて左右一組の基
板保持溝２２の相対位置を調節するように構成されてい
る。

【００４３】上記各薄板材３２ａ・３２ｂの上部には、
図１１(Ａ)(Ｄ)に示すように、傾斜凸部３３と凹部３４
とが交互に形成され、傾斜凸部３３と凹部３４には、処
理液の流下を促進するために、それぞれ面取り加工面３
３ｃ・３４ｃが形成されている。このように形成された
左右一組の薄板材３２ａ・３２ｂは、図１１(Ｄ)に示す
ように、左右の傾斜凸部３３・３３の各傾斜稜線が側面
視で相互に交差してＶ字状の基板保持溝２２を形成する
ように配設され、各基板Ｗは上記Ｖ字状の基板保持溝の
傾斜稜線と点接触の状態で支持されている。なお、垂直
溝部２２ｂの高さを高くすることにより、基板Ｗと傾斜
凸部３３との間に留まろうとする処理液が流下し易くな
るので、基板保持枠２１Ａに残留する処理液が少なくな
る。従って、基板の表面処理後の乾燥時間を短縮するこ
とができる。

【００４４】次に左右の基板保持枠２１Ｂの一方につい
て説明する。上記各基板保持枠２１Ｂは、上記リフト部
材１３の下部前面の左右にその一端が固設された薄板固
定部材３２Ｂと、この薄板固定部材３２Ｂに固定され、
複数の基板Ｗの下縁左右部を保持するそれぞれ２枚の薄
板材３２ｃ・３２ｄとから構成されている。上記薄板固
定部材３２Ｂ及び薄板材３２ｃ・３２ｄは、中央部の薄
板固定部材３２Ａ及び薄板材３２ａ・３２ｂと同様に構
成されており、薄板固定部材３２Ｂの左右両側面に組み
付けた一組の薄板材３２ｃ・３２ｄを長手（水平）方向
に相対移動させて、当該薄板材３２ｃ・３２ｄの基板保
持溝２２の相互の位置を調節して、Ｙ字状の基板保持溝
２２の溝幅あるいはギャップを適宜調節するように構成
されている。

【００４５】即ち、上記一組の薄板材３２ｃ・３２ｄ
は、図１１(Ａ)(Ｅ)に示すように、傾斜凸部３３の各傾
斜稜線が相互に対向しており、側面視ではＹ字状の基板
保持溝２２を構成するように配設されている。そして各
基板ＷはＹ字状の基板保持溝２２の垂直溝部２２ｂとそ
の下縁（凹部３４）と接触する状態で保持される。従っ
て、この実施例においても上記３組の基板保持枠２１Ａ
・２１Ｂ・２１Ｂにより複数の基板Ｗを起立姿勢で前後
に並列させて保持することが可能である。

【００４６】上記実施例では、各薄板固定部材３２Ａ・
３２Ｂにスリット状の液抜き孔２３が縦向きに貫通形成
され、この薄板固定部材３２Ａ・３２Ｂの上面で、液抜
き孔２３の周囲に傾斜部２３ｃが設けられ、また、各薄
板材３２ａ〜３２ｄの厚手方向には排液孔２３ｅが設け
られているので、基板Ｗを処理液中から引き上げたとき
処理液の流下が促進される。これにより、基板保持枠２
１Ａ〜２１Ｂに付着残留する処理液が少なくなり、基板
の表面処理後の乾燥時間を短縮することができる。

【００４７】また、上記実施例では、各薄板材３２ａ〜
３２ｄに長孔３８が貫通形成され、組み付け時に一組の
薄板材３２ａ・３２ｂ又は３２ｃ・３２ｄを長手方向に
相対移動して左右の基板保持溝２２の相対位置を調節す
るように構成したので、基板保持溝の側面視の形状をＹ
字状にしたり、Ｖ字状にすることができる。従って、Ｙ
字状やＶ字状専用の薄板材を個別に製作する必要がな
く、薄板材を共通化してコスト低減をはかることができ
る。

【００４８】図１２は上記基板保持枠の変形例１を示す
図１１（Ｃ）相当図であり、この変形例１は、各薄板材
３２ｆが排液スペース２３ｄを隔てて薄板固定部材３２
Ｆに固定され、処理液の流下を促進するように構成され
ている。その他の点は前記図１１(Ａ)(Ｂ)の実施例と同
様に構成されている。なお、このような構成は図１１
（Ｃ）において、薄板材３２ａ・３２ｂと薄板固定部材
３２Ａとをボルト３９ａ及びナット３９ｂで締結固定す
る際に、当該薄板材３２ａ・３２ｂと薄板固定部材３２
Ａとの間にそれぞれワッシャを介在させることにより実
現できる。

