JPH0827965B2 - 光学式再生装置 - Google Patents
光学式再生装置Info
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- JPH0827965B2 JPH0827965B2 JP61201427A JP20142786A JPH0827965B2 JP H0827965 B2 JPH0827965 B2 JP H0827965B2 JP 61201427 A JP61201427 A JP 61201427A JP 20142786 A JP20142786 A JP 20142786A JP H0827965 B2 JPH0827965 B2 JP H0827965B2
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B7/08—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers
- G11B7/09—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
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- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/135—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
- G11B7/1353—Diffractive elements, e.g. holograms or gratings
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- G11B7/0901—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following for track following only
- G11B7/0903—Multi-beam tracking systems
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、３ビーム方式のトラッキング誤差検出をお
こなう光学式再生装置に係り、特にその光学的な構成の
簡略化に好適な回折格子を備えた光学式再生装置に関す
る。
こなう光学式再生装置に係り、特にその光学的な構成の
簡略化に好適な回折格子を備えた光学式再生装置に関す
る。
従来、３ビーム方式によるトラッキング誤差検出手段
としては、例えば特開昭57−205833号公報に示されるよ
うに、半導体レーザ光源およびビームスプリッタ間の光
路中に等間隔でかつ直線状のパターンの位相溝を持つ位
相型回折格子を光軸対して垂直に配置するものが知られ
ている。この方法は、簡単な光学系でトラッキング誤差
検出を行なうことができる反面、光学的情報記録媒体
（以下光ディスクと記す。）に入射する光ビームと、光
ディスクからの反射光ビームを分離するためのビームス
プリッタおよび入射光を分離して３ビームを発生させる
ための回折格子という特殊な光学部品２点を必要とする
という問題があった。
としては、例えば特開昭57−205833号公報に示されるよ
うに、半導体レーザ光源およびビームスプリッタ間の光
路中に等間隔でかつ直線状のパターンの位相溝を持つ位
相型回折格子を光軸対して垂直に配置するものが知られ
ている。この方法は、簡単な光学系でトラッキング誤差
検出を行なうことができる反面、光学的情報記録媒体
（以下光ディスクと記す。）に入射する光ビームと、光
ディスクからの反射光ビームを分離するためのビームス
プリッタおよび入射光を分離して３ビームを発生させる
ための回折格子という特殊な光学部品２点を必要とする
という問題があった。
これに対して、本発明者らは、上記ビームスプリッタ
と回折格子を一体化して、部品点数の削減をはかる新し
い光学素子について検討を行った。これは、反射型回折
格子の位相溝の部分にビームスプリッタ膜を形成したも
ので、この光学素子に入射する光ビームを反射光ビーム
と透過光ビームに分離すると共に、反射光ビームを０次
光および±１次光に分離する機能も合わせ持つものであ
る。
と回折格子を一体化して、部品点数の削減をはかる新し
い光学素子について検討を行った。これは、反射型回折
格子の位相溝の部分にビームスプリッタ膜を形成したも
ので、この光学素子に入射する光ビームを反射光ビーム
と透過光ビームに分離すると共に、反射光ビームを０次
光および±１次光に分離する機能も合わせ持つものであ
る。
〔発明が解決しようとする問題点〕 ところで、このようにビームスプリッタと回折格子を
一体化した光学素子を用いる場合、その位相溝が刻まれ
ている面は光軸に対して傾斜して配置されるため、従来
のような等間隔で直線状のパターンの位相溝を持つ回折
格子では、±１次回折光の波面収差が増大し、光ディス
ク上に照射される±１次光の光スポットの集束状態が著
しく劣化することが判明した。このような、±１次回折
光ビームに発生する波面収差を良好な状態に改善するた
めには回折格子の位相溝を不等間隔でかつ曲線状のパタ
ーンにする必要がある。しかし、従来このような曲線状
の位相溝パターンを持った回折格子の溝パターンの形状
など具体的な構成については考慮されていなかった。
一体化した光学素子を用いる場合、その位相溝が刻まれ
ている面は光軸に対して傾斜して配置されるため、従来
のような等間隔で直線状のパターンの位相溝を持つ回折
格子では、±１次回折光の波面収差が増大し、光ディス
ク上に照射される±１次光の光スポットの集束状態が著
しく劣化することが判明した。このような、±１次回折
光ビームに発生する波面収差を良好な状態に改善するた
めには回折格子の位相溝を不等間隔でかつ曲線状のパタ
ーンにする必要がある。しかし、従来このような曲線状
の位相溝パターンを持った回折格子の溝パターンの形状
など具体的な構成については考慮されていなかった。
本発明の目的は、上気したように±１次回折光の波面
収差を良好な状態に改善する最適な位相溝パターンを持
つ位相型回折格子を提供することにある。
収差を良好な状態に改善する最適な位相溝パターンを持
つ位相型回折格子を提供することにある。
上記目的は、位相溝パターンを決定する式として、特
許請求の範囲に記載された関係式を用いその関係式を満
たす回折格子の格子面上の座標（x,y）の位置に位相溝
の凹部または凸部を設けた不等間隔曲線回折格子を作成
することによって達成される。
許請求の範囲に記載された関係式を用いその関係式を満
たす回折格子の格子面上の座標（x,y）の位置に位相溝
の凹部または凸部を設けた不等間隔曲線回折格子を作成
することによって達成される。
上記したような不等間隔曲線回折格子は、後述する様
に、その回折格子によって発生する±１次回折光を各々
独立した仮想光源から発する光ビームとみなし、かつそ
の仮想光源の位置に所定のオフセットを与えた場合に各
仮想光源からの発散光ビームを該回折格子上で干渉させ
て得られる干渉縞のうち偶数次の干渉縞の位置に位相溝
を設ける事によって得られる。
に、その回折格子によって発生する±１次回折光を各々
独立した仮想光源から発する光ビームとみなし、かつそ
の仮想光源の位置に所定のオフセットを与えた場合に各
仮想光源からの発散光ビームを該回折格子上で干渉させ
て得られる干渉縞のうち偶数次の干渉縞の位置に位相溝
を設ける事によって得られる。
この様にして作成された不等間隔曲線状の位相溝を持
つ反射型回折格子を用いる事によって、後述するよう
に、±１次回折光の各々に発生する波面収差や光スポッ
トの相対的位置ずれなどを、回折格子とビームスプリッ
タが、別個に設けられた従来の光学式再生装置と同程度
以上に改善でき、ビームスプリッタと回折格子を一体化
した新しい光学素子の実用化が可能となる。
つ反射型回折格子を用いる事によって、後述するよう
に、±１次回折光の各々に発生する波面収差や光スポッ
トの相対的位置ずれなどを、回折格子とビームスプリッ
タが、別個に設けられた従来の光学式再生装置と同程度
以上に改善でき、ビームスプリッタと回折格子を一体化
した新しい光学素子の実用化が可能となる。
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。
第１図は、本発明の回折格子を用いた光学式再生装置
の光学系をしめした構成図である。半導体レーザ光源１
を発した発散ビーム２は、光軸（ｚ軸）に対して傾斜し
て配置された反射型回折格子３に入射する。第１図では
この反射型回折格子３は光軸に対して略45°傾斜させて
ある。この反射型回折格子３は、その内部に凹凸型の位
相溝を設け、その上にビームスプリッタ面3bを形成した
位相型の回折格子である。本発明は特に、反射型回折格
子３の位相溝のパターンに特徴を有するが、その詳細に
ついては後述する。
の光学系をしめした構成図である。半導体レーザ光源１
を発した発散ビーム２は、光軸（ｚ軸）に対して傾斜し
て配置された反射型回折格子３に入射する。第１図では
この反射型回折格子３は光軸に対して略45°傾斜させて
ある。この反射型回折格子３は、その内部に凹凸型の位
相溝を設け、その上にビームスプリッタ面3bを形成した
位相型の回折格子である。本発明は特に、反射型回折格
子３の位相溝のパターンに特徴を有するが、その詳細に
ついては後述する。
反射型回折格子３に入射した発散光ビーム２は凹凸型
のビームスプリッタ面3bで反射される際、第１図のｘ軸
に平行な面内で０次光ビーム4a,＋１次回折光ビーム4
b、−１次回折光ビーム4cに分離され、対物レンズ５を
経て、光ディスク６上に各々別個に集束される。この
時、光ディスク６上に集束される光ビーム4a,4b,4cは、
第２図にしめすように、光ディスク６の同一記録トラッ
ク6a上に、記録トラックの方向とは、若干傾いた角度で
一列に集束した光スポット7a,7b,7cを形成する。さらに
光スポット7a,7b,7cの光ディスク６からの反射光は対物
レンズ５を逆行し、今度は反射型回折格子３を透過後、
凹レンズ８を経て光検出器９に入射する。光検出器９
は、例えば第１図中にしめすように、６領域9a,9b,9c,9
d,9e,9fに分割される。０次光ビーム4aの光ディスク６
からの反射光10aは、領域9a,9b,9c,9dに入射し、領域9a
と9dの出力信号の和と領域9bと9cの出力信号の和との差
信号から非点収差方式によって、光スポット7aのフォー
カシング誤差が検出される。また残りの２領域9e,9fに
は、各々±１次回折光ビーム4b,4cの光ディスク６から
の反射光10b,10cが別個に入射し、両領域の出力信号の
差信号から、光スポット7aのトラッキング誤差が検出さ
れる。このようなトラッキング誤差検出手段は一般に３
ビーム方式と呼ばれている。なお、光ディスク６に記録
されている情報信号は、例えば、光検出器９の各領域9
a,9b,9c,9dの出力信号の和から検出される。
のビームスプリッタ面3bで反射される際、第１図のｘ軸
に平行な面内で０次光ビーム4a,＋１次回折光ビーム4
b、−１次回折光ビーム4cに分離され、対物レンズ５を
経て、光ディスク６上に各々別個に集束される。この
時、光ディスク６上に集束される光ビーム4a,4b,4cは、
第２図にしめすように、光ディスク６の同一記録トラッ
ク6a上に、記録トラックの方向とは、若干傾いた角度で
一列に集束した光スポット7a,7b,7cを形成する。さらに
光スポット7a,7b,7cの光ディスク６からの反射光は対物
レンズ５を逆行し、今度は反射型回折格子３を透過後、
凹レンズ８を経て光検出器９に入射する。光検出器９
は、例えば第１図中にしめすように、６領域9a,9b,9c,9
d,9e,9fに分割される。０次光ビーム4aの光ディスク６
からの反射光10aは、領域9a,9b,9c,9dに入射し、領域9a
と9dの出力信号の和と領域9bと9cの出力信号の和との差
信号から非点収差方式によって、光スポット7aのフォー
カシング誤差が検出される。また残りの２領域9e,9fに
は、各々±１次回折光ビーム4b,4cの光ディスク６から
の反射光10b,10cが別個に入射し、両領域の出力信号の
差信号から、光スポット7aのトラッキング誤差が検出さ
れる。このようなトラッキング誤差検出手段は一般に３
ビーム方式と呼ばれている。なお、光ディスク６に記録
されている情報信号は、例えば、光検出器９の各領域9
a,9b,9c,9dの出力信号の和から検出される。
ところで上記にしめすような光学系では反射型回折格
子３を発散光束２中に光軸に対して略45°傾斜して配置
する必要があるため、従来の光学式再生装置に用いられ
ているような等間隔で直線状の位相溝パターンを持った
回折格子では、回折格子によって分離される±１次回折
光4b,4cに著しく大きな波面収差が発生してしまう。第
３図にその一例をしめす。第３図は、前述した従来例で
用いられるような等間隔，直線状の位相溝をもった回折
格子を第１図にしめした反射型回折格子３として用い、
光軸に対して略45°傾斜させて配置した場合に±１次回
折光4b,4cに発生する波面収差量をしめしたものであ
る。なお、第３図中の横軸は光源が光軸上の理想位置か
ら第１図中にしめしたｘ軸の方向に位置ずれした場合の
位置ずれ量をしめし、縦軸は波面収差の２乗平均値（rm
s）をしめしている。また、光学系の各パラメータは第
３図中に記載した値を用いた。
子３を発散光束２中に光軸に対して略45°傾斜して配置
する必要があるため、従来の光学式再生装置に用いられ
ているような等間隔で直線状の位相溝パターンを持った
回折格子では、回折格子によって分離される±１次回折
光4b,4cに著しく大きな波面収差が発生してしまう。第
３図にその一例をしめす。第３図は、前述した従来例で
用いられるような等間隔，直線状の位相溝をもった回折
格子を第１図にしめした反射型回折格子３として用い、
光軸に対して略45°傾斜させて配置した場合に±１次回
折光4b,4cに発生する波面収差量をしめしたものであ
る。なお、第３図中の横軸は光源が光軸上の理想位置か
ら第１図中にしめしたｘ軸の方向に位置ずれした場合の
位置ずれ量をしめし、縦軸は波面収差の２乗平均値（rm
s）をしめしている。また、光学系の各パラメータは第
３図中に記載した値を用いた。
第３図から明らかな様に、従来の等間隔，直線状の回
折格子を光軸に対して略45°傾斜して配置した場合、波
面収差量はrms値で1/2波長以上にもなり、光ディスク６
上に±１次回折光の光スポット7b,7cを正しく照射させ
ることができなくなってしまう。したがって第１図にし
めすような光学系の光学式再生装置を実現するためには
±１次回折光4b,4cに発生する波面収差を最小限に抑え
るような位相溝パターンを持った位相型回折格子が新た
に必要となる。
折格子を光軸に対して略45°傾斜して配置した場合、波
面収差量はrms値で1/2波長以上にもなり、光ディスク６
上に±１次回折光の光スポット7b,7cを正しく照射させ
ることができなくなってしまう。したがって第１図にし
めすような光学系の光学式再生装置を実現するためには
±１次回折光4b,4cに発生する波面収差を最小限に抑え
るような位相溝パターンを持った位相型回折格子が新た
に必要となる。
ところで、このような±１次回折光に発生する波面収
差は、ホログラフィック回折格子と呼ばれる回折格子の
溝パターンの作成手法で作成した不等間隔曲線状の格子
（以下、曲線格子と言う。）を用いることにより低減す
る事ができる。この曲線格子は、回折格子によって分離
される±１次回折光と各々仮想的に設定した光源を発す
る発散光束と見なし、そのいずれか一方の仮想光源から
の光ビームと、実際のレーザ光源１から発した光ビーム
２が回折格子３上で重なり合った場合に発生する干渉縞
の位置に位相溝の凹部または凸部を設けるものである。
差は、ホログラフィック回折格子と呼ばれる回折格子の
溝パターンの作成手法で作成した不等間隔曲線状の格子
（以下、曲線格子と言う。）を用いることにより低減す
る事ができる。この曲線格子は、回折格子によって分離
される±１次回折光と各々仮想的に設定した光源を発す
る発散光束と見なし、そのいずれか一方の仮想光源から
の光ビームと、実際のレーザ光源１から発した光ビーム
２が回折格子３上で重なり合った場合に発生する干渉縞
の位置に位相溝の凹部または凸部を設けるものである。
第４図は、上記の曲線格子の位相溝パターンの作成手
法の原理を説明するための正面図および平面図である。
第４図にしめすように、回折格子３上の任意の点Ｐとレ
ーザ光源１までの光学的距離をRr,前述した−１次光4c
の仮想的な光源1cと点Ｐ間の光学的距離をＲ′0とする
と Ｒ′0−Rr＝ｍ・λ……（１） ただし、λはレーザ光の波長、ｍは任意の整数（１）
式の関係を満足する点Ｐの位置に位相溝の凸部または凹
部のどちらか一方を設ける事によって所定の±１次回折
光4b,4cを分離する曲線格子を得る。もちろん、上記の
作成手法と同様＋１次回折光4bの仮想光源1bからの光ビ
ームとレーザ光源１からの光ビーム２との干渉縞の位置
に位相溝を設けても、同様の性能をもつ曲線格子が得ら
れる。第５図に、上記の作成手法で得られる位相溝パタ
ーンの一例をしめす。なお、第５図において黒色帯11は
例えば位相溝の凹部をしめし、白色帯12は凸部をしめ
す。またその逆でもよい。
法の原理を説明するための正面図および平面図である。
第４図にしめすように、回折格子３上の任意の点Ｐとレ
ーザ光源１までの光学的距離をRr,前述した−１次光4c
の仮想的な光源1cと点Ｐ間の光学的距離をＲ′0とする
と Ｒ′0−Rr＝ｍ・λ……（１） ただし、λはレーザ光の波長、ｍは任意の整数（１）
式の関係を満足する点Ｐの位置に位相溝の凸部または凹
部のどちらか一方を設ける事によって所定の±１次回折
光4b,4cを分離する曲線格子を得る。もちろん、上記の
作成手法と同様＋１次回折光4bの仮想光源1bからの光ビ
ームとレーザ光源１からの光ビーム２との干渉縞の位置
に位相溝を設けても、同様の性能をもつ曲線格子が得ら
れる。第５図に、上記の作成手法で得られる位相溝パタ
ーンの一例をしめす。なお、第５図において黒色帯11は
例えば位相溝の凹部をしめし、白色帯12は凸部をしめ
す。またその逆でもよい。
次に、第６図に第５図でしめしたような曲線格子を第
１図にしめした反射型回折格子３として用いた場合に±
１次回折光の各々に発生する波面収差量（rms値）をし
めす。
１図にしめした反射型回折格子３として用いた場合に±
１次回折光の各々に発生する波面収差量（rms値）をし
めす。
なお第６図中の横軸は、第３図同様第１図のｘ軸方向
に関する光源の位置ずれ量をしめしている。
に関する光源の位置ずれ量をしめしている。
第６図から明らかなように、前述の（１）式であらわ
されるような関係式を用いて位相溝パターンを作成した
曲線格子を用いる事によって、第３図にしめした従来の
党間隔直線状の回折格子を用いた場合に比べて、発生す
る波面収差量を大幅に低減させる事ができる。
されるような関係式を用いて位相溝パターンを作成した
曲線格子を用いる事によって、第３図にしめした従来の
党間隔直線状の回折格子を用いた場合に比べて、発生す
る波面収差量を大幅に低減させる事ができる。
しかし一方で、このような曲線格子を第１図の反射型
回折格子３として用いた場合、０次光ビーム4a,および
±１次回折光ビーム4a,4cの光ディスク６上の光スポッ
ト7a,7b,7cが同一直線上に並んで形成されず、このため
３ビーム方式による光スポット7aのトラッキング誤差検
出を正しく行なう事ができないという新たな問題が発生
する。以下この問題点について第７図および第８図を用
いて説明する。
回折格子３として用いた場合、０次光ビーム4a,および
±１次回折光ビーム4a,4cの光ディスク６上の光スポッ
ト7a,7b,7cが同一直線上に並んで形成されず、このため
３ビーム方式による光スポット7aのトラッキング誤差検
出を正しく行なう事ができないという新たな問題が発生
する。以下この問題点について第７図および第８図を用
いて説明する。
第７図は、第５図にしめした曲線格子を反射型回折格
子３として用いた場合の光ディスク６上に照射される±
１次回折光スポット7b,7cの理想位置からの光ディスク
６の半径方向の位置ずれ量の変化をしめしている。な
お、第７図の横軸は第６図同様、第１図のｘ軸方向に関
する光源の位置ずれ量をしめしている。
子３として用いた場合の光ディスク６上に照射される±
１次回折光スポット7b,7cの理想位置からの光ディスク
６の半径方向の位置ずれ量の変化をしめしている。な
お、第７図の横軸は第６図同様、第１図のｘ軸方向に関
する光源の位置ずれ量をしめしている。
第７図にしめすように、反射型回折格子として前述の
曲線格子を用いると、レーザ光源１が正しい位置に設置
された場合でも、＋１次回折光4bの光スポット7bが理想
位置から光ディスクの半径方向に0.3μｍ程度もずれて
しまう。すなわち、第８図にしめすように、本来光ディ
スク６の記録トラック6a上を斜めに横切る直線上に等間
隔に配置されるよう設計された光スポット7a,7b,7cのう
ち±１次回折光4bの光スポット7bだけが光ディスク６の
半径方向にずれ、３個の光スポット7a,7b,7cが一直線上
に並ばなくなってしまう。
曲線格子を用いると、レーザ光源１が正しい位置に設置
された場合でも、＋１次回折光4bの光スポット7bが理想
位置から光ディスクの半径方向に0.3μｍ程度もずれて
しまう。すなわち、第８図にしめすように、本来光ディ
スク６の記録トラック6a上を斜めに横切る直線上に等間
隔に配置されるよう設計された光スポット7a,7b,7cのう
ち±１次回折光4bの光スポット7bだけが光ディスク６の
半径方向にずれ、３個の光スポット7a,7b,7cが一直線上
に並ばなくなってしまう。
このような光スポットの位置ずれは、±１次回折光ス
ポット7b,7cの光ディスク６からの反射光量の差動出力
から光スポット7aのトラッキング誤差を検出する３ビー
ム方式を用いる場合、トラッキングオフセット発生の原
因となり、大きな問題点となる。
ポット7b,7cの光ディスク６からの反射光量の差動出力
から光スポット7aのトラッキング誤差を検出する３ビー
ム方式を用いる場合、トラッキングオフセット発生の原
因となり、大きな問題点となる。
これに対して、本発明の回折格子は、前述した波面収
差の低減、および光ディスク上の光スポット照射位置の
直線性の確保という２つの課題を共に実現することがで
きる。以下第９図から第14図を用いて、本発明の回折格
子の具体的原理について説明する。
差の低減、および光ディスク上の光スポット照射位置の
直線性の確保という２つの課題を共に実現することがで
きる。以下第９図から第14図を用いて、本発明の回折格
子の具体的原理について説明する。
第９図は、本発明の回折格子の位相溝パターンの作成
法の原理を説明するための正面図および平面図である。
本発明の回折格子は、前述の曲線格子を用いた場合に発
生する±１次回折光スポット7b,7cの相対的位置ずれを
なくすため、＋１次回折光4bの仮想光源1bから発した光
ビームと、−１次回折光の仮想光源1cから発した光ビー
ムが回折格子３上で重なり合った場合に生じる干渉縞の
うち、偶数次の干渉縞の位置に位相溝の凹部または凸部
のどちらか一方を設ける。しかもこの際、第９図にしめ
すようにあらかじめ±１次回折光の仮想光源1b,1cを図
中のｙ′軸方向に、後述する所定距離Ｋだけオフセット
させる。
法の原理を説明するための正面図および平面図である。
本発明の回折格子は、前述の曲線格子を用いた場合に発
生する±１次回折光スポット7b,7cの相対的位置ずれを
なくすため、＋１次回折光4bの仮想光源1bから発した光
ビームと、−１次回折光の仮想光源1cから発した光ビー
ムが回折格子３上で重なり合った場合に生じる干渉縞の
うち、偶数次の干渉縞の位置に位相溝の凹部または凸部
のどちらか一方を設ける。しかもこの際、第９図にしめ
すようにあらかじめ±１次回折光の仮想光源1b,1cを図
中のｙ′軸方向に、後述する所定距離Ｋだけオフセット
させる。
このような手順で得られる位相溝のパターンを具体的
に算術式で記述すると特許請求の範囲第１項に記載した
式で表される。すなわち第９図にしめすように、仮想光
源1bから回折格子３上にある任意の座標（x,y）の点Ｐ
までの光学的距離をRo,仮想光源1cから点Ｐまでの光学
的距離をＲ′ｏとすると、次式 （Ro−Ｒ′ｏ）/2＝ｍ・λ ただし Sx＝β・Ｓ・cosα Sy＝β・Ｓ・sinα Ｋ＝（Sx2＋Sy2）/2 L tan b Ｙ＝ｙ・sin b Ｚ＝ｙ・cos b ここで、 β：対物レンズの横倍率の逆数 S:光ディスク上の０次光光スポットと±１次回折光の光
スポット間の間隔。
に算術式で記述すると特許請求の範囲第１項に記載した
式で表される。すなわち第９図にしめすように、仮想光
源1bから回折格子３上にある任意の座標（x,y）の点Ｐ
までの光学的距離をRo,仮想光源1cから点Ｐまでの光学
的距離をＲ′ｏとすると、次式 （Ro−Ｒ′ｏ）/2＝ｍ・λ ただし Sx＝β・Ｓ・cosα Sy＝β・Ｓ・sinα Ｋ＝（Sx2＋Sy2）/2 L tan b Ｙ＝ｙ・sin b Ｚ＝ｙ・cos b ここで、 β：対物レンズの横倍率の逆数 S:光ディスク上の０次光光スポットと±１次回折光の光
スポット間の間隔。
L:反射型回折格子とレーザ光源間の光学的距離。
α：光ディスク上の０次光スポットと±１次回折光スポ
ットを結ぶ直線が前記光ディスク上のｘ軸の方向となす
角。
ットを結ぶ直線が前記光ディスク上のｘ軸の方向となす
角。
b:反射型回折格子の位相溝が刻まれている面と、この反
射型回折格子に入射する光ビームの光軸がなす角。
射型回折格子に入射する光ビームの光軸がなす角。
λ：光ビームの波長。 m:任意の整数。
の関係式を満たす座標（x,y）の位相に位相溝の凹部ま
たは凸部の一方を設けることにより、所望の性能を有す
る反射型回折格子の位相溝パターンが得られる。
たは凸部の一方を設けることにより、所望の性能を有す
る反射型回折格子の位相溝パターンが得られる。
たとえば第１図の実施例の場合、反射型回折格子３は
光軸に対して45°傾斜して配置されている。したがっ
て、その位相溝パターンを算出する場合は上式でｂ＝45
°とおけば良い。また第１図の実施例の場合、光ディス
ク上の０次光スポットと±１次回折光スポットを結ぶ直
線は光ディスク上のトラック方向すなわちｘ軸方向とほ
ぼ平行とみなすことができる。したがって上式でα≒０
°とおける。以上の条件を上式に代入すると、 Sx＝β・Ｓ （∵cosα＝１） Sy＝０ （∵sinα＝０） Ｋ＝β2・S2/2L （∵tan ｂ＝１） となるから、結局以下の式が得られる。
光軸に対して45°傾斜して配置されている。したがっ
て、その位相溝パターンを算出する場合は上式でｂ＝45
°とおけば良い。また第１図の実施例の場合、光ディス
ク上の０次光スポットと±１次回折光スポットを結ぶ直
線は光ディスク上のトラック方向すなわちｘ軸方向とほ
ぼ平行とみなすことができる。したがって上式でα≒０
°とおける。以上の条件を上式に代入すると、 Sx＝β・Ｓ （∵cosα＝１） Sy＝０ （∵sinα＝０） Ｋ＝β2・S2/2L （∵tan ｂ＝１） となるから、結局以下の式が得られる。
（Ro−Ｒ′ｏ）/2＝ｍ・λ …（２） 但し、 Ｋ＝β2・S2/2L …（3,c） 上式（２）の関係を満たすような座標（x,y）の点Ｐ
に位相溝の凹部または凸部を設けることによって本発明
の回折格子を得る。第10図に（２）式を用いて算出した
本発明の回折格子の位相溝パターンの一例をしめす。第
10図の黒色帯が（２）式を満たす座標（x,y）の点の連
なりである。なお実際の格子は、第11図（ａ）にしめす
ように、（２）式の関係を満たす座標（x,y）の位置Ｐ
に略矩形状の位相溝3bの凹部の略中央部3b−１が位置す
るか、もしくは、第11図（ｂ）にしめすように位相溝3b
の凸部の略中央部3b−２が位置するように位相溝3bを形
成する。また第11図（ｃ）（ｄ）にしめすように位相溝
3bを略正弦波状の形状にしてもよい。
に位相溝の凹部または凸部を設けることによって本発明
の回折格子を得る。第10図に（２）式を用いて算出した
本発明の回折格子の位相溝パターンの一例をしめす。第
10図の黒色帯が（２）式を満たす座標（x,y）の点の連
なりである。なお実際の格子は、第11図（ａ）にしめす
ように、（２）式の関係を満たす座標（x,y）の位置Ｐ
に略矩形状の位相溝3bの凹部の略中央部3b−１が位置す
るか、もしくは、第11図（ｂ）にしめすように位相溝3b
の凸部の略中央部3b−２が位置するように位相溝3bを形
成する。また第11図（ｃ）（ｄ）にしめすように位相溝
3bを略正弦波状の形状にしてもよい。
以上述べた作成手法で作成した位相溝パターンをもつ
本発明の回折格子を、例えば、第１図にしめす反射型回
折格子３として用いた場合、その反射型回折格子３によ
って分離される＋１次回折光4bの複素振幅分布U+1（x,
y）は、以下の式であらわされる。
本発明の回折格子を、例えば、第１図にしめす反射型回
折格子３として用いた場合、その反射型回折格子３によ
って分離される＋１次回折光4bの複素振幅分布U+1（x,
y）は、以下の式であらわされる。
上式でωは光ビーンムの角振動数である。また（２π
／λ）・Ｔ（x,y）は、任意の座標（x,y）を有する回折
格子３上の点Ｐで入射光ビームから分離発生した直後の
＋１次回折光4bの位相成分をあらわしている。したがっ
て、Ｔ（x,y）は、レーザ光源１とレーザ光源１から光
軸上に距離Ｌだけ離れた位置に光軸に対して回折格子３
上の点Ｐまで光路長Rrと、点Ｐにおいて＋１次回折光4b
に付加される位相成分を光路長差であらわした値との和
で表される。このうちレーザ光源１から点Ｐまで光路長
Rrは、図１の実施例の場合、２点間の距離を求める幾何
学的な考え方から明らかに次式で表される。
／λ）・Ｔ（x,y）は、任意の座標（x,y）を有する回折
格子３上の点Ｐで入射光ビームから分離発生した直後の
＋１次回折光4bの位相成分をあらわしている。したがっ
て、Ｔ（x,y）は、レーザ光源１とレーザ光源１から光
軸上に距離Ｌだけ離れた位置に光軸に対して回折格子３
上の点Ｐまで光路長Rrと、点Ｐにおいて＋１次回折光4b
に付加される位相成分を光路長差であらわした値との和
で表される。このうちレーザ光源１から点Ｐまで光路長
Rrは、図１の実施例の場合、２点間の距離を求める幾何
学的な考え方から明らかに次式で表される。
一方、点Ｐにおいて＋１次回折光4bに付加される位相
成分（行路長差）は、ホログラック回折格子の原理から
明らかなように、前述した位相溝パターンの設計式すな
わち（２）式の左辺に一致する。以上の結果からＴ（x,
y）は次式のようにあらわされる。
成分（行路長差）は、ホログラック回折格子の原理から
明らかなように、前述した位相溝パターンの設計式すな
わち（２）式の左辺に一致する。以上の結果からＴ（x,
y）は次式のようにあらわされる。
（５）式右辺の第１項は、光ディスク上で０次光スポッ
トから距離Ｓだけ離れた位置に理想的に収束する＋１次
回折光ビーム4bの位相分布に相当する。また第２項以降
は、＋１次回折光ビーム4bに生ずる波面収差成分をしめ
している。そこでこの波面収差成分の分布をＷ（x,y）
であらわすと、Ｗ（x,y）は次式のように書ける。
トから距離Ｓだけ離れた位置に理想的に収束する＋１次
回折光ビーム4bの位相分布に相当する。また第２項以降
は、＋１次回折光ビーム4bに生ずる波面収差成分をしめ
している。そこでこの波面収差成分の分布をＷ（x,y）
であらわすと、Ｗ（x,y）は次式のように書ける。
そこで次に、x,y,K≪Ｌとして、上式右辺の第２項目
以降をそれぞれ展開すると、 全く同様に 以上の結果から、Ｗ（x,y）を求めると、結局次式のよ
うにあらわされる。
以降をそれぞれ展開すると、 全く同様に 以上の結果から、Ｗ（x,y）を求めると、結局次式のよ
うにあらわされる。
ただし、Ｃは定数 （６）式において、定数Ｋ＝β2・S2/2Lである。した
がって波面収差成分Ｗ（x,y）に含まれるｙの一次の係
数は、ほぼゼロとなる。これは、ｙ方向すなわち、第１
図にしめすような光学系の構成では、光ディスク６の半
径方向の＋１次回折光スポット7bの位置ずれが全くない
事をしめしている。以上の原理は、−１次回折光4cおよ
びその光スポット7cにも全く同様にあてはまり−１次回
折光4cの波面収差も（６）式と全く同様にあらわされ
る。第12図および第13図は、本発明の回折格子を第１図
にしめすような光学系の反射型回折格子３として用いた
場合に±１次回折光4b,4cに発生する波面収差量（rms
値）と±１次回折光スポット7b,7cの理想位置からの光
ディスク６の半径方向の位置ずれ量をしめしている。な
お、第12図，第13図の横軸は、いずれも、第３図，第６
図，第７図同様第２図のｘ軸方向へのレーザ光源１の位
置ずれ量をしめしている。
がって波面収差成分Ｗ（x,y）に含まれるｙの一次の係
数は、ほぼゼロとなる。これは、ｙ方向すなわち、第１
図にしめすような光学系の構成では、光ディスク６の半
径方向の＋１次回折光スポット7bの位置ずれが全くない
事をしめしている。以上の原理は、−１次回折光4cおよ
びその光スポット7cにも全く同様にあてはまり−１次回
折光4cの波面収差も（６）式と全く同様にあらわされ
る。第12図および第13図は、本発明の回折格子を第１図
にしめすような光学系の反射型回折格子３として用いた
場合に±１次回折光4b,4cに発生する波面収差量（rms
値）と±１次回折光スポット7b,7cの理想位置からの光
ディスク６の半径方向の位置ずれ量をしめしている。な
お、第12図，第13図の横軸は、いずれも、第３図，第６
図，第７図同様第２図のｘ軸方向へのレーザ光源１の位
置ずれ量をしめしている。
第12図，第13図から明らかなように、レーザ光源１の
位置ずれがない場合、±１次回折光4b,4cの波面収差量
はいずれも1/100波長以下に抑えられ、かつ光スポット7
b,7cの位置ずれも全く無くなる。また、レーザ光源１が
位置ずれした場合でも±１次回折光スポット7b,7cの光
ディスク６の半径方向の位置ずれは、その向きは全く逆
でそのずれ量の絶対値は等しくなる。これは、第14図に
しめすように光源の位置がずれても、光ディスク６上の
光スポット7a,7b,7cは、常に一直線上に並んで照射され
ることをしめしている。すなわち本発明の回折格子を用
いるとレーザ光源１の位置がずれた場合でも光学式再生
装置全体を光軸のまわりに回軸するなどの方法をとるこ
とによって、前述した一般の曲線格子を用いた場合に発
生するようなトラッキングオフセットを完全に取り除く
事ができる。なお、第12図，第13図では、第１図のｘ軸
方向のレーザ光源１の位置ずれに関する波面収差量と光
スポットの位置ずれ量のみしめしたが、レーザ光源１
が、どの方向に位置ずれをおこしても、ｘ軸方向の位置
ずれの場合と同様の効果が得られる。
位置ずれがない場合、±１次回折光4b,4cの波面収差量
はいずれも1/100波長以下に抑えられ、かつ光スポット7
b,7cの位置ずれも全く無くなる。また、レーザ光源１が
位置ずれした場合でも±１次回折光スポット7b,7cの光
ディスク６の半径方向の位置ずれは、その向きは全く逆
でそのずれ量の絶対値は等しくなる。これは、第14図に
しめすように光源の位置がずれても、光ディスク６上の
光スポット7a,7b,7cは、常に一直線上に並んで照射され
ることをしめしている。すなわち本発明の回折格子を用
いるとレーザ光源１の位置がずれた場合でも光学式再生
装置全体を光軸のまわりに回軸するなどの方法をとるこ
とによって、前述した一般の曲線格子を用いた場合に発
生するようなトラッキングオフセットを完全に取り除く
事ができる。なお、第12図，第13図では、第１図のｘ軸
方向のレーザ光源１の位置ずれに関する波面収差量と光
スポットの位置ずれ量のみしめしたが、レーザ光源１
が、どの方向に位置ずれをおこしても、ｘ軸方向の位置
ずれの場合と同様の効果が得られる。
第15図は、本発明の他の一実施例をしめした構成図で
ある。第１図の実施例と同一の部品には、同一の符号を
記した。本実施例は、第１図の実施例に垂直な方向、す
なわち、図のｙ軸に平行な面内で、入射光ビームが０次
光ビーム4a,＋１次回折光ビーム4b,−１次回折光ビーム
4cに分離される例をしめしている。このような構成の光
学系で反射型回折格子３として、前述したような曲線格
子を用いた場合、光スポット7b,7cは光ディスク６の円
周方向に位置ずれをおこす。そこで、本実施例では、反
射型回折格子３の設計式として、特許請求の範囲にしめ
された式で、ａ＝90°,b＝45°を代入した関係式を用い
る。すなわち、 （Ro−Ｒ′ｏ）/2＝ｍ・λ …（７） 但し、 Ｋ＝β2・S2/2L …（8,c） 上式が、位相溝の位置（x,y）決める関係式となる。第1
6図は上式で作成した位相溝パターンの一例である。
ある。第１図の実施例と同一の部品には、同一の符号を
記した。本実施例は、第１図の実施例に垂直な方向、す
なわち、図のｙ軸に平行な面内で、入射光ビームが０次
光ビーム4a,＋１次回折光ビーム4b,−１次回折光ビーム
4cに分離される例をしめしている。このような構成の光
学系で反射型回折格子３として、前述したような曲線格
子を用いた場合、光スポット7b,7cは光ディスク６の円
周方向に位置ずれをおこす。そこで、本実施例では、反
射型回折格子３の設計式として、特許請求の範囲にしめ
された式で、ａ＝90°,b＝45°を代入した関係式を用い
る。すなわち、 （Ro−Ｒ′ｏ）/2＝ｍ・λ …（７） 但し、 Ｋ＝β2・S2/2L …（8,c） 上式が、位相溝の位置（x,y）決める関係式となる。第1
6図は上式で作成した位相溝パターンの一例である。
第17図は、本発明の他の一実施例をしめした構成図で
ある。第１図，第15図の実施例と同一の部品には同一の
符号を記した。本実施例は、図のｘ軸に対して斜め45°
の方向に入射光ビームが分離される例をしめしている。
本実施例では、反射型回折格子３の位相溝の位置（x,
y）をあらわす関係式は特許請求の範囲にしめされた式
でα＝45°,b＝45°とおく。すなわち、 （Ro−Ｒ′ｏ）/2＝ｍ・λ …（９） 但し、 Ｋ＝β2・S2/2L …（10,c） 上式が、位相溝の位置（x,y）をあらわす関係式とな
る。第18図は上式で設計した位相溝パターンの一例であ
る。
ある。第１図，第15図の実施例と同一の部品には同一の
符号を記した。本実施例は、図のｘ軸に対して斜め45°
の方向に入射光ビームが分離される例をしめしている。
本実施例では、反射型回折格子３の位相溝の位置（x,
y）をあらわす関係式は特許請求の範囲にしめされた式
でα＝45°,b＝45°とおく。すなわち、 （Ro−Ｒ′ｏ）/2＝ｍ・λ …（９） 但し、 Ｋ＝β2・S2/2L …（10,c） 上式が、位相溝の位置（x,y）をあらわす関係式とな
る。第18図は上式で設計した位相溝パターンの一例であ
る。
以上述べた実施例の他にも、±１次回折光4b,4cが分
離される方向すなわち光スポット7a,7b,7cが並ぶ直線の
方向は任意でよく、その都度、特許請求の範囲にしめさ
れた式に対応する角度ａを代入すれば、回折格子３の設
計式が得られる。
離される方向すなわち光スポット7a,7b,7cが並ぶ直線の
方向は任意でよく、その都度、特許請求の範囲にしめさ
れた式に対応する角度ａを代入すれば、回折格子３の設
計式が得られる。
また本実施例では、いずれも光軸に対して斜めに配置
された反射型回折格子３と光軸となす角度ｂが45°の場
合の例のみ記したが、もちろん、この角度も任意の値で
よく、その都度、対応する角度ｂを特許請求の範囲にし
めされた式に代入することによって、回折格子３の設計
式が得られる。
された反射型回折格子３と光軸となす角度ｂが45°の場
合の例のみ記したが、もちろん、この角度も任意の値で
よく、その都度、対応する角度ｂを特許請求の範囲にし
めされた式に代入することによって、回折格子３の設計
式が得られる。
最後に本発明の回折格子の具体的な構成と作成方法の
一例について述べる。第19図にしめすように本発明の反
射型回折格子３は、ガラスまたは、プラスチックの平行
平板からなる基板3aの片面に本発明でしめした関係式に
従って凹凸の溝を形成し、その上に、例えば、誘電体多
層膜あるいは金属膜などで構成されたハーフミラー膜3b
を蒸着などの方法で形成し、さらにその上に基板3aに近
い屈折率を有した光学用プラスチック層3cを形成して作
成される。光学用プラスチック層3cの具体的な例として
は、例えば紫外線硬化が可能なアクリル系樹脂がある。
その他、加熱硬化型の樹脂，非反応性の樹脂の中にも適
用可能な物も有る。
一例について述べる。第19図にしめすように本発明の反
射型回折格子３は、ガラスまたは、プラスチックの平行
平板からなる基板3aの片面に本発明でしめした関係式に
従って凹凸の溝を形成し、その上に、例えば、誘電体多
層膜あるいは金属膜などで構成されたハーフミラー膜3b
を蒸着などの方法で形成し、さらにその上に基板3aに近
い屈折率を有した光学用プラスチック層3cを形成して作
成される。光学用プラスチック層3cの具体的な例として
は、例えば紫外線硬化が可能なアクリル系樹脂がある。
その他、加熱硬化型の樹脂，非反応性の樹脂の中にも適
用可能な物も有る。
以上のような構成の回折格子３を用いることにより、
該回折格子３にビームスプリッタとしての機能も兼用さ
せることができ、光ビーム２が該回折格子を反射した場
合にのみ±１次回折光4b,4cを分離発生させることがで
きる。
該回折格子３にビームスプリッタとしての機能も兼用さ
せることができ、光ビーム２が該回折格子を反射した場
合にのみ±１次回折光4b,4cを分離発生させることがで
きる。
以上述べたように、本発明の位相溝パターンを設けた
反射型回折格子を用いることによって、格子を光軸に対
して傾けて配置した場合でも、±１次回折光を発生する
波面収差量を大幅に低減する事ができ、さらに、±１次
回折光スポットの相対的位置ずれを完全に取り除く事が
できる。したがって、反射型回折格子の位相溝にビーム
スプリッタ膜を形成し、ビームスプリッタと回折格子を
一体化した光学素子の実用化を可能にし、光学式再生装
置の部品点数削減に大きな効果をもたらす。
反射型回折格子を用いることによって、格子を光軸に対
して傾けて配置した場合でも、±１次回折光を発生する
波面収差量を大幅に低減する事ができ、さらに、±１次
回折光スポットの相対的位置ずれを完全に取り除く事が
できる。したがって、反射型回折格子の位相溝にビーム
スプリッタ膜を形成し、ビームスプリッタと回折格子を
一体化した光学素子の実用化を可能にし、光学式再生装
置の部品点数削減に大きな効果をもたらす。
第１図は、本発明の一実施例をしめす構成図、第２図
は、光スポットの照射位置をしめす模式図第３図は、従
来の回折格子の性能をしめす模式図第４図，第５図，第
６図，第７図，第８図は、従来のホログラフィック回折
格子の作成原理と性能を説明するための模式図、第９
図，第10図，第11図，第12図，第13図，第14図は本発明
の回折格子の性能を説明するための模式図、第15図，第
16図は、本発明の他の一実施例をしめす構成図および模
式図、第17図，第18図は、本発明の他の一実施例をしめ
す構成図および模式図、第19図は本発明の回折格子の構
造を説明するための断面図である。 １……レーザ光源 ３……反射型回折格子 ５……対物レンズ ６……光ディスク 7a……０次光スポット 7b……＋１次回折光スポット 7c……−１次回折光スポット ８……凹レンズ ９……光検出器
は、光スポットの照射位置をしめす模式図第３図は、従
来の回折格子の性能をしめす模式図第４図，第５図，第
６図，第７図，第８図は、従来のホログラフィック回折
格子の作成原理と性能を説明するための模式図、第９
図，第10図，第11図，第12図，第13図，第14図は本発明
の回折格子の性能を説明するための模式図、第15図，第
16図は、本発明の他の一実施例をしめす構成図および模
式図、第17図，第18図は、本発明の他の一実施例をしめ
す構成図および模式図、第19図は本発明の回折格子の構
造を説明するための断面図である。 １……レーザ光源 ３……反射型回折格子 ５……対物レンズ ６……光ディスク 7a……０次光スポット 7b……＋１次回折光スポット 7c……−１次回折光スポット ８……凹レンズ ９……光検出器
Claims (2)
- 【請求項１】レーザ光源と該レーザ光源より発した発散
光ビームを集束して、光学式情報記録媒体に照射する対
物レンズを設け、かつ前記レーザ光源と前記対物レンズ
間の光路中に、凹凸の位相溝が設けられた反射型回折格
子を光軸に対して傾斜して配置し、該反射型回折格子に
よって、前記レーザ光源より発した発散光ビームを反射
させかつ該発散光ビームを０次および±１次回折光ビー
ムに分離して、該各々の回折光ビームを前記対物レンズ
に導くように構成された光学式再生装置において、前記
反射型回折格子は、その位相溝が刻まれている面と光軸
との交点を原点とし、前記位相溝が刻まれている面内で
かつ光軸に垂直な軸をｘ軸とし、前記面内で前記ｘ軸に
垂直な軸をｙ軸として設定されたｘ−ｙ座標系におい
て、 （Ro−Ｒ′ｏ）/2＝ｍ・λ 但し Sx＝β・Ｓ・cos a Sy＝β・Ｓ・sin a Ｋ＝（Sx2＋Sy2）/2 L tan b Ｙ＝y sin b Ｚ＝y cos b ここで、 β：対物レンズの横倍率の逆数。 S:光学的情報記録媒体上の０次光の光スポットと±１次
回折光の光スポット間の間隔。 L:反射型回折格子とレーザ光源間の光学的距離。 a:光学式情報記録媒体上の０次回折光の光スポットと±
１次回折光の光スポットを結ぶ直線が前記光学的記録媒
体上でのｘ軸の方向となす角。 b:反射型回折格子の位相溝が刻まれている面と該反射型
回折格子に入射する光ビームの光軸がなす角。 λ：レーザ光源の波長。 m:任意の整数。 の関係式を満たす座標（x,y）の位置に位相溝の凹部ま
たは凸部のどちらか一方を設ける事によって得られる不
等間隔曲線状の位相溝を有する反射型回折格子である事
を特徴とする光学式再生装置。 - 【請求項２】前記反射型回折格子は、前記位相溝の凹部
または凸部のどちらか一方の略中央部が、特許請求の範
囲第１項に記載された関係式を満たす座標（x,y）に位
置する事を特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の光
学式再生装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61201427A JPH0827965B2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | 光学式再生装置 |
| KR1019870007224A KR900007141B1 (ko) | 1986-08-29 | 1987-07-07 | 광학식 재생장치 |
| US07/087,345 US4768183A (en) | 1986-08-29 | 1987-08-20 | Optical reproducing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61201427A JPH0827965B2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | 光学式再生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6358629A JPS6358629A (ja) | 1988-03-14 |
| JPH0827965B2 true JPH0827965B2 (ja) | 1996-03-21 |
Family
ID=16440902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61201427A Expired - Lifetime JPH0827965B2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | 光学式再生装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4768183A (ja) |
| JP (1) | JPH0827965B2 (ja) |
| KR (1) | KR900007141B1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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