JP2762958B2 - バンプの形成方法 - Google Patents
バンプの形成方法Info
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
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- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
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- H05K3/3478—Applying solder preforms; Transferring prefabricated solder patterns
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Description
基板または集積回路チップキャリアの実装方法に関し、
特にフェイスダウン接続法におけるバンプの形成方法に
関する。
ているバンプは、図4に示すように、集積回路チップま
たは配線基板1上のAl等からなる電極パッド2に、ま
ずバリアメタル層A8として密着性の良い金属、例えば
Ti,Pd等をスパッタ法、蒸着法によって形成する。
その上に半田とのぬれ性がよいNi,Cu等のバリアメ
タル層B9を、やはりスパッタ法、蒸着法、もしくはメ
ッキ法等で形成する。さらに、バリアメタルの酸化を防
止し、半田が確実にぬれるようにするため、1μm 程度
の薄いAu層10をメッキ法、蒸着法等により形成す
る。この後、半田を電解メッキ法、半田テープを用いた
打ち抜き法、半田ペーストの印刷法、半田ボール法等に
より形成し、半田の融点以上まで加熱し溶融するウェッ
トバック工程により、半田を半球状化して半田バンプ4
とする。半田バンプ4の組成は、例えばPb/Sn=3
7/63wt%(共晶半田:融点183℃)またはPb
/Sn=95/5wt%(高融点半田:融点310℃)
等が用いられる。
A,Bを設けることにより、半田バンプ4と電極パッド
2が直接接触してぬれ性が低下し、接続不良になること
を防止している。
に記載されている他の従来技術を示している。集積回路
チップまたは配線基板1上にアルミニウム等よりなる電
極パッド2を設け(図5(a))、チップ1の全面に導
電性樹脂3′を塗布後(図5(b))、フォトマスク1
1を用いて導電性樹脂3′に光を照射し、電極パッド2
の上だけ導電性樹脂3′が残るようにパターニングし
(図5(c))、電極パッド2上にバンプ12が形成さ
れる(図5(d))。バンプの高さを考慮すれば、導電
性樹脂の膜厚は厚く(約30μm 以上)する必要があ
る。
ているために弾力性を有し、高さのばらつきを吸収する
ことができ、かつ挟ピッチパターンが可能となる、プロ
セスが簡単になりコストの低減が可能になるという利点
もある。
術では、半田バンプを電解メッキで形成する場合、その
高さは±10μm 程度、組成は目標組成によっては±1
0%以上ばらつくことが多く、このばらつきを制御する
ことが非常に困難であるという問題があった。半田テー
プを用いた打ち抜き法の場合は、1バンプずつ形成しな
ければならないために時間とコストがかかってしまい、
半田ペーストの印刷による場合はピッチ限界は300μ
m 程度であるため挟ピッチで均一量のペーストを印刷す
るのが困難である。半田ボールを用いる場合は、例えば
ボール径の精度が±5μm であれば高さのばらつきも±
5μm 程度に押さえることが可能であるという利点はあ
るが、その仮固定のため、半田ペーストの予備半田印
刷、フラックスの塗布あるいは印刷の工程が必要とな
り、加えて挟ピッチ、多ピンのパターンに効率的に半田
ボールを供給することが困難であるという問題があっ
た。
リアメタルが必要不可欠となり、プロセスが複雑で高コ
ストであるという問題もある。
厚が厚くなると樹脂中の導電粒子の量が多くなりすぎ、
導電性樹脂に光を当てても光が樹脂中に十分届かずに露
光不足となり、パターニングができなくなることがあ
る。露光を十分に行えるようにするために樹脂中の導電
粒子の量を少なくすると、パターニングは改良されても
導電性が悪くなってしまうという問題がある。導電性、
パターニングを共に満足させるためには樹脂層の高さを
数μm 〜10μm 程度にしなければならないが、この膜
厚ではバンプとしては高さが不足してしまうため望まし
くない。
低コストなバンプの構造を得るための簡略化されたプロ
セスを提供することにある。
法は、集積回路チップもしくは基板に設けられた電極パ
ッド上に導電性を有する接着樹脂層を印刷法もしくはデ
ィスペンサー法によって形成する工程と、前記接着樹脂
層上に半田ボールを接着する工程と、前記半田ボールを
溶融する工程とからなり、前記接着樹脂層上に半田ボー
ルを接着する工程が、半田ボールを別のケース内に予め
敷き詰めた後、接着樹脂層が形成された集積回路チップ
または配線基板を加熱ツールに固定し、フェイスダウン
により前記ケース内の前記半田ボールを接着させる工程
よりなることを特徴とする。
積回路チップもしくは基板上に導電性かつ感光性を有す
る接着樹脂層を形成する工程と、前記接着樹脂層をフォ
トリソグラフィー法を用いてパターニングして電極パッ
ド上に接着樹脂層を形成する工程と、前記接着樹脂層上
に半田ボールを接着する工程と、前記半田ボールを溶融
する工程とからなり、前記接着樹脂層上に半田ボールを
接着する工程が、半田ボールを別のケース内に予め敷き
詰めた後、接着樹脂層が形成された集積回路チップまた
は配線基板を加熱ツールに固定し、フェイスダウンによ
り前記ケース内の前記半田ボールを接着させる工程より
なることを特徴とする。
接着力を利用して、半田ボールを配置、仮接着した後こ
れを溶融することによってプロセスを増加することなし
に半田バンプを形成することが可能となる。
方法による構造の一例を示す断面図である。Al等より
なる電極パッド2が形成された集積回路チップまたは配
線基板1の全面に、スピンコート等により高導電性感光
性接着樹脂層を約10μm程度の均一な厚さに塗布し、
これをフォトリソグラフィー(PR)によりパターニン
グし、半硬化状態として高導電性感光性接着樹脂パッド
3を形成する。PRによってパターニングを行うため、
100μm ピッチ以下の挟ピッチパターンも容易に形
成が可能である。また、厚さも10μm 程度であるの
でパターニングが容易であり、かつ導電性に優れ、大電
流用途に応用することも可能である。この接着樹脂パッ
ド3上に半田バンプを形成する。
図である。接着樹脂パッド3は半硬化状態において温度
を上昇させると、50℃付近から接着力が発現し、10
0℃付近で高い接着力が得られるようになる。集積回路
チップまたは配線基板1を100℃付近まで過熱した状
態で、半田ボール5を上部から落としこみ、接着樹脂パ
ッド3に接着させる。この時、振動や揺動を加えること
で、樹脂パッド3上に移動した半田ボール5だけを接着
することができる。また、接着力は十分に強いため、一
度接着した半田ボールが再びパッドから離れることもな
い。多ピンパターンでも、使用する半田ボール5の数を
多くすれば、ほぼ一括に樹脂パッド3に半田ボールを供
給することができる。余分な半田ボール5は回収して使
用することもできる。なお、振動及び揺動は、部品配列
用に使用されるように、揺動機能付き振動器を用いれば
よい。
加熱し、溶融すると同時に、接着樹脂パッドを完全に硬
化させ、図1に示したようなバンプの構造を得る。
きさの均一性が高いため、半田バンプ4としての高さば
らつきも小さくでき、適切なサイズのボールを用いるこ
とで容易にバンプとして必要な高さを得ることができ
る。
タルの形成も必要なくなり、従来バンプ形成に費やされ
た時間・コストを削減することが可能となる。
示す一例を示した図である。この方法では、半田ボール
5をケース6内に予め敷き詰めておき、接着樹脂パッド
3が形成された集積回路チップまたは配線基板1を加熱
ツール7に真空吸着等によって固定し、フェイスダウン
によりケース6内の半田ボール5を接着させる。
を設けたボール形を用意しておけば、パターンどおりの
半田ボールの接着をより効果的に行うことが可能であ
る。
成方法によれば、従来不可欠だったバリアメタルの形成
等の複雑なプロセスを要さない、非常に簡単なプロセス
で挟ピッチパターンの半田バンプを低コストで形成する
ことができる。
造を示す断面図である。
成方法を示す図である。
成方法を示す図である。
る。
Claims (4)
- 【請求項1】集積回路チップもしくは基板に設けられた
電極パッド上に導電性を有する接着樹脂層を印刷法もし
くはディスペンサー法によって形成する工程と、前記接
着樹脂層上に半田ボールを接着する工程と、前記半田ボ
ールを溶融する工程とからなり、前記接着樹脂層上に半
田ボールを接着する工程が、半田ボールを別のケース内
に予め敷き詰めた後、接着樹脂層が形成された集積回路
チップまたは配線基板を加熱ツールに固定し、フェイス
ダウンにより前記ケース内の前記半田ボールを接着させ
る工程よりなることを特徴とするバンプの形成方法。 - 【請求項2】電極パッドが設けられた集積回路チップも
しくは基板上に導電性かつ感光性を有する接着樹脂層を
形成する工程と、前記接着樹脂層をフォトリソグラフィ
ー法を用いてパターニングして電極パッド上に接着樹脂
層を形成する工程と、前記接着樹脂層上に半田ボールを
接着する工程と、前記半田ボールを溶融する工程とから
なり、前記接着樹脂層上に半田ボールを接着する工程
が、半田ボールを別のケース内に予め敷き詰めた後、接
着樹脂層が形成された集積回路チップまたは配線基板を
加熱ツールに固定し、フェイスダウンにより前記ケース
内の前記半田ボールを接着させる工程よりなることを特
徴とするバンプの形成方法。 - 【請求項3】前記接着樹脂層のパターンに対応した型に
半田ボールを敷き詰めることを特徴とする請求項1また
は2記載のバンプの形成方法。 - 【請求項4】前記接着樹脂層が数μm 〜10μmの厚さ
であることを特徴とする請求項1,2,3のいずれかに
記載のバンプの形成方法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP7127948A JP2762958B2 (ja) | 1995-05-26 | 1995-05-26 | バンプの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7127948A JP2762958B2 (ja) | 1995-05-26 | 1995-05-26 | バンプの形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08321505A JPH08321505A (ja) | 1996-12-03 |
JP2762958B2 true JP2762958B2 (ja) | 1998-06-11 |
Family
ID=14972607
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7127948A Expired - Fee Related JP2762958B2 (ja) | 1995-05-26 | 1995-05-26 | バンプの形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2762958B2 (ja) |
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TW201025467A (en) * | 2008-12-25 | 2010-07-01 | United Test Ct Inc | Ball implantation method and ball implantation system applying the method |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07101691B2 (ja) * | 1988-07-12 | 1995-11-01 | シャープ株式会社 | 電極の形成方法 |
JPH0254932A (ja) * | 1988-08-20 | 1990-02-23 | Fujitsu Ltd | はんだバンプの形成方法 |
JPH0677635A (ja) * | 1992-08-26 | 1994-03-18 | Ace Denshi Kogyo Kk | プリント回路基板の半田付けパッド部製造方法 |
JP3232872B2 (ja) * | 1994-04-15 | 2001-11-26 | ソニー株式会社 | はんだバンプの形成方法 |
-
1995
- 1995-05-26 JP JP7127948A patent/JP2762958B2/ja not_active Expired - Fee Related
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