JP3751062B2 - 断面tem観察用試料ホルダー及びそれを備えたtem装置 - Google Patents
断面tem観察用試料ホルダー及びそれを備えたtem装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3751062B2 JP3751062B2 JP02736196A JP2736196A JP3751062B2 JP 3751062 B2 JP3751062 B2 JP 3751062B2 JP 02736196 A JP02736196 A JP 02736196A JP 2736196 A JP2736196 A JP 2736196A JP 3751062 B2 JP3751062 B2 JP 3751062B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- tem
- observation
- holder
- cross
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、TEM(透過型電子顕微鏡)観察用試料ホルダ−に関し、特に観察用試料を事前に加工する際の試料作製台も兼ねる試料ホルダーに関する。更に具体的には、本発明は、断面TEM観察用試料ホルダ−に関するもので、断面試料作製から観察までを、容易に短時間で行えるようにする技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
LSIの基板や、配線部等の状態を検査する手法として、被検査対象物の一部を試料として切除した上で、該試料の所要箇所にFIB(集束イオンビ−ム)装置などによって加工を加え、この試料を試料ホルダーに保持した状態でTEM(透過型電子顕微鏡)によって観察することが行われている。
従来のTEM用試料ホルダ−は、試料ホルダ−に試料を取り付けたまま試料作製ができないため、FIB装置によって予め試料に加工を施した上で、加工を施した試料をホルダーに取付けてTEMによる観察に供していた。このため、試料の付けはずし回数が多く、試料作製が困難で、多くの作業時間が必要であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
断面試料作製技術の1つとして、FIB(集束イオンビ−ム)装置を用いる方法が知られている。この方法を簡単に説明すると、まず試料ホルダ−に装着可能な大きさ、形状となる様に試料を切り出し、その後、FIB装置で観察部分を所定の厚さに加工する。そして、この試料の被観察面がTEM(透過型電子顕微鏡)によって観察され易い方向に試料を向けた状態でTEM用試料ホルダ−に取り付け、TEM観察を行なう。
即ち、図4(a) は従来のTEM用試料ホルダ−の構成図であり、このホルダー1は、中央部に穴2を有し、この穴2内に着脱自在に嵌合する環状のメッシュと呼ばれる金属箔3上に試料4を接着固定する。この試料はハッチングを付した被観察面がホルダー1の上面と平行となる向きにセットされる。この従来例に於ては、試料ホルダ−1に試料4を取り付けたままFIB装置による加工を行なうことができないので、試料に対してFIB装置による加工を終了した時点でメッシュ3に試料4を貼り付け、これを試料ホルダ−1に取り付けていた。(b) に示す様に試料を貼り付けた試料ホルダー1は所定の角度でTEM装置に固定され、試料の被観察面が矢印で示すTEMからのエレクトロンビームの照射を受け易いように位置決めされる。
しかし、この従来の試料ホルダーを用いた断面観察においては、試料4が非常に小さいため(数mm以下)、試料4をFIB装置の試料台へ取り付け、取り外す作業、更にTEM用試料ホルダ−1へ取り付ける作業の過程において、何度も試料を着脱しなければならないため作業が困難であり、また時間も多く要することとなる。
【0004】
また、他の従来例として、メッシュに試料を貼り付けた上で該メッシュをFIB装置の試料台に貼り付けるタイプがあるが、非常に小さい試料を接着剤を用いてメッシュに貼り付ける際に、接着剤が回り込んで観察面に付着する等の不具合が発生し易い為、作業性が悪かった。また、作製した試料を貼り付けたメッシュを試料台に固定する場合、メッシュ自体が薄い為、試料台上に垂直に立てることが難しい。メッシュ自体が傾倒していてもその分試料台を傾けることにより垂長方向(ビームが直交する方向)に位置決めすることは可能であるが、良いTEM試料を作製する為には、FIB装置からのエッチング用のイオンビームの回り込み等を考慮し、垂直姿勢から数度傾けてFIB装置によるエッチングを受け得るようにする必要がある。
つまり、この従来例は、メッシュを用いる為、接着剤を付する位置が試料の観察部分に回り込み易く、またメッシュ自体が薄いので傾倒し易く、FIB装置の試料台上に所望の角度で固定することが難しいという問題があった。
【0005】
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、試料ホルダ−を装置取付部と試料作製台とから構成し、切り出した小片試料をこの試料作製台に取り付けたままFIB装置による加工が行なえ、加工終了後に装置取付部と試料作製台とを容易に合体させることができる試料ホルダーを提供することを目的としている。
これにより試料を何度も付け外しする必要がなくなり、作業が容易に短時間で行なえ、試料作製歩留りも向上する。また、試料作製台への試料の取り付けは、そのまま接着剤などにより行えるため、別部材としてのメッシュを使う必要がなくなる。従って、薄いメッシュを使う場合の不具合がなくなる。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する為、本発明の断面TEM観察用試料ホルダーは、断面TEM観察に供される試料の一端面を保持して集束イオンビームにより試料加工を行なう際に用いる試料作製台と、加工後の上記試料を上記試料作製台から取り外すことなく試料作製台の試料を取りつけた側に着脱自在に合体され、TEM観察時には上記試料作製台に保持されている上記試料の観察部がTEM装置のエレクトロンビームに対して垂直になるようにTEM装置に装着される装置取付部と、を備えていることを特徴とする。
本発明のTEM装置は、本発明の断面TEM観察用試料ホルダーを備えたものである。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のTEM用試料ホルダーについて説明する。図1(a) (b) は本発明の一形態例の試料ホルダーの構成図、図2(a) (b) 及び(c) は試料取付け状態説明図、試料加工後の状態説明図、及び試料を保持した試料作成台と装置取付部とを合体させた状態図である。
本発明のTEM用試料ホルダ−10は、試料作製台11と装置取付部12とにより構成され、両者は組立分解自在となっている。
図1(a) が本発明のTEM用試料ホルダ−の組立状態の全体図である。この試料ホルダ−10は、図1(b) のように試料作製台11と装置取付部12とに分解することができる。
図2(a) に示す様に、試料13を試料作製台1の端面中央部に接着剤等によりを取り付け、この状態で図2(b) のように図示しないFIB装置により試料13を加工する。符号14はFIB装置による加工後のTEM観察部を示す。
【0008】
こうして試料作製が終了した後、図2(c) のように試料作製台と装置取付部を合体させ、TEM観察を行なう。TEM観察部14に対しては薄くエッチングされた面と直交する方向から、図示しないTEMからのエレクトロンビームを照射することにより、観察が行われる。装置取付部12の端縁には、試料作成台11に取り付けられた試料14を回避する形状の切欠き12aを形成し、この切欠き内に位置する試料に向けて、矢印方向からTEMからのエレクトロンビームが照射されることとなる。
試料作製台と装置取付部との合体方法としては、クリップ状のものを用いて固定する、テ−プ類、接着剤などにより貼り付ける等、任意の方向を用いることができる。
なお、試料作製台11の形状では、平坦な端面に接着しただけの試料13が、試料作製台11から脱落することも考えられるが、そのような時には、例えば図3のように該端面から試料保持用の突起15を予め突設しておき、この突起15上に試料を保持しつつ試料の一端面(非観察面)を接着すればよい。なお、この突起15は、TEMのビームの透過を妨げない位置、寸法、形状を有するように設定することは勿論である。
図2(c) に示した状態で合体したホルダー10は、図4(b) の従来例に示した如き状態でTEMの台座上に固定されて観察に供される。
【0009】
本発明では、従来例の様にメッシュを用いないので、接着剤を付する位置が、試料の観察部分の反対側となり、また試料は厚い試料作製台11に固定されるので、その後のFIB装置の試料台への垂直固定も容易となり、加工精度を高めることができる。
TEMを用いた試料の観察方法自体は容易であるが、それに先立つ試料作製作業が極めて困難であり、本発明により初めて試料作製作業性と、作製後の試料をホルダーに保持する作業性を向上したものである。
【0010】
【発明の効果】
発明のTEM用試料ホルダ−は、装置取付部と試料作製台とに分解でき、この試料作製台に試料を取り付けたままでFIB装置による加工が行えるため、何度も試料を付けはずしする必要がなくなり、作業が容易に短時間で行なえ、試料作製歩留りも向上する。
また、試料作製台への試料の取り付けは、そのまま接着剤などにより行なえるため、従来用いていたメッシュを使う必要がなくなり、作業性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 (a) (b) は本発明の一形態例の試料ホルダーの構成図。
【図2】 (a) (b) 及び(c) は試料取付け状態説明図、試料加工後の状態説明図、及び試料を保持した試料作成台と装置取付部とを合体させた状態図。
【図3】試料作製台の他の例を示す図。
【図4】 (a) 及び(b) は従来例の説明図。
【符号の説明】
10 TEM用試料ホルダ−、11 試料作製台、12 装置取付部、13 試料、14 TEM観察部、
Claims (2)
- 断面TEM観察に供される試料の一端面を保持して集束イオンビームにより試料加工を行なう際に用いる試料作製台と、
加工後の前記試料を前記試料作製台から取り外すことなく試料作製台の試料を取りつけた側に着脱自在に合体され、TEM観察時には試料作製台に保持されている前記試料の観察部がTEM装置のエレクトロンビームに対して垂直になるようにTEM装置に装着される装置取付部と、を備えていることを特徴とする断面TEM観察用試料ホルダー。 - 請求項1に記載された断面TEM観察用試料ホルダーを備えたTEM装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP02736196A JP3751062B2 (ja) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | 断面tem観察用試料ホルダー及びそれを備えたtem装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP02736196A JP3751062B2 (ja) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | 断面tem観察用試料ホルダー及びそれを備えたtem装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09199069A JPH09199069A (ja) | 1997-07-31 |
JP3751062B2 true JP3751062B2 (ja) | 2006-03-01 |
Family
ID=12218918
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP02736196A Expired - Fee Related JP3751062B2 (ja) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | 断面tem観察用試料ホルダー及びそれを備えたtem装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3751062B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6828566B2 (en) | 1997-07-22 | 2004-12-07 | Hitachi Ltd | Method and apparatus for specimen fabrication |
GB0318134D0 (en) * | 2003-08-01 | 2003-09-03 | Gatan Uk | Specimen tip and tip holder assembly |
JP4596968B2 (ja) | 2005-05-11 | 2010-12-15 | 株式会社リコー | 半導体装置の不良箇所観察のためのシリコン基板加工方法及び不良箇所特定方法 |
JP4185962B2 (ja) * | 2008-03-07 | 2008-11-26 | 株式会社日立製作所 | 試料作製装置 |
