JPS61238050A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
- Publication number
- JPS61238050A JPS61238050A JP7966185A JP7966185A JPS61238050A JP S61238050 A JPS61238050 A JP S61238050A JP 7966185 A JP7966185 A JP 7966185A JP 7966185 A JP7966185 A JP 7966185A JP S61238050 A JPS61238050 A JP S61238050A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- viscosity
- soln
- film
- base
- center
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は塗布方法、特に１スピンコード法による皮膜生
成物質を含む溶液の塗布方法に関する。
成物質を含む溶液の塗布方法に関する。
従来の塗布技術としては、例えば、フォトレジストの場
合、薄膜ハンドブック（日本学術振興会薄膜第１３１委
幀会Ｍ４）に示されているように、スピンナー法、スプ
レー法、ロールコータ−法。
合、薄膜ハンドブック（日本学術振興会薄膜第１３１委
幀会Ｍ４）に示されているように、スピンナー法、スプ
レー法、ロールコータ−法。
浸漬法があるが、均一な膜を形成する罠はスピンナー法
が一般的である。スピンナー法とは、基板の中心に皮膜
生成物質を含む溶液を滴下し、基板を低速で回転して溶
液を基板上に充分にひきのばした後、高速回転で溶液を
ふりとばす仁とによって膜厚を決定する方法である。膜
厚ｔ−ｆｉ定する要因は溶液の粘度と回転数、他に塗布
量、基板の表面状態、給排気条件、温度・湿度等がある
。
が一般的である。スピンナー法とは、基板の中心に皮膜
生成物質を含む溶液を滴下し、基板を低速で回転して溶
液を基板上に充分にひきのばした後、高速回転で溶液を
ふりとばす仁とによって膜厚を決定する方法である。膜
厚ｔ−ｆｉ定する要因は溶液の粘度と回転数、他に塗布
量、基板の表面状態、給排気条件、温度・湿度等がある
。
上述した従来のスピンコード法は、皮膜生成物質を含む
溶液を基板中心部に滴下し、滴下終了後高速回転に移り
溶液をふりとばすので、高速回転中は、溶液が基板の中
心から外側へ移動し、中心部と外側とで溶液の供給量が
異なり、中心部の生成皮膜の膜厚は外側と比較して簿り
なり、不均一な皮膜を生成してしまうという欠点があっ
た。近年、フォトレジスト薄膜生成の場合、例えば、ウ
ェハなら直径４インチから６インチへ、光デイスク用や
コンパクトディスク用の基板なら直径２００鴎あるいは
３００朋と基板のサイズは大きくなつており、大きな基
板になるほど膜厚を均一にするために高速回転時間を長
くする必要があり、中心部、の膜厚が薄くなる傾向はよ
り顕著となる。さらに、光デイスク用やコンパクトディ
スク用の７オトレジスト膜厚は、約ｔｏｏｏｆ前後と薄
く、そのため、膜厚精度も高精度が要求され、中心部の
膜厚が薄くなる傾向は重要な問題となっている。
溶液を基板中心部に滴下し、滴下終了後高速回転に移り
溶液をふりとばすので、高速回転中は、溶液が基板の中
心から外側へ移動し、中心部と外側とで溶液の供給量が
異なり、中心部の生成皮膜の膜厚は外側と比較して簿り
なり、不均一な皮膜を生成してしまうという欠点があっ
た。近年、フォトレジスト薄膜生成の場合、例えば、ウ
ェハなら直径４インチから６インチへ、光デイスク用や
コンパクトディスク用の基板なら直径２００鴎あるいは
３００朋と基板のサイズは大きくなつており、大きな基
板になるほど膜厚を均一にするために高速回転時間を長
くする必要があり、中心部、の膜厚が薄くなる傾向はよ
り顕著となる。さらに、光デイスク用やコンパクトディ
スク用の７オトレジスト膜厚は、約ｔｏｏｏｆ前後と薄
く、そのため、膜厚精度も高精度が要求され、中心部の
膜厚が薄くなる傾向は重要な問題となっている。
本発明の塗布方法は、同一の皮膜生成物質を含む粘度の
異なる２種類の溶液を塗布することを特徴とする。粘度
の高い溶液を基板の中心に滴下し、粘度の低い溶液を中
心より外側の位置に滴下するととくより２種類の溶液が
混合し、中心部から外側に次第に低くなる粘度分布を形
成し、均一な皮膜を得るものである。
異なる２種類の溶液を塗布することを特徴とする。粘度
の高い溶液を基板の中心に滴下し、粘度の低い溶液を中
心より外側の位置に滴下するととくより２種類の溶液が
混合し、中心部から外側に次第に低くなる粘度分布を形
成し、均一な皮膜を得るものである。
以下、第１図を用いて説明する。基板１は、チャックテ
ーブル２に固定され、スピンドル３により回転する。基
板１を低速で回転しながら、ノズル４から粘度の高い溶
液を、ノズル５から粘度の低い溶液を各々滴下する。各
々のノズルより滴下された塗布量の半径方向の分布は、
第２図に示すように各々異なる位置で最高点をもつ異な
る分布になる。上記方法で塗布された溶液は低速回転中
に基板上に広がりながら混合し、第３図に示すように基
板の中心部で粘度の高いという特徴をもった粘度分布を
形成する。
ーブル２に固定され、スピンドル３により回転する。基
板１を低速で回転しながら、ノズル４から粘度の高い溶
液を、ノズル５から粘度の低い溶液を各々滴下する。各
々のノズルより滴下された塗布量の半径方向の分布は、
第２図に示すように各々異なる位置で最高点をもつ異な
る分布になる。上記方法で塗布された溶液は低速回転中
に基板上に広がりながら混合し、第３図に示すように基
板の中心部で粘度の高いという特徴をもった粘度分布を
形成する。
次に、本発明の実施例について１図面を参照して詳細に
説明する。
説明する。
第１図は本発明の一実施例を示す構造図である。
直径３００１０１の基板１は、チャックテーブル２に固
定され、スピンドル３によって回転する。基板１を１１
００ｒｐで低速回転させながら、ノズル５よりセロソル
ブアセテートを溶媒としＡＺ ｌ ３５０レジストのｌ
： １ ｏ濃度溶液を１０ｃｃ、ノズル４より１＝８
濃度溶液を１０ｃｃ同時に滴下する。その結果、中心部
で粘度の高いフォトレジスト液が塗布されたことになり
、３００ｒｐｍで３０秒間高速回転すると均一なフォト
レジスト膜が生成される。
定され、スピンドル３によって回転する。基板１を１１
００ｒｐで低速回転させながら、ノズル５よりセロソル
ブアセテートを溶媒としＡＺ ｌ ３５０レジストのｌ
： １ ｏ濃度溶液を１０ｃｃ、ノズル４より１＝８
濃度溶液を１０ｃｃ同時に滴下する。その結果、中心部
で粘度の高いフォトレジスト液が塗布されたことになり
、３００ｒｐｍで３０秒間高速回転すると均一なフォト
レジスト膜が生成される。
本実施例においては、同一の溶媒を用いて２種類の粘度
の溶液を作ったが、互に混合できる２種類の溶媒を用い
ても同様の効果が得られる。
の溶液を作ったが、互に混合できる２種類の溶媒を用い
ても同様の効果が得られる。
本発明の塗布方法は、粘度の高い皮膜生成物質を含む溶
液を基板の中心に、粘度の低い溶液をその外側に滴下す
ることにより、均一な皮膜を生成できるという効果があ
る。特にフォトレジストを用いた光ディスクやコンパク
トディスクの場合、フォトレジストの膜厚は成形基板の
グループあるいはピット深さを決定する要因であり、厚
さの均一なフォトレジストｌｌ！Ｉを得ることで、成形
基板上のどのグループあるいはピットにおいても等しい
深さを形成することができる。。また、フォトレジスト
塗布の後工程である露光・現像工程においては、フォト
レジスト膜厚は非常に大きな影響力をもっているため、
厚さの均一なフォトレジスト膜を生成することにより、
グループあるいはピットの幅、深さを決定する露光パワ
ー、現像時間等の露光・現像条件の選択が容易にできる
という効果がある。
液を基板の中心に、粘度の低い溶液をその外側に滴下す
ることにより、均一な皮膜を生成できるという効果があ
る。特にフォトレジストを用いた光ディスクやコンパク
トディスクの場合、フォトレジストの膜厚は成形基板の
グループあるいはピット深さを決定する要因であり、厚
さの均一なフォトレジストｌｌ！Ｉを得ることで、成形
基板上のどのグループあるいはピットにおいても等しい
深さを形成することができる。。また、フォトレジスト
塗布の後工程である露光・現像工程においては、フォト
レジスト膜厚は非常に大きな影響力をもっているため、
厚さの均一なフォトレジスト膜を生成することにより、
グループあるいはピットの幅、深さを決定する露光パワ
ー、現像時間等の露光・現像条件の選択が容易にできる
という効果がある。
その他、フォトレジスト膜の場合だけでなく、塗装に代
表される保護膜の塗布に対しても大きな効果が得られる
。
表される保護膜の塗布に対しても大きな効果が得られる
。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図は本発
明によシ塗布された皮膜生成物質を含む溶液の基板上の
塗布量分布を示すグラフ、第３図は本発明によシ塗布さ
れた２８［類の粘度をもつ溶液が低速回転中に混合し高
速回転に移る直前に基板上に示す粘度分布を示すグラフ
である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・チャックテーブル
、３・・・・・・スピンドル、４．５・・・・・・ノズ
ル、ａ・・・・・・高粘度の溶液の塗布量分布、ｂ・・
・・・・低粘度の溶液の塗布量分布。 第１図 泉２図 第３図
明によシ塗布された皮膜生成物質を含む溶液の基板上の
塗布量分布を示すグラフ、第３図は本発明によシ塗布さ
れた２８［類の粘度をもつ溶液が低速回転中に混合し高
速回転に移る直前に基板上に示す粘度分布を示すグラフ
である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・チャックテーブル
、３・・・・・・スピンドル、４．５・・・・・・ノズ
ル、ａ・・・・・・高粘度の溶液の塗布量分布、ｂ・・
・・・・低粘度の溶液の塗布量分布。 第１図 泉２図 第３図
Claims (1)
- 基板に皮膜生成物質を含む溶液をスピンコートする際に
基板の中心近くに高粘度の溶液を、さらに外側に低粘度
の溶液を滴下することを特徴とする塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7966185A JPS61238050A (ja) | 1985-04-15 | 1985-04-15 | 塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7966185A JPS61238050A (ja) | 1985-04-15 | 1985-04-15 | 塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61238050A true JPS61238050A (ja) | 1986-10-23 |
Family
ID=13696337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7966185A Pending JPS61238050A (ja) | 1985-04-15 | 1985-04-15 | 塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61238050A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0745498A (ja) * | 1993-07-27 | 1995-02-14 | Nec Corp | 反射および干渉防止樹脂膜の形成方法 |
| US5720814A (en) * | 1995-04-25 | 1998-02-24 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Photoresist coating apparatus |
| US6033728A (en) * | 1993-05-13 | 2000-03-07 | Fujitsu Limited | Apparatus for spin coating, a method for spin coating and a method for manufacturing semiconductor device |
| WO2008047803A1 (fr) * | 2006-10-18 | 2008-04-24 | Panasonic Corporation | Procédé de fabrication pour support d'enregistrement d'informations multicouche, appareil de fabrication pour support d'enregistrement d'informations multicouche et support d'enregistrement d'informations multicouche |
-
1985
- 1985-04-15 JP JP7966185A patent/JPS61238050A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6033728A (en) * | 1993-05-13 | 2000-03-07 | Fujitsu Limited | Apparatus for spin coating, a method for spin coating and a method for manufacturing semiconductor device |
| JPH0745498A (ja) * | 1993-07-27 | 1995-02-14 | Nec Corp | 反射および干渉防止樹脂膜の形成方法 |
| US5720814A (en) * | 1995-04-25 | 1998-02-24 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Photoresist coating apparatus |
| WO2008047803A1 (fr) * | 2006-10-18 | 2008-04-24 | Panasonic Corporation | Procédé de fabrication pour support d'enregistrement d'informations multicouche, appareil de fabrication pour support d'enregistrement d'informations multicouche et support d'enregistrement d'informations multicouche |
| JPWO2008047803A1 (ja) * | 2006-10-18 | 2010-02-25 | パナソニック株式会社 | 多層情報記録媒体の製造方法、多層情報記録媒体の製造装置、および多層情報記録媒体 |
| JP4560577B2 (ja) * | 2006-10-18 | 2010-10-13 | パナソニック株式会社 | 多層情報記録媒体の製造方法、多層情報記録媒体の製造装置、および多層情報記録媒体 |
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