JPH08321505A - バンプの構造とその形成方法 - Google Patents
バンプの構造とその形成方法Info
- Publication number
- JPH08321505A JPH08321505A JP7127948A JP12794895A JPH08321505A JP H08321505 A JPH08321505 A JP H08321505A JP 7127948 A JP7127948 A JP 7127948A JP 12794895 A JP12794895 A JP 12794895A JP H08321505 A JPH08321505 A JP H08321505A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adhesive resin
- bump
- solder
- resin layer
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 42
- 238000010276 construction Methods 0.000 title abstract 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims abstract description 57
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 claims abstract description 30
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 claims abstract description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims abstract description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 10
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 10
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 17
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 abstract description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 abstract description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 9
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/11—Manufacturing methods
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3457—Solder materials or compositions; Methods of application thereof
- H05K3/3478—Applying solder preforms; Transferring prefabricated solder patterns
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
構造、及びその構造を得るための簡略化されたプロセス
を提供する。 【構成】 集積回路チップまたは基板1に設けられた電
極パッド2上に、印刷法、ディスペンサー法等によっ
て、導電性を有しかつ数μm 〜10μm の厚さの接着樹
脂パッド3を設け、この接着樹脂パッド3上に半田ボー
ルが固着され、この半田ボールを溶融して半田バンプ4
とする。ここで接着樹脂パッド3として導電性及び感光
性を有する樹脂を用いる場合は、接着樹脂パッド3をフ
ォトリソグラフィー法を用いて形成してもよい。
Description
基板または集積回路チップキャリアの実装方法に関し、
特にフェイスダウン接続法におけるバンプの構造及びそ
の形成方法に関する。
ているバンプは、図4に示すように、集積回路チップま
たは配線基板1上のAl等からなる電極パッド2に、ま
ずバリアメタル層A8として密着性の良い金属、例えば
Ti,Pd等をスパッタ法、蒸着法によって形成する。
その上に半田とのぬれ性がよいNi,Cu等のバリアメ
タル層B9を、やはりスパッタ法、蒸着法、もしくはメ
ッキ法等で形成する。さらに、バリアメタルの酸化を防
止し、半田が確実にぬれるようにするため、1μm 程度
の薄いAu層10をメッキ法、蒸着法等により形成す
る。この後、半田を電解メッキ法、半田テープを用いた
打ち抜き法、半田ペーストの印刷法、半田ボール法等に
より形成し、半田の融点以上まで加熱し溶融するウェッ
トバック工程により、半田を半球状化して半田バンプ4
とする。半田バンプ4の組成は、例えばPb/Sn=3
7/63wt%(共晶半田:融点183℃)またはPb
/Sn=95/5wt%(高融点半田:融点310℃)
等が用いられる。
A,Bを設けることにより、半田バンプ4と電極パッド
2が直接接触してぬれ性が低下し、接続不良になること
を防止している。
に記載されている他の従来技術を示している。集積回路
チップまたは配線基板1上にアルミニウム等よりなる電
極パッド2を設け(図5(a))、チップ1の全面に導
電性樹脂3′を塗布後(図5(b))、フォトマスク1
1を用いて導電性樹脂3′に光を照射し、電極パッド2
の上だけ導電性樹脂3′が残るようにパターニングし
(図5(c))、電極パッド2上にバンプ12が形成さ
れる(図5(d))。バンプの高さを考慮すれば、導電
性樹脂の膜厚は厚く(約30μm 以上)する必要があ
る。
ているために弾力性を有し、高さのばらつきを吸収する
ことができ、かつ挟ピッチパターンが可能となる、プロ
セスが簡単になりコストの低減が可能になるという利点
もある。
術では、半田バンプを電解メッキで形成する場合、その
高さは±10μm 程度、組成は目標組成によっては±1
0%以上ばらつくことが多く、このばらつきを制御する
ことが非常に困難であるという問題があった。半田テー
プを用いた打ち抜き法の場合は、1バンプずつ形成しな
ければならないために時間とコストがかかってしまい、
半田ペーストの印刷による場合はピッチ限界は300μ
m 程度であるため挟ピッチで均一量のペーストを印刷す
るのが困難である。半田ボールを用いる場合は、例えば
ボール径の精度が±5μm であれば高さのばらつきも±
5μm 程度に押さえることが可能であるという利点はあ
るが、その仮固定のため、半田ペーストの予備半田印
刷、フラックスの塗布あるいは印刷の工程が必要とな
り、加えて挟ピッチ、多ピンのパターンに効率的に半田
ボールを供給することが困難であるという問題があっ
た。
リアメタルが必要不可欠となり、プロセスが複雑で高コ
ストであるという問題もある。
厚が厚くなると樹脂中の導電粒子の量が多くなりすぎ、
導電性樹脂に光を当てても光が樹脂中に十分届かずに露
光不足となり、パターニングができなくなることがあ
る。露光を十分に行えるようにするために樹脂中の導電
粒子の量を少なくすると、パターニングは改良されても
導電性が悪くなってしまうという問題がある。導電性、
パターニングを共に満足させるためには樹脂層の高さを
数μm 〜10μm 程度にしなければならないが、この膜
厚ではバンプとしては高さが不足してしまうため望まし
くない。
低コストなバンプの構造、及びその構造を得るための簡
略化されたプロセスを提供することにある。
は、集積回路チップと配線基板、配線基板とプリント基