JP4589993B2 (ja) * | 2008-08-13 | 2010-12-01 | 株式会社日立製作所 | 集束イオンビーム装置 |
CN102148115B (zh) | 2010-02-08 | 2013-03-20 | 北京富纳特创新科技有限公司 | 透射电镜微栅的制备方法 |
CN101866805B (zh) | 2010-04-14 | 2012-03-14 | 北京富纳特创新科技有限公司 | 透射电镜微栅的制备方法 |
CN101866804B (zh) | 2010-04-14 | 2012-05-16 | 北京富纳特创新科技有限公司 | 透射电镜微栅 |
CN101866803B (zh) | 2010-04-14 | 2013-03-13 | 北京富纳特创新科技有限公司 | 透射电镜微栅 |
CN104007149B (zh) * | 2013-02-27 | 2016-03-16 | 中国科学院金属研究所 | 一种研究材料腐蚀电化学行为的装置及其原位tem方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2842083B2 (ja) * | 1992-09-17 | 1998-12-24 | 株式会社日立製作所 | 試料ホルダー、これを用いた試料加工観察システム、試料観察方法、透過形電子顕微鏡及びイオンビーム装置 |
JPH06325716A (ja) * | 1993-05-14 | 1994-11-25 | Canon Inc | メッシュ |
JP3404090B2 (ja) * | 1993-11-09 | 2003-05-06 | 株式会社日立製作所 | 電子顕微鏡用試料傾斜装置 |
JP3325389B2 (ja) * | 1994-06-29 | 2002-09-17 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡の試料装置 |
-
1996
- 1996-01-22 JP JP02736196A patent/JP3751062B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09199069A (ja) | 1997-07-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7005636B2 (en) | Method and apparatus for manipulating a microscopic sample | |
US6420722B2 (en) | Method for sample separation and lift-out with one cut | |
JP3751062B2 (ja) | 断面tem観察用試料ホルダー及びそれを備えたtem装置 | |
JP2008191156A (ja) | 試料を薄くする方法及び当該方法のための試料キャリア | |
JP2006017729A (ja) | 基板から微視的なサンプルを取り出すための方法 | |
JP4570980B2 (ja) | 試料台及び試料加工方法 | |
JP3711018B2 (ja) | Tem試料薄片化加工方法 | |
JP2003194681A (ja) | Tem試料作製方法 | |
US6140603A (en) | Micro-cleavage method for specimen preparation | |
JP2009259556A (ja) | 電子顕微鏡観察用試料支持部材 | |
JP2754301B2 (ja) | 電子顕微鏡観察用試料の作成方法 | |
JP2005174657A (ja) | 電子顕微鏡用メッシュ及びその製造方法 | |
JP3325389B2 (ja) | 電子顕微鏡の試料装置 | |
CN113466268B (zh) | 组合样品及其制备方法 | |
JPH05302876A (ja) | Tem観察用試料の作成方法及び研磨用治具 | |
JP5101563B2 (ja) | 微小試料台の製造方法 | |
US7394075B1 (en) | Preparation of integrated circuit device samples for observation and analysis | |
US5993291A (en) | Specimen block preparation for TEM analysis | |
JP3842702B2 (ja) | 観察用試料作製方法 | |
JP2003100245A (ja) | 集束イオンビーム加工観察装置用試料ホールダ | |
JP2004253232A (ja) | 試料固定台 | |
JP2006329723A (ja) | 電子顕微鏡観察用試料の作製方法 | |
JPH11329325A (ja) | メッシュおよび薄片試料の作製方法 | |
JP2001141620A (ja) | 透過電子顕微鏡用試料の切り込み加工法 | |
JP2001242051A (ja) | 集束イオンビーム加工装置用試料台および試料固定方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040518 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040720 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050809 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051007 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20051206 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051206 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081216 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091216 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101216 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101216 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111216 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |