JPH08300650A - インクジェット式印字ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
インクジェット式印字ヘッド及びその製造方法Info
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Abstract
クジェット式印字ヘッド及びその製造方法を提供するこ
と。 【構成】 ドライバ回路23の引出しパターン24が形
成された基板2をアクチュエータプレート3に接着し、
この接合体に対してインク室41となる多数の溝40を
形成してこの溝間をアクチュエータとし、溝40の側壁
の一部に基板2及びアクチュエータプレート3にわたっ
て駆動電極30となる導電膜を斜め蒸着法と電解メッキ
法とにより引出しパターン24と電気接続させて形成
し、ドライバ回路23から駆動電極30に直接電圧印加
できる高集積度のインクジェット式印字ヘッドを安価に
製造できるようにした。
Description
クを印字用紙に吐出して印字するインクジェット式印字
ヘッド及びその製造方法に関し、更に詳細には、各吐出
口に対応するアクチュエータの駆動電極と基板上に形成
されたドライバ回路の配線とを直接接続したインクジェ
ット式印字ヘッド及びその製造方法に関する。
ンデマンド方式のインクジェット式印字ヘッドとして、
圧電素子をアクチュエータに用いるピエゾ方式のものが
実用化されている。この印字ヘッドは、発熱素子をアク
チュエータに用いたバブルジェット方式の印字ヘッドと
比較して、熱の発生を伴わないことから使用するインク
の制限が少なく、また耐久性に優れる等の利点を有して
いる。そして、従前ピエゾ式の短所とされていた集積度
・小型化の面においても、例えば特開平2−15035
5号公報で開示されているように、圧電素子のせん断モ
ードの変形を利用することにより改善され、かなりの高
集積化及び小型化を達成したものが提案されるに至って
いる。
ッドの概略構成を、その製造方法にも言及しつつ図面を
参照して説明する。図10に分解斜視図で示すように、
この印字ヘッドは、圧電素子で形成されたセラミックス
プレート102と、その上部を覆うカバープレート10
3と、インクを吐出するノズル132が形成されたノズ
ルプレート131と、セラミックスプレート102の下
面に接着される基板141とを有している。
のチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)の板に、多数の溝1
08を平行に形成したものである。各溝108には、チ
ャンネル部117と浅溝部116とが設けられており、
その間にR部119が存在する。この溝108の形成
は、ダイヤモンドカッターブレードにより行われる。か
かるセラミックスプレート102には、矢印Pの方向に
分極処理が施されている。溝108間の側壁111をそ
の方向に分極させるためである。そして各溝108の側
面の深さ方向上半分には金属蒸着膜である電極113が
形成されている。この電極113は浅溝部116の底面
をも覆っている。かかる電極113の形成は、セラミッ
クスプレート102を蒸着源に対し適切な角度に傾けて
両側から計2回蒸着することにより行われる。
または樹脂系の材料を素材として用い、これにインク導
入口121及びマニホールド122を形成したものであ
る。これらは、研削または切削加工によって形成され
る。このカバープレート103は、マニホールド122
を形成した面をセラミックスプレート102の溝108
を形成した面に接着剤で接着して用いられる。
レート102及びカバープレート103の端面に接着し
て用いられるプラスチック板であり、セラミックスプレ
ート102の各溝108に対応する位置にノズル132
が設けられている。基板141には、セラミックスプレ
ート102の各溝108に対応する位置に導電パターン
142が形成されており、この導電パターン142は対
応する溝108の電極113(浅溝部116の底面部
分)と導線143で接続されている。この接続はワイヤ
ボンディングによりなされる。或はワイヤボンディング
に替えてフレキシブル基板(FPC基板)を用いて接続
することもある。その場合には電極113を浅溝部11
6から平面部にまで引き出して形成し、これとFPC基
板の電極パターンとを位置合わせして半田接合する。
の断面図で示すように各溝108の上面がカバープレー
