JPH0843492A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

Info

Publication number
JPH0843492A
JPH0843492A JP6177868A JP17786894A JPH0843492A JP H0843492 A JPH0843492 A JP H0843492A JP 6177868 A JP6177868 A JP 6177868A JP 17786894 A JP17786894 A JP 17786894A JP H0843492 A JPH0843492 A JP H0843492A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
input
signal
output
gate
logic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6177868A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2654352B2 (ja
Inventor
Shuji Kubota
修司 久保田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Original Assignee
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd filed Critical NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Priority to JP6177868A priority Critical patent/JP2654352B2/ja
Priority to KR1019950023742A priority patent/KR100190215B1/ko
Priority to US08/509,616 priority patent/US5633599A/en
Publication of JPH0843492A publication Critical patent/JPH0843492A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2654352B2 publication Critical patent/JP2654352B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/317Testing of digital circuits
    • G01R31/31712Input or output aspects
    • G01R31/31715Testing of input or output circuits; test of circuitry between the I/C pins and the functional core, e.g. testing of input or output driver, receiver, buffer
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/30Marginal testing, e.g. by varying supply voltage
    • G01R31/3004Current or voltage test
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/317Testing of digital circuits
    • G01R31/31712Input or output aspects

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】入力バッファのしきい値電圧の良否を電源電流
の増大の有無により判定する回路を有するLSIにおい
て、Hレベルしきい値電圧試験およびLレベルしきい値
電圧試験それぞれに明確な比較基準電流を与えることを
可能にする。又、入力バッファのしきい値電圧の良否を
外部への信号の論理状態によって判定する回路を有する
LSIにおいて、良否判定のための出力信号が1つで、
しかもその出力論理が、被試験入力端子数の如何に拘ら
ず一義的に決るようにする。 【構成】出力論理が入力バッファ107の出力信号11
4によって決る論理ゲート1Aの出力点と、出力論理が
外部からの条件設定信号61によって決まる論理ゲート
20の出力点とを、共通の信号線116に接続する。入
力バッファ107が誤動作すると、論理ゲート1Aが論
理ゲート20とは異る論理の信号を出力するので、信号
線116上で信号衝突が起り電源電流が大幅に増加す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、CMOSトランジスタ
構成のディジタル半導体集積回路に関し、特に、入力バ
ッファのしきい値電圧が所定の範囲内にあるか否かを試
験するための回路を備えた半導体集積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路(以下、LSIと記す)
は、通常、複数のディジタルデータ信号や制御信号を同
時に受け入れて内部の論理回路(以後、内部回路と記
す)で所定の信号処理を行うが、その場合、信号入力用
の各外部端子(入力端子)に入力された信号は内部回路
に直接入力される前に、入力バッファで電流増幅され十
分な駆動能力を与えられてから内部回路に与えられる。
従って、LSIに期待どおりの信号処理を行わせるため
に、各入力バッファには入力信号の論理を誤りなく内部
回路に伝達することが要求される。このような要求を満
たすための一つの要件として、入力バッファのしきい値
電圧が所定の範囲内にあることが非常に重要である。
【0003】従来、LSIにおける入力バッファのしき
い値電圧の試験では、入力端子(入力バッファの入力
点)に試験用の信号を与えてLSIの機能試験を行い、
LSIが正常に動作すること、すなわちLSIの出力用
外部端子(出力端子)に期待される出力信号が得られる
ことをもって入力バッファのしきい値電圧が規格値を満
足していると判定していた。この場合、複数の入力バッ
ファに与える入力信号の組合せによっては、試験したい
入力バッファに与えた信号が内部回路での信号処理に用
いられるのみにとどまって、その入力信号の変化が出力
端子からの信号の変化として外部には表れないことがあ
る。このようなとき、その入力バッファについての入力
しきい値電圧の試験は行われないことになる。従って、
その入力バッファのしきい値電圧を確実に試験するに
は、複数の入力端子に与える信号の組合せを多様に変え
て機能試験を繰り返さなければならない。近年、LSI
の高集積化、高機能化が著しく進行しているのに伴って
入力端子数が増加していることから、全ての入力バッフ
ァの入力しきい値電圧を試験するための機能試験パター
ンは複雑かつ長大なものとなってきており、機能試験パ
ターンの作成およびその試験実行のための工数増大が大
きな問題になってきている。
【0004】そこで、従来、入力しきい値電圧試験を効
率化するための様々な方法あるいは装置が、提案されて
きた。その一例の方法(以下、従来例1と記す)が、特
開平3ー214079号公報に開示されている。図12
(a)は、上記公報記載の入力しきい値電圧測定装置の
ブロック図であり、図12(b)は、その測定時におけ
る動作波形図である。図12(a)を参照して、この装
置では、スイープ電圧発生回路801が、図12(b)
の上段に示すアナログスイープ電圧波形sを発生する。
この電圧波形sは時間の経過に応じて順次、始めに所定
速度で単調に上昇しその後平坦になり更に所定速度で単
調に下降するという、2つのランプ電圧部分を持つ山型
の波形である。このスイープ電圧発生回路801は、R
OM802と、D/A変換回路803と、ROM2をア
クセスする制御回路804とから構成されている。
【0005】ROM802には、このアナログスイープ
電圧波形sを発生する変換前のディジタルデータの各時
刻に対応する値が、各アドレスに対応して順次記憶され
ている。
【0006】制御回路804は、クロック発生回路とプ
ログラムカウンタ等(いずれも、図示省略)で構成さ
れ、ROM802をアクセスするアドレスを発生し、そ
のアドレスによりROM805をアクセスする。又、ク
ロックに対応してアクセスアドレス値を順次インクリメ
ントすることで、各アドレスからクロックの周期を単位
とした時間で時間経過と共に順次アナロク変換前のディ
ジタルデータ値を読み出し、それをD/A変換回路80
3に加える。その結果として、アナログスイープ電圧波
形sがD/A変換回路803から出力される。又、制御
回路804は、スイープ停止信号を後述するピーク電流
検出回路808から受取ると、クロック発生回路からの
クロックによるアドレスカウンタのインクリメントを止
める。このことで、停止された位置のアドレスにおい
て、ROM802のアドレスがクロック対応にアクセス
され続け、その位置のディジタルデータがA/D変換回
路803に送出され続け、スイープ停止信号を受けた時
点でのアナログ電圧値がスイープ電圧発生回路801か
ら出力され続ける。
【0007】このようなスイープ電圧発生回路801の
出力信号は、スイッチ回路805を介して測定対象のI
C(DUT:Device Under Test)8
06の入力端子の1つINに入力される。スイッチ回路
805は切換えスイッチであって、ピーク電流検出回路
808からスイッチ切換信号を受けると、スイープ電圧
発生回路801の出力を電圧値測定回路807側に入力
させる切換えを行う。
【0008】ピーク電流検出回路808は比較回路から
なる電流レベル検出回路であって、電源回路809から
DUT806の電源端子VDDに流入する電流IDDが所
定の比較基準レベルITH(図12(b)参照)を越えた
時に検出信号を発生し、それをスイープ停止信号Dとし
てスイープ電圧発生回路801に送出する。又、スイッ
チ回路805に切換え信号として加え、更に測定制御回
路810にピーク検出信号として送出する。
【0009】測定制御回路810は、スイープ電圧発生
回路801に起動信号を送出し又、電圧値測定回路80
7から得られる測定電圧値の表示、処理等を行う、装置
全体の制御回路である。
【0010】次に、このような構成の従来例1の動作
を、図12(b)に従って説明する。先ず、測定制御回
路810が、起動信号をスイープ電圧発生回路801に
送出する。この起動信号に応じてスイープ電圧発生回路
801が、図12(b)のアナログスイープ電圧波形s
を時間の経過と共に発生して行き、それに従ってDUT
806の入力電圧Vinが順次直線的に上昇して行く。電
圧波形sがある電圧値のところでDUT806の入力バ
ッファの入力しきい値電圧を越えると、この入力信号を
受ける内部回路が動作する。このとき、内部回路の動作
に応じて、例えばCMOSICでは過渡的な電流が動作
電流として流れ、それが図12(b)のピークを持つ電
流IDDの特性グラフpとして現れる。
【0011】この電流値IDDをピーク電流検出回路80
8で監視し、電流値IDDが比較基準電流値ITHを越えた
時がDUT806内部の入力バッファ等を構成するイン
バータなどが反転した時に相当する。そして、このこと
は電圧波形sが入力しきい値電圧を越えたことを意味す
る。そこで、時刻t901 の時点で、ピーク電流検出回路
808がピーク電流検出信号を発生する。それを、スイ
ープ停止信号Dとして受けたスイープ電圧発生回路80
1はスイープを停止し、そのときの電圧値がスイッチ回
路805を介して電圧値測定回路807により測定され
る。これは、検出信号2を受けた測定制御回路810に
測定結果として取込まれる。
【0012】測定制御回路810はこの時点で、スイー
プ電圧発生回路801にクロック停止信号を解除する制
御信号を送出する。その結果、スイープ電圧は図12
(b)に示されるように、一定値になったあと下降し始
める。
【0013】スイープ電圧の下降過程で電圧波形sの値
がDUT806の入力しきい値電圧を下回ったとき、電
流IDDに再びピーク電流が流れる。これによって低レベ
ルの入力しきい値電圧VILを測定できる。尚、この従来
例1では、ピーク電流検出回路808の比較基準となる
電流レベルITHは外部から調整可能で、DUT806の
特性に応じて調整される。
【0014】次に、特開平4ー194677号公報に開
示された、従来の入力しきい値電圧試験方法の他の例
(以下、従来例2と記す)を、図13に基づいて説明す
る。図13(a)を参照して、BiーCMOSLSIの
入力回路1021には電源電圧VDDが電流計1023を
通して供給されており、入力端子1020に直流電源1
022より入力電圧Vinが印加されている。
【0015】ここで、入力電圧Vinが例えばロウ(L)
レベルの場合には、pnp型トランジスタ1006がオ
ン状態、pチャネル型MOS(pMOS)トランジスタ
1007がオン状態、nチャネル型MOS(nMOSト
ランジスタ)1008がオフ状態で、端子1024の出
力電圧はハイ(H)レベルである。この後、入力電圧V
inを図13(b)に示す如く上昇させると、pnp型ト
ランジスタ1006はオン状態からオフ状態に転じ、こ
のときpMOSトランジスタ1007が完全にオフする
以前にnMOSトランジスタ1008がオン状態とな
り、図13(c)に示す如く、電源端子VDDからグラ
ンド端子GNDに貫通電流が流れ、この後pMOSトラ
ンジスタ4007がオフ状態、nMOSトランジスタ1
008がオン状態となって、端子1024の出力電圧は
Lレベルとなる。
【0016】つまり、電流計1023で前述の貫通電流
を検出した時の入力電圧Vinがしきい値電圧Vthであ
る。このように、電圧Vinを変化させたときの入力回路
動作時の貫通電流を検出することで、入力しきい値電圧
を測定する。
【0017】次に、第3番目の従来例(以下、従来例3
と記す)を実開平2ー7580号公報に基づいて説明す
る。図14(a)は、複数の電子回路を組込んだDUT
の良否を入力しきい値電圧で判定する装置で、DUT1
210の各入力回路1212に入力電圧を印加するため
の入力電圧発生部1214と、入力電圧に基づいて各入
力回路1212の出力レベルが切換わる時に入力回路に
瞬間的に流れる貫通電流を検出するための貫通電流検出
部1215と、貫通電流に基づいて入力電圧のしきい値
電圧が規格値内であるか否かを判定するスレショルド電
圧判定部1222とを備えている。
【0018】図14(b)に示す如く、入力電圧発生部
1214が試験開始信号1213を受けて、入力電圧V
inをLレベルからHレベルへと上昇させて行く。この場
合、入力電圧VinがDUT1210内部の入力回路12
12の入力しきい値を越えると入力回路1212が動作
し、入力回路の出力Vout がLレベルからHレベルへ変
化する。このとき、貫通電流検出部1215が上記の貫
通電流を検出し、スレショルド電圧判定部1222に貫
通電流検出信号1211を送出する。スレショルド電圧
判定部1222はこの貫通電流検出信号1211を受
け、入力電圧のしきい値電圧が規格内であるか否かを判
定し、判定結果を出力する。これにより、入力しきい値
電圧試験が行われる。
【0019】これ迄挙げた従来例1,従来例2及び従来
例3はいずれも、入力端子つまり入力バッファの入力点
へ印加する電圧を上昇させまた下降させ、入力電圧が入
力バッファのしきい値電圧を越えて入力バッファを含む
回路が動作する時の電源電流増大(入力回路の貫通電流
の発生)を検出することで、入力回路のしきい値電圧を
測定、検査するという方法、装置である。これに対し、
LSIを本来の信号処理動作を行うモードとは異るモー
ド(一般に、テストモードと呼ばれる)に設定し、LS
I内に設けられた入力電圧試験用の回路を用いて入力バ
ッファのしきい値電圧の試験、測定を行う方法がある。
以下にその幾つかについて説明する。
【0020】従来のLSIの第4番目の例(以下、従来
例4と記す)として、特開平4ー359175号公報に
開示されたLSIの構成を、図15を用いて説明する。
図15(a)は、入力バッファの入力しきい値電圧を測
定しその結果を出力するための回路を備えたLSIの構
成を示すブロック図である。同図を参照して、入力端子
1408に入力された入力信号は、入力バッファ140
2に入力される。入力バッファ1402の出力信号14
05は内部回路1401に入力されて各種電子回路を作
動させると同時に、セレクタ1404に被選択信号の1
つとして入力される。
【0021】セレクタ1404には更に別の被選択信号
として、内部回路1401からの出力信号1406が入
力される。そして、内部回路1401で生成されたセレ
クタ選択信号1407により、セレクタ1404に入力
される被選択信号のいずれか一方が選択され出力され
て、出力バッファ1403に入力される。出力バッファ
1403は伝達された信号を、出力端子1409を介し
てLSIの外部へ出力する。入力しきい値テストを実行
する際、セレクタ選択信号1407はセレクタ1404
に入力される被選択信号1405を選択して出力バッフ
ァに送出する。通常の信号処理動作の際は、被選択信号
1406が選択され、内部回路1401からの情報が出
力バッファ1403に伝達される。
【0022】入力しきい値電圧テストを実行するには、
図15(b)の最上段に示す如く、入力端子1408に
Hレベル入力しきい値電圧の規格電圧VIHを入力する。
すると、入力信号は入力バッファ1402を動作させ、
その出力信号1405がセレクタ1404で選択されて
出力バッファ1403に伝達される。入力バッファ14
02の入力しきい値電圧が前述のHレベル規格電圧VIH
を満たしているときには、図15(b)の中段に示す如
く、入力信号と同相の出力信号が出力端子1409に現
れる。規格値を満たしていない場合、つまり入力バッフ
ァ1402が誤動作した場合は、図15(b)の最下段
に示す波形の如く、入力信号と逆相の出力信号が出力端
子1409に表れる。このように、入・出力信号が同相
であるか逆相であるかによって、入力しきい値電圧が規
格を満たしているか否かを判定できる。
【0023】次に、第5番目の従来例(以下、従来例5
と記す)として、特公平2ー291164号公報に開示
されたLSIを、図16を用いて説明する。図16
(a)を参照して、入力バッファ1604の入力点が入
力端子1601に接続され、入力バッファ1605の入
力点が入力端子1602に接続され、入力バッファ16
06の入力点が入力端子1603に接続されている。
【0024】入力バッファ1604の出力点は、内部回
路1610に接続されると共に2入力NANDゲート1
607の一方の入力点Aに接続されている。NANDゲ
ート1607のもう一方の入力点Bは、電源端子VDD
に接続されている。入力バッファ1605の出力点は、
内部回路1610に接続されると共に2入力NANDゲ
ート1608の一方の入力点Aに接続されている。NA
NDゲート1608のもう一方の入力点Bは、NAND
ゲート1607の出力点に接続されている。入力バッフ
ァ1606の出力点は、内部回路1610に接続される
と共に2入力NANDゲート1609の一方の入力点A
に接続されている。NANDゲート1609のもう一方
の入力点Bは、NANDゲート1608の出力点に接続
されている。そして、NANDゲート1609の出力点
が外部出力端子1617に接続されている。
【0025】以下に、このLSIにおける入力しきい値
電圧試験の方法を、図16(b)に示すタイムチャート
を参照して説明する。入力バッファ1604の入力しき
い値試験を行っているのが、図16(b)中にT171
示す期間である。この期間中は、入力端子1602,1
603をHレベル(電源電圧)に固定しておき、入力端
子1601の入力レベルをHレベルしきい値電圧の規格
電圧(VIH)にする。このとき、入力バッファ1604
が正常に動作していれば、出力1611がHレベルにな
るので、NANDゲート1607の出力はLレベルにな
る。ここで、入力端子1602,1603がHレベルで
あるから、入力バッファ1605の出力信号1612及
び入力バッファ1606の出力信号1613は共にHレ
ベルである。従って、NANDゲート1607,160
8,1609は信号1611を入力信号として信号16
16を出力信号とするインバータチェーンと等価にな
る。ここでは、入力端子を3つとして例に挙げているの
で、出力信号1616は入力端子1601の逆相出力と
なり、出力端子1617は、図16(b)の第4段目に
示すように、Lレベル信号を出力する。同様に、入力端
子1610の入力レベルをLレベル入力しきい値電圧の
規格電圧(VIL)にしたとき、入力バッファ1604が
正常に動作すれば出力端子1617は、図16(b)の
第4段目に示すように、Hレベルの信号を出力する。一
方、入力バッファ1604が誤動作すると信号1611
が入力レベルと逆相になるので、出力端子1617に
は、図16(b)第5段目に示すように、入力レベルと
同相の信号が出力される。
【0026】次に、図16(b)に示す期間T172
は、入力バッファ1605の試験を行う。このとき、入
力端子1603はHレベルのままで良いが、入力端子1
601にはLレベルを入力する。それぞれの入力端子の
レベルを上記のように設定することにより、入力バッフ
ァ1604の出力1611がLレベルとなり、NAND
ゲート1607の出力1614はHレベルとなる。そこ
で今度は、NANDゲート1608,1609が、信号
1612を入力信号とし信号1616を出力信号とする
2段のインバータチェーンと等価になる。従って、入力
バッファ1605が正常動作すれば、出力端子1617
に表れる信号は入力端子11602に与えられる入力信
号と同相となる。一方、入力バッファ1605が誤動作
すれば、互いに逆相となる。
【0027】次に、図21(b)に示す期間T173
は、入力バッファ1606の試験を行う。このとき、入
力端子1602にはLレベルを入力するが、入力端子1
601のレベルはLレベル、Hレベルのいずれでもよ
い。各入力端子のレベルを上記のように設定することに
より、入力バッファ1605の出力1612はLレベル
となりNANDゲート1608の出力1615はHレベ
ルとなって、NANDゲート1609は、信号1613
を入力信号とし信号1616を出力信号とするインバー
タと等価になる。従って、入力バッファ1606が正常
動作すれば、出力端子1617に表れる信号は入力端子
1603に与えられる入力信号とは逆相となり、入力バ
ッファ1606が誤動作すれば、互いに同相となる。こ
のように、出力信号が入力信号に対して同相であるか逆
相であるかにより、各入力バッファが正常動作している
か誤動作しているかを判定できる。
【0028】
【発明が解決しようとする課題】これまで述べたよう
に、従来例1〜3の入力しきい値電圧試験方法は、入力
バッファの入力点にランプ電圧を与え、そのランプ電圧
が入力バッファのしきい値電圧を越えるときに流れる貫
通電流をLSIの電源電流の増大として検出しようとす
るものである。ところが、複数の入力端子を有するLS
Iを試験対象としてこの方法を適用した場合、電源電流
増大の有無を判定するときの比較の基準となる電流値を
明確に規定することが不可能であるという事態が起る。
しかるに、LSIは前述したように、通常、入力端子が
1つということは有り得ず、多数の入力バッファを備え
ていることを考慮すると、従来例1〜3の試験方法では
LSIの入力しきい値電圧試験の合否判定が実際上不可
能であると言える。以下にその説明を行う。
【0029】いま仮りに、外部入力端子A及び外部入力
端子Bなる2つの外部入力端子を有するLSIの入力バ
ッファ(それぞれ、入力バッファA、入力バッファBと
呼ぶこととする)を対象として、従来例1〜3それぞれ
の方法により入力しきい値電圧試験を行うものとする。
図17はそれらの測定時における動作を説明するための
図であって、図17(a)は、横軸が時間を表し縦軸が
各入力端子A,Bへの入力電圧を表す。同図において、
入力バッファAのHレベル入力しきい値電圧をVA
し、入力バッファBの入力しきい値電圧をVB とし、H
レベル入力しきい値電圧の規格値をVH とする。入力バ
ッファAが規格値VH を満足しないバッファであり、入
力バッファBが規格値を満足するバッファである。電圧
波形sは、入力端子A,Bを介して入力バッファA,B
に与えられる電圧が時間軸に対し徐々に上昇しているこ
とを示す。一方、図17(b)は、横軸が図17(a)
の横軸と同一のスケールで時間を表わし、縦軸がLSI
の電源電流を示す。同図において電流値ITHは、各入力
端子に印加される入力電圧が各入力バッファの入力しき
い値を越えたことによる電源電流の増大が生じたか否か
を判定するための、比較の基準となる電流値である。
【0030】図17(a),(b)を参照して、時刻t
18A において、入力バッファBが先ず反転動作して動作
電流が流れ、電源電流が増大する。従来例1〜3では、
この時刻t18A における電源電流の値を比較基準電流値
とせざるを得ない。つまり、各入力端子A,Bへのラン
プ入力電圧が上昇して行くときに一番最初に動作した入
力バッファの動作電流を検知した時刻における入力電圧
値を入力しきい値と認識する以外にない。何故ならば、
最初の入力バッファが動作した後の期間T18Eにおいて
は、入力バッファBの出力信号を入力とする次段以降の
内部回路が動作して電源電流が更に増加して行くので、
時刻t18A 以後の電源電流値のなかで時刻t18B におけ
る電源電流値が、最も入力しきい値電圧が高く最後に動
作した入力バッファAの動作電流に基づくものであると
認識することは不可能だからである。しかるに、Hレベ
ル入力しきい値電圧試験では、最も高い入力しきい値電
圧を持つ入力バッファが規格値を満足しているか否かを
判定しなければならない。従って、従来例1〜3による
試験で正しい判定を下すことは不可能である。これは何
も特殊な状況を論じているのではなく、むしろ入力端子
が一本というLSIは皆無といってよく、従来例1〜3
は、通常のLSIのGO/NOGOテストに用いること
も、又、最悪の入力しきい値電圧の真の実力値(個々の
LSIにおける最悪の入力しきい値電圧の値を、複数の
LSIについて測定したときの分布状態)を測定するこ
ともできない測定法であると言わざるを得ない。
【0031】次に、図15(a)に示した従来例4は、
ノーマルモードで通常の信号処理動作を行った結果の信
号1406を出力するための出力バッファ1403を、
テストモードでの出力バッファとしても利用して、入力
バッファ1402の出力信号1405の変化を出力バッ
ファ1403から外部に出力させている。しかしこの回
路構成においては、出力バッファの数が入力バッファの
数より少ない場合、通常の信号処理機能の実現に不必要
な出力バッファを、入力しきい値電圧試験のためだけに
追加しなければならない。このことは、LSIの外部端
子数を増加させる、すなわち、LSIの外形を大型化さ
せ実装密度を犠牲にしてしまうことになる。
【0032】一方、従来例5によれば、測定される入力
バッファによって、良否を判定するときの出力論理の期
待値が変ってしまう。又、被測定入力バッファ以外の入
力端子に与える信号の論理も、被測定入力バッファ毎に
変化させなければならない。これら入力端子への入力信
号や判定のための出力期待値をどのように変化させるか
は、各被測定入力バッファの出力を受けるNANDゲー
ト1609が各入力端子に対応してどのように接続され
ているかで決まる。すなわち、LSIテスター上で入力
しきい値電圧試験用に使用するテストパターンを、各製
品毎にその回路接続情報から個別に作成せねばならな
い。その結果、そのテストパターン作成ための工数がL
SIの製造コストを押し上げることになる。
【0033】従って本発明は、複数の入力バッファを備
えるCMOSトランジスタ構成のディジタルLSIであ
って、入力バッファのしきい値電圧の良否を電源電流の
増大の有無により判定する回路を有するLSIにおい
て、Hレベルしきい値電圧試験およびLレベルしきい値
電圧試験それぞれに明確な比較基準電流を与えることが
できて、しきい値電圧のGO/NOGO試験は勿論のこ
と、最悪のしきい値電圧を持つ入力バッファの真の実力
値を測定できるLSIを提供することを目的とするもの
である。
【0034】本発明の他の目的は、複数の入力バッファ
を備えるCMOSトランジスタ構成のディジタルLSI
であって、入力バッファのしきい値電圧の良否を外部へ
の信号の論理状態によって判定する回路を有するLSI
において、良否判定のための出力信号が1つであり、し
かもその出力信号の論理および各外部入力端子に与える
入力信号の論理値が、被測定入力バッファの如何に拘ら
ず一義的に決るような入力しきい値電圧試験回路を備え
たLSIを提供することにある。
【0035】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
は、複数の入力バッファを備えるCMOSトランジスタ
構成のディジタル半導体集積回路において、それぞれの
入力バッファに、出力論理が入力バッファの出力論理に
よって決まる第1の論理ゲートを設けると共に、外部か
らの制御信号によって決まる出力論理により前記第1の
論理ゲートが出力すべき信号の論理を指定する第2の論
値ゲートとを設け、前記二つの論理ゲートの出力点を同
一信号線に接続して、複数の入力バッファのうち少なく
とも一つが、外部から与えられた入力信号に対して前記
制御信号から予め期待される論理とは異なる論理の信号
を出力するとき、前記二つの論理ゲートの出力論理が互
いに異るものとなって前記信号線上で信号の衝突が起
り、電源電流が増大するように構成したことを特徴とす
る半導体集積回路である。
【0036】又、本発明の半導体集積回路は、複数の入
力バッファを備えるCMOSトランジスタ構成のディジ
タル半導体集積回路において、外部からの制御信号に応
じて電位モニター用信号線を予め充電し又は放電させる
プリチャージ回路と、開閉状態を入力バッファの出力信
号の論理によって制御されて前記信号線を放電し又は充
電するスイッチとを設け、入力バッファが外部から与え
られた入力信号に対して予め期待される論理の信号を出
力しているか否かを、前記予め充電され又は放電させら
れた電位モニター用信号線に論理の反転が起るか否かに
二値化して変換し外部に出力するように構成したことを
特徴とする半導体集積回路である。
【0037】
【実施例】次に、本発明の好適な実施例について、図面
を参照して説明する。図1は、本発明の第1の実施例の
構成を示すブロック図である。図1を参照して、CMO
Sトランジスタ構成のLSI101の内部には、外部入
力端子102に印加されたディジタルデータ信号を入力
とする入力バッファ107がある。入力バッファ107
の出力信号114はCMOSトランジスタ構成の内部論
理回路113へ入力され、所定の信号処理動作をさせ
る。同様に、外部入力端子103に印加されたデータ信
号を入力とする入力バッファ108があり、入力バッフ
ァ108の出力信号115も内部回路113へ入力され
て、所定の信号処理動作をさせる。ここ迄は通常のLS
Iの構成である。尚、LSIにはこのような入力バッフ
ァが多数設けられているが、本実施例では、説明を簡潔
にして理解を容易にするために、入力バッファが2つで
あるものとする。
【0038】本実施例は更に、入力バッファ107の出
力信号114を入力とする論理ゲート1Aと、入力バッ
ファ108の出力信号115を入力とする論理ゲート1
Bとを備えており、論理ゲート1Aの出力点と論理ゲー
ト1Bの出力点とが信号線116を用いて接続されてい
る。
【0039】又、外部入力端子50に印加されたテスト
モード設定用制御信号(以下、モード設定信号と略称す
る)51を入力とする入力バッファ111と、2入力の
論理ゲート20とを備えており、入力バッファ111の
出力点が論理ゲート20の一方の入力点に接続されてい
る。上記のモード設定信号51は、論理ゲート1A,1
Bの出力の活性、不活性を一括して制御する。すなわ
ち、各論理ゲート1A,1Bへの入力信号をそれぞれの
出力点に伝達させ又は遮断する。論理ゲート20は、外
部端子60に印加された試験条件設定用制御信号(以
下、条件設定信号と略称する)61をもう一方の入力と
する。論理ゲート20の出力点は、信号線116に接続
されている。
【0040】ここで、入力端子102,103は、入力
しきい値電圧試験の測定対象となる外部入力端子であ
る。これに対し、入力端子50,60は、入力しきい値
電圧試験の対象外の端子である。入力端子50はLSI
のモードを、入力しきい値試験を行うテストモードと通
常の信号処理動作を行うノーマルモードとに切換えるた
めの二値のモード設定信号51を入力するための端子で
ある。従って、LSIの機能試験など各種試験のために
多くのLSIに通常的に装備され、一般にテストモード
設定端子あるいは単にテスト端子と呼ばれる外部入力端
子を流用できる。これに対し入力端子60は、LSIが
入力しきい値電圧試験モードのとき、Hレベル入力しき
い値電圧試験を行うか、Lレベルしきい値電圧試験を行
うかを指定するための条件制定信号61入力用の端子で
ある。従って、入力しきい値電圧試験実行のために独自
に必要な端子である。
【0041】外部端子30は、電源電圧供給用の電源端
子で、LSI101内部の各論理回路に電源電圧を供給
する。一方、外部端子40は接地電位供給用のグランド
端子である。
【0042】以上の如き構成の本実施例のLSI101
について、入力バッファ107,108に対する入力し
きい値電圧試験の実行方法と試験時の回路動作とを、以
下に説明する。先ず、本実施例の具体例1として、図1
に示す回路において論理ゲート1A,1Bがトライステ
ートバッファであり、論理ゲート20がANDゲートで
ある場合について説明する。図2は、このような具体例
1の回路図をトランジスタレベルで表した回路図であ
る。但し、図1中の内部回路113は、説明の簡潔化の
ため図示省略されている。
【0043】図2を参照して、トライステートバッファ
1Aは、出力段のCMOSインバータとそのインバータ
を構成するpMOSトランジスタ、nMOSトランジス
タの導通を制御する論理回路とからなっている。出力段
のインバータは、電源端子30と出力点(すなわち、信
号線116)との間に接続されたpMOSトランジスタ
P1と、出力点とグランド端子40との間に接続された
nMOSトランジスタQN1とで構成されている。pMO
SトランジスタQP1は、2入力NANDゲート11Aの
出力信号を入力とする。一方、nMOSトランジスタQ
N1は、2入力NORゲート12Aの出力信号を入力とす
る。NANDゲート11Aは、入力バッファ107の出
力信号114を一方の入力とし、もう一方の入力点に
は、入力端子50に入力されるモード設定信号51を入
力バッファ111を介して受ける。又、NORゲート1
2Aは、入力バッファ107の出力信号114を一方の
入力とし、モード設定信号51の反転信号を他方の入力
とする。もう1つの入力バッファ108にも、同様なト
ライステートバッファ1Bが接続されている。このトラ
イステートバッファ1Bは、入力バッファ108の出力
信号115とモード設定信号51とを入力とする2入力
NANDゲート11Bと、入力バッファ108の出力信
号115とモード設定信号51の反転信号を入力とする
2入力NORゲート12Aと、NANDゲート11Bの
出力信号をゲート入力とする出力段のpMOSトランジ
スタQP2と、NORゲート12Bの出力信号をゲート入
力とする出力段のnMOSトランジスタQN2とで構成さ
れている。
【0044】一方、ANDゲート20は、入力端子50
に入力されるモード設定信号51と入力端子60に入力
される条件設定信号61とを入力とする2入力NAND
ゲートの出力信号を、CMOSインバータで反転して出
力する。入力側のNANDゲートは、ゲート電極を共通
接続されたpMOSトランジスタQP3及びnMOSトラ
ンジスタQN3並びにnMOSトランジスタQN4を、電源
端子30とグランド端子40との間に直列接続すると共
に、pMOSトランジスタQP3とnMOSトランジスタ
N3との直列接続点と電源端子30との間にpMOSト
ランジスタQP4を接続した構成である。pMOSトラン
ジスタQP3とnMOSトランジスタQN3の共通ゲート電
極にはモード設定信号51を入力し、nMOSトランジ
スタQN4とpMOSトランジスタQP4のゲート電極には
共通に条件設定信号61を入力する。出力側のインバー
タは、pMOSトランジスタQP5とnMOSトランジス
タQN5とを電源端子30とグランド端子40との間に直
列接続したものである。
【0045】以上のように構成すると、3つのCMOS
インバータの出力点が1つの信号線116により共通接
続されることになる。すなわち、pMOSトランジスタ
P1とnMOSトランジスタQN1との直列接続点、pM
OSトランジスタQP2とnMOSトランジスタQN2との
直列接続点およびpMOSトランジスタQP5とnMOS
トランジスタQN5の直列接続点が信号線116に接続さ
れる。
【0046】ここで、図3(a)に、入力端子50に入
力されるモード設定信号51と、入力端子60に印加さ
れる条件設定信号61と、測定対象の入力端子102,
103に印加される入力信号の動作時のタイミングチャ
ートを示す。又、図3(b)に、入力しきい値電圧試験
に合格(PASS)したときのLSI101の電源電流
(電源端子30からグランド端子40に流れる電流)波
形を示す。一方、図3(c)に、入力しきい値電圧試験
に不合格(FAIL)となったときの電源電流波形を示
す。
【0047】図3(a)を参照して、入力しきい値電圧
試験の実行を指示するために、先ず入力端子50に入力
するモード設定信号51のレベルをLレベルからHレベ
ルに変化させる。このことにより、トライステートバッ
ファ1A内のNANDゲート11Aは、一方の入力信号
がHレベルになるので、入力バッファ107の出力信号
114を入力とするNOTゲートと等価になる。又、N
ORゲート12Aは、一方の入力信号がLレベルになる
ので、NANDゲート11Aと同様に、入力バッファ1
07の出力信号114を入力とするNOTゲートと等価
になる。その結果、このトライステートバッファの出力
段を構成するpMOSトランジスタQP1及びnMOSト
ランジスタQN1は共に、信号114の反転信号を入力と
するインバータと等価になる。すなわち、モード設定信
号51をHレベルにすることにより、トライステートバ
ッファ1Aを出力活性状態にし、入力バッファ107の
出力信号114を入力信号としその同相信号を出力する
ゲートとして動作させることになる。同様に、入力バッ
ファ108に設けられたトライステートバッファ1B
も、Hレベルのモード設定信号51により出力活性状態
となり、入力バッファ108の出力信号115を入力と
しその同相信号を出力するゲートとして動作する。つま
り、本実施例においては2つのトライステートバッファ
1A,1Bを、共通のモード設定信号51により一括し
て出力活性状態としていることになる。一方、ANDゲ
ート20は、一方の入力信号であるモード設定信号51
がHレベルになるので、入力端子60に入力される条件
設定信号61を入力としてその同相信号を出力するバッ
ファと等価となる。すなわち、ANDゲート20は、そ
の出力論理を条件設定信号61によって決めることがで
きる状態にある。
【0048】この状態で、始めに一般にVIHと呼ばれる
Hレベルの入力しきい値電圧の試験(以下、VIH試験と
記す)を行うものとする。この試験では、入力端子60
に入力する条件設定信号61をHレベルにして、この試
験がVIH試験でありトライステートバッファ1A,1B
が出力すべき信号の論理がHレベルであることを指示す
る。そして、入力端子102,103に対し、VIH試験
において被測定入力バッファが満たすべき規格電圧V
stdHを印加する。先ず、入力バッファ107,108が
共に正常に動作し、VIH試験を「PASS」した場合
(すなわち、2つの入力バッファ107,108の入力
しきい値電圧が共に、それぞれの入力点に与えられた規
格電圧VstdHよりも低い場合)を説明する。この場合
は、入力バッファ107の出力信号114及び、入力バ
ッファ108の出力信号115は共にHレベルになる。
この信号の状態変化を受けて内部回路113(図1参
照)が動作するのでその動作に伴なう動作電流が発生
し、図3(b)中の期間T303 に示すように、電源電流
が増大する。しかし、上記の動作電流は、信号の状態遷
移が終了して内部回路が定常状態になると消滅する。
【0049】ところで、前述したように、トライステー
トバッファ1A,1Bは共に出力活性状態にあり、入力
バッファ107の出力信号114及び入力バッファ10
8の出力信号115は共にHレベルである。従って、ト
ライステートバッファ1A,1Bは共にHレベルの信号
を信号線116に出力する。しかも、ANDゲート20
もHレベルの信号を信号線116に出力しているので、
信号線116上では、トライステートバッファ107,
108及びANDゲート20からの出力信号の衝突はな
い。このような場合における各MOSトランジスタのオ
ン・オフ状態を見ると、3つのpMOSトランジスタQ
P1,QP2,QP3は全てオン状態にあり、一方、3つのn
MOSトランジスタQN1,QN2,QN3は全てオフ状態に
ある。すなわち、電源端子30から信号線116を介し
てグランド端子40に至る電流経路が上記3つのnMO
Sトランジスタによって遮断されているので、この電流
経路を通して電源電流が流れることはない。従って、上
記のように信号114,115の状態遷移に伴なう動作
電流が消滅した後の期間(図3(b)における期間T
304 )の電源端子30には、静止電流が僅かに流れるの
みである。この静止電流の要素はMOSトランジスタの
接合リーク電流のみであって、入力バッファや内部回路
が反転動作したときに発生する動作電流に比べて桁違い
に小さい。この静止電流の値を、図3(b)中の期間T
304 に示すように、IP とする。
【0050】次に、Lレベルの入力しきい値電圧試験
(以下、VIL試験と記す)を行うものとし、始めに、2
つの入力バッファ107,108が共に正常に動作して
試験に「PASS」した場合(すなわち、入力バッファ
107,108の入力しきい値電圧が共に規格値VstdL
より高い場合)について説明する。この場合には、図3
(a)中に期間T302 で示すように、入力端子60へ入
力する条件設定信号61をLレベルにして、この試験が
IL試験でありトライステートバッファ1A,1Bが出
力すべき信号の論理がLレベルであることを指示する。
入力端子50にはVIH試験のときと同様に、Hレベルの
モード設定信号50を印加する。すなわち、トライステ
ートバッファ1A,1Bはこの場合も、それぞれ入力バ
ッファ107の出力信号114、入力バッファ108の
出力信号115を入力としてその同相信号を出力するゲ
ートとして動作する。そして、試験対象の入力端子10
2,103に、VIL試験において入力バッファ107,
108が満たすべき規格電圧VstdLを印加する。する
と、入力バッファ107の出力信号114及び入力バッ
ファ108の出力信号11は共にLレベルとなり、前述
したように、その信号変化に応じて期間T305 (図3
(b)参照)で動作電流が発生し電源電流が増大した
後、動作電流が消滅する。
【0051】ここで、モード設定信号51がHレベルで
各トライステートバッファ1A,1Bが共に出力活性状
態にあり、しかも各入力バッファ107,108が共に
正常に動作しLレベルの信号114,115を出力して
いるので、トライステートバッファ1A,1Bは共にL
レベルの信号を信号線116に出力する。しかも、AN
Dゲート20もLレベルの信号を信号線116に出力し
ているので、信号線116上で、トライステートバッフ
ァ1A,1B及びANDゲート20からの出力信号の衝
突はない。このような場合における各MOSトランジス
タのオン・オフ状態を見ると、3つのpMOSトランジ
スタQP1,QP2,QP3は全てオフ状態にあり、一方、3
つのnMOSトランジスタQN1,QN2,QN3は全てオン
状態にある。すなわち、電源端子30から信号線116
を介してグランド端子40に至る電流経路が上記3つの
pMOSトランジスタによって遮断されているので、こ
の電流経路を通して電源電流が流れることはない。従っ
て、上記のように信号114,115の状態遷移に伴な
う動作電流が消滅した後の期間(図3(b)における期
間T306 )の電源端子30には、静止電流が僅かに流れ
るのみである。この静止電流の大きさも、VIH試験にお
ける静止電流IP と同程度に微少である。
【0052】これまでの説明はLSI101がVIH試験
及びVIL試験に「PASS」した場合の動作説明である
が、次に、LSI101が「FAIL」した場合の動作
を、図3(c)を用いて説明する。仮にVIH試験におい
て、入力バッファ107は正常に動作したが入力バッフ
ァが誤動作したものとする。すなわち、入力端子10
2,103に与えるVIH試験の規格電圧VstdHに対し入
力バッファ107のしきい値電圧は低く、入力バッファ
108のしきい値電圧は高い場合である。入力バッファ
107が正常動作するので、その出力信号114はHレ
ベルとなり、トライステートバッファ1Aは信号線11
6をHレベルに駆動する。しかし、誤動作した入力バッ
ファ108はその出力信号115をLレベルとするの
で、トライステートバッファ1Bは信号線116をLレ
ベルに駆動する。一方、ANDゲート20は、信号線1
16をHレベルに駆動する。このような場合、3つのp
MOSトランジスタQP1,QP2,QP3のうちトランジス
タQP1,QP3がオン状態になり、トラジスタQP2はオフ
状態になる。一方、3つのnMOSトランジスタQN1
N2,QN3のうちトランジスタQN1,QN3がオフ状態に
なり、トランジスタQN2はオン状態になる。その結果、
電源端子30から信号線116を介してグランド端子4
0に至る電流経路には、pMOSトランジスタQP1から
nMOSトランジスタQN2を通して流れる電流と、pM
OSトランジスタQP3からnMOSトランジスタQN2
通して流れる電流とが流れることになる。この電流は、
図3(c)中の期間T303 に信号114,115の状態
遷移に伴って発生した動作電流が期間T307 に至って消
滅した後でも、入力端子102,103,60への入力
信号のレベルに変化がない限り定常的に流れ次ける。こ
の電流をIF1と記すこととする。この電流IF1は、電源
電圧及びpMOSトランジスタのオン抵抗とnMOSト
ランジスタのオン抵抗で決まるが、「PASS」時の電
流IP に比べて桁違いに大きい。すなわち、図3
(b),(c)を参照して、VIH試験(期間T301 )で
「FAIL」のときは、期間T307 に「PASS」のと
きの電源電流IP よりずっと大きい電源電流IF1が流れ
る。
【0053】又、別の状況を想定して、期間T302 での
IL試験において、全ての入力端子が「FAIL」する
場合(すなわち、各入力端子に与えられるLレベルのし
きい値電圧の規格値VstdLに対し、各入力バッファの入
力しきい値電圧の方が全て低い場合)を考える。この場
合、入力端子102,103にVIL試験で満たすべき規
格電圧VILが印加されるが、入力バッファ107,10
8が共に誤動作するために、信号114,115は共に
Hレベルになる。その結果、トライステートバッファ1
A,1Bは共に、信号線116をHレベルに駆動する。
一方、VIL試験時には、トライステートバッファ1A,
1Bが出力すべき出力論理がLレベルであることを指示
するため、入力端子60にLレベルの条件設定信号61
が入力される。従ってANDゲート20は、信号線11
6をLレベルに駆動する。その結果、トライステートバ
ッファ1A,1Bの出力信号とANDゲート20の出力
信号とが、信号線116上で衝突を起す。この場合、3
つのpMOSトランジスタQP1,QP2,QP3のうちトラ
ンジスタQP1,QP2がオン状態となり、トランジスタQ
P3がオフ状態となる。一方、3つのnMOSトランジス
タQN1,QN2,QN3のうちトランジスタQN1,QN2がオ
フ状態となり、トランジスタQN3がオン状態となる。従
ってこの場合には、図3(c)の期間T308 になって内
部回路の動作に伴う動作電流が消滅した後でも、電源端
子30から信号線116を介してグランド端子40に至
る電流経路に、pMOSトランジスタQP1からnMOS
トランジスタQN3を通して流れる電流と、pMOSトラ
ンジスタQP2からnMOSトランジスタQN3を通して流
れる電流とが定常的に流れることになる。この原因によ
る電源電流IF2も、前述したVIH試験での「FAIL」
のときの電流IF1と同様に、「PASS」のときの電流
P に比べて桁違いに大きい。
【0054】このように、本具体例においては、トライ
ステートバッファ1A,1Bのうち1つでもANDゲー
ト20が指定する論理と異なる論理の信号を出力すると
き、つまり複数の入力バッファの1つでもしきい値電圧
の規格値を満足しない場合には信号線116上で信号の
衝突が起り、信号線116をHレベルに駆動している論
理ゲート側の電源端子30から、Lレベルに駆動してい
る論理ゲート側のグランド端子に電流が流れ、電源電流
が定常的に増大する。本具体例では、前述の電源電流値
P ,IF1,IF2を外部から測定することにより、VIH
試験およびVIL試験における「PASS」、「FAI
L」を判定する。すなわち、図3(b),(c)の期間
304 ,T306 ,T307 ,T308 内のタイミングTS
試験対象のLSIの電源電流を測定し、全入力バッファ
の入力しきい値電圧が規格値を満足しているかどうかを
判定するのである。その場合の判定基準について、以下
に説明する。
【0055】LSIがVIH試験およびVIL試験を「PA
SS」した場合の電源電流値IP は前述の如く、その要
素はMOSトランジスタのpn接合リーク電流のみであ
り、その電流値は高集積度のLSIであってもたかだか
1μA以内に納まる。次に、LSIがVIH試験およびV
IL試験に「FAIL」した場合の電源電流について考え
る。この場合、電源電流値が最大となるのは、全入力バ
ッファのうちの半数が「PASS」し、残りの半数が
「FAIL」する場合である。逆に電源電流が最少にな
るのは、全入力バッファのうち1つが「FAIL」した
場合と、全入力バッファが「FAIL」した場合であ
る。しかしいずれの場合にも、その電源電流の要素はM
OSトランジスタのドレイン・ソース間を流れるチャネ
ル電流であるので、たとえ電源電流値が最少となる状況
ではあってもその大きさは1mAを超えるものとなる。
従って、試験対象のLSIが入力しきい値電圧試験に
「PASS」したときの観測点TS における電源電流値
と、「FAIL」したときの観測点TS における電源電
流値とには1000倍以上の差異があり、明確に区別で
きる。従って、両者の電流値の中間に判定基準の電流値
を設定すれば誤判定が起ることはない。具体的には、例
えばLSIテスターの一般的機能である電源電流測定機
能を利用すれば、このような判定を効率的にしかも高精
度で容易に実現できる。
【0056】次に、図1に示す第1の実施例の具体例2
として、論理ゲート1A,1Bをトランスファーゲート
で構成し、論理ゲート20をANDゲートで構成した例
について説明する。図4は、この具体例2の回路図であ
る。試験対象の各入力バッファ107,108は、一般
的な、CMOSトランジスタ構成のインバータを縦列2
段接続したものである。従って本具体例においては、入
力バッファ107の出力段のCMOSインバータの出力
点と、入力バッファ108の出力段のCMOSインバー
タの出力点とがそれぞれ、トランスファーゲートのnM
OSトランジスタ1A,1Bから信号線116をを介し
て、ANDゲート20の出力段のCMOSインバータの
出力点に接続されていることになる。そして、各nMO
Sトランジスタ(トランスファーゲート)1A,1Bの
ゲート電極には、外部からの入力端子50に印加される
モード設定信号51が入力されている。従って、2つの
トランスファーゲート1A,1Bはモード設定信号51
をHレベルに設定することにより、一括して出力活性状
態にされる。又、モード設定信号51をLレベルにする
ことにより遮断状態になり、一括して出力不活性状態に
なる。
【0057】本具体例において、LSI101がVIH
験に「PASS」した場合、信号116は入力バッファ
107,108、更にANDゲート20によって、Hレ
ベルに駆動される。すなわち信号線116で信号どうし
の衝突が起らないので、前述した具体例1におけると同
様に、電源端子30から出力信号線116を介してグラ
ンド端子に至る電流経路はオフ状態の3つのnMOSト
ランジスタにより遮断され、図3(b)の期間T304
おける電源電流はMOSトランジスタのpn接合のリー
ク電流のみとなり、1μA程度以内の小さな電流とな
る。
【0058】これに対し、入力バッファ107がVIH
験に「FAIL」し、入力バッファ108が「PAS
S」した場合は、入力バッファ107が信号線116を
Lレベルに駆動し、一方、入力バッファ108とAND
ゲート20とがHレベルに駆動する。すなわち信号線1
16上で信号の衝突が起る。この場合、入力バッファ1
08の出力段のインバータのpMOSトランジスタとA
NDゲート20の出力段のインバータのpMOSトラン
ジスタとがオン状態にあり、又、入力バッファ107の
出力段のインバータのnMOSトランジスタがオン状態
にある。従って、電源端子30から信号線116を介し
てグランド端子40に至る電流経路には、入力バッファ
108から入力バッファ107に流れる電流と、AND
ゲート20から入力バッファ107に流れる電流とが流
れ、図3(c)の期間T307 における電源電流が定常的
に1mA程度以上に増大する。このようにして、VIH
験における「PASS」又は「FAIL」の判定を確実
に行うことができる。
【0059】又、VIL試験においては、入力端子にLレ
ベルの条件設定信号61を与え、入力バッファの出力す
べき信号がLレベルであることを指定する。そして、こ
の指定に対し、全入力バッファが正常に動作してLレベ
ルの信号を出力しているときは、信号線116上では信
号どうしの衝突が起らないので、図3(b)中の期間T
306 における電源電流は1μA程度以下の僅かな電流と
なる。一方、入力バッファ107,108のうちいずれ
か1つでも「FAIL」して、Hレベルの信号を出力し
ていると、信号線116上で信号の衝突が起る。その場
合、電源端子30からグランド端子40迄の間には、
「FAIL」している入力バッファから他の正常な入力
バッファへの電流経路および、「FAIL」の入力バッ
ファからANDゲート20への電流経路が形成される。
その結果、図3(c)の期間T308における電源電流が
定常的に1mA程度以上に増大する。これにより、VIL
試験における「PASS」又は「FAIL」の判定を確
実に行うことができる。
【0060】上述した具体例1及び具体例2において、
論理ゲート20には2入力のANDゲートを用いたが、
これをORゲートに変更することもできる。2入力OR
ゲートは一方の入力信号がLレベルであるとき、他方の
入力信号を入力してこれと、同相の信号を出力するゲー
トと等価となって、その出力論理は一方の入力信号がH
レベルのときのANDゲートの出力論理と同一だからで
ある。但しその場合、論理ゲート20としてのORゲー
トには、モード設定信号51の反転信号を入力する必要
がある。このようにすると、モード設定信号51をHレ
ベルしたとき、論理ゲート1A,1Bとしてのトライス
テートバッファ又はトランスファーゲートと、論理ゲー
ト20としてのORゲートとは出力活性となり、具体例
1,具体例2と同様の動作をする。一方、モード設定信
号51をLレベルとしてLSIのモードをノーマルモー
ドに設定すると、論理ゲート20としてのORゲートは
条件設定信号61の如何に拘らずHレベルの信号を出力
するが、このとき、論理ゲート1A,1Bとしてのトラ
イステートバッファ又はトランスファーゲートがフロー
ティング状態となっているので、信号線116上での信
号衝突はない。つまり、電源電流の増大がないので、L
SIとしての通常の信号処理動作には何ら差支えない。
【0061】又、具体例1及び具体例2では、条件設定
信号がHレベルのときVIH試験を行い、Lレベルのとき
IL試験を行うように構成した。これは、人間の感覚上
違和感がないようにするためであって、若し逆に、条件
設定信号がLレベルのときにVIH試験を行い、Hレベル
のときVIL試験を行うようにしてもよいのであれば、具
体例1及び具体例2における論理ゲート(ANDゲー
ト)20を、NANDゲートで構成してトランジスタ数
を減少させることもできる。ANDゲートとNANDゲ
ートとは共に、一方の入力信号がHレベルのとき、出力
信号の論理が他方の論理によってのみ決まり、互いに反
転関係にある論理の信号を出力するからである。
【0062】更に又、具体例1及び具体例2における論
理ゲート20をNORゲートで構成することもできる。
NORゲートは一方の入力信号がLレベルにあるとき、
他方の入力信号を反転させて出力するNOTゲートと等
価になり、その出力論理は一方の入力信号がHレベルの
ときのNANDゲートの出力論理と同一であるからであ
る。
【0063】これまで述べた具体例1及び具体例2にお
ける回路構成の特徴を抽出すると、以下のようになる。 論理ゲート20は、その出力論理を外部からの条件設
定信号により所望の論理に設定できる。 論理ゲート1A,1Bは、その出力論理が入力バッフ
ァの出力論理で決まり、入力バッファが外部からの入力
信号に対して正常に動作したとき(すなわち、期待どお
りの論理の信号を出力したとき)、論理ゲート20の出
力信号と同相の信号を出力する。 論理ゲート1A,1Bは、その出力の活性、不活性が
共通の制御信号により一括して制御される。
【0064】上記のような条件を満たす論理ゲート1A
(1B)と論理ゲート20の組合せは、具体例1及び具
体例2に挙げたものに限られるものではない。例えば論
理ゲート1A,1BにANDゲートを用い、論理ゲート
20にANDゲートを用いてもよい。この場合は、論理
ゲート1A,1Bとしての2入力ANDゲートの1つの
入力点にモード設定信号51を入力する。このようにす
ると、ANDゲート1A,1Bは、モード設定信号51
がHレベルのとき、各入力バッファ107,108の出
力信号114,115をそれぞれの入力信号とするゲー
トと等価の動作をする。一方、モード設定信号51がL
レベルのときの出力論理は、入力バッファの出力論理に
拘りなくLレベルの信号に固定される。すなわち、出力
の活性、不活性がモード設定信号51によって一括制御
される。そして、出力活性のときの出力論理は入力バッ
ファの出力論理によって決まる。しかも、入力バッファ
107,108が正常に動作していれば、ANDゲート
1A,1BとANDゲート20とは同相信号を出力す
る。ここで、ANDゲートは一般に、図2中のANDゲ
ート20に示されるように、NANDゲートの出力信号
を出力段のインバータで反転させて取出す構成となって
いる。すなわち、論理ゲート1A,1B及び論理ゲート
20を全てANDゲートで構成すると、各論理ゲート
(ANDゲート)の出力段のインバータが共通の信号線
116を駆動することになる。つまり、図2に示した具
体例2の回路構成と等価になる。従ってこの場合も具体
例1におけると同様に、全ての入力バッファが期待され
る所定の論理の信号を出力しているか否か、換言すれ
ば、全入力バッファのしきい値電圧が規格値を満足して
いるか否かを、電源電流の定常的な増大の有無により判
定できる。
【0065】又、他の例として、論理ゲート1A,1B
にORゲートを用い、論理ゲート20にORゲートを用
いて構成してもよい。この場合は、それぞれのORゲー
ト1A,1B,20の1つの入力点にモード設定信号5
1の反転信号を入力する。このようにすると、ORゲー
ト1A,1Bは共に、モード設定信号61がHレベルの
とき、入力バッファ107の出力信号114及び入力バ
ッファ108の出力信号115を入力とするゲートと等
価となる。一方、モード設定信号51がLレベルのと
き、ORゲート1A,1Bの出力論理は入力バッファ1
07,108の出力論理の如何に拘りなく、Hレベルに
固定される。すなわち、出力の活性、不活性がモード設
定信号により一括制御され、出力活性のときの出力論理
が入力バッファの論理によって決まる。しかも、入力バ
ッファ107,108が正常に動作していれば、ORゲ
ート1A,1BとORゲート20とは同相信号を出力す
る。そして、ORゲートは一般に、NORゲートの出力
信号を出力段のインバータで反転させて取出す構成とな
っている。すなわち、論理ゲート1A,1B,20を全
てORゲートで構成すると、各論理ゲート(ORゲー
ト)の出力段のインバータが共通の信号線116を駆動
することなる。つまり、図2に示す具体例1の回路構成
と等価となる。従ってこの場合も、具体例1におけると
同様に、全ての入力バッファが期待される所定の論理の
信号を出力しているか否か、換言すれば、全入力バッフ
ァのしきい値電圧が規格値を満足しているか否かを、電
源電流の定常的な増大の有無により判定できる。
【0066】次に、図1に示す第1の実施例において、
論理ゲート1A,1Bにクロックドインバータを用い、
論理ゲート20にNANDゲートを用いた具体例3につ
いて説明する。図5は、本具体例の回路構成をトランジ
スタレベルで表した回路図である。但し、これまでと同
様に、図1中の内部回路113を図示省略して示す。図
5を参照して、クロックドインバータは例えばインバー
タ1Aを例にとると、pMOSトランジスタQP1、nM
OSトランジスタQN1からなるCMOSインバータに対
して、電源端子30との間にpMOSトランジスタQP6
を接続しグランド端子40との間にnMOSトランジス
タQN6を介在させた構成となっている。pMOSトラン
ジスタQP1,nMOSトランジスタQN1の共通ゲート電
極にはデータ信号(この場合は、入力バッファ107の
出力信号114)を入力する。一方、pMOSトランジ
スタQP6,nMOSトランジスタQN6には、互いに逆相
の制御信号をゲート入力として与える。この場合は、n
MOSトランジスタQN6には入力端子50に入力される
モード設定信号51を与え、pMOSトランジスタQP6
に対してはモード設定信号51の反転信号を入力する。
このようにすると、このクロッグドインバータ1Aは、
モード設定信号51がHレベルであるときはトランジス
タQP6,QN6が共にオン状態になるので通常のインバー
タと等価になり、信号114を反転して信号線116に
出力する。一方、モード設定信号51がLレベルのとき
はトランジスタQP6,QN6が共にオフ状態になって、信
号114を遮断する。入力バッファ108の後段に設け
られたクロックドインバータ1Bも、上記のインバータ
1Aと同じ構成である。従って、本具体例でも、クロッ
クドインバータ1A,1Bは共通のモード設定信号によ
り、出力の活性、不活性を一括制御される。
【0067】ここで、今、モード設定信号51をHレベ
ルとして入力しきい値電圧試験の実行を指示したとす
る。クロックドインバータ1A,1Bはそれぞれ、入力
バッファ107の出力信号114及び入力バッファ10
8の出力信号115を入力とするNOTゲートと等価と
なる。又、NANDゲート20は、入力端子60への条
件設定信号61を入力とするNOTゲートと等価にな
る。この状態で条件設定信号61をHレベルにしてVIH
試験であることを指示すると、NANDゲート20は、
トランジスタQP3,QP4がオフ状態になり、トランジス
タQN3,QN4がオン状態になるので、信号線116をL
レベルに駆動する。このとき、入力バッファ107,1
08が共に正常に動作していれば、これらの入力バッフ
ァは入力端子102,103に印加された規格電圧に対
してHレベルの信号を出力する。従って、2つのクロッ
クドインバータ1A,1Bにおいてはトランジスタ
P1,QP2がオフ状態になりトランジスタQN1,QN2
オン状態になる。従って、これら2つのインバータ1
A,1Bは共に、信号線116をLレベルに駆動する。
すなわち、信号線116上での信号の衝突はない。この
場合は、電源端子30から信号線116を介してグラン
ド端子40に至る電流経路が4つのpMOSトランジス
タQP1,QP2,QP3,QP4によって遮断されるので、こ
の電流経路には電源電流は流れない。
【0068】一方、例えば入力バッファ107が「FA
IL」したとすると、クロックドインバータ1Aの入力
信号のレベルが、本来HレベルであるところLレベルに
なるので、トランジスタQP1がオン状態にトランジスタ
N1がオフ状態になって、このインバータ1Aは信号線
116をHレベルに駆動する。すなわち、信号線116
上で信号の衝突が起る。この場合は、pMOSトランジ
スタQP6,QP1→nMOSトランジスタQN2,QN7を流
れる電流と、pMOSトランジスタQP6,QP1→nMO
SトランジスタQN3,QN4を流れる電流とにより電源電
流が増大する。このように、電源電流の増大の有無によ
ってVIH試験における「PASS」又は「FAIL」を
明確に判定できる。
【0069】次に、VIL試験においては、条件設定信号
61をLレベルにして、各クロックドインバータ1A,
1Bが信号線116にHレベルの信号を出力すべきこと
を指示する。このとき、各入力バッファ107,108
が正常に動作していればクロックドインバータ1A,1
Bの出力信号がHレベルになるので、信号線116上で
の信号衝突はない。このとき電源端子30から信号線1
16を介してグランド端子40に至る電流経路は、3つ
のnMOSトランジスタQN1,QN2,QN3により遮断さ
れている。一方、例えば入力バッファ107が「FAI
L」したとすると、信号114のレベルが本来Lレベル
であるところHレベルになる。従って、クロックドイン
バータ1Aは、pMOSトランジスタQP1がオフ状態と
なりnMOSトランジスタQN1がオン状態となって、信
号線116にLレベルの信号を出力する。すなわち、信
号線116上で信号衝突が起る。そしてこの場合、pM
OSトランジスタQP7,QP2→nMOSトランジスタQ
N1,QN6を流れる電流とpMOSトランジスタQP4→n
MOSトランジスタQN1,QN6を流れる電流とにより、
電源電流が増大する。この電源電流の増大の有無によ
り、VIL試験における「PASS」又は「FAIL」を
明確に判定できる。尚、本具体例3でも、具体例1及び
具体例2におけると同様に、論理ゲート20としてのN
ANDゲートをNORゲート,ANDゲート或いはOR
ゲートを用いて構成できる。
【0070】これまでの具体例1〜具体例3は全て、信
号線116を直接駆動するのが、論理ゲート1A,1B
の出力段のインバータである例であるが、勿論、このよ
うな回路形式の論理ゲートでなくてもよい。例えば、図
1中の論理ゲート1A,1BにNANDゲートを用い、
論理ゲート20にNANDゲートを用いても、これまで
の具体例と同様の効果を得ることができる。図6は、そ
のような構成の具体例4の回路図をトランジスタレベル
で表した図である。同図を参照して、NANDゲート1
A,1Bはそれぞれ、モード設定信号51がHレベルの
とき、入力バッファ107,108の出力信号114,
115を入力とするNOTゲートと等価である。モード
設定信号51がLレベルであれば、各NANDゲート1
A,1Bの出力信号は信号114,115に拘りなく、
Hレベルに固定される。すなわち出力の活性、不活性を
モード設定信号51により一括制御できる。
【0071】ここで、モード設定信号51がHレベルに
あって入力しきい値電圧試験を実行しているとして、3
つのNANDゲート1A,1B,20が全て信号線11
6をHレベルに駆動して信号線116上での信号衝突が
ないとする。この場合は、nMOSトランジスタQN9
N11 ,QN4がオフ状態にあるので、電源端子30から
信号線116を介してグランド端子40に至る電流経路
は、それら3つのnMOSトランジスタによって遮断さ
れている。一方、3つのNANDゲートが全て信号線1
16をLレベルに駆動しているとすると、pMOSトラ
ンジスタQP8,QP9,QP10 ,QP11 ,QP3,QP4がオ
フ状態にあるので、上記の電流経路はそれら6つのpM
OSトランジスタによって遮断されている。
【0072】これに対し、例えばNANDゲート1Aが
信号線116をLレベルに駆動し、他のNANDゲート
1B,20が信号線116をHレベルに駆動して信号の
衝突が起ったとすると、NANDゲート1AではnMO
SトランジスタQN8,QN9がオン状態にあり、NAND
ゲート1B,20ではpMOSトランジスタQP11 ,Q
P4がオン状態にあるので、これらオン状態のpMOSト
ランジスタ及びオン状態のnMOSトランジスタを通し
て、NANDゲート1B,20側の電源端子30からN
ANDゲート1A側のグランド端子40に電流が流れ、
電源電流が増大する。逆に、例えばNANDゲート1A
が信号線116をHレベルに駆動し、NANDゲート1
B,20がLレベルに駆動して信号衝突が起った場合
も、NANDゲートどうしであるので、上記の場合と同
様な現象が起り、電源電流が増大する。この場合は、H
レベルに駆動している方のNANDゲート1AのpMO
SトランジスタQP9から、Lレベルに駆動している方の
NANDゲート1B,20のnMOSトランジスタQ
N10 ,QN11 ,QN3,QN4を通して電流が流れ、電源電
流が増大する。
【0073】図1に示す第1の実施例において、論理ゲ
ート1A,1BにNORゲートを用い論理ゲート20に
NORゲートを用いて構成しても、これまで述べたと同
様の効果が得られる。図7は、そのような構成の具体例
5の回路図をトランジスタレベルで表した図である。2
入力のNORゲートは、一方の入力信号がLレベルのと
き、他方の入力信号を反転して出力するNOTゲートと
等価になる。又、一方の入力信号がHレベルであれば、
出力論理はもう一方の入力信号の如何に拘りなくLレベ
ルに固定される。すなわち、複数のNORゲートの出力
活性、不活性を共通の1つの信号で制御できる。本具体
例の場合は、図7に示すように、NORゲート1A,1
B,20にモード設定信号51の反転信号を与える。こ
のようにすると、モード設定信号51をHレベルにして
入力しきい値電圧試験の実行を指示すると、NORゲー
ト1A,1B,20が出力活性状態になる。この状態
で、3つの論理ゲート1A,1B,20が全て信号線1
16をHレベルに駆動して、信号線116上での信号衝
突がないものとする。この場合は、6つのnMOSトラ
ンジスタQN12 ,QN13 ,QN14 ,QN15 ,QN16 ,Q
N17 がオフ状態にあるので、電源端子30から信号線1
16を介してグランド端子40に至る電流経路はこれら
6つのnMOSトランジスタにより遮断され、電源電流
の増大は起らない。一方、上記3つのNORゲートが全
て信号線116をLレベルに駆動して信号線上での信号
衝突がないものとすると、3つのpMOSトランジスタ
P13 P15 ,QP17 がオフ状態にあるので、電源端子
30から信号線116を介してグランド端子40に至る
電流経路はこれら3つのpMOSトランジスタにより遮
断され、電源電流の増大はやはり起らない。
【0074】これに対し、例えばNORゲート1Aが信
号線116をHレベルに駆動し他のNORゲート1B,
20がLレベルに駆動して、信号線116上で信号衝突
が発生したとすると、NORゲート1AではpMOSト
ランジスタQP12 ,QP13 がオン状態にあり、NORゲ
ート1B,20では、nMOSトランジスタQN14 ,Q
N16 がオン状態にあるのでこれらオン状態にあるトラン
ジスタを通して、NORゲート1A側の電源端子30か
らNORゲート1B,20側のグランド端子40に電流
が流れ、電源電流が増大する。一方、例えばNORゲー
ト1Aが信号線をLレベルに駆動し他のNORゲート1
B,20が信号線116をHレベルに駆動して、信号の
衝突が発生したとする。この場合は、NORゲート1A
ではnMOSトランジスタQN12 がオン状態となり、N
ORゲート1B,20では、pMOSトランジスタQ
P14 ,QP15 ,QP16 ,QP17 がオン状態になるので、
これらオン状態にあるトランジスタを通して、NORゲ
ート1B,20側の電源端子30からNORゲート1A
側のグランド端子に電流が流れ、電源電流がやはり増大
する。これにより、電源電流の増大の有無により入力し
きい値電圧試験の「PASS」又は「FAIL」を明確
に判定できる。
【0075】このように、CMOSトランジスタ構成の
複数の論理ゲートが出力点を共通の信号線に接続されて
いるとき、その信号線上でそれぞれの論理ゲートからの
出力信号が衝突を起すと、信号線をHレベルに駆動して
いる論理ゲート側の電源端子からLレベルに駆動してい
る論理ゲート側のグランド端子に電流が流れ電源電流が
増大する。この電源電流の増大分は信号衝突のない場合
に比べて1000倍程度以上にもなるので、電源電流増
大の有無は明確に判定できる。本実施例はこのような現
象を利用して、全入力バッファに同一レベルの信号を印
加したとき、それぞれの入力バッファが期待される論理
の信号を出力しているか否かを、共通信号線上での信号
衝突の有無、すなわち電源電流の増大の有無に変換して
正確な判定を下している。
【0076】次に、本発明の第2の実施例について説明
する。これまで述べた第1の実施例は、入力バッファの
入力しきい値電圧が規格値を満たしているか否かを電源
電流の増大の有無に変換するもので、いわばスタティッ
ク動作型のものといえる。これに対し、第2の実施例
は、予め所定時間だけ充電または放電してデータを設定
した信号線にデータの変化が生じるか否かによって、全
入力バッファが入力しきい値電圧の規格を満足している
か否かを判定する、いわばダイナミック動作型というべ
きものである。従って、電圧を外部に取出し可能にした
モニター用信号線と、そのモニター用信号線を予め所定
時間充電または放電させるプリチャージ回路と、入力バ
ッファの出力信号に応じてモニター用信号線を放電また
は充電させるスイッチとを備えている。図8は、そのよ
うな構成の第2の実施例の一例(以下、具体例6と称す
る)の回路図である。図8を参照して、本具体例では、
入力バッファ107,108が試験対象のバッファであ
る。入力バッファ107は入力端子102に外部から印
加された入力信号を取り入れ、その入力信号と同相の出
力信号114をCMOSトランジスタ構成の内部回路1
13に入力する。信号114は、内部回路113に入力
されて信号処理動作をさせる。入力バッファ108は同
様に、入力端子103に入力された信号をを受けて内部
回路113に伝達する。これまでの構成は、通常のLS
Iの構成と同じである。
【0077】本具体例は、更に電圧モニター用信号線4
24と、このモニター用信号線424を予め所定の時間
充電するためのプリチャージ回路451と、充電された
モニター用信号線424を入力バッファ107の出力信
号に応じて放電させる入力部400と、外部からの制御
信号(モード設定信号51及び条件設定信号61)によ
り複数の入力部400の活性、不活性を一括制御すると
共に、VIH試験とVIL試験とを切換えるための試験信号
発生部440とを備えている。
【0078】モニター用信号線424には、その信号線
に表れるデータを保持するためのデータ保持部452が
設けられている。このデータ保持部452は、それぞれ
の入・出力点が互いに相手の出・入力点に接続された2
つのインバータ413,414からなる。モニター用信
号線424のデータは、出力バッファ453で電流増幅
され外部出力端子70を介して外部に取り出される。
【0079】プリチャージ回路451は、電源端子30
とモニター用信号線424との間に設けられたpMOS
トランジスタQP18 のオン、オフによりモニター用信号
線424を電源電圧VDDに充電する。トランジスタQ
P18 のオン、オフは2入力NANDゲート411の出力
信号レベルによって決まる。NANDゲート411は、
入力端子50に入力されたモード設定信号51を一方の
入力信号とし、モード設定信号51を遅延素子409と
インバータとで遅延、反転させた信号をもう一方の入力
信号とする。
【0080】入力部400は、モニター用信号線424
とグランド端子40との間に設けられた2つのnMOS
トランジスタQN18 ,QN19 と、それぞれのトランジス
タのオン、オフを入力バッファ107の出力論理によっ
て制御する2つのNORゲート403,404からな
る。nMOSトランジスタQN18 のオン、オフを決める
NORゲート403は、試験信号発生部440で生成さ
れる信号426と、入力バッファ107の出力信号11
4を入力とする。nMOSトランジスタQN19 のオン、
オフを決めるNORゲート404は、試験信号発生部4
40で生成される信号427と、信号114の反転信号
を入力とする。同様な入力部が、他の入力バッファ10
8とモニター用信号線424との間に設けられている。
【0081】試験信号発生部440は、入力端子50に
入力されるモード設定信号51と入力端子60に入力さ
れる条件設定信号61とを入力として、そのNAND論
理信号426を出力する2入力のNANDゲート415
と、モード設定信号51と条件設定信号61の反転信号
とを入力として、それらのNAND論理信号427を出
力する2入力のNANDゲート416とからなる。
【0082】以下に、図9を用いて、本具体例における
入力しきい値電圧試験の実行方法とその場合の回路動作
を説明する。図9は、本具体例の動作時の電圧波形を示
すタイミングチャートである。同図を参照して、先ず、
IH試験では、入力端子102,103にHレベル入力
しきい値電圧の規格電圧VstdHを印加する。この状態
で、入力端子50へのモード設定信号51をLレベルか
らHレベルに変化させてノーマルモードからテストモー
ドに切換える。更に、入力端子60への条件設定信号6
1をHレベルにして、VIH試験を実行する(図9中の期
間T501 )。すると、NANDゲート415は信号42
6をLレベルとし、NANDゲート416は信号427
をHレベルとする。
【0083】これによって、入力部400のNORゲー
ト403は入力バッファ107の出力信号114を入力
信号とするNOTゲートと等価になる。一方、入力部4
00のもう1つのNORゲート404は、Hレベルの信
号427が入力されるので、他方の入力の如何に拘らず
Lレベルの信号し、その結果、nMOSトランジスタQ
N19 が常にオフ状態となる。
【0084】又、プリチャージ回路451では、モード
設定信号51がHレベルに変化したことを受けて、遅延
素子409での遅延時間に相当する期間、NANDゲー
ト411の2つの入力信号が共にHレベルとなる。その
結果、NANDゲート411はLレベルのパルス信号を
発生し、そのLレベルの期間だけpMOSトランジスタ
P18 がオン状態となり、モニター用信号線424をH
レベル(電源電圧)にチャージする。
【0085】ここで、図9(a)を参照して、入力バッ
ファ107がVIH試験において「PASS」した場合、
すなわち入力端子102,103に印加されたHレベル
規格電圧VstdHに対し入力バッファ107のしきい値電
圧の方が低くこの入力バッファが正常動作した場合は信
号114がHレベルとなるので、入力部400のNOR
ゲート403はnMOSトランジスタQN18 のゲート入
力をLレベルとし、このnMOSトランジスタをオフ状
態に維持する。従って、pMOSトランジスタQP18
よりHレベルにチャージされた信号線424は、トラン
ジスタQP18 によるチャージが遮断された後もデータ保
持部452によってHレベルを維持し、出力バッファ4
18は判定データである信号424のHレベルを出力端
子419から外部に出力する。
【0086】次に、VIL試験(図9中の期間T502 )に
おける動作を説明する。VIH試験から引続きVIL試験を
行う場合は、モード設定信号51を一旦Lレベルに変化
させた後、条件設定信号61をLレベルに変化させる。
そして、入力端子102,103にLレベル入力しきい
値電圧の規格電圧VstdLを印加する。その後、モード設
定信号51を再度Hレベルに変化させてVIL試験を実行
する。
【0087】これによって、プリチャージ回路451
は、VIH試験のときと同様に、遅延素子409の遅延時
間に相当する期間だけモニター用信号線424をHレベ
ルにチャージする。この場合、前サイクルT501 でのV
IH試験結果が「PASS」であれば、信号線424のレ
ベルは、図9中に破線で示すように、元々Hレベルであ
る。
【0088】ここで、試験信号発生部440では、条件
設定信号61がLレベルに変化するのを受けて、NAN
Dゲート415が信号426をHレベルにする。このH
レベルの信号426が入力部400のNORゲート40
3の出力を、入力バッファ107の出力信号114の如
何に拘らずLレベルにするので、nMOSトランジスタ
N18 は常にオフ状態になる。一方、NANDゲート4
16がLレベルの信号427を出力する。その結果、入
力部400のNORゲート414は、このLレベルの信
号427により、入力バッファ107の出力信号の反転
信号を入力信号とするNOTゲートと等価になる。
【0089】この状態で、今、入力バッファ107がV
IL試験に「PASS」したとする。すなわち、入力端子
102,103に印加された規格電圧VstdLに対し入力
バッファ107の入力しきい値電圧の方が高くこの入力
バッファが正常に動作したとする。図9(a)を参照し
て、この場合、入力バッファはLレベルの信号114を
出力する。すると、NORゲート404はこのLレベル
の信号114を反転させたHレベルの信号を受けて、n
MOSトランジスタQN19 のゲート入力をLレベルに
し、このnMOSトランジスタQN19 をオフ状態に保
つ。そして、VIH試験のときと同様に、プリチャージ回
路451のpMOSトランジスタQP18 によってHレベ
ルにチャージされた信号線424の電位はそのまま保た
れ、外部端子419からは出力バッファ418を介して
Hレベルの判定出力が出力される。
【0090】これまでの動作説明は、VIH試験、VIL
験で「PASS」の場合に関するものであるが、次に試
験に「FAIL」する場合の動作説明を、この場合の電
圧波形を示す図9(b)を参照して行う。先ず、期間T
503 でのVIH試験で入力バッファ107がHレベル入力
しきい値電圧の規格電圧VstdHを満たさない場合(すな
わち、規格電圧VstdHに対し入力バッファ107の入力
しきい値電圧の方が高い場合)を考える。この場合も、
先ず試験対象の入力バッファの全てに、規格電圧VstdH
を印加する。すると入力バッファ107が誤動作を起
し、信号114をLレベルにする。ここで、モード設定
信号51及び条件設定信号61が共にHレTルとなり、
信号426をLレベルとし信号427をHレベルにする
ので、入力部400のNORゲート403はnMOSト
ランジスタQN18 のゲート入力をHレベルにする。その
結果、このnMOSトランジスタQN18 はオン状態にな
り、信号線424を接地電位(Lレベル)に駆動し続け
る。尚、NORゲート404及びその出力信号によって
オン、オフを制御されるnMOSトランジスタQN19
動作は、前述のVIH試験「PASS」の場合と変わりな
く、nMOSトランジスタQN19 はオフ状態を保つ。
【0091】一方、プリチャージ回路451では、pM
OSトランジスタQP18 が、遅延素子409の遅延時間
に相当する期間、信号線424をHレベルにチャージし
ようとする。ところがこの場合、既に述べたように、入
力部400のnMOSトランジスタQN18 が信号線42
4をLレベルに駆動しようとしているので、信号線42
4の電位は、このとき中間電位になる。しかしその後、
プリチャージ回路451による信号線424のHレベル
へのチャージが終了すると、pMOSトランジスタQ
P18 がオフ状態になるのに対し、nMOSトランジスタ
N18 は信号線424をLレベルに駆動し続けるので、
信号線424は結局Lレベルになる。その結果、出力端
子419からは、判定データであるLレベルの信号が出
力バッファ418を介して出力される。
【0092】以上の説明は、入力バッファ107のみが
IH試験で「FAIL」した場合についてのものである
が、他の1つの入力バッファが「FAIL」した場合で
あっても、又、複数の入力バッファが同時に「FAI
L」した場合であっても、入力部400内のnMOSト
ランジスタQN18 相当のnMOSトランジスタのうち少
なくとも1つがオン状態となれば、すなわち少くとも1
つの入力バッファが誤動作すれば、信号線424をLレ
ベルに駆動するので、同様にして、出力端子419にL
レベルが出力される。
【0093】次に、図9(b)中の期間T504 でのVIL
試験において入力バッファ107が「FAIL」した場
合(すなわち、Lレベル入力しきい値電圧の規格電圧V
stdLに対し、入力バッファ107の入力しきい値電圧の
方が低い場合)を考える。この場合は、入力端子10
2,103に規格電圧VstdLが印加されて入力バッファ
107が誤動作すると、この入力バッファはHレベルの
信号114を出力する。このHレベルの信号114はイ
ンバータによりLレベル信号に反転され、入力部400
のNORゲート404の一方の入力信号として入力され
る。一方、モード設定信号51がLレベルからHレベル
に変化し、条件設定信号61がHレベルからLレベルに
変化することによって、信号426はHレベルになり信
号427はHレベルになる。従って、NORゲート40
4は、2つの入力信号が共にLレベルになるので、Hレ
ベルの信号を出力nMOSトランジスタQN19 のゲート
入力をHレベルにする。その結果、入力部404内のn
MOSトランジスタQN19 がオン状態になり、信号線4
24を接地電位(Lレベル)に駆動する。以下、期間T
503 における動作と同様に、判定結果である信号線42
4のLレベル信号が、出力ハッファ418を介して出力
端子419から出力される。
【0094】以上説明したように、本具体例において
は、VIH試験であれVIL試験であれ、「PASS」の場
合、すなわち全入力バッファが規格電圧を満たしていれ
ば判定出力信号はHレベルのままであり、一方、「FA
IL」であれば、判定出力信号はLレベルに反転する。
しかもこの場合、「PASS」又は「FAIL」に対す
る判定出力信号の論理値は、図16に示した従来例5と
は異なって、入力バッファの数やVIH試験であるかVIL
試験であるかというような試験条件に左右されることな
く、常に一義的に定まる。上述したように、本具体例
は、出力端子419から出力される判定出力信号のレベ
ルを外部から観測する構成となっているが、具体的には
例えばLSIテスターが備え得ているファンクションテ
スト機能を使用すれば、容易に入力しきい値電圧試験を
実行できる。
【0095】尚、モニター用信号線424に設けたデー
タ保持部452は、本実施例がダイナミック動作型のも
のであることに鑑みて設けたものであって、信号線42
4のデータを長期間確実に保持する作用をする。しかし
ながら、これまでの説明から明かなように、このデータ
保持部452は特にこれを設けなくても、本実施例にお
ける作用、効果は何ら損われるものではない。又、本具
体例では、外部出力端子419と出力バッファ418と
は、入力しきい値電圧試験のための専用端子、専用バッ
ファとしているが、LSIの通常の信号処理動作に使用
される出力バッファと外部出力端子とを利用してもよ
い。この場合は例えば、出力バッファの前段に、モニタ
ー用信号線424からの判定結果信号を被選択信号の1
つとするセレクタを設け、モード設定信号51がHレベ
ルになったとき信号線424の信号が選択されるような
構成とすればよい。
【0096】上述の具体例5は、モニター用信号線の電
位をプリチャージ回路で予め電源電圧VDDに充電してお
き、入力バッファがしきい値電圧試験に「FAIL」の
とき信号線が放電されるように構成したものであるが、
逆に、信号線を予め接地電位に放電させておいて、その
放電された信号線のレベルが充電されるか否かによって
入力バッファの「PASS」又は「FAIL」を判定す
るように構成することもできる。図10は、そのように
構成した第2の実施例の他の具体例(以下、具体例7と
称する)の回路図である。図10を参照して、本具体例
は、試験対象の入力バッファと、その入力バッファから
の信号を受けて通常の信号処理を行う内部回路113に
加えて、モニター用信号線424と、この信号線424
を予め接地電位に放電させるプリチャージ回路601
と、放電させられた信号線424を入力バッファからの
信号に応じて電源電位に充電する入力部600と、外部
からの制御信号(入力端子50へのモード設定信号51
及び入力端子60への条件設定信号61)により複数の
入力部600の出力活性、不活性を一括制御すると共
に、VIH試験とVIL試験とを切換える試験信号発生部6
02とを備えている。
【0097】モニター用信号線424に表れる判定結果
のデータはデータ保持部603により保持されると同時
に、インバータ604を介して出力端子70から外部に
取出される。データ保持部603は信号線424と電源
端子30との間に設けられたpMOSトランジスタQ
P20 からなり、インバータ604の出力信号をゲート入
力とする。インバータ604は判定結果の出力論理が、
「PASS」のときHレベルになり「FAIL」のとき
Lレベルとなって、具体例6における出力論理と一致す
るようにするためのものである。又、判定出力信号を外
部に出力するための電流増幅を行う。
【0098】プリチャージ回路601は、グランド端子
40とモニター用信号線424との間に設けられたnM
OSトランジスタQN20 のオン、オフにより信号線42
4をグランド電位に放電させる。トランジスタQN20
オン、オフは2入力NORゲート615の出力信号レベ
ルによって決まる。NORゲート615は、入力端子5
0に入力されたモード設定信号51をインバータで反転
させた信号を一方の入力信号とし、モード設定信号51
を遅延素子613で遅延させた信号をもう一方の入力信
号とする。
【0099】入力部600は、モニター用信号線424
と電源端子30との間に設けられたpMOSトランジス
タQP19 と、出力点がトランジスタQP19 のゲート電極
に接続された2入力のNANDゲート609と、入力バ
ッファ107の出力信号114又はその反転信号のいず
れか一方を選択して出力するセレクタ607とからな
る。セレクタ607は、試験信号発生部602が生成し
た信号624がLレベルのとき信号114を選択し、信
号624がHレベルのとき信号114の反転信号を選択
してNANDゲート609に入力する。NANDゲート
609は、モード設定信号51とセレクタ607の出力
信号とのNAND論理信号をpMOSトランジスタQ
P19 のゲート入力として印加する。同様の入力部が、他
の入力バッファ108とモニター用信号線424との間
に設けられている。
【0100】試験信号発生部440は、入力端子50に
入力されるモード設定信号51と入力端子60に入力さ
れる条件設定信号61とを入力として、そのAND論理
信号424を出力する2入力のANDゲート617から
なる。
【0101】以下に、図11を参照して、本具体例にお
ける入力しきい値電圧試験の実行方法と回路動作を説明
する。図11は、本具体例の回路動作時の電圧波形を表
すタイミングチャートであって、図11(a)が試験に
「PASS」の場合、図11(b)が「FAIL」の場
合の波形である。先ず、VIH試験では、入力端子10
2,103に、Hレベル入力しきい値電圧の規格電圧V
stdHを印加する。次に、モード設定信号51及び条件設
定信号61をHレベルに変化させ、VIH試験の開始を指
示する。すると、ANDゲート617が信号624をH
レベルとするので、セレクタ607は入力信号として入
力バッファ107の出力信号114の反転信号を選択す
る。一方、モード設定信号51がHレベルであるので、
入力部600のNANDゲート609は一方の入力信号
がHレベルとなり、セレクタ607の出力信号を入力信
号とするNOTゲートと等価になっている。
【0102】ここで、図11(a)を参照して、入力バ
ッファ107正常に動作した(つまり、入力端子10
2,103に印加された規格電圧VstdHに対し、入力バ
ッファ107のしきい値電圧の方が低い)ならば、この
入力バッファ107の出力信号114がHレベルになる
ので、セレクタ607の出力信号はLレベルになる。従
って、NANDゲート609はHレベルの信号をpMO
SトランジスタQP19 のゲート電極に入力し、このトラ
ンジスタQP19 をオフ状態にする。従って、電源端子3
0からモニター用信号線424の間の充電経路は、遮断
される。
【0103】これと同時に、プリチャージ回路601で
は、モード設定信号51がHレベルに変化したことによ
って、NORゲート615の出力点には遅延素子613
の遅延時間に相当する期間、Hレベルのパルス信号が表
れる。nMOSトランジスタQN20 はこのHレベルのパ
ルス信号によりオン状態になり、モニター用信号線42
4をLレベル(接地電位)に放電させる。
【0104】このとき、試験対象の全ての入力バッファ
がVIH試験を「PASS」すれば、信号線424にはn
MOSトランジスタQN20 により放電されたLレベル
が、データ保持部604のpMOSトランジスタQP20
によって保持される。このLレベルの判定出力信号はイ
ンバータ631によりHレベルに反転され、出力端子7
0から外部に出力される。
【0105】一方、図11(b)を参照して、VIH試験
に「FAIL」した場合(つまり、入力端子102,1
03に印加した規格電圧VstdHに対し、入力バッファ1
07のしきい値電圧の方が高い場合)、入力バッファ1
07はLレベルの信号114を出力する。既に述べたよ
うに、セレクタ607は信号114の反転信号を選択し
ているので、その出力信号がHレベルになる。NAND
ゲート609はセレクタからのHレベル信号とHレベル
のモード設定信号51とによって、Lレベルの信号をp
MOSトランジスタQP19 のゲート入力として与え、こ
のトランジスタQP19 をオン状態にする。その結果、モ
ニター用信号線424の電位は電源電位VDDと接地電位
との中間の値になるが、プリチャージ回路601による
放電が終了した後は、電源電位VDDにフル充電されてH
レベルになる。このHレベルの判定出力データは、デー
タ保持部604によって保持されると共に、インバータ
601によりLレベルに反転されて出力端子70から外
部に出力される。このように、全入力バッファのうち少
なくとも1つの入力バッファがVIH試験に「FAIL」
すると、モニター用信号線に対する放電が十分に行われ
ないと共に、放電時間終了後にはその信号線が電源電位
に充電され、結果として、「FAIL」を示すLレベル
の判定出力信号が外部に出力される。
【0106】次に、VIL試験の場合は、モード設定信号
51を一旦Lレベルに設定した後、入力端子102,1
03にLレベル入力しきい値電圧の規格電圧VstdLを印
加する。次に、条件設定信号61をLレベルに変化させ
モード設定信号51を再度Hレベルに変化させて、VIL
試験の開始を指示する。すると、ANDゲート617が
信号624をLレベルとするので、セレクタ607は入
力信号として入力バッファ107の出力信号114を選
択する。一方、モード設定信号51がHレベルであるの
で、入力部600のNANDゲート609は一方の入力
信号がHレベルとなり、セレクタ607の出力信号(つ
まり、信号114)を入力信号とするNOTゲートと等
価になっている。
【0107】ここで、図11(a)を参照して、入力バ
ッファ107が正常に動作した(すなわち、入力端子1
02,103に印加された規格電圧VstdLに対し、入力
バッファ107のしきい値電圧の方が高い)ならば、入
力バッファ107の出力信号114がLレベルになるか
ら、セレクタ607の出力信号はLレベルになる。従っ
て、NANDゲート609はHレベルの信号をpMOS
トランジスタQP19 のゲート電極に入力し、このトラン
シスタQP19 をオフ状態にする。その結果、電源端子3
0からモニター用信号線424の間の充電経路は、遮断
される。
【0108】一方、モード設定信号51がHレベルに変
化したことを受けて、VIH試験におけると同様に、遅延
素子613の遅延時間に相当する期間、プリチャージ回
路601がモニター用信号線424をLレベル(接地電
位)に放電させる。
【0109】このとき、試験対象の全ての入力バッファ
がVIL試験を「PASS」すれば、信号線424にはn
MOSトランジスタQN20 により放電されたLレベル
が、データ保持部604のpMOSトランジスタQP20
によって保持される。このLレベルの判定出力信号はイ
ンバータ631によりHレベルに反転され、出力端子7
0から外部に出力される。
【0110】一方、図11(b)を参照して、VIL試験
に「FAIL」した場合(つまり、入力端子102,1
03に印加した規格電圧VstdHに対し、入力バッファ1
07のしきい値電圧の方が低い場合)、入力バッファ1
07はHレベルの信号114を出力する。既に述べたよ
うに、セレクタ607は信号114を選択しているの
で、その出力信号がHレベルになる。NANDゲート6
09はセレクタからのHレベル信号とHレベルのモード
設定信号51とによって、Lレベルの信号をpMOSト
ランジスタQP19 のゲート入力として与え、このトラン
ジスタQP19 をオン状態にする。その結果、モニター用
信号線424の電位は電源電位VDDと接地電位との中間
の電位になるが、プリチャージ回路601による放電が
終了した後は、電源電位VDDにフル充電されてHレベル
になる。このHレベルの判定出力データは、データ保持
部604によって保持されると共に、インバータ601
によりLレベルに反転されて出力端子70から外部に出
力される。このように、全入力バッファのうち少なくと
も1つの入力バッファがVIL試験に「FAIL」する
と、モニター用信号線に対する放電が十分に行われない
と共に、放電時間終了後にはその信号線が電源電位に充
電され、結果として、「FAIL」を示すLレベルの判
定出力信号が外部に出力される。
【0111】このように、本具体例においても、出力端
子70に表れるデータがHレベルであれば「PAS
S」、Lレベルであれば「FAIL」と、一義的に判定
を下すことができる。
【0112】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
入力バッファの出力信号を入力信号とする論理ゲートの
出力点と、試験条件の切換えを行う論理ゲートの出力と
を同一の信号線に接続することにより、入力しきい値電
圧試験に「PASS」時の電源電流と「FAIL」時の
電源電流との間に明確な差異を設けることができ、試験
の合否を正確に判定できる。又、LSIの外部入力端子
数(試験対象の入力バッファ数)がどれだけ多数であっ
ても、そのうちのただ一個の入力バッファが誤動作すれ
ばこれを直ちに確実に判定できる。このことにより、最
悪の特性をもつ入力バッファの実力(個々のLSIにお
ける最悪の入力しきい値電圧を、多数のLSIについて
測定したときの分布状態)も容易に測定できる。
【0113】又、本発明によれば、モニター用信号線に
プリチャージ回路で予めデータを設定し、少なくとも一
個の入力バッファが誤動作したときに、モニター用信号
線のデータを反転させるように構成することにより、試
験対象の入力バッファの数やVIH試験であるかVIL試験
であるかなどの試験条件に拘りなく、外部に出力された
判定結果の出力論理から常に一義的に合否を判定でき
る。
【0114】本発明によれば、試験の実行に必要な、各
入力端子(試験対象の入力端子およびモード設定信号、
試験条件設定信号入力用の入力端子)への信号入力制御
および合否判定をLSIテスターに行わせるとき、使用
するテストプログラム及びテストパターンは、本発明が
適用された全製品に対して共通ベース化できる。従っ
て、テストプログラム、テストパターン作成のための工
数を大幅に削減し、LSIのコストを削減することがで
きる。
【0115】又、従来の技術によれば、テストパターン
のサイクル数は入力端子数(試験対象の入力バッファ
数)に依存して、少なくとも数十万サイクルを必要とし
ていたのに対し、本発明によれば、試験は入力端子数に
依らず2サイクルで完了する。すなわち試験時間の大幅
短縮が可能であり、LSIのコスト削減に大きな効果を
発揮する。
【0116】更、本発明のLSIは、大きな駆動能力を
必要としない小規模な論理回路で構成でき、しかも入力
バッファから生成する信号は一本の配線にワイヤードO
Rで接続される。従って本発明によれば、配線数を増大
させることがない。又、試験実行を指示するためのモー
ド設定信号にとして、LSIの試験のために通常設けら
れる既存のモード設定信号を用いることが可能であるの
で、入力しきい値試験のための端子を特に設けなくても
試験を実行できる。すなわち、チップ面積延いてはチッ
プの外形寸法を大型化させることがないので、高集積度
のLSIに用いて特に有効である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の回路構成を示すブロッ
ク図である。
【図2】本発明の第1の実施例の具体例1の回路図をト
ランジスタレベルで表した図である。
【図3】図2に示す具体例1の動作時の波形を示すタイ
ミングチャート図である。
【図4】本発明の第1の実施例の具体例2の回路図であ
る。
【図5】本発明の第1の実施例の具体例3の回路図をト
ランジスタレベルで表した図である。
【図6】本発明の第1の実施例の具体例4の回路図をト
ランジスタレベルで表した図である。
【図7】本発明の第1の実施例の具体例5の回路図をト
ランジスタレベルで表した図である。
【図8】本発明の第2の実施例の具体例6の回路図をト
ランジスタレベルで表した図である。
【図9】図8に示す具体例6の動作時における電圧波形
を示すタイミングチャート図である。
【図10】本発明の第2の実施例の具体例7の回路図を
トランジスタレベルで表した図である。
【図11】図10に示す具体例7の動作時における電圧
波形を示すタイミングチャート図である。
【図12】従来例1の半導体集積回路の構成を示すブロ
ッグ図及び入力しきい値電圧試験時の電圧、電流波形を
示す図である。
【図13】従来例2の半導体集積回路の構成を示す回路
図及び入力しきい値電圧試験時の電圧、電流波形を示す
図である。
【図14】従来例3の半導体集積回路の構成を示すブロ
ック図及び入力しきい値電圧試験時の電圧、電流波形を
示す図である。
【図15】従来例4の半導体集積回路の構成を示すブロ
ック図及び入力しきい値電圧試験時の電圧、電流波形を
示す図である。
【図16】従来例5の半導体集積回路の構成を示すブロ
ック図及び入力しきい値電圧試験時の電圧、電流波形を
示す図である。
【図17】従来例1〜従来例3の半導体集積回路におい
て、入力しきい値電圧試験不合格の場合の入力電圧、電
源電流の波形を示す図である。
【符号の説明】
1A,1B 論理ゲート 11A,11B NANDゲート 12A,12B NORゲート 20 論理ゲート 30 電源端子 40 グランド端子 50,60,102,103 入力端子 51 モード設定信号 61 条件設定信号 70 出力端子 107,108 入力バッファ 101 LSI 113 内部回路 114,115 入力バッファ出力信号 116 信号線 400,600 入力部 424 モニター用信号線 440,602 試験信号発生部 451,601 プリチャージ回路 801 スイープ電圧発生回路 808 ピーク電流検出回路 807 電圧値測定回路 1214 入力電圧発生部 1222 スレショルド電圧判定部 1404 セレクタ 1607,1608,1609 NANDゲート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/092

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の入力バッファを備えるCMOSト
    ランジスタ構成のディジタル半導体集積回路において、 それぞれの入力バッファに出力論理が入力バッファの出
    力論理によって決まる第1の論理ゲートを設けると共
    に、外部からの制御信号によって決まる出力論理により
    前記第1の論理ゲートが出力すべき信号の論理を指定す
    る第2の論値ゲートを設け、 前記二つの論理ゲートの出力点を同一信号線に接続し
    て、複数の入力バッファのうち少なくとも一つが、外部
    から与えられた入力信号に対して前記制御信号から予め
    期待される論理とは異なる論理の信号を出力するとき、
    前記二つの論理ゲートの出力論理が互いに異るものとな
    って前記信号線上で信号の衝突が起り、電源電流が増大
    するように構成したことを特徴とする半導体集積回路。
  2. 【請求項2】 外部から入力される信号を受けて内部に
    伝達するための入力バッファを複数備えるCMOSトラ
    ンジスタ構成のディジタル半導体集積回路において、 前記複数の入力バッファのそれぞれに対応して設けられ
    出力の論理が入力バッファの出力論理により定まる第1
    の論理ゲートと、出力の論理が外部からの制御信号によ
    り決められる第2の論理ゲートとを設け、前記第1の論
    理ゲートの出力点と前記第2の論理ゲートの出力点とを
    共通の信号線に接続することによって、前記第1の論理
    ゲートが前記制御信号によって決められた第2の論理ゲ
    ートの出力論理とは異なる論理の信号を出力して前記共
    通の信号線上でそれぞれの論理ゲートの出力信号どうし
    の衝突が起ったとき集積回路の電源電流が定常的に増大
    するようにすると共に、前記第1の論理ゲートの出力の
    活性又は非活性が共通の信号により一括制御されるよう
    に構成して、 前記複数の入力バッファに同時に同一電位の直流入力信
    号を与えると共に前記第1の論理ゲートを一括して出力
    活性状態にすることにより、全ての入力バッファが前記
    直流入力信号に対して前記制御信号から予め期待される
    論理の信号を出力しているか否かを、前記電源電流の定
    常的増大の有無に二値化して変換し、全ての入力バッフ
    ァの入力しきい値電圧が前記直流入力信号の電位で決ま
    る値を越えているか否かを判定可能にしたことを特徴と
    する半導体集積回路。
  3. 【請求項3】 請求項1又は請求項2記載の半導体集積
    回路において、 前記第1の論理ゲートが、トライステートバッファ、ト
    ランスファゲート、クロックドインバータ、NANDゲ
    ート、NORゲート、ANDゲート及びORゲートのい
    ずれかであることを特徴とする半導体集積回路。
  4. 【請求項4】 複数の入力バッファを備えるCMOSト
    ランジスタ構成のディジタル半導体集積回路において、 外部からの制御信号に応じて電位モニター用信号線を予
    め充電し又は放電させるプリチャージ回路と、開閉状態
    を入力バッファの出力信号の論理によって制御されて前
    記信号線を放電し又は充電するスイッチとを設け、 入力バッファが外部から与えられた入力信号に対して予
    め期待される論理の信号を出力しているか否かを、前記
    予め充電され又は放電させられた電位モニター用信号線
    に論理の反転が起るか否かに二値化して変換し外部に出
    力するように構成したことを特徴とする半導体集積回
    路。
  5. 【請求項5】 外部から入力される信号を受けて内部に
    伝達するための入力バッファを複数備えるCMOSトラ
    ンジスタ構成のディジタル半導体集積回路において、 電位を外部に取出し可能にされたモニター用信号線と、
    外部からの制御信号に応じて前記モニター用信号線を予
    め定められた一定時間充電し又は放電させるプリチャー
    ジ回路とを設け、 前記モニター用信号線には、前記複数の入力バッファの
    それぞれに対応して設けられ入力バッファの出力信号の
    論理状態に応じて前記モニター用信号線と一定電位点と
    の間の電流経路をオン、オフさせるアナログスイッチを
    設けて、少なくとも一つ以上のアナログスイッチがオン
    状態であるとき前記プリチャージ回路による前記モニタ
    ー用信号線に対する充電又は放電の電流が前記一定電位
    点に流れるようにすることにより、前記一定時間の充電
    又は放電後の前記モニター用信号線の論理が、前記アナ
    ログスイッチの全てがオフ状態にあるときと少なくとも
    一つ以上がオン状態にあるときとで互いに逆転するよう
    にすると共に、 それぞれの入力バッファとアナログスイッチとの間に、
    入力バッファの出力信号に応じて前記アナログスイッチ
    の制御端子の電位を制御するスイッチ制御回路を設け、
    それぞれのスイッチ制御回路の出力の活性又は不活性が
    共通の信号により一括制御されるように構成して、 前記複数の入力バッファに同時に同一レベルの直流入力
    信号を与えると共に前記スイッチ制御回路を一括して出
    力活性状態にすることにより、全ての入力バッファが前
    記直流入力信号に対して予め期待される論理の信号を出
    力しているか否かを、前記モニター用信号線における論
    理の逆転の有無に二値化して変換し、全ての入力バッフ
    ァの入力しきい値電圧が前記直流入力信号の電位で決ま
    る電圧値を越えているか否かを判定可能にしたことを特
    徴とする半導体集積回路。
  6. 【請求項6】 請求項4又は請求項5記載の半導体集積
    回路において、 前記モニター用信号線にその信号線に表れる信号の論理
    によって決まる判定データを保持する手段を設けたこと
    を特徴とする半導体集積回路。
  7. 【請求項7】 CMOSトランジスタ構成のディジタル
    半導体集積回路において、 外部からの入力信号を受けて内部の回路に伝達する入力
    バッファと、前記入力バッファの出力信号を一方の入力
    とする2入力の第1のNORゲートと、前記第1のNO
    Rゲートの出力信号をゲート入力としソース電極が接地
    線に接続されドレイン電極がモニター用信号線に接続さ
    れたnチャネルの第1のMOSトランジスタと、前記入
    力バッファの反転出力信号を一方の入力とする2入力の
    第2のNORゲートと、前記第2のNORゲートの出力
    信号をゲート入力としソース電極が前記接地線に接続さ
    れドレイン電極が前記モニター用信号線に接続されたn
    チャネルの第2のMOSトランジスタとからなる複数の
    入力部と、 外部から入力される第1の制御信号を一方の入力とし、
    前記第1の制御信号の反転遅延信号を他方の入力とする
    2入力の第1のNANDゲートと、前記第1のNAND
    ゲートの出力信号をゲート入力としソース電極が高位電
    源線に接続されドレイン電極が前記モニター用信号線に
    接続されたpチャネルの第3のMOSトランジスタから
    なるプリチャージ回路と、 前記モニター用信号線に表れた信号を増幅して外部に出
    力するための出力バッファと、 入力点が前記モニター用信号線に接続されたインバータ
    の出力点と、出力点が前記モニター用信号線に接続され
    たインバータの入力点とを接続してなるデータ保持部
    と、 前記第1の制御信号と外部から入力される第2の制御信
    号とを入力とする2入力の第2のNANDゲートと、前
    記第2の制御信号の反転信号と前記第1の制御信号とを
    入力とする2入力の第3のNANDゲートとからなる制
    御部とを備え、 前記第2のNANDゲートの出力信号を前記入力部の第
    1のNORゲートの他方の入力とし、前記第3のNAN
    Dゲートの出力信号を前記入力部の第2のNORゲート
    の他方の入力とするように構成すると共に、前記出力バ
    ッファの出力信号を外部に取り出すように構成したこと
    を特徴とする半導体集積回路。
  8. 【請求項8】 CMOSトランジスタ構成のディジタル
    半導体集積回路において、 外部からの入力信号を受けて内部の回路に伝達する入力
    バッファと、与えられた選択信号の論理状態に応じて前
    記入力バッファの出力信号及びその反転信号のいずれか
    一方を選択して出力するセレクタと、前記セレクタの出
    力信号と外部から入力される第1の制御信号とを入力と
    する2入力のNANDゲートと、前記NANDゲートの
    出力をゲート入力としソース電極が高位電源線に接続さ
    れドレイン電極がモニター用信号線に接続されたpチャ
    ネルの第1のMOSトランジスタとからなる複数の入力
    部と、 前記第1の制御信号の反転信号と非反転遅延信号とを入
    力とする2入力のNORゲートと、前記NORゲートの
    出力信号をゲート入力としソース電極が接地線に接続さ
    れドレイン電極が前記モニター用信号線に接続されたn
    チャネルの第2のMOSトランジスタとからなるプリチ
    ャージ回路と、 前記モニター用信号線に表われる信号を反転し増幅して
    外部に出力するための反転出力バッファと、 前記モニター用信号線と前記高位電源線との間に電流経
    路を成すように設けられ前記反転出力バッファの出力信
    号をゲート入力とするpチャネルの第3のMOSトラン
    ジスタからなるデータ保持部と、 前記第1の制御信号と外部から入力される第2の制御信
    号とを入力とする2入力のANDゲートからなる制御部
    とを備え、 前記制御部のANDゲートの出力を前記選択信号として
    前記セレクタに入力するように構成すると共に、前記出
    力用の反転出力バッファの出力信号を外部に取り出すよ
    うに構成したことを特徴とする半導体集積回路。
JP6177868A 1994-07-29 1994-07-29 半導体集積回路 Expired - Fee Related JP2654352B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6177868A JP2654352B2 (ja) 1994-07-29 1994-07-29 半導体集積回路
KR1019950023742A KR100190215B1 (ko) 1994-07-29 1995-07-28 반도체 집적 회로
US08/509,616 US5633599A (en) 1994-07-29 1995-07-31 Semiconductor integrated circuit with a test circuit for input buffer threshold

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6177868A JP2654352B2 (ja) 1994-07-29 1994-07-29 半導体集積回路

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9011070A Division JP2972618B2 (ja) 1997-01-24 1997-01-24 半導体集積回路

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0843492A true JPH0843492A (ja) 1996-02-16
JP2654352B2 JP2654352B2 (ja) 1997-09-17

Family

ID=16038475

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6177868A Expired - Fee Related JP2654352B2 (ja) 1994-07-29 1994-07-29 半導体集積回路

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5633599A (ja)
JP (1) JP2654352B2 (ja)
KR (1) KR100190215B1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08114653A (ja) * 1994-10-14 1996-05-07 Nec Corp 入力レベル試験回路
JP2003512628A (ja) * 1999-10-19 2003-04-02 アトメル・コーポレイション デジタルcmosパッドのプログラマブルパラメトリックトグルテストのための装置および方法

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5796260A (en) * 1996-03-12 1998-08-18 Honeywell Inc. Parametric test circuit
US6408410B1 (en) * 1997-06-13 2002-06-18 Intel Corporation Method and apparatus for built in self-test of buffer circuits for speed related defects
US6163864A (en) * 1998-06-10 2000-12-19 Compaq Computer Corporation Method for cost-effective production testing of input voltage levels of the forwarded clock interface of high performance integrated circuits
US6067262A (en) * 1998-12-11 2000-05-23 Lsi Logic Corporation Redundancy analysis for embedded memories with built-in self test and built-in self repair
US6367042B1 (en) 1998-12-11 2002-04-02 Lsi Logic Corporation Testing methodology for embedded memories using built-in self repair and identification circuitry
US6651202B1 (en) 1999-01-26 2003-11-18 Lsi Logic Corporation Built-in self repair circuitry utilizing permanent record of defects
US6252417B1 (en) 1999-04-22 2001-06-26 International Business Machines Corporation Fault identification by voltage potential signature
US6856307B2 (en) * 2000-02-01 2005-02-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor display device and method of driving the same
US7096303B1 (en) * 2000-06-05 2006-08-22 Ati International Srl Method and apparatus for configuring an integrated bus
JP3932260B2 (ja) * 2002-02-05 2007-06-20 株式会社日立製作所 データ伝送システム
JP2007309733A (ja) * 2006-05-17 2007-11-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体集積回路および半導体集積回路の検査方法
JP2008252251A (ja) * 2007-03-29 2008-10-16 Advantest Corp スイッチ回路、信号出力装置および試験装置
WO2011045830A1 (ja) * 2009-10-13 2011-04-21 株式会社アドバンテスト 多値ドライバ回路ならびにそれを用いたシングルエンド出力ドライバ回路、差動出力ドライバ回路および試験装置
US9755644B2 (en) * 2015-09-30 2017-09-05 Lapis Semiconductor Co., Ltd. Interface circuit

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03144385A (ja) * 1989-10-31 1991-06-19 Nec Corp 半導体集積回路

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH027580A (ja) * 1988-06-27 1990-01-11 Nec Corp 半導体光結合素子
DE68928837T2 (de) * 1988-09-07 1999-05-12 Texas Instruments Inc Prüf-Puffer/Register
JPH02291164A (ja) * 1989-04-28 1990-11-30 Nec Corp 半導体集積回路装置
US5023485A (en) * 1989-12-04 1991-06-11 Texas Instruments Incorporated Method and circuitry for testing a programmable logic device
US5077521A (en) * 1989-12-26 1991-12-31 Ncr Corporation Supply connection integrity monitor
JP2598710B2 (ja) * 1990-01-18 1997-04-09 ローム株式会社 Icの入力スレショルド測定装置
JPH04194677A (ja) * 1990-11-27 1992-07-14 Fujitsu Ltd 半導体集積回路の閾値電圧測定方法
JPH04359175A (ja) * 1991-06-06 1992-12-11 Nec Corp 半導体集積回路
US5369645A (en) * 1991-07-02 1994-11-29 Hewlett-Packard Company Testing integrated circuit pad input and output structures
JPH0519028A (ja) * 1991-07-11 1993-01-26 Nec Corp 論理回路試験装置および論理回路の試験方法
JPH05282898A (ja) * 1992-03-30 1993-10-29 Hitachi Ltd 半導体記憶装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03144385A (ja) * 1989-10-31 1991-06-19 Nec Corp 半導体集積回路

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08114653A (ja) * 1994-10-14 1996-05-07 Nec Corp 入力レベル試験回路
JP2003512628A (ja) * 1999-10-19 2003-04-02 アトメル・コーポレイション デジタルcmosパッドのプログラマブルパラメトリックトグルテストのための装置および方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR960005921A (ko) 1996-02-23
US5633599A (en) 1997-05-27
JP2654352B2 (ja) 1997-09-17
KR100190215B1 (ko) 1999-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0843492A (ja) 半導体集積回路
US8621297B2 (en) Scan path switches selectively connecting input buffer and test leads
JP2647546B2 (ja) 半導体記憶装置のテスト方法
EP0322901A2 (en) Semiconductor integrated circuit
JPH0582612A (ja) プロセスモニタ回路及び方法
US6944810B2 (en) Method and apparatus for the testing of input/output drivers of a circuit
JPH0954140A (ja) 半導体集積回路のテスト方法および装置
US7332938B2 (en) Domino logic testing systems and methods
US6487688B1 (en) Method for testing circuits with tri-state drivers and circuit for use therewith
US5672982A (en) Semiconductor integrated circuit
US7071704B1 (en) Circuit for improved diagnosability of defects in a fuse scan structure
US6237115B1 (en) Design for testability in very high speed memory
US5471153A (en) Methods and circuits for testing open collectors and open drains
JPH0666898A (ja) 半導体集積回路
US20070011529A1 (en) Semiconductor device and test method thereof
US6107814A (en) Methods and circuits for testing open collectors and open drains
JPH0675022A (ja) 半導体集積回路装置及びその試験方法
US5570036A (en) CMOS buffer circuit having power-down feature
JP2972618B2 (ja) 半導体集積回路
US11848066B2 (en) Programmable logic device with design for test functionality
JP3395773B2 (ja) 半導体装置
JP2848441B2 (ja) Cmos半導体装置
WO2005015742A1 (ja) クロック入出力装置
EP1431771B1 (en) Probeless testing of pad buffers on a wafer
JPH05275621A (ja) 半導体集積回路

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19970422

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees