JPS6342052A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、光記録媒体の製造方法に関し、さらに詳しく
は、記録膜、保護膜などの機能膜を塗布により形成する
方式の光記録媒体の製造方法に関する。

［従来の技術］ 従来、基板上に回転塗布法により膜を形成する手段には
２つの方法か取られていた。第一の方法は、基板の中心
に塗布液を滴下した後、基板を高速回転して所望の塗布
厚を得る方法である。第二の方法は、塗布液を滴下する
位置を移動させ、基板全面を塗布溶液でぬらした後基板
を回転し、塗膜を形成する方法である。

以下に上記２方式を詳細に説明する。

まず第一の方式は、第４図（ａ）に示すように、ディス
ク状基板１の中心付近にシリンジ２から機能膜形成用の
塗布液３を基板と同心円状に吐出する。この塗布液３は
ディスク状基板ｌの表面玉において接触角θてぬれ、γ
８＝γ、Ｌ十γＬＣＯＳθになるまでぬれ広がり、熱力
学的に平衡に達する。この後、第４図（ｂ）に示す様に
、基板を高速回転し５基板全面に塗膜を形成する。

しかしながら、この方法により形成された塗布膜４は、
前記第４図（ａ）において塗布液３てぬれていた部分Ａ
と、回転によってぬれ広かった部分Ｂとの境界Ｃにおい
て、目視で１１察てきるような膜厚ムラか発生ずる。し
たかって、光記録媒体にこの塗布方式を採用すると、第
４図（ａ）のＡとＢの領域て記Ｑ膜の反射率および透過
率か異なり、又、記Ｑ詩の感度も異なるために、光記録
媒体の録再特性に態形！を及ぼしていた。

次に、第二の方式は、第５図（ａ）〜（Ｃ）に示すよう
に、ディスク状基板ｌ上に吐出された塗布液３か平衡に
達し、境界か発生するのを防ぐ目的で基板ｌを低速で回
転させた状態で、シリンジ２から塗布液３を吐出させな
からシリンジ２の位置を基板ｌの中心から外周へ移動さ
せる。こうすることにより基板全面を塗布液３でぬらし
、その後、基板ｌを高速回転し、塗布膜を形成する。

この方式を使えば、第一の方式に起因する塗布ムラの発
生は押えられるか、シリンジ２の移動速度■１を塗布液
３がぬれ広がる速度ｖ２よりも速くすると塗布ムラか発
生してしまう為に、シリンジ２の移動速度ｖ１はあまり
速くてきす、基板ｌに塗布液３を供給するのに時間かか
かっていた。又この方式は基板全面を塗布液３てぬらさ
なければならず、第一の方式に比べて塗布液３の使用量
が多く製造コストのアップにつながっていた。

［光明か解決しようとする問題点コ 本発明は、Ｌ記の様な従来の技術の問題点を改善するた
めになされたもので、塗布ムラかなく、安価で特性バラ
ツキの少ない光記録媒体を短時間に製造する方法を提供
することを目的とするものである。

［問題点を解決するための手段］ 即ち、本発明は基板に回転塗布法により記録膜及び／又
は保護膜等の機能膜を形成する光記録媒体の製造方法に
おいて、機能膜形成用の塗布液を基板の記録有効部全面
に同時に接触させた後、基板を回転させて所望の塗布厚
みと塗布の均一′性を得ることを特徴とする光記録媒体
の製造方法である。

以ｒ、本発明の詳細な説明する。

本発明に係る光記録媒体の製造方法は、必要な機能膜形
成用の塗布液を基板の記録有効部の全面に渡って同時に
供給した後、基板を回転させて、所望の塗膜を形成する
ことにより所望の膜厚を有する均一な塗布膜を設けた光
記録媒体を作成可使である。

本発明において、塗布液を基板に供給する方法は、基板
の記録有効部全面に同時に液を供給できる方法であれば
特に限定することなく通常行われている広範囲の方法を
用いることができるか、その具体例としては、スプレー
、フォンテン、静止した塗布液表面に基板を接触させる
方法、等が挙げられる。

フォンテンとしては第３図に示すように吐出する先か塗
布液から出ておらず、液面かディスク状に盛り上かって
いる所に基板を接触させる方法か好ましい。

本発明において、ノふ板に形成される塗布膜の膜厚は、
溶剤の沸点、染料の溶剤に対する濃度、スピンナーの回
転数を変えることにより任意に設定することかできる。

基板の回転数は形成される塗布膜の厚さにより異なるか
、通常ＳＯＯ〜４０００ｒｐｍ　、好ましくは１０００
〜３０００ｒｌ）１１か望ましい。

本発明において、基板の記録有効部全面に同時に塗布液
を接触させるとは、一時に接触させることは勿論である
か、塗布膜に塗布ムラか発生しない範囲において製造工
程上の接触時間の経過か有ってもよい。

また、本発明が適用される機能膜としては、記録膜、保
ｙｓ膜、感度増加膜、感度調節膜、反射防止膜、反射：
Ａ溶脱等が挙げられる。

［作用］ 本発明の光記録媒体の製造方法は塗布液を基板の記録有
効部全面に同時に接触させるのて塗布液は記録有効部の
全面に均一に付着し、次いで基板を回転させることによ
り、前記塗布液は基板との接触部分は強く付着している
か、付着力の弱い表面部分は遠心力により移動せしめら
れ、均等化され、均一な塗布厚みと塗布面か形成される
ものと推定される。

［実施例］ 以下、本発明を図面に示した実施例により詳細に説明す
る。

実施例１ 第１図（ａ）〜（ｃ）は本発明の一実施例を示す工程図
である。同第１図（ａ）において、インジェクション成
形法により、その表面にスパイラル状の案内溝をもった
ポリカーボネート基板１′を作成し、案内溝を上にして
スピンナーヘット５にセットし真空吸着する。この基板
上にメチン系の染料をアルコールに溶かしてスプレーヘ
ット６により供給した後、第１図（ｂ）に示す如く基板
１′を３０００ｒｐｍにて２０秒間回転して、　７００
人の染料層を形成した。

この方式を使用することにより、短時間に塗布ムラのな
い記録層を形成することができる。

実施例２ 第２図（ａ）〜（ｄ）は本発明の他の実施例を示す工程
図である。

実施例１と同様の方式で成形したアクリル基板１″を第
２図（ａ）に示すようなスピンナーヘット５に真空吸着
し、第２図（ｂ）のアクリル系のハートコート剤をドー
ナツ状にふき上げているフォンテン７に接触するまで基
板１″を下降させ、有効記録部全面にハートコート剤を
供給した。

その後、基板１″を上昇させなから２５００ｒｐｍて３
０秒間高速回転した後、高圧水銀燈て硬化させ、５００
人の厚さの耐溶剤層を形成した。このＪＳ板に、ＭＥＫ
に溶解したシアニン系染料を同様の方法で供給し、基板
を３０００ｒｐ−で２０秒間高速回転して６００人の記
録層を形成した。

この方式を使うと実施例１のメリットの他に、スピンナ
ーを高速回転することにより飛ばされた余分な溶液か回
収てき、より一層コストタウンを計ることができる。特
に、記録層に使うような高価な材料を塗布する工程にこ
の方式を採用すると非常に効果がある。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明の光記録媒体の製造方法を
使用すると、短時間に塗布ムラのない媒体が製造でき、
ひいては安価て特性バラツキの少ない光記録媒体を作成
できる優れた効果か得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（Ｃ）は本発明の光記録媒体の製造方法
の一例を示す工程図、第２図（ａ）〜（ｄ）は他の例を
示す工程図、第３図はフォンテンの説明図、第４図（ａ
）　、　（ｂ）および第５図（ａ）　〜（ｃ）は各々従
来の光記録媒体の製造方法を示す説明図である。 １．１′、１″・・・基板 ２・・・シリンジ ３・・・塗布液 ４・・・塗布膜 ５・・・スピンナーヘット ６・・・スプレーヘット ７・・・フォンテン ８・・・回転軸

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基板に回転塗布法により記録膜及び／又は保護膜等の機
   能膜を形成する光記録媒体の製造方法において、機能膜
   形成用の塗布液を基板の記録有効部全面に同時に接触さ
   せた後、基板を回転させて所望の塗布厚みと塗布の均一
   性を得ることを特徴とする光記録媒体の製造方法。