ト103で塞がれることにより、複数のインク室112
を有している。そして、各インク室112にカバープレ
ート103のインク導入口121及びマニホールド12
2を経由してインクが供給され充填された状態で使用さ
れる。
設けたドライバ回路により、ある特定のインク室112
bの電極113bに正の駆動電圧を印加し、その両隣の
インク室112a、cの電極113a、cを接地電位に
すると、図12に示すように側壁111a、bに互いに
逆向きの電場が発生してインク室112bの容積を減少
させるように変形する。このためノズルプレート131
のインク室112bに連通するノズル132からインク
が噴射され印字がなされる。駆動電圧の印加を停止する
と、側壁111a、bが図11の状態に戻り、インク室
112bにはインク導入口121及びマニホールド12
2を経由してインクが補充される。
従来のインクジェット式印字ヘッド及びその製造方法に
は、以下に説明する問題点があった。即ち、各溝108
の電極113とドライバ回路とのコンタクトを基板14
1の導電パターン142を介してワイヤボンディングで
とっているので、溝108の数だけボンディングが必要
となる。また、各溝108はインクを密封しつつ導線1
43を通すために浅溝部116を有する複雑な形状とし
なければならない。従って、ワイヤボンディングの工作
工程や溝形成の加工工程が煩雑であるばかりか、高集積
化が進めば進むほど飛躍的にこれらのコストが上昇し
た。
ィングされた導線143を経由せざるを得ないので、ド
ライバ回路をマトリックス化してもその効果が発揮でき
なかった。このため、個別ダイオードを多数用いてドラ
イバ回路を組んでおり部品点数が非常に多く、このこと
も高集積化を妨げる要因となっていた。
C基板を用いた場合でも、高集積化するためにはセラミ
ックスプレート102の各溝108に併せてFPC基板
の電極パターンも狭ピッチ化しなければならず、同様に
コスト要因となっていた。このようにワイヤボンディン
グ、FPC基板のいずれを用いた場合でも、高集積化に
要するコストが大きく、印字ヘッドの解像度向上に対す
る障壁となっていた。
解決し、アクチュエータの電極とドライバ回路の配線と
をワイヤボンディング等を介さず直接コンタクトさせる
ことにより、簡易な製造工程で高集積化を達成できるイ
ンクジェット式印字ヘッド及びその製造方法を提供する
ことを目的としてなされたものである。また、そのため
にドライバ回路を形成した半導体基板とアクチュエータ
とに一体に電極形成するインクジェット式印字ヘッドの
製造方法を提供することを目的とする。また、ドライバ
回路に導かれる配線パターンを形成した基板とアクチュ
エータとに一体に電極形成するインクジェット式印字ヘ
ッドの製造方法を提供することを目的とする。更に、そ
のドライバ回路をマトリックス化して部品点数を少なく
することをも目的とする。
に本発明のインクジェット式印字ヘッドは、インクを充
填する多数のインク室と、このインク室に各々設けられ
た吐出口と、前記インク室を各別に加圧する圧電アクチ
ュエータと、この圧電アクチュエータを駆動するドライ
バ回路とを有するインクジェット式印字ヘッドにおい
て、前記圧電アクチュエータに付設されるとともに前記
ドライバ回路への引出し配線が形成された基板と、前記
圧電アクチュエータ及び前記基板上に一体に形成される
とともに前記引出し配線に接続された駆動電極とを有す
ることをその要旨とする。
い、その半導体基板上に前記ドライバ回路が形成されて
いる構成とすることが好ましい。
して形成された構成としてもよい。
ドの製造方法は、圧電アクチュエータによりインク室を
加圧して吐出口からインクを吐出するインクジェット式
印字ヘッドを製造する方法であって、前記圧電アクチュ
エータを駆動するドライバ回路用の引出し配線が形成さ
れた基板と圧電材料板とを貼り合わせる貼着工程と、こ
の貼り合わせられた基板及び圧電材料板にわたって前記
インク室となる多数の溝を形成するとともにこの溝間を
前記圧電アクチュエータとする溝形成工程と、前記溝の
側壁の一部に基板及び圧電材料板にわたって駆動電極と
なる導電膜を前記引出し配線と電気接続させて形成する
電極形成工程とを含むことをその要旨とする。
合わせられる基板としては半導体基板を用い、この半導
体基板上に予め前記ドライバ回路を形成しておくことが
好ましい。
により下地膜を形成する第1工程と電解メッキ法により
主膜を形成する第2工程とに分けて実施することが好ま
しい。
印字ヘッドでは、ドライバ回路が発生する駆動電圧は、
基板に形成された引出し配線から駆動電極に直接印加さ
れる。すると、駆動電圧が印加された駆動電極に対応す
る圧電アクチュエータがインク室に加圧して、そのイン
ク室に設けられた吐出口からインクが吐出され印字がな
される。このように引出し配線と駆動電極とが直接接続
されているので、高集積化及び小型化がしやすい。ま
た、半導体基板上にドライバ回路を形成すれば、ドライ
バ回路から駆動電極に直接駆動電圧を印加できる。ま
た、ドライバ回路を集積回路として形成すれば、部品点
数の大幅な減少が図られる。
ドの製造方法では、まず貼着工程において、基板と圧電
材料板とを貼り合わせる。この基板は、圧電アクチュエ
ータの駆動電極とドライバ回路とを連絡する引出し配線
を提供するものであり、その配線パターンは予め基板上
に形成しておく。基板として半導体基板を用いることが
でき、その場合には引出し配線だけでなくドライバ回路
をも基板上に形成しておくのがよい。そして圧電材料板
は、強誘電性を有し、インクジェット式印字ヘッドのア
クチュエータとなるものである。かかる材料としては、
チタン酸塩、ジルコン酸塩、もしくはこれらの混合体等
があり、代表的なものはPZT(チタン酸ジルコン酸
鉛)である。
た基板及び圧電材料板にわたって多数の溝を形成する。
この溝はインクを充填するインク室となるものであり、
また溝と溝との間の突起部分がインク室を加圧する圧電
アクチュエータとなる。そして、インク室はインクジェ
ット式印字ヘッドの吐出口の数だけ必要なので、それに
合わせて多数の溝を形成しなければならない。
の一部に基板及び圧電材料板にわたって導電膜を形成す
る。この導電膜は、圧電アクチュエータの駆動電極とな
るものである。また導電膜は、基板上の引出し配線と電
気接続されるように形成しなければならない。ドライバ
回路から引出し配線に印加された駆動電圧を直接に駆動
電極に伝達し、圧電アクチュエータにインク室の加圧作
用を行わせるためである。
1工程と主膜を形成する第2工程とに大別して実施する
のがよい。第1工程では、斜め蒸着法により溝の側壁の
うち上端から所定の深さまでの部分に導電性の下地膜を
形成する。蒸着を斜めに行う理由は、溝間の突起部分に
よるシャドウイングを利用して溝の側壁のうち所定の深
さより深い部分に下地膜を形成させないためと、基板上
の引出し配線との電気コンタクトをとるためである。こ
の下地膜の材質は、導電性のあるものであれば特に制限
はないが、通常はニッケル等の金属が用いられる。この
薄膜は、駆動電極形成のための下地膜となるものであ
る。
して電解メッキ法により主膜を形成する。このとき、導
電性のある下地膜上にのみメッキ層が形成され、駆動電
極となる。メッキ層の材質は、電解メッキ可能なもので
あれば特に制限はないが、なるべく電気抵抗の低いもの
がよく、例えば金が良好である。
載するインクジェット式印字ヘッドとして具体化した実
施例について、図面を参照して詳細に説明する。
式印字ヘッド1とその製造方法について説明する。図1
に分解斜視図で示すこのインクジェット式印字ヘッド1
は、基本的に、アクチュエータプレート3とシリコン基
板2とを接合し、これに更にノズルプレート80、目止
めプレート81、及びカバープレート82を接合してな
るものである。
チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)の板であり、そのサイ
ズは5mm*10mm*2mmである。このアクチュエ
ータプレート3は、矢印Pで示す方向に分極処理が施さ
れている。
10mmの面11には、多数の溝40が5mmの辺と平
行に形成されている。溝40は、図では4本しか描かれ
ていないが実際には、インク室となるチャンネル溝41
が128本、そしてこれらと交互にインク室として用い
ないダミー溝42が129本設けられる。溝40のサイ
ズはチャンネル溝41、ダミー溝42共に、深さ400
μm、幅75μm、間隔75μmである。ダミー溝42
を設ける理由は、隣接チャンネル間のいわゆるクロスト
ーク現象を避けるためである。そして、各溝40の側壁
のうち深さ200μm以内の部分には、駆動電極30が
形成されている。アクチュエータプレート3の10mm
*2mmの面の一方にはシリコン基板2が接着される。
ものと同じシリコンウェハである。このシリコン基板2
の上端面25は、アクチュエータプレート3の溝40と
同様の形状にカットされ、また駆動電極30はシリコン
基板2の断面上にも延設されている。そしてシリコン基
板2は、非鏡面研磨面21がアクチュエータプレート3
に接着され、鏡面研磨面22にはドライバ回路23及び
引出しパターン24が形成されている。
スタ等をマトリックスとして組み込んだ回路であり、各
駆動電極30に引出しパターン24を介して電圧ライン
の電圧を印加し、または接地電位に落とすものである。
また各引出しパターン24は、対応する駆動電極30と
電気的にコンタクトされている。尚、ドライバ回路23
とインクジェットプリンタ本体側の制御回路との接続
は、ワイヤボンディングによりなされる。
ート3の溝40を形成した面11に接着される板であ
り、溝40を塞いでインク室を画成するものである。カ
バープレート82はシリコン基板2の上端面25をも覆
うようになっており、その材質としてはアルミナが好適
である。
レート3のシリコン基板2と反対側の10mm*2mm
の面に接着されるものであり、インクを吐出するノズル
穴79が多数設けられている。ノズル穴79はアクチュ
エータプレート3のチャンネル溝41に対応する位置に
設けられ、従ってその実際の個数は128個であり、穴
径は約35μmである。このノズルプレート80のイン
クに接する面には親水化処理が、反対側には撥水処理が
施されている。その素材は厚み100μmのポリイミド
シートである。ポリイミド以外の使用可能な材料として
は、ポリアルキレン(例えばエチレン)、テレフタレー
ト、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエ
ーテルスルホン、ポリカーボネイト、酢酸セルロース等
が挙げられる。
引出しパターン24等が形成された面に接着されるもの
であり、チャンネル溝41に対応する位置にはインク供
給穴78が形成されている。そして、目止めプレート8
1には更に、インクを内蔵したインクタンク26が接合
される。このインクタンク26から、目止めプレート8
1の各インク供給穴78を経由してインクが供給され、
各インク室がインクで充填されるようになっている。
ッド1の印字動作を説明する。インクジェットプリンタ
に印字指令が入力されると、インクジェットプリンタ本
体側の制御回路からドライバ回路23にその指令に基づ
く印字データが入力される。このためドライバ回路23
は、印字データに対応するチャンネルのインク室の駆動
電極30に正の駆動電圧を印加し、その両隣のダミー室
の駆動電極30を接地電位にする。このためインク室を
挟む両側の圧電アクチュエータには駆動電極により分極
方向Pと直交する電場が印加され、かつ、その電場の向
きは両圧電アクチュエータで逆である。従って両圧電ア
クチュエータが電歪効果により当該チャンネルのインク
室の容積を減少させるように変形してそのインク室が加
圧され、そのインク室に対応するノズル穴79からイン
クが吐出して印字がなされる。
印加が停止されると、圧電アクチュエータが元の状態に
戻り、当該インク室は目止めプレート81の各インク供
給穴78を介してインクタンク26からインクの補充を
受けて次回の印字に備える。この戻り動作の際に、イン
ク吐出をしたチャンネルの隣のチャンネルからインクが
漏れる、いわゆるクロストーク現象が、各インク室と交
互に設けられたダミー室の存在により排除されている。
御を行うインクジェットプリンタ本体側の制御回路で
は、入力された印字データに応じて所定のクロックパル
スに基づき電圧ラインの電圧またはアースラインの電圧
をドライバ回路23に送る。この電圧が所定の駆動電極
30に印加される。
ストーク防止以外は先に説明した従来技術のものとほぼ
同じであるが、ドライバ回路23が出力する駆動電圧や
接地電位が、ワイヤボンディング等を介さず、直接に駆
動電極30に印加される点で異なる。
製造方法を説明する。まず、5mm*10mm*2mm
のアクチュエータプレート3と、シリコン基板2と、カ
バープレート82と、ノズルプレート80と、目止めプ
レート81と、インクタンク26と、を用意する。
の分極処理を施し、そして5mm*10mmの面11に
はフィルムレジストをラミネータを用いて熱圧着してお
く。後の電極形成で余分な蒸着膜を剥離するためであ
る。一方シリコン基板2には、鏡面研磨面22にドライ
バ回路23及び引出しパターン24を公知の半導体集積
回路製造技術、即ち成膜、フォトリソグラフィ、エッチ
ング等により作製する。
コン基板2とをエポキシ系接着剤を用いて強固に接着す
る。この接着は、アクチュエータプレート3の10mm
*2mmの面とシリコン基板2の非鏡面研磨面21とが
貼り合わせられるようにし、アクチュエータプレート3
のフィルムレジストを圧着した面11とシリコン基板2
の上端面25とが同一面になるようにする。
リコン基板2との接合体10に、インク室及びダミーチ
ャンネルとなる溝40を形成する。この溝40は、ダイ
ヤモンドカッターブレードを用いて、シリコン基板2と
アクチュエータプレート3とを貫通して形成する。溝4
0は、幅、間隔を共に75μmとし、深さ400μmで
257本形成する。これらは交互に128個のインク室
と129個のダミーチャンネルとなる。
形成は、まず斜め蒸着法で溝40の側壁の一部の部分の
みに下地膜を形成し、次いで電解メッキ法で下地膜上に
のみ主膜を形成するようにする。
25にレジストを塗布してから、接合体10を図2に示
すように斜めに配置し、この斜め下方に置いたニッケル
蒸着源50、50から蒸着を行う。ここでニッケル蒸着
源50、50から接合体10への入射角53、53を2
0゜とし、接合体10の配置の水平角54を30゜とす
る。水平角54を30゜とするのは、蒸着膜とシリコン
基板2の引出しパターン24とのコンタクトをとるため
である。
40の側壁の一部分にのみ蒸着膜を形成するためであ
る。即ち、溝40の側壁のうち深い部分にはシャドウイ
ング効果により蒸着膜が形成されない。溝幅が75μm
であるため、75/tan20゜≒ 210(μm)より深
さ210μm以内の部分にのみ蒸着がなされることにな
る。ただしこれにはレジスト上に蒸着される部分も含ま
れるので、レジスト厚が30μm程度であることを考慮
すると実際には約180μmとなる。これは溝40の深
さの約半分である。
mの膜厚が得られれば十分である。そして蒸着後に、ア
クチュエータプレート3上のフィルムレジストとシリコ
ン基板2上のレジストとを有機溶剤で除去すると、溝4
0の側壁のうち深さ180μm以内の部分にのみ、下地
膜31が得られる。このニッケル蒸着により得られた下
地膜31は、アクチュエータプレート3、シリコン基板
2、及びその間の接着剤層のいずれに対してもよく密着
している。
がなされた接合体10を金メッキ浴に浸漬し、下地膜3
1をカソードとして電解メッキすると、下地膜31の上
にのみ金メッキ膜が形成される。金メッキ浴としてはシ
アン浴が一般的で、メッキ厚は0.2μm程度あれば十
分である。このメッキの際、接合体10の下地膜31に
対し、シリコン基板2の側とその反対側との両方から通
電をとると、より均一な膜厚を得ることができる。メッ
キ金属としては、メッキ可能なものであれば金以外のも
のを用いても良いが、電気抵抗の低さと付回り性の良さ
で金が優れている。付回り性の良さはメッキ膜とシリコ
ン基板2の引出しパターン24とのコンタクトを確実に
とる上で重要である。また、メッキ方法としては電解メ
ッキ法に代えて置換メッキ法又は無電解メッキ法を用い
てもよい。
チュエータプレート3の面11にカバープレート82を
エポキシ系の接着剤で接着する。これにより各溝40が
塞がれ、インク室及びダミーチャンネルが画成される。
カバープレート82はアクチュエータプレート3の面1
1のみならずシリコン基板2の上端面25をも覆うサイ
ズとする。その材質は何でもよいが、例えばアルミナ等
のセラミックスが好適である。
コン基板2と反対側の面にノズルプレート80をエポキ
シ系の接着剤により接着する。ノズルプレート80には
予め、アクチュエータプレート3のチャンネル溝41に
対応する位置にノズル穴79を設けておく。この形成加
工はエキシマレーザにより行い、穴径は約35μmであ
る。またこのノズルプレート80には予め、インクに接
する面に親水化処理を、反対側には撥水処理を施してお
くのがよい。親水化処理としてはオゾン雰囲気内での紫
外線照射があり、撥水処理としては疎水性基を持つ化合
物をスプレー、または塗布し、あるいはその後加温する
ことが挙げられる。疎水性基としては、フッ化メチル基
等が挙げられる。ノズルプレート80の素材は厚み10
0μmのポリイミドシートである。
25側に目止めプレート81をエポキシ系の接着剤によ
り接着する。目止めプレート81には予め、アクチュエ
ータプレート3のチャンネル溝41に対応する位置にイ
ンク供給穴78をエキシマレーザ加工により形成してお
く。そして更にインクタンク26を接合すると、インク
ジェット式印字ヘッド1は完成し、インクジェットプリ
ンタの本体に搭載可能な状態となる。
ッドユニットに応用することができる。即ち図3の正面
(ノズル側の面)図に示すように、4個のアクチュエー
タプレート3をひし形に配置してこれに1枚のシリコン
基板2を接合し、所定の溝形成や電極形成をして4個の
印字ヘッドを備えたユニットとなしたものである。この
4個の印字ヘッドにそれぞれ異なる色のインクを供給す
れば4色ヘッドユニットとして使用することができ、矢
印Dに示す方向を印字方向とする。
回路パターンは、図4の背面(基板側の面)図に示すよ
うに、ひし形のシリコン基板2の中央部に4個の圧電ア
クチュエータを駆動するドライバ回路23を設け、これ
と各ヘッドの駆動電極とを結ぶ引出しパターン24を各
々設けることとなる。そしてひし形の形状は、印字方向
Dに対するノズルピッチが所定の標準値(例えば1イン
チ当り360ドット)になるようにする。尚、各ヘッド
毎にマトリックス回路を設け、そしてこれらヘッド間に
もマトリックス回路を設けることによりドライバ回路2
3に替えてもよい。
うな長方形としてもよい。あるいは図7、8に示すよう
に2色ずつをそれぞれ1枚のシリコン基板2に組み付
け、シリコン基板2同士はドライバ回路23間をワイヤ
ボンディング60で接続することとしてもよい。図7、
8のようにすると図5、6のものと比較して印字方向6
の全長が短くて済む。
ット式印字ヘッド及びその製造方法によれば、ドライバ
回路23から直接に駆動電極30に電圧を印加して駆動
できる印字ヘッド1を簡易な方法で製造でき、また多色
ヘッドユニットへの応用も容易になしうるものである。
尚、ドライバ回路23とインクジェットプリンタ本体側
の制御回路との接続にはワイヤボンディングを要する
が、その数(電圧端子用及びグランド端子用の2つを除
く)はヘッド1個当りのチャンネル数(ここでは12
8)と同数をユニット全体について必要とするにすぎ
ず、ユニット全体のチャンネル数(4色ユニットでは5
12)を要していた従来技術と比較し、特に多色ユニッ
トの場合に著しく少なくて済む。
する。第2実施例に係る印字ヘッドは図9に示すよう
に、第1実施例の印字ヘッド1におけるシリコン基板2
をリジッド基板4で置き換え、ドライバ回路23を基板
上に設ける代わりにICチップ27中に組み込んだもの
である。リジッド基板4とは、エポキシプリプレグに金
属箔を貼着したものであり、このリジッド基板4には引
出しパターン24が形成されている。そして、ドライバ
回路23を内蔵したICチップ27と引出しパターン2
4との接続はワイヤボンディングによりなされる。この
印字ヘッドの印字動作は第1実施例のものと同様であ
る。
4にエッチングにより引出しパターン24を形成する。
そして、予め用意したICチップ27をリジッド基板4
に載置してワイヤボンディングにより引出しパターン2
4と接続する。この後のアクチュエータプレート3との
接着や溝形成、電極形成等は第1実施例の場合と同様で
ある。
場合と同様にドライバ回路23から直接に駆動電極30
に電圧を印加して駆動できる印字ヘッド1を簡易な方法
で製造できる。また多色ヘッドユニットへの応用も第1
実施例と同様に容易である。
例によれば、アクチュエータプレート3とシリコン基板
2とを接着し、この接合体に溝形成、電極形成を行うよ
うにしたので、圧電アクチュエータの駆動電極30に駆
動電圧が直接印加される構成のインクジェット式印字ヘ
ッドが実現されている。このため、各チャンネルごとの
ワイヤボンディングやあるいはFPC基板による電気コ
ンタクトを要さず、またシリコン基板2にドライバ回路
23及び引出しパターン24を予め形成しておくことが
でき、少ない部品点数及び簡易な製造工程で高集積度の
インクジェット式印字ヘッドを製造できるものである。
り2層構造の駆動電極30を形成することとしたので、
引出しパターン24との電気コンタクトが確実でかつ電
気抵抗の小さい駆動電極30が得らる。そして、複数の
アクチュエータプレート3を1枚のシリコン基板2に組
み付けることにより多色印字ヘッドユニットにも応用で
き、その場合にはドライバ回路23とインクジェットプ
リンタ本体側の制御回路との接続点数も少なくて済む。
プレート3とリジッド基板4とを接着し、この接合体に
溝形成、電極形成を行うようにしたので、第1実施例と
同様に圧電アクチュエータの駆動電極30に駆動電圧が
直接印加される構成のインクジェット式印字ヘッドが実
現され、少ない部品点数及び簡易な製造工程で高集積度
のインクジェット式印字ヘッドを製造でき、多色印字ヘ
ッドユニットへの応用にも適している。特にシリコン基
板の使用量がICチップ27の分だけで済む点で優れて
いる。
ものでなく、特にその中の種々の数値や使用材料は単な
る例示にすぎない。従って本発明は、その要旨を逸脱し
ない範囲において種々の変形または改良が可能であるこ
とはもちろんである。
明によれば、圧電アクチュエータに付設する基板にドラ
イバ回路への引出し配線を形成し、この引出し配線に接
続された駆動電極で圧電アクチュエータを駆動するよう
にしたので、駆動電極に直接に駆動電圧が印加される高
集積度のインクジェット式印字ヘッドを提供できるもの
である。また、その基板を半導体基板とし、ドライバ回
路をも基板上に形成することとしたので、接続点数を大
幅に減少した安価なインクジェット式印字ヘッドを提供
できるものである。あるいはドライバ回路を集積回路と
して形成することとしたので、部品点数を大幅に減少し
た安価なインクジェット式印字ヘッドを提供できるもの
である。
を貼り合わせて一体に溝形成や電極形成を行うこととし
たので、駆動電極と引出し配線とが直接接続された高集
積インクジェット式印字ヘッドを簡易に製造できるもの
である。また、引出し配線やドライバ回路を半導体基板
上に設けておくことによりかかる製造が可能となってい
るものである。更に、斜め蒸着法により下地膜を形成し
次いで電解メッキ法により主膜を形成して圧電アクチュ
エータの駆動電極となすこととしたので、駆動電極と引
出し配線との密着性を良好に維持しつつ低電気抵抗の駆
動電極を得ることができるものである。
解斜視図である。
である。
要部を示す斜視図である。
分解斜視図である。
図である。
状態を示す説明図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 インクを充填する多数のインク室と、こ
のインク室に各々設けられた吐出口と、前記インク室を
各別に加圧する圧電アクチュエータと、この圧電アクチ
ュエータを駆動するドライバ回路とを有するインクジェ
ット式印字ヘッドにおいて、 前記圧電アクチュエータに付設されるとともに前記ドラ
イバ回路への引出し配線が形成された基板と、 前記圧電アクチュエータ及び前記基板上に一体に形成さ
れるとともに前記引出し配線に接続された駆動電極とを
有することを特徴とするインクジェット式印字ヘッド。 - 【請求項2】 前記基板が半導体基板であり、その半導
体基板上に前記ドライバ回路が形成されていることを特
徴とする請求項1に記載のインクジェット式印字ヘッ
ド。 - 【請求項3】 前記ドライバ回路が集積回路として形成
されていることを特徴とする請求項1に記載のインクジ
ェット式印字ヘッド。 - 【請求項4】 圧電アクチュエータによりインク室を加
圧して吐出口からインクを吐出するインクジェット式印
字ヘッドを製造する方法であって、 前記圧電アクチュエータを駆動するドライバ回路用の引
出し配線が形成された基板と圧電材料板とを貼り合わせ
る貼着工程と、 この貼り合わせられた基板及び圧電材料板にわたって前
記インク室となる多数の溝を形成するとともにこの溝間
を前記圧電アクチュエータとする溝形成工程と、 前記溝の側壁の一部に基板及び圧電材料板にわたって駆
動電極となる導電膜を前記引出し配線と電気接続させて
形成する電極形成工程とを含むことを特徴とするインク
ジェット式印字ヘッドの製造方法。 - 【請求項5】 請求項4に記載するインクジェット式印
字ヘッドの製造方法であって、 前記貼着工程で圧電材料板と貼り合わせられる基板が半
導体基板であり、この半導体基板上に予め前記ドライバ
回路が形成されていることを特徴とするインクジェット
式印字ヘッドの製造方法。 - 【請求項6】 請求項4または請求項5に記載するイン
クジェット式印字ヘッドの製造方法であって、 前記電極形成工程は、斜め蒸着法により下地膜を形成す
る第1工程と電解メッキ法により主膜を形成する第2工
程とを含むことを特徴とするインクジェット式印字ヘッ
ドの製造方法。
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