板等のフェイスダウン接続に用いられるバンプの構造で
あって、集積回路チップまたは基板上に設けられた電極
パッドと、前記電極パッド上に設けられた導電性を有
し、数μm 〜10μm の厚さの接着樹脂パッドと、前記
接着樹脂パッド上に半田ボールが固着されてなる半田バ
ンプを有することを特徴とする。
くは基板に設けられた電極パッド上に導電性を有する接
着樹脂層を印刷法もしくはディスペンサー法によって形
成する工程と、パターニングされた接着樹脂層上に半田
ボールを接着する工程と、半田ボールを溶融する工程と
からなることを特徴とする。ここで接着樹脂層として導
電性及び感光性を有する樹脂を用いる場合は、接着樹脂
層をフォトリソグラフィー法を用いてパターニングして
電極パッド上にパターニングされた接着樹脂層を形成し
てもよい。
接着力を利用して、半田ボールを配置、仮接着した後こ
れを溶融することによってプロセスを増加することなし
に半田バンプを形成することが可能となる。
す断面図である。Al等よりなる電極パッド2が形成さ
れた集積回路チップまたは配線基板1の全面に、スピン
コート等により高導電性感光性接着樹脂層を約10μm
程度の均一な厚さに塗布し、これをフォトリソグラフィ
ー(PR)によりパターニングし、半硬化状態として高
導電性感光性接着樹脂パッド3を形成する。PRによっ
てパターニングを行うため、100μm ピッチ以下の挟
ピッチパターンも容易に形成が可能である。また、厚さ
も10μm 程度であるのでパターニングが容易であり、
かつ導電性に優れ、大電流用途に応用することも可能で
ある。この接着樹脂パッド3上に半田バンプを形成す
る。
図である。接着樹脂パッド3は半硬化状態において温度
を上昇させると、50℃付近から接着力が発現し、10
0℃付近で高い接着力が得られるようになる。集積回路
チップまたは配線基板1を100℃付近まで過熱した状
態で、半田ボール5を上部から落としこみ、接着樹脂パ
ッド3に接着させる。この時、振動や揺動を加えること
で、樹脂パッド3上に移動した半田ボール5だけを接着
することができる。また、接着力は十分に強いため、一
度接着した半田ボールが再びパッドから離れることもな
い。多ピンパターンでも、使用する半田ボール5の数を
多くすれば、ほぼ一括に樹脂パッド3に半田ボールを供
給することができる。余分な半田ボール5は回収して使
用することもできる。なお、振動及び揺動は、部品配列
用に使用されるように、揺動機能付き振動器を用いれば
よい。
加熱し、溶融すると同時に、接着樹脂パッドを完全に硬
化させ、図1に示したようなバンプの構造を得る。
きさの均一性が高いため、半田バンプ4としての高さば
らつきも小さくでき、適切なサイズのボールを用いるこ
とで容易にバンプとして必要な高さを得ることができ
る。
タルの形成も必要なくなり、従来バンプ形成に費やされ
た時間・コストを削減することが可能となる。
示す一例を示した図である。この方法では、半田ボール
5をケース6内に予め敷き詰めておき、接着樹脂パッド
3が形成された集積回路チップまたは配線基板1を加熱
ツール7に真空吸着等によって固定し、フェイスダウン
によりケース6内の半田ボール5を接着させる。
を設けたボール形を用意しておけば、パターンどおりの
半田ボールの接着をより効果的に行うことが可能であ
る。
造及びその形成方法によれば、従来不可欠だったバリア
メタルの形成等の複雑なプロセスを要さない、非常に簡
単なプロセスで挟ピッチパターンの半田バンプを低コス
トで形成することができる。
造を示す断面図である。
成方法を示す図である。
成方法を示す図である。
る。
Claims (5)
- 【請求項1】集積回路チップと配線基板、配線基板とプ
リント基板等のフェイスダウン接続に用いられるバンプ
の構造であって、集積回路チップまたは基板上に設けら
れた電極パッドと、前記電極パッド上に設けられた導電
性を有し、数μm 〜10μmの厚さの接着樹脂パッド
と、前記接着樹脂パッド上に半田ボールが固着されてな
る半田バンプを有することを特徴とするバンプの構造。 - 【請求項2】集積回路チップもしくは基板に設けられた
電極パッド上に導電性を有する接着樹脂層を印刷法もし
くはディスペンサー法によって形成する工程と、パター
ニングされた接着樹脂層上に半田ボールを接着する工程
と、半田ボールを溶融する工程とからなることを特徴と
するバンプの形成方法。 - 【請求項3】電極パッドが設けられた集積回路チップも
しくは基板上に導電性かつ感光性を有する接着樹脂層を
形成する工程と、前記接着樹脂層をフォトリソグラフィ
ー法を用いてパターニングして電極パッド上にパターニ
ングされた接着樹脂層を形成する工程と、パターニング
された接着樹脂層上に半田ボールを接着する工程と、半
田ボールを溶融する工程とからなることを特徴とするバ
ンプの形成方法。 - 【請求項4】パターニングされた接着樹脂層上に半田ボ
ールを接着する工程において、半田ボールを別のケース
内に予め敷き詰めた後、パターニングされた接着樹脂層
が形成された集積回路チップまたは配線基板を加熱ツー
ルに固定し、フェイスダウンにより前記ケース内の前記
半田ボールを接着させることを特徴とする請求項2ない
し3記載のバンプの形成方法。 - 【請求項5】パターニングされた接着樹脂層に対応した
型に半田ボールを敷き詰めることを特徴とする請求項4
記載のバンプの形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7127948A JP2762958B2 (ja) | 1995-05-26 | 1995-05-26 | バンプの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7127948A JP2762958B2 (ja) | 1995-05-26 | 1995-05-26 | バンプの形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08321505A true JPH08321505A (ja) | 1996-12-03 |
| JP2762958B2 JP2762958B2 (ja) | 1998-06-11 |
Family
ID=14972607
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7127948A Expired - Fee Related JP2762958B2 (ja) | 1995-05-26 | 1995-05-26 | バンプの形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2762958B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6245186B1 (en) * | 1996-12-16 | 2001-06-12 | International Business Machines Corporation | Electronic package with compressible heatsink structure |
| JP2010153849A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Ultratera Corp | ボールマウント方法及び同ボールマウント方法を利用したボールマウントシステム |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0223623A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-25 | Sharp Corp | 電極の形成方法 |
| JPH0254932A (ja) * | 1988-08-20 | 1990-02-23 | Fujitsu Ltd | はんだバンプの形成方法 |
| JPH0677635A (ja) * | 1992-08-26 | 1994-03-18 | Ace Denshi Kogyo Kk | プリント回路基板の半田付けパッド部製造方法 |
| JPH07288255A (ja) * | 1994-04-15 | 1995-10-31 | Sony Corp | はんだバンプの形成方法 |
-
1995
- 1995-05-26 JP JP7127948A patent/JP2762958B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0223623A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-25 | Sharp Corp | 電極の形成方法 |
| JPH0254932A (ja) * | 1988-08-20 | 1990-02-23 | Fujitsu Ltd | はんだバンプの形成方法 |
| JPH0677635A (ja) * | 1992-08-26 | 1994-03-18 | Ace Denshi Kogyo Kk | プリント回路基板の半田付けパッド部製造方法 |
| JPH07288255A (ja) * | 1994-04-15 | 1995-10-31 | Sony Corp | はんだバンプの形成方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6245186B1 (en) * | 1996-12-16 | 2001-06-12 | International Business Machines Corporation | Electronic package with compressible heatsink structure |
| JP2010153849A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Ultratera Corp | ボールマウント方法及び同ボールマウント方法を利用したボールマウントシステム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2762958B2 (ja) | 1998-06-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3588027B2 (ja) | Icチップを基板に接合する方法 | |
| US6756253B1 (en) | Method for fabricating a semiconductor component with external contact polymer support layer | |
| JP3554695B2 (ja) | 半導体集積回路におけるハンダ相互接続を製造する方法および半導体集積回路を製造する方法 | |
| US6118179A (en) | Semiconductor component with external contact polymer support member and method of fabrication | |
| EP0689240A1 (en) | Bonded structure and methods for forming this structure | |
| US20030151140A1 (en) | Semiconductor element and a producing method for the same, and a semiconductor device and a producing method for the same | |
| JPH1064955A (ja) | 半導体素子の実装構造 | |
| WO1997018584A1 (en) | Method for forming bump of semiconductor device | |
| JP2000082723A (ja) | 機能素子及び機能素子搭載用基板並びにそれらの接続方法 | |
| JP2701589B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
| JP2003007922A (ja) | 回路装置の製造方法 | |
| JP2002313985A (ja) | チップサイズパッケージの製造方法 | |
| JP3582014B2 (ja) | 半導体ペレットの実装方法 | |
| JP2762958B2 (ja) | バンプの形成方法 | |
| JP2811741B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPWO1997003465A1 (ja) | 半導体ペレット及びその実装方法並びにバンプ電極 | |
| JPH0547841A (ja) | 半導体装置の実装方法およびその実装構造 | |
| EP0827190A2 (en) | Bump structure and methods for forming this structure | |
| JP2538605B2 (ja) | 電子部品の製造方法 | |
| JP2541284B2 (ja) | 半導体チップの実装方法 | |
| JP2001135662A (ja) | 半導体素子および半導体装置の製造方法 | |
| JP3078781B2 (ja) | 半導体装置の製造方法及び半導体装置 | |
| JP3658156B2 (ja) | 実装体及びその製造方法 | |
| JPH11163019A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| JPH1079403A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980224 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080327 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090327 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090327 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100327 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100327 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110327 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110327 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120327 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120327 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130327 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130327 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140327 Year of fee payment: 16 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |