JPH08261898A - 透過電子顕微鏡用試料及びその作製方法 - Google Patents
透過電子顕微鏡用試料及びその作製方法Info
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- JPH08261898A JPH08261898A JP8613295A JP8613295A JPH08261898A JP H08261898 A JPH08261898 A JP H08261898A JP 8613295 A JP8613295 A JP 8613295A JP 8613295 A JP8613295 A JP 8613295A JP H08261898 A JPH08261898 A JP H08261898A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】観察時のサンプルの傾斜角度に対する制限を低
減し、サンプルを取り扱う際に壊れにくく、さらに複数
箇所の観察を可能とする透過電子顕微鏡用のサンプル及
びその作製方法の提供。 【構成】ダイサーでサンプルを電子顕微鏡の鏡体内に装
着できる大きさに切り出した後、サンプルを斜めに研磨
した台座にワックスで固定して傾斜させた状態でサンプ
ルに対して長手方向に直交する方向からダイサーにより
切削する工程をサンプル両端面から施し、最後にＦＩＢ
で観察特定箇所をＴＥＭで観察可能な程度に薄膜化して
サンプルを形成する。
減し、サンプルを取り扱う際に壊れにくく、さらに複数
箇所の観察を可能とする透過電子顕微鏡用のサンプル及
びその作製方法の提供。 【構成】ダイサーでサンプルを電子顕微鏡の鏡体内に装
着できる大きさに切り出した後、サンプルを斜めに研磨
した台座にワックスで固定して傾斜させた状態でサンプ
ルに対して長手方向に直交する方向からダイサーにより
切削する工程をサンプル両端面から施し、最後にＦＩＢ
で観察特定箇所をＴＥＭで観察可能な程度に薄膜化して
サンプルを形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、透過型電子顕微鏡（Ｔ
ＥＭ）のサンプル作製法に関し、特にＦＩＢ（Focussed
Ion Beam；集束イオンビーム）とダイサーを用いて所
定箇所を観察するためのサンプル及びその作製方法に関
する。
ＥＭ）のサンプル作製法に関し、特にＦＩＢ（Focussed
Ion Beam；集束イオンビーム）とダイサーを用いて所
定箇所を観察するためのサンプル及びその作製方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】図５（Ａ）〜図５（Ｃ）に透過型電子顕
微鏡のサンプル作製の従来の加工法を説明する図を示
す。
微鏡のサンプル作製の従来の加工法を説明する図を示
す。
【０００３】ダイサーでサンプルを透過型電子顕微鏡の
鏡体内に装着できる大きさ、例えば約0.2mm×2mm×0.5m
m（サンプルがウェハの場合はウェハの厚さ）に切り出
し、次に図５（Ｂ）に示すように観察箇所２が含まれる
ように上面を次工程のＦＩＢ加工時間を短縮するために
できる限り薄くなるように残し、図５（Ｃ）に示すよう
にサンプル１の両側縁部を長手方向にダイサー５で加工
してサンプル１の長手方向に直交する断面が凸型形状と
なるようにする。
鏡体内に装着できる大きさ、例えば約0.2mm×2mm×0.5m
m（サンプルがウェハの場合はウェハの厚さ）に切り出
し、次に図５（Ｂ）に示すように観察箇所２が含まれる
ように上面を次工程のＦＩＢ加工時間を短縮するために
できる限り薄くなるように残し、図５（Ｃ）に示すよう
にサンプル１の両側縁部を長手方向にダイサー５で加工
してサンプル１の長手方向に直交する断面が凸型形状と
なるようにする。
【０００４】最後に図５（Ａ）、図５（Ｂ）に示すよう
に、観察箇所２をＦＩＢを用いて透過型電子顕微鏡で観
察が可能な程度に薄膜化する。
に、観察箇所２をＦＩＢを用いて透過型電子顕微鏡で観
察が可能な程度に薄膜化する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この従来の方
法においては、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）観察の際に
サンプルを装置内で傾斜させた場合、サンプル１の凸型
加工の角の部分によって電子線が遮られ観察できない。
このためＴＥＭ観察時のサンプルの傾斜角度に制限があ
った。
法においては、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）観察の際に
サンプルを装置内で傾斜させた場合、サンプル１の凸型
加工の角の部分によって電子線が遮られ観察できない。
このためＴＥＭ観察時のサンプルの傾斜角度に制限があ
った。
【０００６】また、従来の方法においては、サンプル１
の上部全体を薄膜化しているため、サンプル１を壊す恐
れがあり、さらに一サンプル１箇所または長手方向同一
線上（凸型に残した上部内）でなければ複数箇所を観察
できないという問題がある。
の上部全体を薄膜化しているため、サンプル１を壊す恐
れがあり、さらに一サンプル１箇所または長手方向同一
線上（凸型に残した上部内）でなければ複数箇所を観察
できないという問題がある。
【０００７】従って、本発明は上記問題点を解消し、観
察時のサンプルの傾斜角度に対する制限を低減し、サン
プルを取り扱う際に壊れにくく、さらに複数箇所の観察
を可能とするサンプル及びその作製方法を提供すること
を目的とする。
察時のサンプルの傾斜角度に対する制限を低減し、サン
プルを取り扱う際に壊れにくく、さらに複数箇所の観察
を可能とするサンプル及びその作製方法を提供すること
を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、観察箇所が集束イオンビーム（ＦＩＢ）
で形成される透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の観察試料の
製作方法において、前記観察箇所を支持する部分の壁面
のうち、前記観察箇所の電子線が透過する面と平行な壁
面の少なくとも一が、前記観察箇所の周辺で前記電子線
が透過する面に対して所定の傾きを有するように加工す
ることを特徴とする透過電子顕微鏡試料の作製方法を提
供する。
め、本発明は、観察箇所が集束イオンビーム（ＦＩＢ）
で形成される透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の観察試料の
製作方法において、前記観察箇所を支持する部分の壁面
のうち、前記観察箇所の電子線が透過する面と平行な壁
面の少なくとも一が、前記観察箇所の周辺で前記電子線
が透過する面に対して所定の傾きを有するように加工す
ることを特徴とする透過電子顕微鏡試料の作製方法を提
供する。
【０００９】本発明の作製方法においては、好ましく
は、支持面に平行な線と前記壁面のなす角度が、観察面
の高さと前記支持面の長さを徐した値を正接とする角度
よりも大きな角度を持つように壁面を形成することを特
徴とする。
は、支持面に平行な線と前記壁面のなす角度が、観察面
の高さと前記支持面の長さを徐した値を正接とする角度
よりも大きな角度を持つように壁面を形成することを特
徴とする。
【００１０】本発明の作製方法においては、好ましく
は、前記傾斜面を形成する際に前記観察試料を所定の傾
斜面を有する台座に装着し、回転外周刃（ダイサー）加
工で作製することを特徴とする。
は、前記傾斜面を形成する際に前記観察試料を所定の傾
斜面を有する台座に装着し、回転外周刃（ダイサー）加
工で作製することを特徴とする。
【００１１】本発明は、試料の一端面上の所定の観察箇
所を残し前記観察箇所の少なくとも一側を前記試料の長
手方向に前記観察箇所の長さに対応して面取りしてなる
ことを特徴とする透過電子顕微鏡用試料を提供する。
所を残し前記観察箇所の少なくとも一側を前記試料の長
手方向に前記観察箇所の長さに対応して面取りしてなる
ことを特徴とする透過電子顕微鏡用試料を提供する。
【００１２】
【作用】本発明によれば、ダイサーでサンプルを電子顕
微鏡の鏡体内に装着できる大きさに切り出した後、サン
プルを斜めに研磨した台座にワックスで固定して傾斜さ
せた状態でサンプルに対して横手方向からダイサーによ
り切削する工程を好ましくは両面から施し、最後にＦＩ
Ｂで観察特定箇所をＴＥＭで観察可能な程度に薄膜化し
てサンプルを形成することにより、ＴＥＭ観察において
サンプルを装置内で傾斜させた際に、前記従来例のよう
にサンプルの凸型加工の角の部分によって電子線が遮ら
れることはなく、観察時のサンプルの傾斜角度の制限を
少なくしている。また、サンプルを取り扱う際、前記従
来例のように上部が全体的に薄い構成とされないため壊
れにくい。さらに、本発明によれば、長手方向同一線上
に存在しない複数の観察箇所の観察が可能とされる。
微鏡の鏡体内に装着できる大きさに切り出した後、サン
プルを斜めに研磨した台座にワックスで固定して傾斜さ
せた状態でサンプルに対して横手方向からダイサーによ
り切削する工程を好ましくは両面から施し、最後にＦＩ
Ｂで観察特定箇所をＴＥＭで観察可能な程度に薄膜化し
てサンプルを形成することにより、ＴＥＭ観察において
サンプルを装置内で傾斜させた際に、前記従来例のよう
にサンプルの凸型加工の角の部分によって電子線が遮ら
れることはなく、観察時のサンプルの傾斜角度の制限を
少なくしている。また、サンプルを取り扱う際、前記従
来例のように上部が全体的に薄い構成とされないため壊
れにくい。さらに、本発明によれば、長手方向同一線上
に存在しない複数の観察箇所の観察が可能とされる。
【００１３】
【実施例】図面を参照して、本発明の実施例を以下に説
明する。
明する。
【００１４】
【実施例１】図１〜図３は本発明の第１の実施例を説明
する図である。図１（Ａ）はＦＩＢ加工後の状態を示す
図、図１（Ｂ）は切削角度を説明する図、図２（Ａ）、
図２（Ｂ）、図３（Ｃ）、図３（Ｄ）はダイサー加工中
の状態をそれぞれ示している。
する図である。図１（Ａ）はＦＩＢ加工後の状態を示す
図、図１（Ｂ）は切削角度を説明する図、図２（Ａ）、
図２（Ｂ）、図３（Ｃ）、図３（Ｄ）はダイサー加工中
の状態をそれぞれ示している。
【００１５】まず、ダイサー５で観察箇所２を含むよう
にサンプル１（例えばシリコンウェハ）を透過型電子顕
微鏡の鏡体内に装着できる大きさ約0.2mm×2mm×0.5mm
（ウェハの厚さ）に加工する。
にサンプル１（例えばシリコンウェハ）を透過型電子顕
微鏡の鏡体内に装着できる大きさ約0.2mm×2mm×0.5mm
（ウェハの厚さ）に加工する。
【００１６】次に、本実施例におけるサンプル１の切削
角度について図１（Ｂ）を用いて説明する。
角度について図１（Ｂ）を用いて説明する。
【００１７】まず、角度θ１を次式（１）のように定義
する。
する。
【００１８】 ｔａｎθ１＝観察面の高さ(a)／支持面の長さ(b) …（１）
【００１９】また、角度θ２をダイサー加工傾斜面 (c)
と支持面(b)に平行な線とのなす角と定義する。
と支持面(b)に平行な線とのなす角と定義する。
【００２０】本実施例として、a、b、それぞれの長さが
a:b = 1:√3 のとき、θ１＝30°であり、θ２がθ１
＜θ２を満足する角度を持つような傾斜を作製するもの
とする。
a:b = 1:√3 のとき、θ１＝30°であり、θ２がθ１
＜θ２を満足する角度を持つような傾斜を作製するもの
とする。
【００２１】次に台座６について説明する。図２（Ａ）
を参照してサンプル１を安定した状態で傾斜をつけて切
削するために台座６を用いワックスでサンプル１を固定
する。台座６は１辺に傾斜角θ３である面を有すること
を特徴とする。
を参照してサンプル１を安定した状態で傾斜をつけて切
削するために台座６を用いワックスでサンプル１を固定
する。台座６は１辺に傾斜角θ３である面を有すること
を特徴とする。
【００２２】本実施例では、台座６としてサンプル１
（ウェハ）と同素材であり加工し易いシリコンウェハを
用いた。また、台座６の厚さはサンプル１と共にダイサ
ー５で切削してもかまわないが、ダイサー５の刃を傷め
ないようにサンプル１と同程度の厚さとした。
（ウェハ）と同素材であり加工し易いシリコンウェハを
用いた。また、台座６の厚さはサンプル１と共にダイサ
ー５で切削してもかまわないが、ダイサー５の刃を傷め
ないようにサンプル１と同程度の厚さとした。
【００２３】台座６をその傾斜角θ３＝（90°−θ２）
となるように研磨し、ワックス７でサンプル１を傾斜さ
せ固定する。
となるように研磨し、ワックス７でサンプル１を傾斜さ
せ固定する。
【００２４】次に、図２（Ｂ）、及び図３（Ｃ）に示す
ようにサンプル１に対して横手方向からダイサー５によ
り切削する。
ようにサンプル１に対して横手方向からダイサー５によ
り切削する。
【００２５】切れ幅(d)（図１（Ａ）参照）は、１回切
削の際はダイサー５の刃の厚さに対応するが、サンプル
１をその長手方向にずらしながら複数回切削を繰り返す
ことにより切れ幅(d)を選択することができる。
削の際はダイサー５の刃の厚さに対応するが、サンプル
１をその長手方向にずらしながら複数回切削を繰り返す
ことにより切れ幅(d)を選択することができる。
【００２６】次に、図３（Ｄ）に示すように、サンプル
１の裏表を変え、幅(e)（図１（Ａ）参照）が、後工程
のＦＩＢ加工時間を短縮するために、できるだけ狭くな
るように同様にして切削する。
１の裏表を変え、幅(e)（図１（Ａ）参照）が、後工程
のＦＩＢ加工時間を短縮するために、できるだけ狭くな
るように同様にして切削する。
【００２７】最後に、ワックス７を洗浄し、サンプル１
を立て、観察箇所２をＦＩＢによってＴＥＭ観察が可能
な程度の厚さに薄膜化する。
を立て、観察箇所２をＦＩＢによってＴＥＭ観察が可能
な程度の厚さに薄膜化する。
【００２８】
【実施例２】次に、図４に本発明の第２の実施例の構成
を示す。透過型電子顕微鏡の鏡体内に装着できる大きさ
に加工したサンプル中に、複数の観察箇所２、２′が存
在する場合、前記第１の実施例と同様にサンプル１を傾
斜させて切削すると、観察箇所が長手方向同一線上に存
在しなくても、複数の観察箇所２、２′を薄膜化するこ
とができる。このため複数箇所が観察可能なサンプルが
作製できる。
を示す。透過型電子顕微鏡の鏡体内に装着できる大きさ
に加工したサンプル中に、複数の観察箇所２、２′が存
在する場合、前記第１の実施例と同様にサンプル１を傾
斜させて切削すると、観察箇所が長手方向同一線上に存
在しなくても、複数の観察箇所２、２′を薄膜化するこ
とができる。このため複数箇所が観察可能なサンプルが
作製できる。
【００２９】以上、本発明を上記各実施例に即して説明
したが、本発明は上記態様に限定されるものでなく、本
発明の原理に準ずる各種態様を含むことは勿論である。
したが、本発明は上記態様に限定されるものでなく、本
発明の原理に準ずる各種態様を含むことは勿論である。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ＴＥＭ観察においてサンプルを装置内で傾斜させた際サ
ンプルの凸型加工の角の部分によって電子線が遮られる
ことがない。このため観察時のサンプルの傾斜角度に制
限が少なく、またサンプルを取り扱う際、前記従来例と
相違して上部が全体的に薄くないため壊れにくいという
利点を有する。
ＴＥＭ観察においてサンプルを装置内で傾斜させた際サ
ンプルの凸型加工の角の部分によって電子線が遮られる
ことがない。このため観察時のサンプルの傾斜角度に制
限が少なく、またサンプルを取り扱う際、前記従来例と
相違して上部が全体的に薄くないため壊れにくいという
利点を有する。
【００３１】さらに、本発明によれば、サンプルは長手
方向同一線上にない複数の観察箇所を形成することが可
能とされるため、所望の位置において複数箇所の観察が
可能であるという効果を有する。
方向同一線上にない複数の観察箇所を形成することが可
能とされるため、所望の位置において複数箇所の観察が
可能であるという効果を有する。
【図１】本発明の第１の実施例を説明するための図であ
る。（Ａ）はＦＩＢ加工後の状態を示す図である。
（Ｂ）は切削角度の説明図である。
る。（Ａ）はＦＩＢ加工後の状態を示す図である。
（Ｂ）は切削角度の説明図である。
【図２】（Ａ）、（Ｂ）は本発明の第１の実施例を工程
順に説明するための図である。
順に説明するための図である。
【図３】（Ｃ）、（Ｄ）は本発明の第１の実施例を工程
順に説明するための図である。
順に説明するための図である。
【図４】本発明の第２の実施例を説明するための図であ
り、ＦＩＢ加工後の状態を示す図である。
り、ＦＩＢ加工後の状態を示す図である。
【図５】従来例を示す図である。（Ａ）、（Ｂ）はＦＩ
Ｂ加工後の状態を示す図である。（Ｃ）はダイサー加工
中の状態を示す図である。
Ｂ加工後の状態を示す図である。（Ｃ）はダイサー加工
中の状態を示す図である。
１ サンプル ２ 観察箇所 ３ ダイサー切削箇所 ４ ダイサーの刃 ５ ダイサー（の刃） ６ 台座（Ｓｉ基板） ７ ワックス
Claims (5)
- 【請求項１】観察箇所が集束イオンビーム（ＦＩＢ）で
形成される透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の観察試料の製
作方法において、 前記観察箇所を支持する部分の壁面のうち、前記観察箇
所の電子線が透過する面と平行な壁面の少なくとも一
が、前記観察箇所の周辺で前記電子線が透過する面に対
して所定の傾きを有するように加工することを特徴とす
る透過電子顕微鏡用試料の作製方法。 - 【請求項２】前記観察箇所の支持面に平行な線と前記壁
面のなす角度が、観察面の高さを前記支持面の長さで徐
した値を正接とする角度よりも大きな角度を持つように
前記壁面を形成することを特徴とする請求項１記載の透
過電子顕微鏡用試料の作製方法。 - 【請求項３】前記傾斜面を形成する際に前記観察試料を
所定の傾斜面を有する台座に装着し、回転外周刃（ダイ
サー）加工で作製することを特徴とする請求項１記載の
透過電子顕微鏡用試料の作製方法。 - 【請求項４】観察箇所が集束イオンビーム（ＦＩＢ）で
形成される透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の観察試料の製
作方法において、 (a)前記観察試料の一側を所定の傾斜面を有する台座に
装着し前記観察試料の他側端面の側縁部を含む領域を長
手方向に直交する方向に所定長さで除去する工程と、 (b)前記観察試料の前記他側を前記台座に装着し前記観
察試料の前記一側端面の側縁部を含む領域を長手方向に
直交する方向に所定長さで且つ前記観察試料の観察箇所
の長手方向に直交する幅が所定寸法となるように除去す
る工程と、 (c)前記観察試料の観察箇所を集束イオンビーム（ＦＩ
Ｂ）加工して薄膜化する工程と、 を含むことを特徴とする透過電子顕微鏡用試料の作製方
法。 - 【請求項５】試料の一端面上の所定の観察箇所を含む所
定領域を残し前記観察箇所を含む所定領域の少なくとも
一側を前記試料の長手方向に前記観察箇所の長さに対応
して面取りされ、その後前記観察箇所を含む領域がＦＩ
Ｂ加工されてなることを特徴とする透過電子顕微鏡用の
試料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8613295A JPH08261898A (ja) | 1995-03-17 | 1995-03-17 | 透過電子顕微鏡用試料及びその作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8613295A JPH08261898A (ja) | 1995-03-17 | 1995-03-17 | 透過電子顕微鏡用試料及びその作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08261898A true JPH08261898A (ja) | 1996-10-11 |
Family
ID=13878191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8613295A Pending JPH08261898A (ja) | 1995-03-17 | 1995-03-17 | 透過電子顕微鏡用試料及びその作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08261898A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040037958A (ko) * | 2002-10-31 | 2004-05-08 | 삼성전자주식회사 | 커팅 각도 조절 장치 및 이를 이용한 투과 전자현미경분석용 시편 제조방법 |
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| US7420381B2 (en) | 2004-09-13 | 2008-09-02 | Cascade Microtech, Inc. | Double sided probing structures |
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| JPH05180739A (ja) * | 1992-01-07 | 1993-07-23 | Sharp Corp | 電子顕微鏡観察用試料の作成方法 |
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| JPH0783812A (ja) * | 1993-09-14 | 1995-03-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 透過型電子顕微鏡用試料の作製方法 |
| JPH07209155A (ja) * | 1994-01-13 | 1995-08-11 | Jeol Ltd | 試料作製装置及び方法 |
-
1995
- 1995-03-17 JP JP8613295A patent/JPH08261898A/ja active Pending
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19971021 |