JP7005156B2 - 液体噴射ヘッドチップの製造方法 - Google Patents
液体噴射ヘッドチップの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7005156B2 JP7005156B2 JP2017056390A JP2017056390A JP7005156B2 JP 7005156 B2 JP7005156 B2 JP 7005156B2 JP 2017056390 A JP2017056390 A JP 2017056390A JP 2017056390 A JP2017056390 A JP 2017056390A JP 7005156 B2 JP7005156 B2 JP 7005156B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- channel
- common
- plate
- actuator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000002347 injection Methods 0.000 title claims description 83
- 239000007924 injection Substances 0.000 title claims description 83
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 70
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 36
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 98
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 84
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 30
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 18
- 238000007788 roughening Methods 0.000 claims description 6
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 109
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 89
- 239000010408 film Substances 0.000 description 76
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 75
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 29
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 25
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 25
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 14
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 12
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 11
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 11
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 8
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 3
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 2
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 2
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 230000005404 monopole Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000007736 thin film deposition technique Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14209—Structure of print heads with piezoelectric elements of finger type, chamber walls consisting integrally of piezoelectric material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1607—Production of print heads with piezoelectric elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1607—Production of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/1609—Production of print heads with piezoelectric elements of finger type, chamber walls consisting integrally of piezoelectric material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1632—Manufacturing processes machining
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1632—Manufacturing processes machining
- B41J2/1634—Manufacturing processes machining laser machining
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
- B41J2/1643—Manufacturing processes thin film formation thin film formation by plating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2002/14491—Electrical connection
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/18—Electrical connection established using vias
Description
インクジェットヘッドでは、圧電体基材にチャネル溝加工を行い、チャネル溝内部及び表面に電極を形成させたアクチュエータプレートを使用し、駆動することでインクを吐出している。
しかし、本発明者の検討によると、形成した電極の膜厚が厚いと電極形成プロセス全体の歩留まりが低下するという課題が存在することがわかった。
図29は、本発明者が検討した、電極の膜厚を0.9μmとした場合の、チャネルの溝幅と、電極形成プロセス全体の歩留まりとの関係を表したものである。
図29に示すように、チャネルの溝幅が70μmの場合の歩留まりが特に良好(◎)であるのに対し、溝幅が狭くなる程低下していることがわかる。
しかし、インクジェットプリンタではノズルの高密度化が要求されているため、チャネルの溝幅が70μm未満、例えば55μmや40μm、更に40μm以下のアクチュエータプレートが必要になっているが、チャネル溝幅が狭くなることで歩留まりが悪くなるという問題がある。
本発明は、チャネルの溝幅が70μm未満であるアクチュエータプレートの歩留まりをより高くすることを第2目的とする。
(2)請求項2に記載の発明では、前記チャネル溝形成工程は、前記チャネル溝を70μm未満の幅に形成し、前記チャネル溝形成工程の後に、アクチュエータプレートの露出面を粗らす粗面化工程を有し、前記電極形成工程は、前記粗面化工程の後に、めっき皮膜を形成することにより膜厚が0.5μm以下の電極を形成する、ことを特徴とする請求項1に記載の液体噴射ヘッドチップの製造方法を提供する。
(3)請求項3に記載の発明では、前記マスクパターン形成工程は、前記アクチュエータプレートの第1主面に、複数のアクチュエータプレート側共通パッドと複数のアクチュエータプレート側個別配線用のマスクパターンを形成し、前記チャネル溝形成工程は、噴射チャネルと非噴射チャネルのチャネル溝を形成し、前記アクチュエータプレート側共通パッドとアクチュエータプレート側個別配線との間に電極逃げ溝を形成する逃げ溝形成工程を有する、ことを特徴とする請求項2に記載の液体噴射ヘッドチップの製造方法を提供する。
(4)請求項4に記載の発明では、前記逃げ溝形成工程は、前記めっき工程の前に行う、ことを特徴とする請求項3に記載の液体噴射ヘッドチップの製造方法を提供する。