【００４９】また、図１３は上記基板保持枠のさらに別
の変形例２を示す斜視図であり、この変形例２は、各薄
板材３２ｇと薄板固定部材３２Ｇとが一体に形成され、
薄板固定部材３２Ｇに形成されたスリット状の液抜き孔
２３を介して処理液の流下を促進するように構成されて
いる。これらの変形例１及び変形例２においても、基板
Ｗを処理液中から引き上げたとき、基板保持枠２１に付
着残留する処理液が少なくなり、基板の表面処理後の乾
燥時間を短縮することができる。

【００５０】図１４は前記薄板材の変形例１を示し、同
図（Ａ）はその要部の平面図、同図（Ｂ）はその要部の
斜視図である。この変形例１では薄板材３２ｈの基板保
持溝２２の基板Ｗと接触する縦溝部分２２ｂに面取り加
工が施されている。また、図１５は、図１１の薄板材の
変形例２を示し、同図（Ａ）はその要部の平面図、同図
（Ｂ）はその要部の側面図である。この変形例２では薄
板材３２ｊの基板保持溝２２の基板Ｗと接触する縦溝部
分２２ｂに、図５と同様の突起２５が形成されている。
その他の点は前記図１１の実施例と同様に構成されてい
る。これらの変形例１及び変形例２においては、縦溝部
分２２ｂで基板面と薄板材との接触面積が小さくなり、
基板Ｗが処理液にさらされない部分の面積が極端に小さ
くなる。これにより、基板の表面処理品質を向上させる
ことができる。

【００５１】図１６は別の基板保持枠を備えるウエハボ
ートの実施例を示す縦断正面図である。上記ウエハボー
ト２０は、複数の基板Ｗを起立姿勢で前後に並列させて
保持する３個の基板保持枠２１Ａ〜２１Ｂを有し、これ
らの基板保持枠２１Ａ〜２１Ｂの前後両端部は固定枠２
６で固定されている。この実施例では３個の基板保持枠
２１Ａ〜２１Ｂをそれぞれ管状部材３５で構成し、その
外曲面にＹ字状の基板保持溝２２を形成し、この基板保
持溝２２を当該管状部材３５の管内に貫通するととも
に、当該管状部材３５の下面に管内に貫通する液抜け孔
３６があけてある。

【００５２】この実施例においても基板Ｗと基板保持溝
２２との接触面積は小さく、実質的に線接触状態で保持
され、起立姿勢で保持した複数の基板を処理液中から相
対的に引き上げる際に、処理液が基板保持溝２２内に残
留することはない。なお、上記管状部材３５に代えて、
例えば管状部材を半割り状に形成した半割り状部材（図
示せず）を内曲面を下側に向けて固定することにより、
上記基板保持枠２１Ａ〜２１Ｂを構成することも可能で
ある。この場合には、その外曲面に形成した各基板保持
溝２２が半割り状部材の内曲面に貫通することから処理
液の抜け孔３６をあける必要はない。

【００５３】図１７は上記管状部材３５で構成された基
板保持枠を備えるウエハチャックの実施例を示す縦断正
面図である。上記ウエハチャック４０は、揺動可能に設
けられた左右一対の揺動アーム４１と、各揺動アーム４
１に２個づつ固設された基板保持枠２１とを具備して成
り、複数の基板Ｗを起立姿勢で前後に並列させて挟持す
るとともに、起立姿勢で挟持した複数の基板を処理液に
浸漬し、及び処理液中から引き上げ可能に構成されてい
る。

【００５４】この実施例では各基板保持枠２１をそれぞ
れ管状部材３５で構成し、挟持側外曲面にＶ字状の基板
保持溝２２ｃを形成し、この基板保持溝２２ｃを当該管
状部材３５の管内に貫通してある。この実施例において
も基板Ｗと基板保持溝２２ｃとの接触面積は小さく、実
質的に線接触状態で保持され、起立姿勢で保持した複数
の基板を処理液中から相対的に引き上げる際に、処理液
が基板保持溝２２内に残留することはない。

【００５５】なお、ウエハチャック４０は上記実施例に
限るものではなく、また、基板保持枠２１として上記管
状部材３５に代えて管状部材を半割り状に形成した半割
り状部材（図示せず）を用いることも可能である。さら
に、基板保持枠２１として図１〜図１１に開示した基板
保持枠２１Ａ〜２１Ｂを用いることも可能である。ま
た、上記実施例では、いずれも基板（半導体ウエハ）Ｗ
のオリエンテーションフラットを下方又は上方に向けて
を保持するものについて例示したが、これに限らず基板
の種類等によって保持する位置や基板保持枠の個数につ
いてもを適宜変更を加えて本発明を実施することができ
る。

【００５６】

【発明の効果】本発明は以下の効果を奏する。 請求項１〜請求項７の発明は、前記のように構成さ
れ、基板保持溝内に残留する処理液はごく僅かになるこ
とから、浸漬型基板処理工程において、処理液の持ち出
しによるクロスコンタミネーションが大幅に改善され、
しかも、後続の乾燥工程において乾燥時間の短縮が可能
となる。 請求項１の発明では、基板保持枠の各基板保持溝の
底部に基板の厚さより大きな直径を有する液抜き孔を貫
通形成したことから、従来の基板保持枠に液抜き孔を追
加加工するだけでよく、改造が容易である。

【００５７】 請求項２の発明では、基板保持枠の各
基板保持溝の少なくとも左右いずれかの側より液抜き段
落凹部を凹入形成したことから、各基板保持溝の長さを
十分に短くして、基板と基板保持溝との接触面積を小さ
くすることができるという利点がある。 請求項３の発明では、基板保持枠の各基板保持溝の
溝幅を液抜き可能に大きく形成するとともに、その溝部
の前後の対向面に基板を保持する突起を形成したことか
ら、基板と突起との接触面積は極端に小さくなり、基板
を実質的に点接触状態で保持できるという利点がある。

【００５８】 請求項４の発明では、複数の基板保持
枠が、それぞれ上部に基板を保持する基板保持溝が形成
された薄板材を間隔を空けて起立状態で固定部材に固定
して構成したことから、基板と基板保持溝との接触面積
を小さくして、基板を実質的に線接触状態で保持できる
という利点がある。 請求項５の発明では、各基板保持枠が、基板の一方
の面と接触する基板保持溝が設けられた第１薄板材と、
前記基板の他方の面と接触する基板保持溝が設けられた
第２薄板材とを有することから、各基板は第１薄板材と
第２薄板材とによって形成される基板保持溝で保持さ
れ、上記と同様に基板を実質的に線接触状態で保持でき
るという利点がある。

【００５９】 請求項６の発明では、各基板保持具
が、相互に対向して設けられ、基板の厚み方向に相対移
動可能な一組の第１薄板材と第２薄板材とを有すること
から、基板を保持する基板保持溝のギャップを調節する
ことができ、また、そのギャップを調節することによ
り、基板保持溝の側面視の形状を適宜変更することがで
きるので、専用の薄板材を製作する必要がなく、薄板材
を共通化して製造コストを低減できる。 請求項７の発明では、各基板保持具が、２枚の薄板
材と当該２枚の薄板材を対向させて固定する薄板固定部
材とを備え、各薄板材には、その厚み方向に排液孔が貫
通形成されていることから、基板を処理液中から引き上
げたとき処理液の流下が促進され、基板保持枠に付着残
留する処理液が少なくなり、基板の表面処理後の乾燥時
間を短縮することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】請求項１の発明に係る基板保持枠を備えるウエ
ハボートを示し、同図(Ａ)はそのウエハボートの縦断正
面図、同図(Ｂ)はそのウエハボートの平面図、同図(Ｃ)
は同図(Ａ)中の要部Ａの拡大側面図、同図(Ｄ)は当該要
部Ａの拡大して示す斜視図である。

【図２】請求項２の発明に係る基板保持枠の第１の実施
例を示し、同図(Ａ)はその基板保持枠の縦断正面図、同
図(Ｂ)はその基板保持枠の平面図、同図(Ｃ)はその基板
保持枠の要部の拡大側面図、同図(Ｄ)はその基板保持枠
の要部の拡大斜視図である。

【図３】請求項２の発明に係る基板保持枠の第２の実施
例を示す図２相当図である。

【図４】請求項２の発明に係る基板保持枠の第３の実施
例を示す図２相当図である。

【図５】請求項３の発明に係る基板保持枠の実施例を示
し、同図(Ａ)はその基板保持枠の要部の拡大側面図、同
図(Ｂ)はその基板保持枠の要部の拡大斜視図である。

【図６】請求項４の発明に係るウエハボートの第１の実
施例を示す縦断正面図である。

【図７】請求項４の発明に係るウエハボートの第１の実
施例を示す斜視図である。

【図８】請求項４の発明に係るウエハボートの第２の実
施例を示す斜視図である。

【図９】請求項４の発明に係るウエハボートの第３の実
施例を示す斜視図である。

【図１０】請求項４の発明に係るウエハボートの第４の
実施例を示す斜視図である。

【図１１】請求項４の発明に係る基板保持枠を、図１８
（Ａ）中のリフターに適用した第５の実施例を示し、同
図（Ａ）は当該リフターを部分的に破断して示した側面
図、同図（Ｂ）は図１（Ａ）中のＢ−Ｂ線矢視正面図、
同図（Ｃ）は図１（Ｂ）中の中央部の基板保持枠の先端
部分の拡大平面図、同図（Ｄ）は当該基板保持枠の基板
保持部の拡大側面図、同図（Ｅ）は図１（Ｂ）中の左右
の基板保持枠の基板保持部の拡大側面図である。

【図１２】図１１の基板保持枠の変形例１を示す図１１
（Ｂ）相当図である。

【図１３】図１１の基板保持枠のさらに別の変形例２を
示す斜視図である。

【図１４】図１１の薄板材の変形例１を示し、同図
（Ａ）はその要部の平面図、同図（Ｂ）はその要部の斜
視図である。

【図１５】図１１の薄板材の変形例２を示し、同図
（Ａ）はその要部の平面図、同図（Ｂ）はその要部の側
面図である。

【図１６】基板保持枠を備えるウエハボートの実施例を
示す縦断正面図である。

【図１７】基板保持枠を備えるウエハチャックの実施例
を示す縦断正面図である。

【図１８】従来例を示し、同図(Ａ)は基板の洗浄・乾燥
装置の縦断面図、同図(Ｂ)はウエハボートの縦断正面
図、同図(Ｃ)はその基板保持枠の要部の拡大側面図、同
図（Ｄ）はウエハチャックの縦断正面図である。

【符号の説明】 Ｗ…基板（ウエハ）、２０…基板保持具（ウエハボー
ト）、２１・２１Ａ・２１Ｂ…基板保持枠、２２・２２
ｂ・２２ｃ…基板保持溝、２３・２３ａ・２３ｂ…液抜
き孔、２３ｅ…排液孔、２４…液抜き段落凹部、２５…
突起、２６・２６ｂ…固定部材（固定枠）、３２Ａ・３
２Ｂ…薄板固定部材、３２ａ・３２ｃ…第１薄板材、３
２ｂ・３２ｄ…第２薄板材、４０…基板保持具(ウエハ
チャック)。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｂ６５Ｄ 85/86 (72)発明者 西澤 久雄 滋賀県野洲郡野洲町大字三上字口ノ川原 2426番１ 大日本スクリーン製造株式会社 野洲事業所内

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の基板を起立姿勢で前後に並列させ
   て保持する複数の基板保持枠を有し、起立姿勢で保持し
   た複数の基板を処理液中から相対的に引き上げる基板処
   理装置の基板保持具において、 上記基板保持枠の各基板保持溝の底部に基板の厚さより
   大きな直径を有する液抜き孔を貫通形成したことを特徴
   とする基板処理装置の基板保持具。
2. 【請求項２】 複数の基板を起立姿勢で前後に並列させ
   て保持する複数の基板保持枠を有し、起立姿勢で保持し
   た複数の基板を処理液中から相対的に引き上げる基板処
   理装置の基板保持具において、 上記基板保持枠の各基板保持溝の少なくとも左右いずれ
   かの側より液抜き段落凹部を凹入形成したことを特徴と
   する基板処理装置の基板保持具。
3. 【請求項３】 複数の基板を起立姿勢で前後に並列させ
   て保持する複数の基板保持枠を有し、起立姿勢で保持し
   た複数の基板を処理液中から相対的に引き上げる基板処
   理装置の基板保持具において、 上記基板保持枠の各基板保持溝の溝幅を液抜き可能に大
   きく形成するとともに、その溝部の前後の対向面に基板
   を保持する突起を形成したことを特徴とする基板処理装
   置の基板保持具。
4. 【請求項４】 複数の基板を起立姿勢で前後に並列させ
   て保持する複数の基板保持枠を有し、起立姿勢で保持し
   た複数の基板を処理液中から相対的に引き上げる基板処
   理装置の基板保持具において、 上記複数の基板保持枠は、それぞれ上部に基板を保持す
   る基板保持溝が形成された薄板材を間隔を空けて起立状
   態で固定部材に固定して構成した、ことを特徴とする基
   板処理装置の基板保持具。
5. 【請求項５】 各基板保持枠は、基板の一方の面と接触
   する基板保持溝が設けられた第１薄板材と、前記基板の
   他方の面と接触する基板保持溝が設けられた第２薄板材
   とを有する請求項４に記載した基板処理装置の基板保持
   具。
6. 【請求項６】 各基板保持枠は、相互に対向して設けら
   れ、基板の厚み方向に相対移動可能な一組の第１薄板材
   と第２薄板材とを有する請求項５に記載した基板処理装
   置の基板保持具。
7. 【請求項７】 各基板保持枠は、２枚の薄板材と、当該
   ２枚の薄板材を対向させて固定する薄板固定部材とを備
   え、各薄板材は、その厚み方向に前記薄板固定部材上の
   処理液を排出する排液孔を貫通形成した請求項４乃至請
   求項５のいずれかに記載した基板処理装置の基板保持
   具。