JPH0840976A - ｏ−クロロメチル安息香酸クロリドの製造方法 - Google Patents
ｏ−クロロメチル安息香酸クロリドの製造方法Info
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- JPH0840976A JPH0840976A JP7080998A JP8099895A JPH0840976A JP H0840976 A JPH0840976 A JP H0840976A JP 7080998 A JP7080998 A JP 7080998A JP 8099895 A JP8099895 A JP 8099895A JP H0840976 A JPH0840976 A JP H0840976A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/29—Saturated compounds containing keto groups bound to rings
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07C51/58—Preparation of carboxylic acid halides
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来の欠点を有さない、工業的に使用可能な
ハロゲンカルボン酸クロリドを製造すること。 【構成】 式Ｉ 【化１】 で示され、式中ｍが０または１−４の整数を示し、Ｘが
ハロゲンまたはＣ−有機基を示すｏ−クロロメチル安息
香酸クロリドの製造方法であって、式ＩＩ 【化２】 で示されるラクトンを触媒の存在下に塩化チオニルと反
応させることを特徴とする、ｏ−クロロメチル安息香酸
クロリドの製造方法。
ハロゲンカルボン酸クロリドを製造すること。 【構成】 式Ｉ 【化１】 で示され、式中ｍが０または１−４の整数を示し、Ｘが
ハロゲンまたはＣ−有機基を示すｏ−クロロメチル安息
香酸クロリドの製造方法であって、式ＩＩ 【化２】 で示されるラクトンを触媒の存在下に塩化チオニルと反
応させることを特徴とする、ｏ−クロロメチル安息香酸
クロリドの製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はｏ−クロロメチル安息香
酸クロリドの製造方法に関する。
酸クロリドの製造方法に関する。
【０００２】
【従来技術】触媒としてのピリジン（米国特許第２７７
８８５２号明細書）、第四アンモニウム塩（ドイツ特許
出願公開第３６２４２５８号公報）または酸化ホスフィ
ン（ドイツ特許出願公開第３９２７１４６号公報）の存
在下に行う脂肪族ラクトンとホスゲンとの反応は文献公
知である。更に、塩化亜鉛ＩＩの存在下に五塩化燐を使
用してフタリドを反応させ、ｏ−クロロメチル安息香酸
クロリドを得る旨の記載がある［ＣＡ １０６：８６，
３０７ｙ（１９８７）］。
８８５２号明細書）、第四アンモニウム塩（ドイツ特許
出願公開第３６２４２５８号公報）または酸化ホスフィ
ン（ドイツ特許出願公開第３９２７１４６号公報）の存
在下に行う脂肪族ラクトンとホスゲンとの反応は文献公
知である。更に、塩化亜鉛ＩＩの存在下に五塩化燐を使
用してフタリドを反応させ、ｏ−クロロメチル安息香酸
クロリドを得る旨の記載がある［ＣＡ １０６：８６，
３０７ｙ（１９８７）］。
【０００３】ホスゲンおよび五塩化燐は、対応するカル
ボン酸クロリドの工業的製造を考慮すると、その毒性ま
たはこれから発生する分解生成物の毒性の点で憂慮され
る。ホスゲン化は、例えばヨーロッパ特許出願公開第５
８３５８９号公報に記載されるように、１７０℃におい
て実施される。つまり排ガスからホスゲンを凝縮するた
めには−７０℃まで冷却する必要があり、費用がかさ
む。それ以上に、このような製造に対する安全課題が非
常に高いので、経済的な新投資は可能性がない。更にホ
スゲンによる実行では、技術的設備中では通常、実験室
の基準において使用される過剰量を確実に上回る過剰の
ホスゲンを使用することになる。ホスゲン化による生成
物の輸送においても、ホスゲンの限界値に関する高い安
全性の要求があるので、窒素により残留量のホスゲン
を、しばしば高額を費やして除外する必要がある。工業
的基準で五塩化燐を使用すると、重視される廃水問題に
おいて廃水を汚染する燐含有老廃物、例えば燐酸および
燐酸エステルを形成するので通常は使用しない。
ボン酸クロリドの工業的製造を考慮すると、その毒性ま
たはこれから発生する分解生成物の毒性の点で憂慮され
る。ホスゲン化は、例えばヨーロッパ特許出願公開第５
８３５８９号公報に記載されるように、１７０℃におい
て実施される。つまり排ガスからホスゲンを凝縮するた
めには−７０℃まで冷却する必要があり、費用がかさ
む。それ以上に、このような製造に対する安全課題が非
常に高いので、経済的な新投資は可能性がない。更にホ
スゲンによる実行では、技術的設備中では通常、実験室
の基準において使用される過剰量を確実に上回る過剰の
ホスゲンを使用することになる。ホスゲン化による生成
物の輸送においても、ホスゲンの限界値に関する高い安
全性の要求があるので、窒素により残留量のホスゲン
を、しばしば高額を費やして除外する必要がある。工業
的基準で五塩化燐を使用すると、重視される廃水問題に
おいて廃水を汚染する燐含有老廃物、例えば燐酸および
燐酸エステルを形成するので通常は使用しない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、本発明は上
述の欠点を有さず、工業的に使用可能なハロゲンカルボ
ン酸クロリドを製造することをその課題とする。
述の欠点を有さず、工業的に使用可能なハロゲンカルボ
ン酸クロリドを製造することをその課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、式
Ｉ
Ｉ
【０００６】
【化３】 で示され、式中ｍが０または１−４の整数を示し、Ｘが
ハロゲンまたはＣ−有機基を示すｏ−クロロメチル安息
香酸クロリドの製造方法であって、式ＩＩ
ハロゲンまたはＣ−有機基を示すｏ−クロロメチル安息
香酸クロリドの製造方法であって、式ＩＩ
【０００７】
【化４】 で示される対応するラクトンを触媒の存在下に塩化チオ
ニルと反応させることを特徴とする、ｏ−クロロメチル
安息香酸クロリドの製造方法により解決されることが本
発明者等により見出された。
ニルと反応させることを特徴とする、ｏ−クロロメチル
安息香酸クロリドの製造方法により解決されることが本
発明者等により見出された。
【０００８】
【化５】 上記反応は一般的に最低温度８０℃が必要であり、温度
を上げると反応速度も早まる。３００℃より高温では分
解が促進され、３５０℃以上では生成物の収量が著しく
減少する。
を上げると反応速度も早まる。３００℃より高温では分
解が促進され、３５０℃以上では生成物の収量が著しく
減少する。
【０００９】したがって反応は一般的に８０−２４０℃
で、好ましくは１３０−２００℃で、ことに好ましくは
１６０−１９０℃で行われる。
で、好ましくは１３０−２００℃で、ことに好ましくは
１６０−１９０℃で行われる。
【００１０】触媒としてはことに有機窒素化合物が適し
ており、例えば窒素含有芳香族または脂肪族複素環化合
物、例えばピラゾール、イミダゾール、ピリジン、ピリ
ミジン、ピラジン、インドール、キノリン、ピペリジ
ン、ピペラジンおよびモルホリンが、もしくは対応する
アルキル置換複素環化合物（例えば１−メチルイミダゾ
ール、メチルピリジン、ジメチルピリジン、１−デシル
イミダゾール、Ｎーメチルピペリジン、Ｎ，Ｎ′−ジメ
チルピペラジン、Ｎ−メチルモルホリン）、第三級脂肪
族または芳香族アミン、例えばトリ−（Ｃ1−Ｃ6アルキ
ル）アミン（トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リプロピルアミン、トリ−（１−メチルエチル）アミ
ン、トリブチルアミン、トリ−（１−メチルプロピル）
アミン、トリ−（２−メチルプロピル）アミン、Ｎ、Ｎ
−ジメチルアニリンまたはアミン（これらは１−６個の
炭素原子を有する２−３個の異なるアルキル基、または
１−６個の炭素原子を有する２個の同じかまたは異なる
アルキル基、または１−６個の炭素原子を有する２個の
同じかまたは異なるアルキル基およびフェニル基または
ベンジル基などの１個アリール基を有してもよい）、並
びに対応する第四級アンモニウム塩、ことに第四級塩化
アンモニウム（例えば塩化テトラメチルアンモニウム、
塩化テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチ
ルアンモニウム）、Ｎ，Ｎ′−テトラ−（Ｃ1−Ｃ6アル
キル／アリール）尿素またはＮ，Ｎ′−テトラ−（Ｃ1
−Ｃ6アルキル／アリール）グアニジン（例えばＮ，
Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル尿素、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，
Ｎ′−テトラブチル尿素、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−Ｎ，
Ｎ′−ジフェニル尿素、テトラメチルグアニジン、テト
ラフェニルグアニジン）ならびにことにＮ，Ｎ−ジ−
（Ｃ1−Ｃ6アルキル／アリール）ホルムアミド（例えば
ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジプロ
ピルホルムアミド、ジ−（１−メチルエチル）ホルムア
ミド、ジブチルホルムアミド、ジ−（１−メチルプロピ
ル）ホルムアミド、ジ−（２−メチルプロピル）ホルム
アミド、メチルフェニルホルムアミド）が使用される。
ており、例えば窒素含有芳香族または脂肪族複素環化合
物、例えばピラゾール、イミダゾール、ピリジン、ピリ
ミジン、ピラジン、インドール、キノリン、ピペリジ
ン、ピペラジンおよびモルホリンが、もしくは対応する
アルキル置換複素環化合物（例えば１−メチルイミダゾ
ール、メチルピリジン、ジメチルピリジン、１−デシル
イミダゾール、Ｎーメチルピペリジン、Ｎ，Ｎ′−ジメ
チルピペラジン、Ｎ−メチルモルホリン）、第三級脂肪
族または芳香族アミン、例えばトリ−（Ｃ1−Ｃ6アルキ
ル）アミン（トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リプロピルアミン、トリ−（１−メチルエチル）アミ
ン、トリブチルアミン、トリ−（１−メチルプロピル）
アミン、トリ−（２−メチルプロピル）アミン、Ｎ、Ｎ
−ジメチルアニリンまたはアミン（これらは１−６個の
炭素原子を有する２−３個の異なるアルキル基、または
１−６個の炭素原子を有する２個の同じかまたは異なる
アルキル基、または１−６個の炭素原子を有する２個の
同じかまたは異なるアルキル基およびフェニル基または
ベンジル基などの１個アリール基を有してもよい）、並
びに対応する第四級アンモニウム塩、ことに第四級塩化
アンモニウム（例えば塩化テトラメチルアンモニウム、
塩化テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチ
ルアンモニウム）、Ｎ，Ｎ′−テトラ−（Ｃ1−Ｃ6アル
キル／アリール）尿素またはＮ，Ｎ′−テトラ−（Ｃ1
−Ｃ6アルキル／アリール）グアニジン（例えばＮ，
Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル尿素、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，
Ｎ′−テトラブチル尿素、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−Ｎ，
Ｎ′−ジフェニル尿素、テトラメチルグアニジン、テト
ラフェニルグアニジン）ならびにことにＮ，Ｎ−ジ−
（Ｃ1−Ｃ6アルキル／アリール）ホルムアミド（例えば
ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジプロ
ピルホルムアミド、ジ−（１−メチルエチル）ホルムア
ミド、ジブチルホルムアミド、ジ−（１−メチルプロピ
ル）ホルムアミド、ジ−（２−メチルプロピル）ホルム
アミド、メチルフェニルホルムアミド）が使用される。
【００１１】使用するラクトンに対する触媒の使用量は
０．１モル以上である。一般的に触媒の量を増やすと反
応速度が加速する。しかしながら、通常、約２５モル％
を上回ると、顕著に反応速度が加速することはない。
０．１モル以上である。一般的に触媒の量を増やすと反
応速度が加速する。しかしながら、通常、約２５モル％
を上回ると、顕著に反応速度が加速することはない。
【００１２】したがって、一般的にはラクトンＩＩの使
用量に対して０．１−２５モル％、好ましくは０．１５
−１０モル％、ことに０．５−５モル％の触媒が使用さ
れる。
用量に対して０．１−２５モル％、好ましくは０．１５
−１０モル％、ことに０．５−５モル％の触媒が使用さ
れる。
【００１３】ラクトンに対する溶媒として塩化チオニル
を同時に使用することもでき、このような場合には対応
する過剰量が使用され、過剰の程度はラクトンの溶解特
性により調整する。一般的にはラクトン１モルにつき１
０モル未満過剰の塩化チオニルＩＩが使用される。反応
が不活性溶媒中で行われる限り、少量の塩化チオニルが
使用される。
を同時に使用することもでき、このような場合には対応
する過剰量が使用され、過剰の程度はラクトンの溶解特
性により調整する。一般的にはラクトン１モルにつき１
０モル未満過剰の塩化チオニルＩＩが使用される。反応
が不活性溶媒中で行われる限り、少量の塩化チオニルが
使用される。
【００１４】１モルのラクトンＩＩあたり一般的には
０．８−１０モル、好ましくは０．８−５モル、ことに
１−２モルの塩化チオニルが使用される。
０．８−１０モル、好ましくは０．８−５モル、ことに
１−２モルの塩化チオニルが使用される。
【００１５】反応は常圧で、または加圧して行うことが
可能である（好ましくは０．０１−５０バール、ことに
０．１−５バール加圧）。
可能である（好ましくは０．０１−５０バール、ことに
０．１−５バール加圧）。
【００１６】常圧で行う反応を遂行する際に、塩化水素
または塩化チオニルから塩化水素を遊離させる化合物の
存在下に反応を行うとことに有利であることが証明され
ている。これらを添加することにより反応が著しく加速
され、生成量が増大する。塩化水素遊離化合物として
は、ことに水が好適に使用される。
または塩化チオニルから塩化水素を遊離させる化合物の
存在下に反応を行うとことに有利であることが証明され
ている。これらを添加することにより反応が著しく加速
され、生成量が増大する。塩化水素遊離化合物として
は、ことに水が好適に使用される。
【００１７】塩化水素の存在下に反応を行う場合、ラク
トンＩＩに対して５−１００モル％、好ましくは１０−
５０モル％、ことに２０−４０モル％の塩化水素を使用
する。大量の塩化水素を使用すると、一方では経済的に
不利であり、他方では望ましくない「ストリップ効果」
が現れ、大量の塩化チオニルが沸騰した際に流出し、冷
却装置に流入してしまう。この効果は収量の損失につな
がる。
トンＩＩに対して５−１００モル％、好ましくは１０−
５０モル％、ことに２０−４０モル％の塩化水素を使用
する。大量の塩化水素を使用すると、一方では経済的に
不利であり、他方では望ましくない「ストリップ効果」
が現れ、大量の塩化チオニルが沸騰した際に流出し、冷
却装置に流入してしまう。この効果は収量の損失につな
がる。
【００１８】水を塩化水素遊離化合物として使用する場
合は、０．５−５０重量％、好ましくは０．５−２５重
量％、ことに１−２５が重量％が用いられる。
合は、０．５−５０重量％、好ましくは０．５−２５重
量％、ことに１−２５が重量％が用いられる。
【００１９】本発明の方法では一般的に、不活性溶媒を
含有してもよいラクトンＩＩと触媒の混合物に必要量の
塩化チオニルを反応温度で少しずつ添加する。この際、
留去された塩化チオニルを反応に引き戻し使用すること
が可能である。
含有してもよいラクトンＩＩと触媒の混合物に必要量の
塩化チオニルを反応温度で少しずつ添加する。この際、
留去された塩化チオニルを反応に引き戻し使用すること
が可能である。
【００２０】付加的に塩化水素または塩化水素遊離化合
物を使用する場合は、塩化チオニルと同時に、しかしな
がら別々に添加する。
物を使用する場合は、塩化チオニルと同時に、しかしな
がら別々に添加する。
【００２１】塩化チオニルを溶媒として使用する場合
は、ラクトンＩＩに塩化チオニルをあらかじめ添加し、
１２０−１７０℃で、場合によっては水または塩化水素
遊離化合物を添加する。
は、ラクトンＩＩに塩化チオニルをあらかじめ添加し、
１２０−１７０℃で、場合によっては水または塩化水素
遊離化合物を添加する。
【００２２】不活性溶媒（希釈剤）としては、原則的に
反応条件下において不活性状態をとり、その沸点により
必要な反応温度が得られるすべての有機溶剤が使用可能
である。このような溶媒の例としては、高沸点炭化水
素、例えばクモール、パラフィン油およびナフタリン、
または塩素化炭化水素、例えばジクロロベンゼンまたは
トリクロロベンゼンが使用される。
反応条件下において不活性状態をとり、その沸点により
必要な反応温度が得られるすべての有機溶剤が使用可能
である。このような溶媒の例としては、高沸点炭化水
素、例えばクモール、パラフィン油およびナフタリン、
または塩素化炭化水素、例えばジクロロベンゼンまたは
トリクロロベンゼンが使用される。
【００２３】反応の完了後、過剰の塩化チオニルおよび
場合によっては溶剤を（場合によっては減圧下に）蒸留
除去する。生成物を分別蒸留により純粋にする。
場合によっては溶剤を（場合によっては減圧下に）蒸留
除去する。生成物を分別蒸留により純粋にする。
【００２４】本発明の方法は式Ｉ
【００２５】
【化６】 で示され、式中ｍが０または１−４の整数を示し、Ｘが
ハロゲンまたはＣ−有機基を示し、ｍの値が１よりも大
きい場合はＸで表される基が異なってもよい、ｏ−クロ
ロメチル安息香酸クロリドを製造するために適してい
る。
ハロゲンまたはＣ−有機基を示し、ｍの値が１よりも大
きい場合はＸで表される基が異なってもよい、ｏ−クロ
ロメチル安息香酸クロリドを製造するために適してい
る。
【００２６】ここでハロゲンとしては、弗素、塩素、臭
素、沃素、好ましくは弗素、塩素、臭素、ことに弗素、
塩素を意味する。Ｃ−有機基としては、原則的に反応条
件下において不活性状態をとるすべての基が使用され
る。この例としては、例えば炭素原子数１−２０のアル
キル基、好ましくは直鎖状または分岐状の炭素原子数１
−８の、ことに１−６のアルキル基、例えば炭素原子数
２−２０のアルケニル基、好ましくは直鎖状または分岐
状の炭素原子数２−８の、ことに２−６のアルケニル
基、例えば炭素原子数２−２０のアルキニル基、好まし
くは直鎖状または分岐状の炭素原子数２−８の、ことに
２−６のアルキニル基、を使用可能であり、上述の基は
部分的にまたは完全にハロゲン化されてもよくおよび／
またはさらに反応条件下で安定な基を有してもよい（例
えばシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール）。
素、沃素、好ましくは弗素、塩素、臭素、ことに弗素、
塩素を意味する。Ｃ−有機基としては、原則的に反応条
件下において不活性状態をとるすべての基が使用され
る。この例としては、例えば炭素原子数１−２０のアル
キル基、好ましくは直鎖状または分岐状の炭素原子数１
−８の、ことに１−６のアルキル基、例えば炭素原子数
２−２０のアルケニル基、好ましくは直鎖状または分岐
状の炭素原子数２−８の、ことに２−６のアルケニル
基、例えば炭素原子数２−２０のアルキニル基、好まし
くは直鎖状または分岐状の炭素原子数２−８の、ことに
２−６のアルキニル基、を使用可能であり、上述の基は
部分的にまたは完全にハロゲン化されてもよくおよび／
またはさらに反応条件下で安定な基を有してもよい（例
えばシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール）。
【００２７】Ｃ−有機基の更なる例としては、例えば炭
素原子数３−１０のシクロアルキル基、好ましくはＣ3
−Ｃ7シクロアルキル基、アリール基、例えばフェニ
ル、ナフチルまたはアントリル、が挙げられ、ここで上
述の環状基は部分的または完全にハロゲン化されてもよ
くおよび／または更に反応条件下において安定な基を有
してもよい（たとえばアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリー
ル）。
素原子数３−１０のシクロアルキル基、好ましくはＣ3
−Ｃ7シクロアルキル基、アリール基、例えばフェニ
ル、ナフチルまたはアントリル、が挙げられ、ここで上
述の環状基は部分的または完全にハロゲン化されてもよ
くおよび／または更に反応条件下において安定な基を有
してもよい（たとえばアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリー
ル）。
【００２８】更に、ｍが２以上の場合のＣ−有機基とし
て、炭素原子数１−６（好ましくは炭素原子数１、３、
４）のアルキレン鎖、または炭素原子数４のアルケニレ
ン鎖（例えばブト−１−エン−１，４−ジニル、ブト−
２−エン−１，４−ジニルまたはブタ−１，３−ジエン
−１，４−ジニル）が使用され、この時フェニル環の隣
接する位置が結合され、これらの基は部分的にまたは完
全にハロゲン化されていてもよくおよび／または更に反
応条件下において安定な基を有してもよい（例えばアル
キル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリ
ールまたはヘテロアリール） 本発明による方法により得られるｏ−クロロメチル安息
香酸クロリドは、染料、薬剤、およびことに植物保護剤
の合成用の重要な中間生成物である。
て、炭素原子数１−６（好ましくは炭素原子数１、３、
４）のアルキレン鎖、または炭素原子数４のアルケニレ
ン鎖（例えばブト−１−エン−１，４−ジニル、ブト−
２−エン−１，４−ジニルまたはブタ−１，３−ジエン
−１，４−ジニル）が使用され、この時フェニル環の隣
接する位置が結合され、これらの基は部分的にまたは完
全にハロゲン化されていてもよくおよび／または更に反
応条件下において安定な基を有してもよい（例えばアル
キル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリ
ールまたはヘテロアリール） 本発明による方法により得られるｏ−クロロメチル安息
香酸クロリドは、染料、薬剤、およびことに植物保護剤
の合成用の重要な中間生成物である。
【００２９】
【実施例】方法実施例 一般的方法規定 冷却装置を有し塩化水素または水を給送可能な攪拌反応
器に、ｘｇのフタリドと１５モル％の触媒を導入した。
この混合物を内部温度１６０−１８０℃に過熱し、この
温度においてｔ時間でｙｇの塩化チオニルを、および１
時間ごとに約５−１０リットルの塩化水素（ガス状）を
添加した。この反応において蒸留除去した塩化水素を濃
縮し、反応に戻し使用した。
器に、ｘｇのフタリドと１５モル％の触媒を導入した。
この混合物を内部温度１６０−１８０℃に過熱し、この
温度においてｔ時間でｙｇの塩化チオニルを、および１
時間ごとに約５−１０リットルの塩化水素（ガス状）を
添加した。この反応において蒸留除去した塩化水素を濃
縮し、反応に戻し使用した。
【００３０】反応終了後、反応混合物を更に１時間反応
温度に保持し、この後、過剰の塩化チオニルを蒸留除去
した。分別蒸留により純粋な生成物を得た。
温度に保持し、この後、過剰の塩化チオニルを蒸留除去
した。分別蒸留により純粋な生成物を得た。
【００３１】実験の詳細を以下の表に示す（実施例１−
５）。
５）。
【００３２】
【表１】
【００３３】実施例６ 冷却装置を有し塩化水素または水を給送可能な攪拌反応
器（攪拌機能を有するオートクレーブ）中、１３４ｇ
（０．１モル）のフタリドと０．１モル％の触媒（ジメ
チルホルムアミド）を１１９ｇ（０．１モル）の塩化チ
オニルに溶解し、加圧下に１６０℃に過熱した。この温
度で８時間攪拌し、次いで冷却した。この後、分別蒸留
し、分離した塩化チオニルを再び使用した。 収量：１５．８ｇ（８３．７％、２−クロロメチル−ベ
ンゾイルクロリド）。 沸点：１２０℃−１２５℃（１０ｍｂａｒの場合）。
器（攪拌機能を有するオートクレーブ）中、１３４ｇ
（０．１モル）のフタリドと０．１モル％の触媒（ジメ
チルホルムアミド）を１１９ｇ（０．１モル）の塩化チ
オニルに溶解し、加圧下に１６０℃に過熱した。この温
度で８時間攪拌し、次いで冷却した。この後、分別蒸留
し、分離した塩化チオニルを再び使用した。 収量：１５．８ｇ（８３．７％、２−クロロメチル−ベ
ンゾイルクロリド）。 沸点：１２０℃−１２５℃（１０ｍｂａｒの場合）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ミヒャエル、カイル ドイツ、67251、フラインスハイム、フォ ンターネシュトラーセ、４ (72)発明者 トーマス、ヴェトリング ドイツ、67117、リムブルガーホーフ、ト リフェルスリング、11
Claims (7)
- 【請求項１】 式Ｉ 【化１】 で示され、式中ｍが０または１−４の整数を示し、 ＸがハロゲンまたはＣ−有機基を示すｏ−クロロメチル
安息香酸クロリドの製造方法であって、式ＩＩ 【化２】 で示される対応するラクトンを触媒の存在下に塩化チオ
ニルと反応させることを特徴とする、ｏ−クロロメチル
安息香酸クロリドの製造方法。 - 【請求項２】 反応を８０℃−２４０℃の温度で遂行す
ることを特徴とする、請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 触媒として有機窒素化合物を使用するこ
とを特徴とする、請求項１に記載の方法。 - 【請求項４】 １モルのラクトンＩＩにつき０．５−２
５モル％の触媒を使用することを特徴とする、請求項１
に記載の方法。 - 【請求項５】 １モルのラクトンＩＩにつき０．８−１
０モルの塩化チオニルを使用することを特徴とする、請
求項１に記載の方法。 - 【請求項６】 使用する塩化チオニルに対して５−１０
０モル％の塩化水素または塩化チオニルから塩化水素を
遊離させる化合物の存在下に反応を遂行することを特徴
とする、請求項１に記載の方法。 - 【請求項７】 使用する塩化チオニルに対して５重量％
までの水の存在下に反応を遂行することを特徴とする、
請求項１に記載の方法。
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