(5)請求項5に記載の発明では、前記逃げ溝形成工程は、前記めっき工程の後で前記剥離工程の前に行う、ことを特徴とする請求項3に記載の液体噴射ヘッドチップの製造方法を提供する。
すなわち、電極を形成する場合、チャネル溝内だけでなくマスクパターンを含めて一体形成される。そして、マスクパターンをリフトオフする際には、チャネル溝の側壁上部の電極と、マスクパターン端面の電極とを切り離すことになる。このため、電極の膜厚が厚くなると、一体形成された電極がリフトオフの際に切れにくくなり、チャネル溝の側壁上端部にバリが生じてしまう場合があることに起因する。
そこで、本実施形態では、電極の膜厚を0.5μm以下に形成する。
これにより、マスクパターンのリフトオフの際に電極が切れ易くなり、その結果バリの発生と歩留まりの低下を抑制することができる。
そして、歩留まり低下の原因が、めっき処理後におけるマスクパターンを剥がす際やダイシングによる切断を行う際に生じており、その原因がめっき処理工程において圧電体基材(アクチュエータプレート)の表面を粗す粗面化処理に関係することがわかった。
すなわち、めっき処理を行う場合、アンカー効果によるめっきの接着を良くするために、圧電体基材のチャネル溝内を含む露出面を粗す粗面化の処理が行われる。この圧電体基材の露出面の粗面化はエッチング処理によるが、チャネルの溝幅が広い場合には溝の底面まで均等に粗面化することができるが、チャネルの幅が狭くなるほど溝の底面側の粗面化に時間がかかる。このため、溝の底面側まで十分なアンカー効果を得るためにエッチング時間を長く行うことで、チャネルの溝壁面の上部(圧電体基材の表面側)が過剰にエッチングされ脆弱化していることがわかった。
また、電極を形成した後に、切削加工等を行う際にも電極の破断強度が圧電体基材の破壊強度よりも大きいと、圧電体基材ごと剥がれが生じることもある。
これにより、マスクパターンを剥がす際に、粗面化された圧電体基材に影響を与えることなく、マスクパターンに形成された電極を、チャネル溝上部の電極から単独で切り離すことが可能になり、歩留まりの低下を抑えることができる。
本実施形態のインクジェットヘッド(液体噴射ヘッド)の製造方法では、アクチュエータプレート51とカバープレート52(図8参照)を備えている。図1に示すように、アクチュエータプレート51の表面には、ダイシングブレード等の切削処理により、Z方向の吐出チャネル(噴射チャネル)54と非吐出チャネル(非噴射チャネル)55用のチャネル溝が、X方向に交互に並んで形成される。
この吐出チャネル54と非吐出チャネル55の溝幅Wは、ノズルの高密度化に対応するため、70μm未満に形成される。本実施形態では、例えば、55μm、50μm、40μm等の溝幅に形成される。
但し、吐出チャネル54と非吐出チャネル55の形状は異なる形状とすることも可能である。例えば、非吐出チャネル55の切り上がり部55bを、突っ切り形状とすることも可能である。
吐出チャネル54と非吐出チャネル55の形状については、後述するように、溝表面に付与した触媒を洗浄する際の水流がチャネル内を均等に流れ、めっきによるダマがチャネル溝に形成されにくくするためには、同様な形状とすることが好ましい。
この電極の膜厚は、0.5μm以下、好ましくは0.3μm以下に形成される。本実施形態では、電極の膜厚を0.3μmに形成している。
ここで、電極(金属皮膜114、後述)の膜厚は、アクチュエータウエハ110の表面、及び吐出チャネル54と非吐出チャネル55の溝内の上部における電極の厚さをいい、吐出チャネル54と非吐出チャネル55の側壁に形成される共通電極61と個別電極63の上部の厚さ、及び、AP側共通パッド62、AP側個別配線64の厚さをいう。
なお、電極の膜厚としては0.15μm以上とすることが好ましい。これ以下にすると、両チャネル54、55の溝壁底面側が薄くなりすぎ、アンカー効果が得られなくなるためである。
この電極逃げ溝81は、図8で後述するように、カバープレート52に形成された横断共通電極80とAP側個別配線64との短絡を防ぐための逃げ溝として機能する。
本実施形態によれば、電極の膜厚を0.5μm以下に形成しているので、切削加工で電極逃げ溝81を形成しても、AP側共通パッド62やAP側個別配線64が、圧電体基材(アクチュエータウエハ110)ごと剥がれることが抑制される。
従って、歩留まりの低下を抑えつつ、電極形成後に電極逃げ溝81を形成することができる。
マスクパターン111は、めっき処理により、その上面や側面についても他の電極部分(個別電極63等)と一体の金属皮膜114として形成されている(図16参照)。
しかし、上述の通り、金属皮膜114の膜厚が0.5μm以下に形成されているので、粗面化された圧電体基材に影響を与えることなく、マスクパターン111を剥がすことができる。
歩留まりの評価については、不可の場合を×で表し、好ましくない場合を△で表し、良好の場合を○で表し、特に良好の場合を◎で表している。
また、「リフトオフ単独」の評価欄は、マスクパターン111を剥離する際の歩留まりを表している。「逃げ溝単独」の評価欄は、切削による電極逃げ溝81をめっき処理前に形成した場合と、めっき処理後に形成した場合の歩留まりを表している。「プロセス全体」の評価欄は、リフトオフと電極逃げ溝81の形成を合わせた電極形成プロセス全体の歩留まりを表している。
一方、本実施形態に示すように、膜厚を0.5μm、0.3μmにした場合、リフトオフ単独、逃げ溝単独、プロセス全体のいずれにおいても良好以上の評価(○か◎)が得られている。
特に、0.9μmの膜厚で電極逃げ溝81をめっき処理の後に加工(後加工)した場合に歩留まりの評価が著しく低かった(×)のに対し、膜厚を0.5μm、0.3μmと薄くすることで、良好(○)と特に良好(◎)の高い評価が得られている。
このため、製造工程や製品の要求に応じて、電極逃げ溝81を形成するタイミング(めっき処理の前、後)を自由に選択することができる。
また、電極の膜厚を0.5μm以下の薄さにしたことで、加工性が良くなる(薄く加工し易い)ため、電極形成後に、ダイサーやグラインダー等で機械加工をしても剥がれ等が生じることなく行うことが出来る。
<プリンタ>
図2はプリンタ1の概略構成図である。
図2に示すように、本実施形態のプリンタ1は、一対の搬送手段2,3と、インクタンク4と、インクジェットヘッド5(液体噴射ヘッド)と、インク循環手段6と、走査手段7と、を備える。なお、以下の説明では、必要に応じてX,Y,Zの直交座標系を用いて説明する。X方向は、被記録媒体P(例えば、紙等)の搬送方向である。Y方向は、走査手段7の走査方向である。Z方向は、X方向及びY方向に直交する上下方向である。
吸引ポンプ25は、インク排出管22内を減圧し、インク排出管22内を通してインクジェットヘッド5からインクを吸引している。これにより、インクジェットヘッド5に対してインク排出管22側は負圧となっている。そして、インクは、加圧ポンプ24及び吸引ポンプ25の駆動により、インクジェットヘッド5とインクタンク4との間を、循環流路23を通して循環可能となっている。
図4に示すように、インクジェットヘッド5は、一対のヘッドチップ40A,40Bと、流路プレート41と、入口マニホールド42と、出口マニホールド(不図示)と、帰還プレート43と、ノズルプレート44(噴射プレート)と、を備える。インクジェットヘッド5は、吐出チャネル54におけるチャネル延在方向の先端部からインクを吐出する、いわゆるエッジシュートタイプのうち、インクタンク4との間でインクを循環させる循環式(エッジシュート循環式)のものである。
一対のヘッドチップ40A,40Bは、第1ヘッドチップ40Aおよび第2ヘッドチップ40Bである。以下、第1ヘッドチップ40Aを中心に説明する。第2ヘッドチップ40Bにおいて、第1ヘッドチップ40Aと同一の構成には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
第1ヘッドチップ40Aは、アクチュエータプレート51と、カバープレート52と、を備える。
アクチュエータプレート51の外形は、X方向に長手を有しかつZ方向に短手を有する矩形板状をなしている。実施形態において、アクチュエータプレート51は、分極方向が厚さ方向(Y方向)で異なる2枚の圧電基板を積層した、いわゆるシェブロンタイプの積層基板である(図7参照)。例えば、圧電基板は、PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)等からなるセラミックス基板が好適に用いられる。
吐出チャネル54の上端部は、アクチュエータプレート51内で終端している。吐出チャネル54の下端部は、アクチュエータプレート51の下端面で開口している。
図5に示すように、吐出チャネル54は、下端部に位置する延在部54aと、延在部54aから上方に連なる切り上がり部54bと、を有している。
延在部54aは、Z方向の全体に亘って溝深さが一様とされている。切り上がり部54bは、上方に向かうに従い溝深さが漸次浅くなっている。
図6に示すように、非吐出チャネル55は、下端部に位置する延在部55aと、延在部55aから上方に連なる切り上がり部55b(図1参照)と、を有している。
延在部55aは、Z方向の全体に亘って溝深さが一様とされている。非吐出チャネル55における延在部55aのZ方向の長さは、吐出チャネル54における延在部54a(図5参照)のZ方向の長さよりも長い。切り上がり部55bは、上方に向かうに従い溝深さが漸次浅くなっている。非吐出チャネル55における切り上がり部55bの勾配は、吐出チャネル54における切り上がり部54b(図5参照)の勾配と実質的に同じである。すなわち、吐出チャネル54及び非吐出チャネル55において、延在部54a,55aのZ方向の長さの違いによる勾配開始位置は異なるが、勾配自体(斜度、曲率)は実質的に同じである。
そして、本実施形態では、電極逃げ溝81を形成する前にめっき処理を行うことで、めっき処理工程において、触媒を洗浄する際に、吐出チャネル54と非吐出チャネル55の両チャネル内を流れる洗浄液をほぼ同じにすることができ、洗浄程度の偏りを原因とするダマの形成、ひいてはダマを原因とする短絡による製品不良の増加などを回避することができる。
詳細は後述するが、本実施形態のアクチュエータプレート51は、各チャネル用のチャネル溝(54、55)を形成したアクチュエータウエハ110に対し、先にめっき処理による各種電極を形成し、その後にダイシングブレードによる切削加工で電極逃げ溝81を形成する。
そして、吐出チャネル54と非吐出チャネル55の壁面に形成されている共通電極61分と個別電極63の上部、及び、AP側共通パッド62とAP側個別配線64の膜厚が、0.5μm以下されている。具体的に本実施形態では、膜厚が0.3μmに形成されている。
これにより、歩留まりの高いアクチュエータプレート51の構造が実現されている。
図4に示すように、カバープレート52の外形は、X方向に長手を有しかつZ方向に短手を有する矩形板状をなしている。カバープレート52の長手方向の長さは、アクチュエータプレート51の長手方向の長さと実質的に同じである。一方、カバープレート52の短手方向の長さは、アクチュエータプレート51の短手方向の長さよりも長い。カバープレート52のうち、AP側Y方向内側面51f1と対向する第1主面(カバープレート側第1主面)は、AP側Y方向内側面51f1に接合されている。実施形態において、カバープレート側第1主面は、カバープレート52のY方向外側面52f1(以下「CP側Y方向外側面52f1」という。)である。ここで、Y方向外側は、インクジェットへッド5のY方向中心側とは反対側(Y方向において流路プレート41の側とは反対側)を意味する。実施形態において、カバープレート側第2主面は、カバープレート52のY方向内側面52f2(以下「CP側Y方向内側面52f2」という。)である。
貫通孔87は、X方向に長手を有するスリット状(長円形状)に形成されている。例えば、貫通孔87の長手方向の長さは、隣り合う2つのスリット72の配列ピッチと実質的に同じ長さとなっている。
なお、貫通孔87の長さ及び配置数は、適宜変更可能である。
また、本実施形態の貫通孔87は、図8に示すようにスリット状に形成されているが、円形の貫通孔とすることも可能であり、図4では円形の貫通孔85を形成した場合について表している。
図8、図4に示すように、貫通孔87(85)は、複数がX方向に間隔をあけて、実質的に等間隔の配列ピッチで配置されている。
各貫通孔87は、2つ毎のスリット72と対応して、X方向において実質的に同じ位置に配置されている。一方、各貫通孔85(図4)は、各スリット72とX方向において実質的に同じ位置に配置されている。
すなわち、各貫通孔87(85)と各スリット72とは、Z方向に並んで配置されている。
貫通孔87をスリット状に形成することで、円形の貫通孔85を形成する場合に比べて、貫通孔内電極86の形成領域を大きくし易いため、貫通孔内電極86と横断共通電極80との電気的接続の信頼性を高めることができる。加えて、貫通孔87を横断共通電極80の延在方向(X方向)にのみ延在させれば足りるため、ヘッドチップ40A,40BのZ方向の長さを短縮することができる。
図9に示すように、CP側Y方向内側面52f2には、複数の共通引出配線67に接続される連結共通電極82が形成されている。図4に示すように、連結共通電極82は、CP側Y方向内側面52f2のうち隣り合う2つの共通引出配線67の間の部分をX方向に延在している。連結共通電極82は、CP側Y方向内側面52f2において複数の貫通孔87の配列方向(X方向)に沿って帯状に形成されている。連結共通電極82は、CP側Y方向内側面52f2上で複数の共通引出配線67の下端部に接続されている。一方、連結共通電極82は、CP側Y方向内側面52f2上で共通インク室71の上端から上方に離間している。
図4に示すように、各ヘッドチップ40A,40Bは、各CP側Y方向内側面52f2同士をY方向で対向させた状態で、Y方向に間隔をあけて配置されている。
流路プレート41は、第1ヘッドチップ40Aと第2ヘッドチップ40BとのY方向間に挟持されている。流路プレート41は、同一の部材により一体に形成されている。図4に示すように、流路プレート41の外形は、X方向に長手を有しかつZ方向に短手を有する矩形板状をなしている。Y方向から見て、流路プレート41の外形は、カバープレート52の外形と実質的に同じである。
出口流路75は、流路プレート41のX方向の他端面において図示しない出口マニホールドに接続されている。出口マニホールドは、インク排出管22(図2参照)に接続されている。
図4に示すように、入口マニホールド42は、各ヘッドチップ40A,40B及び流路プレート41のX方向の一端面にまとめて接合されている。入口マニホールド42には、各入口流路74に連通する供給路77が形成されている。供給路77は、入口マニホールド42のX方向内端面からX方向外側に向けて窪んでいる。供給路77は、各入口流路74にまとめて連通している。入口マニホールド42は、インク供給管21(図2参照)に接続されている。
帰還プレート43の外形は、X方向に長手を有しかつY方向に短手を有する矩形板状をなしている。帰還プレート43は、各ヘッドチップ40A,40B及び流路プレート41の下端面にまとめて接合されている。言い換えると、帰還プレート43は、第1ヘッドチップ40Aと第2ヘッドチップ40Bとにおける吐出チャネル54の開口端側に配設されている。帰還プレート43は、第1ヘッドチップ40Aと第2ヘッドチップ40Bとにおける吐出チャネル54の開口端と、ノズルプレート44の上端との間に介在するスペーサプレートである。帰還プレート43には、各ヘッドチップ40A,40Bの吐出チャネル54と出口流路75との間を接続する複数の循環路76が形成されている。複数の循環路76は、第1循環路76a及び第2循環路76bを含む。複数の循環路76は、帰還プレート43をZ方向に貫通している。
以下、第1循環路76aをインクの流れ方向と直交する面で切断したときの断面積を「循環路側流路断面積」という。すなわち、循環路側流路断面積は、第1循環路76を自身の延在方向と直交する面で切断したときの断面積を意味する。
実施形態において、循環路側流路断面積は、チャネル側流路断面積よりも小さい。これにより、循環路側流路断面積がチャネル側流路断面積よりも大きい場合と比較して、インク吐出時等に発生するチャネル内の圧力変動が流路を介して他のチャネル等に圧力波となって伝播される、いわゆるクロストークを抑制することができる。したがって、優れた吐出性能(印字安定性)を得ることができる。
図4に示すように、ノズルプレート44の外形は、X方向に長手を有しかつY方向に短手を有する矩形板状をなしている。ノズルプレート44の外形は、帰還プレート43の外形と実質的に同じである。ノズルプレート44は、帰還プレート43の下端面に接合されている。ノズルプレート44には、ノズルプレート44をZ方向に貫通する複数のノズル孔78(噴射孔)が配列されている。複数のノズル孔78は、第1ノズル孔78a及び第2ノズル孔78bを含む。複数のノズル孔78は、ノズルプレート44をZ方向に貫通している。
一方、各非吐出チャネル55は、ノズル孔78a,78bには連通しておらず、帰還プレート43により下方から覆われている。
次に、プリンタ1を利用して、被記録媒体Pに文字や図形等を記録する場合のプリンタ1の動作方法について説明する。
なお、初期状態として、図2に示す4つのインクタンク4にはそれぞれ異なる色のインクが十分に封入されているものとする。また、インクタンク4内のインクがインク循環手段6を介してインクジェットヘッド5内に充填された状態となっている。
そして、キャリッジ33の往復移動の間に、各インクジェットヘッド5より4色のインクを被記録媒体Pに適宜吐出させることで、被記録媒体Pに文字や画像等の記録を行うことができる。
本実施形態のようなエッジシュートタイプのうち、縦循環式のインクジェットヘッド5では、まず図3に示す加圧ポンプ24及び吸引ポンプ25を作動させることで、循環流路23内にインクを流通させる。この場合、インク供給管21を流通するインクは、図4に示す入口マニホールド42の供給路77を通り、流路プレート41の各入口流路74内に流入する。各入口流路74内に流入したインクは、各共通インク室71を通過した後、スリット72を通って各吐出チャネル54内に供給される。各吐出チャネル54内に流入したインクは、帰還プレート43の循環路76を通して出口流路75内で集合し、その後図示しない出口マニホールドを通して図3に示すインク排出管22に排出される。インク排出管22に排出されたインクは、インクタンク4に戻された後、再びインク供給管21に供給される。これにより、インクジェットヘッド5とインクタンク4との間でインクを循環させる。
これにより、駆動壁56が復元し、一旦増大した吐出チャネル54の容積が元の容積に戻る。この動作によって、吐出チャネル54の内部の圧力が増加し、インクが加圧される。その結果、インクをノズル孔78から吐出させることができる。この際、インクはノズル孔78を通過する際に、液滴状のインク滴となって吐出される。これにより、上述したように被記録媒体Pに文字や画像等を記録することができる。
次に、インクジェットヘッド5の製造方法について説明する。本実施形態のインクジェットヘッド5の製造方法は、図10(a)のフローチャートに示したように、ヘッドチップ作製工程(ステップ5)と、流路プレート作製工程(ステップ10)と、各種プレート接合工程(ステップ15)と、帰還プレート等接合工程(ステップ20)と、を含む。
なお、ヘッドチップ作製工程は、各ヘッドチップ40A,40Bともに同様の方法により行うことが可能である。したがって、以下の説明では第1ヘッドチップ40Aにおけるヘッドチップ作製工程について説明する。
実施形態のヘッドチップ作製工程は、アクチュエータプレート側の工程として、図10(b)に示したように、ウエハ準備工程(ステップ105)、マスクパターン形成工程(ステップ110)、チャネル形成工程(ステップ115)、逃げ溝形成工程(ステップ117)、電極形成工程(ステップ120)、及び切断工程(ステップ122)を含む。
その後、アクチュエータウエハ110の表面(一方の圧電ウエハ110a)を研削する。なお、本実施形態では、厚さの等しい圧電ウエハ110a,110bを貼り合わせた場合について説明したが、予め厚さの異なる圧電ウエハ110a,110bを貼り合わせても構わない。
エッチング工程(ステップ210)では、フッ化アンモニウム溶液等でアクチュエータウエハ110をエッチングすることで、電極が形成されるめっき対象面に対する粗しを行う(粗面化工程)。これにより、めっき工程にて形成するめっき皮膜と、アクチュエータウエハ110とのアンカー効果による密着力を向上させることができる。
脱鉛工程(ステップ215)では、アクチュエータウエハ110をPZTにより形成した場合、アクチュエータウエハ110の表面の鉛を除去する。これにより、アクチュエータウエハ110の表面における鉛の触媒抑制効果を抑える。
なお、触媒付与工程は、上述したセンシタイザー・アクチベーター法以外の方法で行ってもよい。例えば、触媒付与工程は、キャタリスト・アクセレーター法により行ってもよい。キャタリスト・アクセレーター法では、アクチュエータウエハ110を、錫とパラジウムとのコロイド溶液に浸漬する。続いて、アクチュエータウエハ110を酸性溶液(例えば塩酸溶液)に浸漬して活性化し、アクチュエータウエハ110の表面に金属パラジウムを析出させる。
この触媒付与工程により、図15に示すように、マスクパターン111を含めた露出面全体に触媒113(金属パラジウム)が析出する。
すなわち、表面に触媒113が析出したアクチュエータウエハ110から、不要触媒を除去するための水洗を行う。
本実施形態では、複数のチャネル54、55のそれぞれが、Z方向に沿って延在する延在部54a、55aと、延在部54a、55aからZ方向の一方に連なり、かつ、Z方向の一方に向かうに従い溝深さが漸次浅い切り上がり部54b、55bと、を有することで、複数のチャネル54、55の形状がそれぞれ共通部分を有する同様な形状に形成されている。
このため、アクチュエータウエハ110の洗浄工程において、洗浄液が複数のチャネル54、55のチャネル溝内を同様に流れるため、両チャネル溝内の不要触媒の除去を同程度にすることができる。従って、チャネル溝の間で不要触媒の除去程度が異なることが原因となって、めっき皮膜の不析出箇所が生じたり、めっきダマが生じたりすることを抑制することができる。
なお、AP側共通パッド62となる領域とAP側個別配線64となる領域の間にもマスクパターン111aが残されているが、この部分は後述の電極逃げ溝81を形成する範囲と一致している。しかし、マスクパターン111a部分の幅を、図16(b)よりも狭く、すなわち、AP側共通パッド62とAP側個別配線64となる領域を両者の中心側にむけて広げるようにしてもよい。この場合、次の逃げ溝形成工程において、マスクパターン111aの幅よりも広い幅で電極逃げ溝81を形成することで、AP側共通パッド62とAP側個別配線64の領域を残すようにする。
電極逃げ溝81は、ダイシングブレード等により、アクチュエータウエハ110の表面に対して切削加工により形成する。具体的には、図1に示すように、アクチュエータウエハ110の表面上に、X方向に形成する。この場合、アクチュエータウエハ110の表面のうち、AP側共通パッド62とAP側個別配線64の形成領域を残して、マスクパターン111ごと切削する。
なお、マスクパターン111上に析出した金属皮膜114は、マスクパターン111とともに除去される。
これにより、アクチュエータウエハ110には、マスクパターン111から露出していた部分、すなわち、吐出チャネル54の共通電極61とこれに連続するAP側共通パッド62が残ると共に、非吐出チャネル55の個別電極63とこれに連続するAP側個別配線64が残る。
また図1(b)で説明したように、本実施形態では、電極の膜厚を0.5μm以下に形成しているので、マスクパターン111をリフトオフした際に、十分な粗面化によって電極溝上部が脆弱化していた場合であっても、当該脆弱化した部分の剥がれ等の影響を与えることなく、マスクパターン111に形成された電極を、共通電極61や個別電極63から単独で切り離すことができる。
更に、膜厚が薄いので、リフトアップで切り離された後の共通電極61や個別電極63の上端面のバリを少なくすることができる。
すなわち、非吐出チャネル55では、図18に示すように、2つの駆動壁56の対向する両壁面の金属被膜114が底面で一体に接続されて、個別電極63同士が短絡した状態になっている。このため非吐出チャネル55の底面の金属被膜を、Z方向の全長にわたって除去することで、両壁面の個別電極63を分離絶縁する。
具体的に、非吐出チャネル55の底面に向けてレーザ光Lを照射した状態で、レーザ光LをZ方向に走査する。すると、金属皮膜114(図16参照)のうち、レーザ光Lが照射された部分が選択的に除去される。これにより、金属皮膜114(図16参照)が非吐出チャネル55の底面で分離される。これにより、アクチュエータウエハ110のうち、チャネル54,55の内面に共通電極61及び個別電極63がそれぞれ形成される。また、アクチュエータウエハ110の表面には、対応する共通電極61及び個別電極63に接続されるAP側共通パッド62及びAP側個別配線64(図8参照)が形成される。
なお、レーザ光Lに代えてダイサーを用いてもよい。また、めっき皮膜除去工程において、金属皮膜114のうち非吐出チャネル55の底面に位置する部分を除去することに限らない。例えば、触媒除去工程において、触媒113のうち、非吐出チャネル55の底面に位置する部分を除去しても構わない。具体的に、触媒除去工程において、非吐出チャネル55の底面に向けてレーザ光Lを照射した状態で、レーザ光LをZ方向に走査し、触媒113のうち、レーザ光Lが照射された部分を選択的に除去してもよい。
続いて、図20に示すように、スリット形成工程では、カバーウエハ120に対して裏面側から図示しないマスクを通してサンドブラスト等を行い、共通インク室71内に各別に連通するスリット72を形成する。
続いて、図20に示すように、貫通孔形成工程では、カバーウエハ120に対して裏面側から図示しないマスクを通してサンドブラスト等を行い、表面側貫通凹部85a内に各別に連通する裏面側貫通凹部85bを形成する。このように、表面側貫通凹部85aと裏面側貫通凹部85bとを連通させることで、カバーウエハ120に対してスリット形状の貫通孔87を形成する。なお、裏面側貫通凹部85bの形成工程は、スリット形成工程と同じ工程で行ってもよい。
なお、共通インク室形成工程、スリット形成工程、貫通孔形成工程、および凹部形成工程の各工程は、サンドブラストに限らず、ダイシング、切削等により行っても構わない。
具体的に、電極・配線形成工程では、図22に示すように、まずカバープレート52の全面(表面、裏面および上端面、並びに凹部73の形成面および貫通孔87の形成面を含む。)に、各種電極および各種配線(貫通孔内電極86、CP側共通パッド66、共通引出配線67、連結共通電極82及びCP側個別配線69)の形成領域が開口する図示しないマスクを配置する。その後、カバープレート52の全面に対して無電解めっき等により電極材料を成膜する。これにより、マスクの開口を通してカバープレート52の全面に各種電極および各種配線となる電極材料が成膜される。なお、マスクとしては、例えば感光性ドライフィルム等を用いることができる。また、電極・配線形成工程は、めっきに限らず、蒸着等により行っても構わない。また、貫通孔内電極86の形成工程では、導電ペースト等を貫通孔87内に充填することにより貫通孔内電極86を形成してもよい。
電極・配線形成工程程の終了後には、カバープレート52の全面からマスクを除去する。
実施形態の流路プレート作製工程は、流路形成工程および個片化工程を含む。
図23に示すように、流路形成工程(表面側流路形成工程)では、まず流路ウエハ130に対して表面側から図示しないマスクを通してサンドブラスト等を行い、入口流路74及び出口流路75を形成する。
次に、図26に示すように、各種プレート接合工程では、各ヘッドチップ40A,40Bにおけるカバープレート52と流路プレート41とを接合する。具体的に、流路プレート41のY方向外側面(各主面41f1,41f2)を、各ヘッドチップ40A,40BにおけるCP側Y方向内側面52f2に貼り付ける。
これにより、プレート接合体5Aを作製する。
なお、すべてのプレートをウエハ状態で貼り合わせてからのチップ分割(個片化)を行ってもよい。
次いで、プレート接合体5Aに対して帰還プレート43およびノズルプレート44を接合する。その後、CP側尾部52eに対してフレキシブル基板45(図5参照)を実装する。
以上により、本実施形態のインクジェットヘッド5が完成する。
そして、先に電極逃げ溝81を形成するのではなく、電極逃げ溝81の形成よりも先にめっき処理工程を行う。このため、同様な形状である吐出チャネル54と非吐出チャネル55用のチャネル溝に対し、洗浄する際の水流がチャネル内を均等に流れ、めっきによるダマがチャネル用溝に形成されることを回避することができる。
そのため、ダマの形成による歩留まり低下を回避することができ、コスト低減を図ることができる。
(構成1)第1方向に沿って延在する延在部と、前記延在部から前記第1方向の一方に連なり、かつ、前記第1方向の一方に向かうに従い溝深さが漸次浅い切り上がり部と、を有する複数のチャネルが、前記第1方向に直交する第2方向に間隔をあけて並設されたアクチュエータプレートと、前記チャネルの内面にめっき皮膜により形成されたチャネル内電極と、を備えることを特徴とする液体噴射ヘッドチップ。
すなわち、本実施形態に係るヘッドチップ40A,40Bは、Z方向に沿って延在する延在部54a,55aと、延在部54a,55aからZ方向の一方に連なり、かつ、Z方向の一方に向かうに従い溝深さが漸次浅い切り上がり部54b,55bと、を有する複数のチャネル54,55が、X方向に間隔をあけて並設されたアクチュエータプレート51と、チャネル54,55の内面にめっき皮膜により形成されたチャネル内電極61,63と、を備える。
本発明者は、鋭意研究の結果、めっき皮膜の不析出箇所が生じたり、めっきダマが生じたりする頻度と、チャネルの形状との間には高い相関があり、複数のチャネルの形状を、それぞれ共通部分を有する形状とすれば、めっき皮膜の不析出箇所が生じたり、めっきダマが生じたりすることを抑制することができることを見出し、本発明に至った。
本実施形態によれば、複数のチャネル54,55のそれぞれが、Z方向に沿って延在する延在部54a,55aと、延在部54a,55aからZ方向の一方に連なり、かつ、Z方向の一方に向かうに従い溝深さが漸次浅い切り上がり部54b,55bと、を有することで、複数のチャネル54,55の形状がそれぞれ共通部分を有する形状とされている。そして、チャネル内電極61,63が、それぞれ共通部分を有する形状とされた複数のチャネル54,55の内面にめっき皮膜により形成されている。したがって、めっき電極において、めっき皮膜の不析出箇所が生じたり、めっきダマが生じたりすることを抑制することができる。
ところで、めっき皮膜の不析出箇所およびめっきダマの発生を抑制する観点からは、複数のチャネルのそれぞれを突っ切り形状のチャネルとすることが考えられる。しかし、複数のチャネルのそれぞれを突っ切り形状のチャネルとした場合、めっき電極を形成する工程において、アクチュエータプレートに割れ又は欠けが生じる可能性がある。
これに対し、本実施形態によれば、複数のチャネル54,55のそれぞれが切り上がり部54b,55bを有するため、複数のチャネルのそれぞれを突っ切り形状のチャネルとした場合と比較して、構造的に強固となる。したがって、めっき電極を形成する工程において、アクチュエータウエハ110に割れ又は欠けが生じることを抑制することができる。
すなわち、本実施形態では、複数のチャネル54,55は、互いに異なる形状を有している。
これに対し、本実施形態によれば、複数のチャネル54,55の形状を互いに異ならせた場合でも、複数のチャネル54,55のそれぞれが切り上がり部54b,55bを有するため、めっき電極において、めっき皮膜の不析出箇所が生じたり、めっきダマが生じたりすることを抑制することができる。加えて、アクチュエータプレート51に割れ又は欠けが生じることを抑制することができる。
すなわち、本実施形態では、複数のチャネル54,55は、X方向に間隔をあけて交互に並設された吐出チャネル54及び非吐出チャネル55であり、チャネル内電極61,63は、吐出チャネル54の内面に形成された共通電極61、及び非吐出チャネル55の内面に形成された個別電極63であり、非吐出チャネル55のZ方向の長さは、吐出チャネル54のZ方向の長さよりも長い。
すなわち、本実施形態では、AP側Y方向内側面51f1に積層されて吐出チャネル54及び非吐出チャネル55を閉塞するとともに、吐出チャネル54に連通する液体供給路70と、自身をY方向に貫通し液体供給路70以外の箇所に配置された貫通孔87と、が形成されたカバープレート52と、カバープレート52において貫通孔87を介して共通電極61とフレキシブル基板45とを接続する接続配線60と、を更に備えている。
すなわち、接続配線60は、アクチュエータプレート51とカバープレート52との積層状態において、CP側尾部52eに形成されている。
すなわち、本実施形態では、接続配線60は、貫通孔87の内面に形成された貫通孔内電極86と、CP側尾部52eにおいて貫通孔内電極86とフレキシブル基板45とを接続する共通引出配線67と、を備える。
すなわち、本実施形態では、共通引出配線67は、CP側尾部52eのY方向外側面においてX方向に少なくとも3以上の複数箇所に分割して形成されるとともに、フレキシブル基板45に接続される共通端子68を備える。
すなわち、本実施形態では、AP側尾部51eのY方向内側面には、共通電極61から延出するとともに、X方向に間隔をあけて配置された複数のAP側共通パッド62が形成され、CP側Y方向外側面52f1における貫通孔87の周囲には、貫通孔内電極86から延出するとともに、X方向に間隔をあけて複数配置され、かつそれぞれがY方向においてAP側共通パッド62と対向するCP側共通パッド66が形成されている。
すなわち、本実施形態では、AP側尾部51eのY方向内側面には、X方向に延在するとともに、吐出チャネル54を間に挟んで対向する個別電極63同士を接続するAP側個別配線64が形成され、CP側Y方向外側面52f1には、Z方向の一端部においてX方向に分割されたCP側個別配線69が形成され、CP側個別配線69は、Y方向においてAP側個別配線64と対向するCP側個別パッド69aと、CP側個別パッド69aから上端に向けて延びる個別端子69bと、を備える。
すなわち、本実施形態では、CP側尾部52eの上端には、カバープレート52の内側に窪むとともに、X方向に間隔をあけて配置された複数の凹部73が形成され、共通引出配線67は、凹部73を介して貫通孔内電極86とフレキシブル基板45とを接続している。
すなわち、本実施形態に係るインクジェットヘッド5は、上記のヘッドチップ40A,40Bを備える。
すなわち、本実施形態では、CP側Y方向内側面52f2を互いにY方向に対向させて配置された一対のヘッドチップ40A,40Bを備え、一対のヘッドチップ40A,40Bの間には、流路プレート41が配設され、流路プレート41には、一対のカバープレート52の液体供給路70に連通する入口流路74が形成されている。
すなわち、本実施形態では、複数の吐出チャネル54は、一対のヘッドチップ40A,40Bにおけるアクチュエータプレート51の下端面でそれぞれ開口し、一対のアクチュエータプレート51における下端側には、吐出チャネル54に各別に連通するノズル孔78を有するノズルプレート44が配設され、Z方向における一対のアクチュエータプレート51とノズルプレート44との間には、吐出チャネル54とノズル孔78とを各別に連通する循環路76を有する帰還プレート43が配設され、流路プレート41には、循環路76に連通する出口流路75が形成されている。
すなわち、本実施形態に係るプリンタ1は、上記のインクジェットヘッド5と、インクジェットヘッド5と被記録媒体Pとを相対的に移動させる移動機構2,3,7と、を備える。
すなわち、本実施形態に係るヘッドチップ40A,40Bの製造方法は、Z方向に沿って延在する延在部54a,55aと、延在部54a,55aからZ方向の一方に連なり、かつ、Z方向の一方に向かうに従い溝深さが漸次浅い切り上がり部54b,55bと、を有する複数のチャネル54,55を、X方向に間隔をあけて並設するようアクチュエータウエハ110に形成するチャネル形成工程と、チャネル形成工程の後、チャネル54,55の内面にチャネル内電極61,63としてめっき皮膜を形成する電極形成工程と、を含む。
例えば、図25に示すように、実施形態の凹部73(図5参照)に代えて、カバープレート52の上端部には、Y方向に貫通するとともに、X方向に間隔をあけて配置された複数の貫通孔90が形成されていてもよい。
図10に示すように、説明した実施形態では、めっき工程225(ステップ225)の後に逃げ溝形成工程(ステップ230)を行う場合について説明した。これに対し、第2変形例では、めっき工程の前に逃げ溝生工程を行うものである。
すなわち、第2変形例では、図10(b)で示したチャネル形成工程(ステップ115)と電極形成工程(ステップ120)との間に逃げ溝形成工程(ステップ117、図示しない)を行うと共に、図10(c)で示した実施形態の逃げ溝形成工程(ステップ230)に変えて電極分離工程(ステップ230)を行う。
この第2変形例においても、実施形態と同様に、吐出チャネル54と非吐出チャネル55のチャネル溝幅は70μm未満であり、電極の膜厚は0.5μm以下、好ましくは0.3μm以下に形成される。
<インクジェットヘッドの構造>
なお、他の処理、工程については実施形態と同様であるため適宜説明を省略することとする。
第2変形例のインクジェットヘッドでは、図28に示すように、アクチュエータプレート51の表面には、ダイシングブレード等の切削処理により、Z方向に沿った吐出チャネル54と非吐出チャネル55用のチャネル溝が、X方向に交互に並んで形成される。吐出チャネル54は、延在部54aと切り上がり部54bを有しており、非吐出チャネル55も延在部55aと切り上がり部55bを有している。
第2変形例では、先にダイシングブレード等による切削加工で電極逃げ溝81を形成し、その後にめっき処理による電極形成を行う。
後にめっき処理を行うことで、電極逃げ溝81には逃げ溝電極93がAP側共通パッド62と一体に形成されること短絡している。そこで、図1に示すように、逃げ溝電極93とAP側共通パッド62との短絡部を切削やレーザ照射により切断することで、電極分離部96が形成されている。
このように第2変形例では、めっき工程におけるエッチング処理でアクチュエータウエハ110の表面が脆弱化する前に電極逃げ溝81を形成するので、逃げ溝形成によって電極溝壁面が剥離することを防止できる。このため、剥離による歩留まり低下を回避することができ、コスト低減を図ることができる。
また、本変形例の製造方法では、逃げ溝電極93、個別電極65、及びAP側個別配線64を一体形成して接合をより強固にすることができる。
図26は、実施形態に係る電極逃げ溝形成工程を説明ためのものである。
図26、図8に示すように、逃げ溝形成工程(ステップ117)では、AP側尾部51eの範囲で、AP側共通パッド62となる領域とAP側個別配線64となる領域の間に、非吐出チャネル55における切り上がり部55bの底面よりもY方向上方に電極逃げ溝81を形成する。
電極逃げ溝81は、ダイシングブレード等により、アクチュエータウエハ110の表面に対して切削加工により形成する。具体的には、図26に示すように、アクチュエータウエハ110の表面上に、X方向に形成する。この場合、アクチュエータウエハ110の表面のうち、AP側共通パッド62とAP側個別配線64の形成領域を残して、マスクパターン111ごと切削する。
そこで、図28に示すように、逃げ溝電極93とAP側共通パッド62との接続部95を切断することで、電極分離部96が形成されている。接続部95の切断はダイシングブレード等による切削や、レーザ照射による。
めっき工程では、アクチュエータウエハ110全体をめっき液に浸漬するので、図27に示すように、電極逃げ溝81の逃げ溝電極93とAP側共通パッド62との接続部95も一体に形成され短絡状態(導通する状態)となっている。
図28に示すように、切削加工で電極分離部96を形成することにより、AP側共通パッド62側だけでなく、逃げ溝電極93側の電極も除去されると共に、段差部が形成されている。このため、アクチュエータプレート51とカバープレート52との接合時において、CP側共通パッド66が逃げ溝電極93と短絡することが回避される。
なお、切削は接続部95の電極膜(金属被膜114)を含めて切削するので、電極膜の膜厚さをTPとした場合、電極分離部96の切削深さは1.5TP程度の範囲で十分である。
このように電極分離部96の切削はごく表面の近辺であるため、加工に伴う衝撃が小さく、電極剥がれが生じることはほとんどない。
電極分離部96をレーザ加工で形成する場合、CP側共通パッド66と逃げ溝電極93との短絡を回避するため、少なくとも逃げ溝電極93の側壁で接続部95となっている上側(Y方向)の所定範囲に斜めからレーザを照射することで削除する。この場合の所定範囲は上記と同じように、上記1.5TP程度の範囲が好ましい。
CP側共通パッド66の接続部95となっている端部を含めて削除することも可能であり、この場合にはより確実に絶縁状態とすることができる。
また、第2変形例でも実施形態と同様に、実施形態と同様に、吐出チャネル54と非吐出チャネル55のチャネル溝幅は70μm未満であり、電極の膜厚は0.5μm以下、好ましくは0.3μm以下に形成されるので、電極分離工程において、切削により電極分離部96を形成しても、アクチュエータウエハ110の脆弱部が剥れることはない。
2…搬送手段(移動機構)
3…搬送手段(移動機構)
5,5K,5C,5M,5Y…インクジェットヘッド(液体噴射ヘッド)
7…走査手段(移動機構)
41…流路プレート
43…帰還プレート
44…ノズルプレート(噴射プレート)
45…フレキシブル基板(外部配線)
51…アクチュエータプレート
51f1…AP側Y方向内側面(アクチュエータプレート側第1主面)
51e…AP側尾部(アクチュエータプレートのうち、噴射チャネルに対して第1方向の一方側に位置する部分)
52…カバープレート
52f1…CP側Y方向外側面(カバープレート側第1主面)
52f2…CP側Y方向内側面(カバープレート側第2主面)
52e…CP側尾部(カバープレートのうち、アクチュエータプレートの第1方向の一端面よりも外方に延出する尾部)
54…吐出チャネル(噴射チャネル)
54a…延在部
54b…切り上がり部
55…非吐出チャネル(非噴射チャネル)
55a…延在部
55b…切り上がり部
56…駆動壁
60…接続配線
61…共通電極(チャネル内電極)
62…AP側共通パッド(アクチュエータプレート側共通パッド)
63…個別電極(チャネル内電極)
64…AP側個別配線(アクチュエータプレート側個別配線)
65…個別電極
66…CP側共通パッド(カバープレート側共通パッド)
67…共通引出電極(引出電極)
68…共通端子
69…CP側個別配線(カバープレート側個別配線)
69a…CP側個別パッド(カバープレート側個別パッド)
69b…個別端子
70…液体供給路
74…入口流路
75…出口流路
76…循環路
78…ノズル孔(噴射孔)
80…横断共通電極
81…電極逃げ溝
85…貫通孔
86…貫通孔内電極
87…貫通孔
93…逃げ溝電極
95…接続部
96…電極分離部
110…アクチュエータウエハ
111…マスクパターン
112…マウンティングテープ
113…触媒
114…金属皮膜
P…被記録媒体
Claims (5)
- アクチュエータプレートの第1主面に、マスクパターンを形成するマスクパターン形成工程と、
前記第1主面に形成した前記マスクパターン部分に、第1方向に沿った複数のチャネル溝を切削加工により、前記第1方向に直交する第2方向に間隔をあけて並設して形成するチャネル溝形成工程と、
前記アクチュエータプレートに電極を形成する電極形成工程と、
前記電極形成工程後に、前記マスクパターンを剥離する剥離工程と、を含み、
前記電極形成工程では、前記アクチュエータプレートの表面側の前記電極の膜厚を、0.5μm以下に形成する、
ことを特徴とする液体噴射ヘッドチップの製造方法。 - 前記チャネル溝形成工程は、前記チャネル溝を70μm未満の幅に形成し、
前記チャネル溝形成工程の後に、アクチュエータプレートの露出面を粗らす粗面化工程を有し、
前記電極形成工程は、前記粗面化工程の後に、めっき皮膜を形成することにより膜厚が0.5μm以下の電極を形成する、
ことを特徴とする請求項1に記載の液体噴射ヘッドチップの製造方法。 - 前記マスクパターン形成工程は、前記アクチュエータプレートの第1主面に、複数のアクチュエータプレート側共通パッドと複数のアクチュエータプレート側個別配線用のマスクパターンを形成し、
前記チャネル溝形成工程は、噴射チャネルと非噴射チャネルのチャネル溝を形成し、
前記アクチュエータプレート側共通パッドとアクチュエータプレート側個別配線との間に電極逃げ溝を形成する逃げ溝形成工程を有する、
ことを特徴とする請求項2に記載の液体噴射ヘッドチップの製造方法。 - 前記逃げ溝形成工程は、前記めっき工程の前に行う、
ことを特徴とする請求項3に記載の液体噴射ヘッドチップの製造方法。 - 前記逃げ溝形成工程は、前記めっき工程の後で前記剥離工程の前に行う、
ことを特徴とする請求項3に記載の液体噴射ヘッドチップの製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017056390A JP7005156B2 (ja) | 2017-03-22 | 2017-03-22 | 液体噴射ヘッドチップの製造方法 |
US15/924,695 US10513117B2 (en) | 2017-03-22 | 2018-03-19 | Liquid ejecting head chip, liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and manufacturing method of liquid ejecting head chip |
CN201810239502.8A CN108621577A (zh) | 2017-03-22 | 2018-03-22 | 液体喷射头芯片、液体喷射头、液体喷射装置 |
EP18163245.6A EP3378652A1 (en) | 2017-03-22 | 2018-03-22 | Liquid ejecting head chip, liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and manufacturing method of liquid ejecting head chip |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017056390A JP7005156B2 (ja) | 2017-03-22 | 2017-03-22 | 液体噴射ヘッドチップの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018158480A JP2018158480A (ja) | 2018-10-11 |
JP7005156B2 true JP7005156B2 (ja) | 2022-01-21 |
Family
ID=61749997
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017056390A Active JP7005156B2 (ja) | 2017-03-22 | 2017-03-22 | 液体噴射ヘッドチップの製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10513117B2 (ja) |
EP (1) | EP3378652A1 (ja) |
JP (1) | JP7005156B2 (ja) |
CN (1) | CN108621577A (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7266991B2 (ja) * | 2018-11-09 | 2023-05-01 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置および液体噴射ヘッドチップの形成方法 |
JP7077207B2 (ja) * | 2018-11-09 | 2022-05-30 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | ヘッドチップの製造方法および液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP7185512B2 (ja) * | 2018-12-06 | 2022-12-07 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | ヘッドチップ、液体噴射ヘッドおよび液体噴射記録装置 |
US11780227B2 (en) | 2019-06-25 | 2023-10-10 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Molded structures with channels |
CN117621657A (zh) * | 2022-08-26 | 2024-03-01 | 东芝泰格有限公司 | 液体喷出头 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002172789A (ja) | 2000-12-04 | 2002-06-18 | Konica Corp | インクジェットヘッドの製造方法 |
JP2013121695A (ja) | 2011-12-12 | 2013-06-20 | Sii Printek Inc | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP2013216067A (ja) | 2012-04-12 | 2013-10-24 | Sii Printek Inc | 液体噴射ヘッドの製造方法、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
JP2014148090A (ja) | 2013-02-01 | 2014-08-21 | Canon Inc | 液体吐出装置 |
JP2014177075A (ja) | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Seiko Instruments Inc | ヘッドチップの製造方法、ヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射装置 |
JP2014233875A (ja) | 2013-05-31 | 2014-12-15 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドの製造方法および液体噴射装置 |
JP2015085534A (ja) | 2013-10-28 | 2015-05-07 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッドの製造方法、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
JP2015107614A (ja) | 2013-12-05 | 2015-06-11 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
JP2015171801A (ja) | 2014-03-12 | 2015-10-01 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドの製造方法、及び液体噴射装置 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3163878B2 (ja) * | 1993-11-11 | 2001-05-08 | ブラザー工業株式会社 | インク噴射装置 |
US5825121A (en) * | 1994-07-08 | 1998-10-20 | Seiko Epson Corporation | Thin film piezoelectric device and ink jet recording head comprising the same |
JP3637633B2 (ja) | 1995-05-10 | 2005-04-13 | ブラザー工業株式会社 | インクジェット式印字ヘッド及びその製造方法 |
JPH0994967A (ja) * | 1995-09-29 | 1997-04-08 | Seikosha Co Ltd | インクジェットヘッドの製造方法 |
US5688391A (en) * | 1996-03-26 | 1997-11-18 | Microfab Technologies, Inc. | Method for electro-deposition passivation of ink channels in ink jet printhead |
JPH10157104A (ja) * | 1996-11-28 | 1998-06-16 | Tec Corp | インクジェットプリンタヘッド |
JP2873287B1 (ja) * | 1998-03-20 | 1999-03-24 | 新潟日本電気株式会社 | インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法 |
JP2002103630A (ja) | 2000-09-29 | 2002-04-09 | Konica Corp | インクジェットヘッド |
US6802596B2 (en) * | 2000-12-18 | 2004-10-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Ink jet head with partially exposed inside electrode and fabrication method thereof |
JP4662519B2 (ja) | 2001-06-01 | 2011-03-30 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | ヘッドチップ、ヘッドチップユニット、インクジェット式記録装置、及びヘッドチップの製造方法。 |
JP2007152624A (ja) | 2005-12-01 | 2007-06-21 | Sii Printek Inc | インクジェット記録装置、インクジェットヘッド、インクジェットヘッドチップ及びその製造方法 |
KR20110047129A (ko) * | 2009-10-29 | 2011-05-06 | 에스아이아이 프린텍 가부시키가이샤 | 액체 분사 헤드, 액체 분사 장치 및 액체 분사 헤드의 제조 방법 |
JP5580759B2 (ja) * | 2011-02-23 | 2014-08-27 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッドの製造方法、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
JP5827044B2 (ja) * | 2011-06-28 | 2015-12-02 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP6004960B2 (ja) | 2013-02-06 | 2016-10-12 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドの製造方法および液体噴射装置 |
JP6278656B2 (ja) * | 2013-10-17 | 2018-02-14 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP2015168177A (ja) * | 2014-03-07 | 2015-09-28 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
JP6450079B2 (ja) * | 2014-03-12 | 2019-01-09 | セイコーインスツル株式会社 | ヘッドチップの製造方法、液体噴射ヘッド、液体噴射装置 |
JP6266392B2 (ja) * | 2014-03-19 | 2018-01-24 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッドの製造方法、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
JP2016055555A (ja) | 2014-09-11 | 2016-04-21 | キヤノン株式会社 | 液体吐出装置 |
JP6573825B2 (ja) | 2015-11-27 | 2019-09-11 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
-
2017
- 2017-03-22 JP JP2017056390A patent/JP7005156B2/ja active Active
-
2018
- 2018-03-19 US US15/924,695 patent/US10513117B2/en active Active
- 2018-03-22 CN CN201810239502.8A patent/CN108621577A/zh active Pending
- 2018-03-22 EP EP18163245.6A patent/EP3378652A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002172789A (ja) | 2000-12-04 | 2002-06-18 | Konica Corp | インクジェットヘッドの製造方法 |
JP2013121695A (ja) | 2011-12-12 | 2013-06-20 | Sii Printek Inc | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP2013216067A (ja) | 2012-04-12 | 2013-10-24 | Sii Printek Inc | 液体噴射ヘッドの製造方法、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
JP2014148090A (ja) | 2013-02-01 | 2014-08-21 | Canon Inc | 液体吐出装置 |
JP2014177075A (ja) | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Seiko Instruments Inc | ヘッドチップの製造方法、ヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射装置 |
JP2014233875A (ja) | 2013-05-31 | 2014-12-15 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドの製造方法および液体噴射装置 |
JP2015085534A (ja) | 2013-10-28 | 2015-05-07 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッドの製造方法、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
JP2015107614A (ja) | 2013-12-05 | 2015-06-11 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
JP2015171801A (ja) | 2014-03-12 | 2015-10-01 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドの製造方法、及び液体噴射装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108621577A (zh) | 2018-10-09 |
US10513117B2 (en) | 2019-12-24 |
EP3378652A1 (en) | 2018-09-26 |
US20180272711A1 (en) | 2018-09-27 |
JP2018158480A (ja) | 2018-10-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7005156B2 (ja) | 液体噴射ヘッドチップの製造方法 | |
JP6909605B2 (ja) | 液体噴射ヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射装置および液体噴射ヘッドチップの製造方法 | |
JP6868411B2 (ja) | 液体噴射ヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射装置および液体噴射ヘッドチップの製造方法 | |
JP6872381B2 (ja) | 液体噴射ヘッドチップ、液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置 | |
JP2017052214A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP6937129B2 (ja) | 液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置 | |
JP2017109457A (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP6909606B2 (ja) | 液体噴射ヘッドチップの製造方法 | |
JP6868410B2 (ja) | 液体噴射ヘッドチップ、液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置 | |
US20180222209A1 (en) | Member, liquid ejecting head chip, liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and cutting method | |
JP6314062B2 (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射装置 | |
JP6371639B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP6314057B2 (ja) | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 | |
JP2022097960A (ja) | ヘッドチップ、液体噴射ヘッド、液体噴射記録装置及びヘッドチップの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200115 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20201124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201228 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210222 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20210802 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211029 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20211029 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20211029 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20211125 |
|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20211129 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211217 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220105 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7005156 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |