JPH08293452A - レジスト塗布装置 - Google Patents

レジスト塗布装置

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JPH08293452A
JPH08293452A JP7101180A JP10118095A JPH08293452A JP H08293452 A JPH08293452 A JP H08293452A JP 7101180 A JP7101180 A JP 7101180A JP 10118095 A JP10118095 A JP 10118095A JP H08293452 A JPH08293452 A JP H08293452A
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JP
Japan
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nozzle
resist
mounting
coating apparatus
nozzles
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JP7101180A
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English (en)
Inventor
Motoi Takagi
基 高木
Sunao Nishioka
直 西岡
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Renesas Semiconductor Engineering Corp
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Renesas Semiconductor Engineering Corp
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
Application filed by Renesas Semiconductor Engineering Corp, Mitsubishi Electric Corp filed Critical Renesas Semiconductor Engineering Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner

Abstract

(57)【要約】 【目的】 多種類のレジストの使用が可能で、直径の大
きな半導体ウエハ201にも均一な膜厚でレジストの塗
布ができ、安価で塗布作業の簡単なレジスト塗布装置を
提供する。 【構成】 半導体ウエハ201を載置して回転駆動する
回転台200の上方に、保持板400が配置され、その
保持板400に、ノズル取付用回転円板300が回転可
能に保持される。ノズル取付用回転円板300の回転中
心C’は回転台200の中心軸線Cから偏心した位置に
配置される。半導体ウエハ201上にレジストを吐出す
る複数のノズル611−613からなる少なくとも1列
のノズル群610、620、630が、ノズル取付用回
転円板300にその半径方向に互いに間隔を存して取り
付けられる。ノズル群610、620、630の複数の
ノズル611−613のうちの少なくとも1つの取付位
置が調節可能である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体集積回路装置
等の製造において、半導体ウエハへレジストを塗布する
ためのレジスト塗布装置に係り、特にスピンコートによ
り半導体ウエハへレジストを塗布するレジスト塗布装置
の改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体装置等の製造において、直
径の大きな半導体ウエハに対してスピンコートにより膜
厚が均一になるようにレジストを塗布するためのレジス
ト塗布装置として、例えば、以下の公開公報に開示され
たものが知られている。 (1) 特開昭61−238050号 (2) 特開平5−55131号 (3) 特開昭63−301520号 (4) 特開昭62−221465号 (5) 特開平2−258082号 (6) 特開昭62−195121号
【0003】上記特開昭61−238050号には、図
3に示すように、半導体ウエハ1を載置するチャックテ
ーブル2と、そのチャックテーブル2を回転駆動するス
ピンドル3と、チャックテーブル2の上方において半導
体ウエハ1の中心位置に配置された内側ノズル4と、そ
の内側ノズル4の外側(半径方向外側)に配置された外
側ノズル5とから構成されるレジスト塗布装置が示され
ており、半導体ウエハ1はチャックテーブル1に固定さ
れ、スピンドル3によって回転駆動されながら、外側ノ
ズル5より低粘度のレジストを、同時に内側ノズル4よ
り高粘度のレジストを滴下させて半導体ウエハ1の表面
に膜厚の均一なレジスト膜を形成しようとするものであ
る。
【0004】上記特開平5−55131号には、複数の
ノズルから、半導体ウエハ上で回転中心からの距離が異
なる複数の場所に、レジストの粘度が回転中心からの距
離が大きくなるにつれて高くなるようにして、レジスト
を滴下させて膜厚の均一なレジスト膜を得ようとするレ
ジスト塗布装置が開示されている。
【0005】上記特開昭63−301520号には、レ
ジスト滴下用の複数のノズルと、各ノズルの吐出位置を
半導体ウエハの回転中心に位置決めを行う位置決め機構
と、各ノズルの吐出位置を半導体ウエハの回転中心から
外周方向へ任意に移動させる移動機構とを有するレジス
ト塗布装置が開示されている。
【0006】上記特開昭62−221465号には、レ
ジスト滴下用の複数のノズルのうちの任意の一つを半導
体ウエハの中心に位置させるセンタリング機構を有する
レジスト塗布装置が開示されており、そのセンタリング
機構は、一例では、複数のノズルを保持する移動部材
と、この移動部材を直径方向に変位させる駆動部とから
構成され、他の例では、半導体ウエハの中心を通過する
円周上に複数の滴下用ノズルを保持して円周中心を支点
として回転させる回転部材から構成される。
【0007】上記特開平2−258082号には、異な
るレジストを半導体ウエハに吐出できる複数のノズルを
一体的に構成し、これら複数のノズルのうちの1本のノ
ズルを選択して、半導体ウエハにレジストを塗布するレ
ジスト塗布装置が開示されている。
【0008】上記特開昭62−195121号には、ア
ームで支持された複数のレジスト滴下用ノズルを、半導
体ウエハの中心から外周部にかけて一列に配設し、それ
らのノズルから同一のレジストを半導体ウエハに塗布す
るようにしたレジスト塗布装置が開示されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のレジスト塗布装置では、次のような問題点があ
った。特開昭61−238050号においては、同一種
類のレジストを含む粘度の異なる2つの溶液を2つのノ
ズル4、5から滴下するので、他の半導体装置や他の製
造プロセスで別のレジストを塗布したい場合には、別の
レジスト塗布装置を必要とし、半導体製造設備が高価と
なる欠点がある。
【0010】特開平5−55131号においても、半導
体ウエハ上で回転中心からの距離の異なる複数の場所に
配置した複数のノズルから同一のレジストを滴下するの
で、上記特開昭61−238050号と同様に、半導体
製造設備が高価となる欠点がある。
【0011】特開昭63−301520号においては、
複数のレジスト滴下用ノズルを採用することによって多
種類のレジストを自動的に切り替えることができるもの
の、位置決め機構と移動機構が複雑である欠点がある。
【0012】特開昭62−221465号においては、
レジストを滴下する複数のノズルの何れか1つを半導体
ウエハの回転中心に位置させるため、同一種類のレジス
トで粘度の異なる複数のレジストを半導体ウエハ上の複
数の場所へ滴下できず、直径の大きな半導体ウエハに対
して膜厚の均一なレジスト膜を得ることができないとい
う欠点がある。
【0013】特開平2−258082号においても、複
数のレジスト吐出用のノズルが一体化されているので、
各ノズルから種類や粘度の異なるレジストを選択して塗
布できたとしても、各ノズルは一体的に構成されてそれ
らの塗布位置を個別に調節できないので、複数のノズル
の何れか一つを半導体ウエハの回転中心に位置させた場
合、同じ種類のレジストで粘度の異なる複数のレジスト
を半導体ウエハ上の所望の複数の場所へ滴下できず、直
径の大きな半導体ウエハに対して膜厚の均一なレジスト
膜を得ることができないという欠点がある。
【0014】特開昭62−195121号では、アーム
で支持された複数のレジスト滴下用ノズルを一列に設け
て同一種類のレジストを半導体ウエハに塗布する装置な
ので、多種類のレジストを直径の大きな半導体ウエハに
塗布して均一なレジスト膜を得るためには、複数のノズ
ルを有するアーム全体をレジストの種類を変更するたび
に交換しなければならず、作業が繁雑で作業能率も悪い
という欠点がある。
【0015】この発明は、上述したような問題点を解消
するためになされたもので、多種類のレジストの使用が
可能で、直径の大きな半導体ウエハでも、膜厚の均一な
レジスト塗布ができ、安価で、塗布作業が簡単なレジス
ト塗布装置を提供することを目的とするものである。
【0016】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項1に係
るレジスト塗布装置は、半導体ウエハを載置して回転さ
せるための回転軸を有する回転台と、前記回転台の上方
に配置される保持板と、前記保持板に回転可能に保持さ
れ、回転中心が前記回転台の回転軸の中心軸線から偏心
した位置に配置されるノズル取付用回転円板と、前記ノ
ズル取付用回転円板にその半径方向に互いに間隔を存し
て取り付けられ、前記半導体ウエハ上にレジストを吐出
する複数のノズルからなる少なくとも1列のノズル群と
を備え、前記ノズル群の複数のノズルのうちの少なくと
も1つの取付位置が調節可能であるように構成される。
【0017】この発明の請求項2に係るレジスト塗布装
置では、前記ノズル取付用回転円板は、その半径方向に
互いに間隔を存して穿設された、前記ノズルと同数の貫
通孔を有し、前記ノズルは対応する前記貫通孔に挿入さ
れた状態で前記ノズル取付用回転円板に取り付けられ
る。
【0018】この発明の請求項3に係るレジスト塗布装
置では、前記貫通孔のうち最内側のものは、そこに挿入
される前記ノズルよりも僅かに大きな径を有し、該ノズ
ルはその最内側の貫通孔に挿通されて固定される。
【0019】この発明の請求項4に係るレジスト塗布装
置では、前記貫通孔は長孔状貫通孔よりなり、前記ノズ
ルは対応する前記長孔状貫通孔内で位置調節可能に取付
具により前記ノズル取付用回転円板に取り付けられる。
【0020】この発明の請求項5に係るレジスト塗布装
置では、前記取付具は、前記各ノズルの先端に形成され
た雄ネジと、その雄ネジに螺合する一対のナットとから
構成される。
【0021】この発明の請求項6に係るレジスト塗布装
置では、前記各長孔状貫通孔は円弧状に形成され、且つ
ノズル取付用回転円板上の同心円と重ならないように角
度を以って交差するように配置される。
【0022】この発明の請求項7に係るレジスト塗布装
置では、前記貫通孔は円周方向に間隔を存して前記ノズ
ル取付用回転円板の中心から放射状に配置された複数列
の開孔群からなり、前記ノズル群は前記複数列の開孔群
に対応して設けられる。
【0023】この発明の請求項8に係るレジスト塗布装
置は、前記ノズル取付用回転円板の前記保持板に対する
回転を停止させて該ノズル取付用回転円板を少なくとも
1つの所定の回転角位置に保持することができるストッ
パをさらに備える。
【0024】この発明の請求項9に係るレジスト塗布装
置では、前記保持板は、前記ノズル取付用回転円板より
も僅かに大きな径の円形孔を有し、該ノズル取付用回転
円板は前記円形孔内に回転可能に配置される。また、前
記ストッパは、前記ノズル取付用回転円板及び保持板の
一方に設けられた複数の係合凹部と、それらのうちの他
方に設けられ、付勢手段により前記係合凹部の1つと係
合するように付勢される係合ピンとから構成される。
【0025】
【作用】この発明の請求項1によるレジスト塗布装置で
は、ノズル取付用回転円板を保持板に対して回転させる
ことにより、ノズル群の半導体ウエハに対するレジスト
吐出位置を調節することができるとともに、各ノズル群
の少なくとも1つのノズルの取付位置を微調節すること
ができる。
【0026】この発明の請求項2によるレジスト塗布装
置では、ノズル取付用回転円板の半径方向に互いに間隔
を存して穿設された貫通孔内で各ノズルの取付位置(レ
ジスト吐出位置)を任意に変更調節することにより、レ
ジストの塗布効率を高めて、膜厚の均一なレジスト膜を
容易に得ることができる。
【0027】この発明の請求項3によるレジスト塗布装
置では、貫通孔のうち最内側のものは、そこに挿入され
るノズルよりも僅かに大きな径(サイズ)に形成される
だけなので、ノズル群を複数設けた場合でも、面積の狭
いノズル取付用回転円板の中心部近傍において、内側の
ノズルを取り付けるための複数の貫通孔の設置スペース
を十分に確保することができる。
【0028】この発明の請求項4によるレジスト塗布装
置では、各ノズルを長孔状貫通孔内で移動させることに
より、最適な吐出位置に設定することができる。
【0029】この発明の請求項5によるレジスト塗布装
置では、各ノズル先端の雄ネジに螺合された一対のナッ
トを緊締、弛緩させることにより各ノズルの取付位置の
微調節を極めて簡単容易に行うことができる。
【0030】この発明の請求項6によるレジスト塗布装
置では、ノズルを、円弧状に形成された長孔状貫通孔内
で移動させることにより、ノズル取付用回転円板の半径
方向へ微小量ずつ移動させることができ、該ノズルの極
めて正確な位置決めを行うことができる。
【0031】この発明の請求項7によるレジスト塗布装
置では、ノズル取付用回転円板を回転することにより、
放射状に配置された複数列の開孔群すなわちノズル群を
1列ずつ順次レジスト塗布に好適な位置に移動させるこ
とができ、従って、各ノズル群に異種類のレジストを供
給することによりノズル取付用回転円板表面に複数のレ
ジスト膜を極めて効率良く形成することができる。
【0032】この発明の請求項8によるレジスト塗布装
置では、ノズル取付用回転円板を保持板に対して所定角
度回転させてから、該ノズル取付用回転円板の回転をス
トッパにより停止させて、その位置に固定保持すること
ができる。
【0033】この発明の請求項9によるレジスト塗布装
置では、ノズル取付用回転円板が保持板に対して所定角
度回転されたとき、ノズル取付用回転円板及び保持板の
一方に設けられた複数の係合凹部の一つに、それらのう
ちの他方に設けられた係合ピンが係合してそれらの相対
回転を阻止する。
【0034】
【実施例】
実施例1.以下、この発明の一実施例を添付図面に基づ
き詳細に説明する。図1はこの発明の実施例によるレジ
スト塗布装置を示す縦断面図、図2はその平面図であ
る。この実施例では、図1及び2に示すように、レジス
ト塗布装置100は、半導体ウエハ201を回転させる
ための回転台200と、ノズル611、612、613
を取り付けるためのノズル取付用回転円板300と、こ
のノズル取付用回転円板300を支持する保持板400
と、ノズル取付用回転円板300を保持板400に固定
するストッパ500と、ノズル取付用回転円板300に
取り付けられた少なくとも一組み(図示例では3組み)
のノズル群610、620、630とから構成される。
【0035】回転台200は、半導体ウエハ201を載
置する回転板202と、回転板202の中心に中心軸線
Cを一致させて一端を固着され、図示しない電動モータ
等の駆動手段により回転駆動される回転軸203とを有
する。
【0036】ノズル取付用回転円板300は、回転台2
00の回転軸203の中心軸線Cより所定距離Dだけ偏
心した回転中心C’で回転できるように構成されてい
る。また、ノズル取付用回転円板300には、半径方向
に間隔を存して配置された複数個の貫通孔311、31
2、313からなる少なくとも一組の(図示例では3
組)の開孔群310、320、330が設けられてい
る。
【0037】各組みの各貫通孔311、312、313
は、図示例では、円弧状の長孔状貫通孔からなり、ノズ
ル取付用回転円板300の回転中心C’からの半径方向
の距離が内側のものから外側のものへ増大するように配
置され、且つ各貫通孔311、312、313は、その
内部の各点がノズル取付用回転円板300の回転中心
C’からの半径方向の距離が変化するように配置され
る。すなわち、長孔状貫通孔311、312、313が
ノズル取付用回転円板300の同心円に沿わないように
(一致あるいは平行にならないように)配置される(す
なわち、長孔状貫通孔311、312、313は同心円
と角度を以って交わるように配置される)。
【0038】さらに、ノズル取付用回転円板300の主
面(上面)330aには、その回転中心C’より半径方
向に等間隔で同心円状に目盛り330bが刻設されてい
る。
【0039】各ノズル群の610、620、630の長
孔状貫通孔311、312、313は、図2に示される
ように、半径方向に互いに間隔を存して略並列に配置さ
れるのが好ましいが、必要に応じて非並列に配置しても
良い。
【0040】保持板400には、ノズル取付用回転円板
300より少し大きめの円形孔410が形成されてお
り、ノズル取付用回転円板300の円形孔410を画成
する内周部の底面には、この円形孔410の全周に渡っ
て延びる突出縁部420が形成されている。この円形孔
410の中にノズル取付用回転円板300が挿入され、
円形孔410の全周に渡って形成された突出縁部420
によって、ノズル取付用回転円板300が回転可能に支
持されている。保持板400内に回転可能に嵌合された
ノズル取付用回転円板300は、その回転中心C’が、
回転台200の回転軸203の中心軸線Cより所定距離
Dだけ偏心した位置に配置されている。
【0041】ストッパ500は、ノズル取付用回転円板
300の円周側面に設けられた複数の係合凹部としての
半球状のピット510と、保持板400に設けられ、そ
の内周面より半径方向外側に延びる係合ピン収容部とし
ての円筒状のピット520と、その円筒状ピット520
に摺合され、ノズル取付用回転円板300の半球状ピッ
ト510の1つに係合しうる半球状の先端部を有する係
合ピン530と、保持板400の円筒状のピット520
内に収容され、係合ピン530を半径方向内側に付勢す
る付勢手段としての押圧バネ540とにより構成され
る。
【0042】半球状ピット510は、互いに並列配置さ
れた各開孔群310、320、330を構成する各組み
の長孔状貫通孔311、312、313の中心(長手方
向及び幅方向の中心)及びノズル取付用回転円板300
の中心C’を通る線上に配置され、すなわちノズル取付
用回転円板300の中心C’に対して各組みの長孔状貫
通孔311、312、313の中心と直径線上で反対位
置に配置されている。半球状ピット510の配置はこの
ようなものが好ましいが、必ずしも、各組みの長孔状貫
通孔311、312、313の中心と対応する半球状ピ
ット510とを直径線上に配置する必要はないが、隣接
する半球状ピット510間の間隔(角度)はそれらに対
応する開孔群310、320、330の組みの長孔状貫
通孔311、312、313の中心間の間隔(角度)と
等しくなるように配置される。
【0043】ノズル取付用回転円板300が、保持板4
00の円形孔410内にて、回転台200の回転軸20
3の中心軸線Cとノズル取付用回転円板300の回転中
心C’とを結ぶ直線C−C’を基準線として、この基準
線C−C’より所定の回転角位置まで回転したとき、半
球状ピット510の一つが係合ピン530に対向して係
合ピン530が押圧バネ540により押圧されてその半
球状の先端が対向する半球状ピット510に突入、嵌合
し、それらの間の相対回転が阻止されるようになってい
る。
【0044】また、このようにノズル取付用回転円板3
00の回転をストッパ500により停止させたとき、一
組の長孔状貫通孔311、312、313は、ノズル取
付用回転円板300の半径を略カバーするようになって
いる。すなわち、互いに隣接する2つの長孔状貫通孔
(311、312)あるいは(312、313)のうち
内側のものの外周側端部は、外側のものの内周側端部と
半径方向で近接して(ノズル取付用回転円板300の同
一の同心円上に、あるいは近接して)配置されるるが、
それらは重なり合わないように配置される。
【0045】一組のノズル群610、620、630の
うち、最もノズル取付用回転円板300に近いノズル6
11は、ノズル取付用回転円板300の回転中心C’よ
り距離Dだけ離れた位置で内側の長孔状貫通孔311内
において取付具によりノズル取付用回転円板300に固
定されている。すなわち、ノズル取付用回転円板300
の中心Cに最も近いノズル611は、回転台200の回
転軸203の中心軸線C’上、つまり回転板202上の
半導体ウエハ201の中心Coの上にに配置されるよう
になっている。また、最内側のノズル611以外のノズ
ルは、半導体ウエハ201に均一なレジスト膜が得られ
るような位置で、中央及び外側の長孔状貫通孔311、
312、313内において取付具Mによりそれぞれノズ
ル取付用回転円板300に固定されている。
【0046】図1に示すように、取付具Mは次のように
構成される。各ノズル611、612、613はその先
端部に雄ネジ621、622、623が切られており、
この各雄ネジ621、622、623に第1ナット63
1、632、633をそれぞれ螺合してからノズル取付
用回転円板300の対応する長孔状貫通孔311、31
2、313内に挿入し、その後該雄ネジ621、62
2、623に、第2ナット631’、632’、63
3’をそれぞれ螺合して第1及び第2ナット631、6
31’;632、632’;633、633’によりノ
ズル取付用回転円板300を挟み込んで各ノズル61
1、612、613をノズル取付用回転円板300に固
定するようになっている。
【0047】複数組みのノズル群610、620、63
0のうち一組(一列)のノズル群には、同一種類で粘度
の異なるレジストが、また他の組み(列)のノズル群に
は、異種類で粘度の異なるレジストが図示しないレジス
ト供給源よりそれぞれ供給される。上述のように、ノズ
ル取付用回転円板300の回動操作によりノズル群61
0、620、630のうちの一組(一列)のノズル群を
所定のレジスト吐出位置に位置決めして、各ノズル61
1、612、613より半導体ウエハ201へレジスト
を滴下する。この状態で、図示しないモータ等の駆動源
により回転台200の回転軸203を介して回転板20
2を回転駆動すると、回転板202上に固定保持された
半導体ウエハ201が回転板202とともに回転され
て、半導体ウエハ201上のレジストが遠心力により中
心部から外周部へ拡散されて、半導体ウエハ201の表
面全体に均一なレジスト膜が形成される。
【0048】この実施例によれば、レジスト供給手段を
複数組みのノズル群610、620、630により構成
したので、多種類のレジスト塗布に対処できる。そし
て、異なる種類のレジスト塗布への切り替えは、ノズル
取付用回転円板300を保持板400に対して回転させ
ることにより容易に行うことができる。また、ノズル取
付用回転円板300を保持板400の円形孔410内で
所定位置(所定角度)へ回転した後、ストッパ500に
よりノズル取付用回転円板300の回転を停止させてノ
ズル取付用回転円板300をその回転位置に確実に保持
することができる。
【0049】しかも、ノズル取付用回転円板300の回
転中心に近い内側のノズル611は、回転台200の回
転軸203の中心軸線C上、すなわち半導体ウエハ20
1の中心上に配置されているから、先ず、半導体ウエハ
201への均一なレジスト塗布の基本条件が満たされて
いる。
【0050】さらに、内側のノズル611よりも半径方
向外側に配置された中央及び外側のノズル612、61
3で、半導体ウエハ201の中心より離れた部分へ粘度
の異なる同じ種類のレジストを滴下できるから、より一
層均一なレジスト塗布条件を設定できる。しかも、ノズ
ル611、612、613の位置設定は、各ノズル61
1、612、613を対応する長孔状貫通孔311、3
12、313内で適宜移動させることにより、ノズル取
付用回転円板300の半径を略カバーするように行うこ
とができるので、ノズル611、612、613の如何
なる取付位置の設定にも対処することができる。
【0051】また、ノズル取付用回転円板300の主面
(上面)330aには、その回転中心C’より同心円状
に等間隔で目盛り330bが刻設されているから、ノズ
ル611、612、613の位置設定を変更したとして
も、直に元通りに再現しやすい。さらに、ノズル取付用
回転円板300には、複数個の長孔状貫通孔311、3
12、313を一組の開孔群とする複数組みの開孔群3
10、320、330を放射状に設けているので、ノズ
ル取付用回転円板300の中心部近傍より外周部付近ま
で連続して延びる開孔を放射状に複数形成した場合に比
べて、ノズル取付用回転円板300の機械的強度がそれ
程低下することもない。
【0052】各長孔状貫通孔311、312、313は
直線状に形成してもよいが、円弧状に湾曲するように形
成すれば、該長孔状貫通孔311、312、313内で
各ノズル611、612、613の取付位置を調節する
際に、直線状にノズル611、612、613を移動さ
せる場合に比べて円弧状に移動させるほうが半径方向の
移動距離が微小になるため、より微細な調節が可能にな
る。
【0053】上記実施例では、ノズル取付用回転円板3
00に複数(3列)の開孔群310、320、330を
形成し、各開孔群310、320、330に複数(3
列)のノズル群610、620、630を設けた場合に
ついて説明したが、これらの開孔群及びノズル群は、必
要に応じて1列でも、2列以上設けてもよい。この場
合、ノズル取付用回転円板300の外周側面に形成した
半球状のピット510も、開孔群の組み(列)数に対応
して増減させ、隣接ピット間の間隔(角度)も対応する
開孔群間の間隔(角度)に対応して適宜変化させる。
【0054】また、複数の開孔群310、320、33
0を設けた場合には、各開孔群310、320、330
のノズル取付用回転円板300の中心C’に近い内側の
貫通孔311同士は互いに近接配置されることになり、
配置スペースの確保が難しくなるが、最も内側の貫通孔
311のみを長孔状に形成せずに、各ノズル群610、
620、630の最も内側のノズル611の外周径より
も僅かに大きめの径(サイズ)の丸孔にすることによ
り、開孔群(ノズル群)の数が増えても内側の貫通孔3
11の配置スペースを確保することができる。この場
合、内側の貫通孔311の取付位置を微調節できないた
め、各開孔群の内側の貫通孔311の中心を、ノズル取
付用回転円板300の中心C’から回転台200の中心
軸線C’までの距離Dを半径とする円周上に正確に配置
するのが好ましい。さらに、上記実施例では、係合凹部
としての半球状のピット510をノズル取付用回転円板
300に形成し、係合ピン収容部としての円筒状のピッ
ト520を保持板400に形成したが、これらを逆の関
係に形成してもよい。
【0055】以上のように、この発明によれば、同一の
レジストを含む粘度の異なる複数種類の溶液を複数のノ
ズル611、612、613から滴下でき、別のレジス
トを塗布したい場合には、別のノズル群610、62
0、630を使用することができるから、粘度の異なる
複数種類のレジストを塗布する場合でも、従来のように
レジストの種類等に応じて複数のレジスト塗布装置を使
用する必要がなく、1台のレジスト塗布装置で済むの
で、半導体製造設備を安価に提供することができる。
【0056】また、別のノズル群610、620、63
0の使用は、ノズル取付用回転円板を回転するだけで簡
単に行うことができ、ノズル取付用回転円板300の表
面300aに設けた目盛り300bにより半導体ウエハ
201の中心や任意の位置へのノズル611、612、
613の位置決めを簡単容易に行えるため、多種類のレ
ジストを手動で容易に切り替えることができ、位置決め
機構と移動機構が簡単である。
【0057】ノズル群610、620、630を配置で
きる範囲が略ノズル取付用回転円板300の半径全域に
渡っているので、各ノズル611、612、613をノ
ズル取付用回転円板300の半径方向の任意の位置に配
置することができ、従って、同一のレジストで粘度の異
なる複数のレジストを半導体ウエハ201上の複数の場
所へ滴下でき、直径の大きな半導体ウエハ201に対し
ても均一なレジスト膜を得ることができる。
【0058】さらにまた、回転台200の回転中心Cと
ノズル取付用回転円板300の中心C’とを偏心させた
ので、複数のノズル611、612、613の何れか1
つを回転台200すなわち半導体ウエハ201の回転中
心C上に配置させることにより、直径の大きな半導体ウ
エハ201に対しても膜厚の均一なレジスト膜を容易に
形成することができる。
【0059】
【発明の効果】この発明は次のような優れた効果を奏す
るものである。この発明の請求項1記載のレジスト塗布
装置によれば、ノズル取付用回転円板を保持板に対して
適宜回転させることにより、ノズル群の半導体ウエハに
対するレジスト吐出位置を調節することができるととも
に、各ノズル群の少なくとも1つのノズルの取付位置を
微調節することができるので、比較的大きな径の半導体
ウエハに対しても、複数のノズルを最適のレジスト吐出
位置に個々に設定することができ、従って半導体ウエハ
の表面全体に渡って均一な膜厚のレジスト膜が得られ、
またノズル位置の設定も正確に、且つ極めて容易に行う
ことができる。
【0060】この発明の請求項2記載のレジスト塗布装
置によれば、ノズル取付用回転円板の半径方向に互いに
間隔を存して穿設された貫通孔内で各ノズルの取付位置
(レジスト吐出位置)を任意に変更調節することによ
り、レジストの塗布効率を高めて、均一で高品質なレジ
スト膜を容易に得ることができる。
【0061】この発明の請求項3記載のレジスト塗布装
置によれば、貫通孔のうち最内側のものは、そこに挿入
されるノズルよりも僅かに大きな径(サイズ)に形成さ
れるだけなので、ノズル群を複数設けた場合でも、面積
の狭いノズル取付用回転円板の中心部近傍において、内
側のノズルを取り付けるための複数の貫通孔の設置スペ
ースを十分に確保することができ、複数の貫通孔をノズ
ル取付用回転円板の中心近くの狭いスペースに容易に配
置することができる。
【0062】この発明の請求項4記載のレジスト塗布装
置によれば、各ノズルを長孔状貫通孔内で移動させるこ
とにより、複数のノズルを個別に最適な吐出位置に簡単
容易に設定することができる。
【0063】この発明の請求項5記載のレジスト塗布装
置によれば、各ノズル先端の雄ネジに螺合された一対の
ナットを緊締、弛緩させることにより各ノズルの取付位
置の微調節を極めて簡単容易に行うことができ、ノズル
位置調節機構の構成が簡単になる。
【0064】この発明の請求項6記載のレジスト塗布装
置によれば、ノズルを、円弧状に形成された長孔状貫通
孔内で移動させることにより、ノズル取付用回転円板の
半径方向へ微小量ずつ移動させることができ、該ノズル
の極めて正確な位置決めを行うことができる。
【0065】この発明の請求項7記載のレジスト塗布装
置によれば、ノズル取付用回転円板を回転することによ
り、放射状に配置された複数列の開孔群すなわちノズル
群を1列ずつ順次レジスト塗布に好適な位置に移動させ
ることができ、従って、複数のノズル群に異種類のレジ
ストを供給することによりノズル取付用回転円板表面に
複数のレジスト膜を極めて効率良く形成することができ
る。
【0066】この発明の請求項8記載のレジスト塗布装
置によれば、ノズル取付用回転円板を保持板に対して所
定角度回転させてから、該ノズル取付用回転円板の回転
をストッパにより停止させて、その位置に確実に固定保
持することができ、塗布作業中にノズル位置が変動する
のを防止できる。
【0067】この発明の請求項9記載のレジスト塗布装
置によれば、保持板は、ノズル取付用回転円板よりも僅
かに大きな径の円形孔を有し、該ノズル取付用回転円板
は前記円形孔内に回転可能に配置され、ストッパはノズ
ル取付用回転円板及び保持板の一方に設けられた複数の
係合凹部と、それらのうちの他方に設けられた係合ピン
収容部に配置され、付勢手段により前記係合凹部の1つ
と係合するように付勢される係合ピンとから構成される
ので、ノズル群の移動、停止機構の構成が簡単になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の一実施例に係るレジスト塗布装置
の側面図である。
【図2】 その平面図である。
【図3】 従来のレジスト塗布装置の要部を示す側面図
である。
【符号の説明】
200 回転台、201 半導体ウエハ、203 回転
軸、300 ノズル取付用回転円板、311、312、
313 長孔状貫通孔、310、320、330 貫通
孔、311、312、313 開孔群、330b 目盛
り、400 保持板、410 円形孔、510 ピット
(係合凹部)、520 ピット(係合ピン収容部)、5
30 係合ピン、540 押圧バネ(付勢手段)、61
0、620、630 ノズル群、611、612、61
3 ノズル、621、622、623 雄ネジ、63
1、632、633 第1ナット、631’、63
2’、633’ 第2ナット。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウエハを載置して回転させるため
    の回転軸を有する回転台と、 前記回転台の上方に配置される保持板と、 前記保持板に回転可能に保持され、回転中心が前記回転
    台の回転軸の中心軸線から偏心した位置に配置されるノ
    ズル取付用回転円板と、 前記ノズル取付用回転円板にその半径方向に互いに間隔
    を存して取り付けられ、前記半導体ウエハ上にレジスト
    を吐出する複数のノズルからなる少なくとも1列のノズ
    ル群とを備え、 前記ノズル群の複数のノズルのうちの少なくとも1つの
    取付位置が調節可能であることを特徴とするレジスト塗
    布装置。
  2. 【請求項2】 前記ノズル取付用回転円板は、その半径
    方向に互いに間隔を存して穿設された、前記ノズルと同
    数の貫通孔を有し、前記ノズルは対応する前記貫通孔に
    挿入された状態で前記ノズル取付用回転円板に取り付け
    られることを特徴とする請求項1記載のレジスト塗布装
    置。
  3. 【請求項3】 前記貫通孔のうち最内側のものは、そこ
    に挿入される前記ノズルよりも僅かに大きな径を有し、
    該ノズルはその最内側の貫通孔に挿通されて固定される
    ことを特徴とする請求項2記載のレジスト塗布装置。
  4. 【請求項4】 前記貫通孔は長孔状貫通孔よりなり、前
    記ノズルは対応する前記長孔状貫通孔内で位置調節可能
    に取付具により前記ノズル取付用回転円板に取り付けら
    れることを特徴とする請求項2記載のレジスト塗布装
    置。
  5. 【請求項5】 前記取付具は、前記各ノズルの先端に形
    成された雄ネジと、その雄ネジに螺合する一対のナット
    からなることを特徴とする請求項4記載のレジスト塗布
    装置。
  6. 【請求項6】 前記各長孔状貫通孔は円弧状に形成さ
    れ、且つノズル取付用回転円板上の同心円と重ならない
    ように角度を以って交差するように配置されることを特
    徴とする請求項4記載のレジスト塗布装置。
  7. 【請求項7】 前記貫通孔は円周方向に間隔を存して前
    記ノズル取付用回転円板の中心から放射状に配置された
    複数列の開孔群からなり、前記ノズル群は前記複数列の
    開孔群に対応して設けられることを特徴とする請求項2
    記載のレジスト塗布装置。
  8. 【請求項8】 前記ノズル取付用回転円板の前記保持板
    に対する回転を停止させて該ノズル取付用回転円板を少
    なくとも1つの所定の回転角位置に保持することができ
    るストッパをさらに備えることを特徴とする請求項1記
    載のレジスト塗布装置。
  9. 【請求項9】 前記保持板は、前記ノズル取付用回転円
    板よりも僅かに大きな径の円形孔を有し、該ノズル取付
    用回転円板は前記円形孔内に回転可能に配置され、前記
    ストッパは前記ノズル取付用回転円板及び保持板の一方
    に設けられた複数の係合凹部と、それらのうちの他方に
    設けられた係合ピン収容部に配置され、付勢手段により
    前記係合凹部の1つと係合するように付勢される係合ピ
    ンとからなることを特徴とする請求項8記載のレジスト
    塗布装置。
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