JPH09199069A - 断面ｔｅｍ観察用試料ホルダー - Google Patents
断面ｔｅｍ観察用試料ホルダーInfo
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- JPH09199069A JPH09199069A JP8027361A JP2736196A JPH09199069A JP H09199069 A JPH09199069 A JP H09199069A JP 8027361 A JP8027361 A JP 8027361A JP 2736196 A JP2736196 A JP 2736196A JP H09199069 A JPH09199069 A JP H09199069A
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- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 32
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 9
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 9
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- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 試料ホルダ−を装置取付部と試料作製台とか
ら構成し、切り出した小片試料をこの試料作製台に取り
付けたままＦＩＢ装置による加工が行なえ、加工終了後
に装置取付部と試料作製台とを容易に合体させることが
できる試料ホルダーを提供する。 【解決手段】 断面ＴＥＭ観察に供される試料１３を保
持して集束イオンビ−ムにより試料加工を行なう際に用
いる試料作製台１１と、ＴＥＭに試料を取り付けるため
の装置取付部１２と、から成り、該試料作製台と該装置
取付部とを着脱自在に構成した。
ら構成し、切り出した小片試料をこの試料作製台に取り
付けたままＦＩＢ装置による加工が行なえ、加工終了後
に装置取付部と試料作製台とを容易に合体させることが
できる試料ホルダーを提供する。 【解決手段】 断面ＴＥＭ観察に供される試料１３を保
持して集束イオンビ−ムにより試料加工を行なう際に用
いる試料作製台１１と、ＴＥＭに試料を取り付けるため
の装置取付部１２と、から成り、該試料作製台と該装置
取付部とを着脱自在に構成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＴＥＭ（透過型電
子顕微鏡）観察用試料ホルダ−に関し、特に観察用試料
を事前に加工する際の試料作製台も兼ねる試料ホルダー
に関する。更に具体的には、本発明は、断面ＴＥＭ観察
用試料ホルダ−に関するもので、断面試料作製から観察
までを、容易に短時間で行えるようにする技術に関す
る。
子顕微鏡）観察用試料ホルダ−に関し、特に観察用試料
を事前に加工する際の試料作製台も兼ねる試料ホルダー
に関する。更に具体的には、本発明は、断面ＴＥＭ観察
用試料ホルダ−に関するもので、断面試料作製から観察
までを、容易に短時間で行えるようにする技術に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩの基板や、配線部等の状態を検査
する手法として、被検査対象物の一部を試料として切除
した上で、該試料の所要箇所にＦＩＢ（集束イオンビ−
ム）装置などによって加工を加え、この試料を試料ホル
ダーに保持した状態でＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）によ
って観察することが行われている。従来のＴＥＭ用試料
ホルダ−は、試料ホルダ−に試料を取り付けたまま試料
作製ができないため、ＦＩＢ装置によって予め試料に加
工を施した上で、加工を施した試料をホルダーに取付け
てＴＥＭによる観察に供していた。このため、試料の付
けはずし回数が多く、試料作製が困難で、多くの作業時
間が必要であった。
する手法として、被検査対象物の一部を試料として切除
した上で、該試料の所要箇所にＦＩＢ（集束イオンビ−
ム）装置などによって加工を加え、この試料を試料ホル
ダーに保持した状態でＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）によ
って観察することが行われている。従来のＴＥＭ用試料
ホルダ−は、試料ホルダ−に試料を取り付けたまま試料
作製ができないため、ＦＩＢ装置によって予め試料に加
工を施した上で、加工を施した試料をホルダーに取付け
てＴＥＭによる観察に供していた。このため、試料の付
けはずし回数が多く、試料作製が困難で、多くの作業時
間が必要であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】断面試料作製技術の１
つとして、ＦＩＢ（集束イオンビ−ム）装置を用いる方
法が知られている。この方法を簡単に説明すると、まず
試料ホルダ−に装着可能な大きさ、形状となる様に試料
を切り出し、その後、ＦＩＢ装置で観察部分を所定の厚
さに加工する。そして、この試料の被観察面がＴＥＭ
（透過型電子顕微鏡）によって観察され易い方向に試料
を向けた状態でＴＥＭ用試料ホルダ−に取り付け、ＴＥ
Ｍ観察を行なう。即ち、図４(a) は従来のＴＥＭ用試料
ホルダ−の構成図であり、このホルダー１は、中央部に
穴２を有し、この穴２内に着脱自在に嵌合する環状のメ
ッシュと呼ばれる金属箔３上に試料４を接着固定する。
この試料はハッチングを付した被観察面がホルダー１の
上面と平行となる向きにセットされる。この従来例に於
ては、試料ホルダ−１に試料４を取り付けたままＦＩＢ
装置による加工を行なうことができないので、試料に対
してＦＩＢ装置による加工を終了した時点でメッシュ３
に試料４を貼り付け、これを試料ホルダ−１に取り付け
ていた。(b) に示す様に試料を貼り付けた試料ホルダー
１は所定の角度でＴＥＭ装置に固定され、試料の被観察
面が矢印で示すＴＥＭからのエレクトロンビームの照射
を受け易いように位置決めされる。しかし、この従来の
試料ホルダーを用いた断面観察においては、試料４が非
常に小さいため（数ｍｍ以下）、試料４をＦＩＢ装置の
試料台へ取り付け、取り外す作業、更にＴＥＭ用試料ホ
ルダ−１へ取り付ける作業の過程において、何度も試料
を着脱しなければならないため作業が困難であり、また
時間も多く要することとなる。
つとして、ＦＩＢ（集束イオンビ−ム）装置を用いる方
法が知られている。この方法を簡単に説明すると、まず
試料ホルダ−に装着可能な大きさ、形状となる様に試料
を切り出し、その後、ＦＩＢ装置で観察部分を所定の厚
さに加工する。そして、この試料の被観察面がＴＥＭ
（透過型電子顕微鏡）によって観察され易い方向に試料
を向けた状態でＴＥＭ用試料ホルダ−に取り付け、ＴＥ
Ｍ観察を行なう。即ち、図４(a) は従来のＴＥＭ用試料
ホルダ−の構成図であり、このホルダー１は、中央部に
穴２を有し、この穴２内に着脱自在に嵌合する環状のメ
ッシュと呼ばれる金属箔３上に試料４を接着固定する。
この試料はハッチングを付した被観察面がホルダー１の
上面と平行となる向きにセットされる。この従来例に於
ては、試料ホルダ−１に試料４を取り付けたままＦＩＢ
装置による加工を行なうことができないので、試料に対
してＦＩＢ装置による加工を終了した時点でメッシュ３
に試料４を貼り付け、これを試料ホルダ−１に取り付け
ていた。(b) に示す様に試料を貼り付けた試料ホルダー
１は所定の角度でＴＥＭ装置に固定され、試料の被観察
面が矢印で示すＴＥＭからのエレクトロンビームの照射
を受け易いように位置決めされる。しかし、この従来の
試料ホルダーを用いた断面観察においては、試料４が非
常に小さいため（数ｍｍ以下）、試料４をＦＩＢ装置の
試料台へ取り付け、取り外す作業、更にＴＥＭ用試料ホ
ルダ−１へ取り付ける作業の過程において、何度も試料
を着脱しなければならないため作業が困難であり、また
時間も多く要することとなる。
【０００４】また、他の従来例として、メッシュに試料
を貼り付けた上で該メッシュをＦＩＢ装置の試料台に貼
り付けるタイプがあるが、非常に小さい試料を接着剤を
用いてメッシュに貼り付ける際に、接着剤が回り込んで
観察面に付着する等の不具合が発生し易い為、作業性が
悪かった。また、作製した試料を貼り付けたメッシュを
試料台に固定する場合、メッシュ自体が薄い為、試料台
上に垂直に立てることが難しい。メッシュ自体が傾倒し
ていてもその分試料台を傾けることにより垂長方向（ビ
ームが直交する方向）に位置決めすることは可能である
が、良いＴＥＭ試料を作製する為には、ＦＩＢ装置から
のエッチング用のイオンビームの回り込み等を考慮し、
垂直姿勢から数度傾けてＦＩＢ装置によるエッチングを
受け得るようにする必要がある。つまり、この従来例
は、メッシュを用いる為、接着剤を付する位置が試料の
観察部分に回り込み易く、またメッシュ自体が薄いので
傾倒し易く、ＦＩＢ装置の試料台上に所望の角度で固定
することが難しいという問題があった。
を貼り付けた上で該メッシュをＦＩＢ装置の試料台に貼
り付けるタイプがあるが、非常に小さい試料を接着剤を
用いてメッシュに貼り付ける際に、接着剤が回り込んで
観察面に付着する等の不具合が発生し易い為、作業性が
悪かった。また、作製した試料を貼り付けたメッシュを
試料台に固定する場合、メッシュ自体が薄い為、試料台
上に垂直に立てることが難しい。メッシュ自体が傾倒し
ていてもその分試料台を傾けることにより垂長方向（ビ
ームが直交する方向）に位置決めすることは可能である
が、良いＴＥＭ試料を作製する為には、ＦＩＢ装置から
のエッチング用のイオンビームの回り込み等を考慮し、
垂直姿勢から数度傾けてＦＩＢ装置によるエッチングを
受け得るようにする必要がある。つまり、この従来例
は、メッシュを用いる為、接着剤を付する位置が試料の
観察部分に回り込み易く、またメッシュ自体が薄いので
傾倒し易く、ＦＩＢ装置の試料台上に所望の角度で固定
することが難しいという問題があった。
【０００５】本発明は上記に鑑みてなされたものであ
り、試料ホルダ−を装置取付部と試料作製台とから構成
し、切り出した小片試料をこの試料作製台に取り付けた
ままＦＩＢ装置による加工が行なえ、加工終了後に装置
取付部と試料作製台とを容易に合体させることができる
試料ホルダーを提供することを目的としている。これに
より試料を何度も付け外しする必要がなくなり、作業が
容易に短時間で行なえ、試料作製歩留りも向上する。ま
た、試料作製台への試料の取り付けは、そのまま接着剤
などにより行えるため、別部材としてのメッシュを使う
必要がなくなる。従って、薄いメッシュを使う場合の不
具合がなくなる。
り、試料ホルダ−を装置取付部と試料作製台とから構成
し、切り出した小片試料をこの試料作製台に取り付けた
ままＦＩＢ装置による加工が行なえ、加工終了後に装置
取付部と試料作製台とを容易に合体させることができる
試料ホルダーを提供することを目的としている。これに
より試料を何度も付け外しする必要がなくなり、作業が
容易に短時間で行なえ、試料作製歩留りも向上する。ま
た、試料作製台への試料の取り付けは、そのまま接着剤
などにより行えるため、別部材としてのメッシュを使う
必要がなくなる。従って、薄いメッシュを使う場合の不
具合がなくなる。
【０００６】
【課題を解決する為の手段】上記目的を達成する為、請
求項１の発明は、断面ＴＥＭ観察に供される試料を保持
して集束イオンビ−ムにより試料加工を行なう際に用い
る試料作製台と、ＴＥＭに試料を取り付けるための装置
取付部と、から成り、該試料作製台と該装置取付部とを
着脱自在に構成したことを特徴とする。請求項２の発明
では、上記ホルダ−は、試料作製台と、装置取付部の少
なくとも２部分以上から構成されていることを特徴とす
る。
求項１の発明は、断面ＴＥＭ観察に供される試料を保持
して集束イオンビ−ムにより試料加工を行なう際に用い
る試料作製台と、ＴＥＭに試料を取り付けるための装置
取付部と、から成り、該試料作製台と該装置取付部とを
着脱自在に構成したことを特徴とする。請求項２の発明
では、上記ホルダ−は、試料作製台と、装置取付部の少
なくとも２部分以上から構成されていることを特徴とす
る。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明のＴＥＭ用試料ホル
ダーについて説明する。図１(a) (b) は本発明の一形態
例の試料ホルダーの構成図、図２(a) (b) 及び(c) は試
料取付け状態説明図、試料加工後の状態説明図、及び試
料を保持した試料作成台と装置取付部とを合体させた状
態図である。本発明のＴＥＭ用試料ホルダ−１０は、試
料作製台１１と装置取付部１２とにより構成され、両者
は組立分解自在となっている。図１(a) が本発明のＴＥ
Ｍ用試料ホルダ−の組立状態の全体図である。この試料
ホルダ−１０は、図１(b) のように試料作製台１１と装
置取付部１２とに分解することができる。図２(a) に示
す様に、試料１３を試料作製台１の端面中央部に接着剤
等によりを取り付け、この状態で図２(b) のように図示
しないＦＩＢ装置により試料１３を加工する。符号１４
はＦＩＢ装置による加工後のＴＥＭ観察部を示す。
ダーについて説明する。図１(a) (b) は本発明の一形態
例の試料ホルダーの構成図、図２(a) (b) 及び(c) は試
料取付け状態説明図、試料加工後の状態説明図、及び試
料を保持した試料作成台と装置取付部とを合体させた状
態図である。本発明のＴＥＭ用試料ホルダ−１０は、試
料作製台１１と装置取付部１２とにより構成され、両者
は組立分解自在となっている。図１(a) が本発明のＴＥ
Ｍ用試料ホルダ−の組立状態の全体図である。この試料
ホルダ−１０は、図１(b) のように試料作製台１１と装
置取付部１２とに分解することができる。図２(a) に示
す様に、試料１３を試料作製台１の端面中央部に接着剤
等によりを取り付け、この状態で図２(b) のように図示
しないＦＩＢ装置により試料１３を加工する。符号１４
はＦＩＢ装置による加工後のＴＥＭ観察部を示す。
【０００８】こうして試料作製が終了した後、図２(c)
のように試料作製台と装置取付部を合体させ、ＴＥＭ観
察を行なう。ＴＥＭ観察部１４に対しては薄くエッチン
グされた面と直交する方向から、図示しないＴＥＭから
のエレクトロンビームを照射することにより、観察が行
われる。装置取付部１２の端縁には、試料作成台１１に
取り付けられた試料１４を回避する形状の切欠き１２ａ
を形成し、この切欠き内に位置する試料に向けて、矢印
方向からＴＥＭからのエレクトロンビームが照射される
こととなる。試料作製台と装置取付部との合体方法とし
ては、クリップ状のものを用いて固定する、テ−プ類、
接着剤などにより貼り付ける等、任意の方向を用いるこ
とができる。なお、試料作製台１１の形状では、平坦な
端面に接着しただけの試料１３が、試料作製台１１から
脱落することも考えられるが、そのような時には、例え
ば図３のように該端面から試料保持用の突起１５を予め
突設しておき、この突起１５上に試料を保持しつつ試料
の一端面（非観察面）を接着すればよい。なお、この突
起１５は、ＴＥＭのビームの透過を妨げない位置、寸
法、形状を有するように設定することは勿論である。図
２(c) に示した状態で合体したホルダー１０は、図４
(b) の従来例に示した如き状態でＴＥＭの台座上に固定
されて観察に供される。
のように試料作製台と装置取付部を合体させ、ＴＥＭ観
察を行なう。ＴＥＭ観察部１４に対しては薄くエッチン
グされた面と直交する方向から、図示しないＴＥＭから
のエレクトロンビームを照射することにより、観察が行
われる。装置取付部１２の端縁には、試料作成台１１に
取り付けられた試料１４を回避する形状の切欠き１２ａ
を形成し、この切欠き内に位置する試料に向けて、矢印
方向からＴＥＭからのエレクトロンビームが照射される
こととなる。試料作製台と装置取付部との合体方法とし
ては、クリップ状のものを用いて固定する、テ−プ類、
接着剤などにより貼り付ける等、任意の方向を用いるこ
とができる。なお、試料作製台１１の形状では、平坦な
端面に接着しただけの試料１３が、試料作製台１１から
脱落することも考えられるが、そのような時には、例え
ば図３のように該端面から試料保持用の突起１５を予め
突設しておき、この突起１５上に試料を保持しつつ試料
の一端面（非観察面）を接着すればよい。なお、この突
起１５は、ＴＥＭのビームの透過を妨げない位置、寸
法、形状を有するように設定することは勿論である。図
２(c) に示した状態で合体したホルダー１０は、図４
(b) の従来例に示した如き状態でＴＥＭの台座上に固定
されて観察に供される。
【０００９】本発明では、従来例の様にメッシュを用い
ないので、接着剤を付する位置が、試料の観察部分の反
対側となり、また試料は厚い試料作製台１１に固定され
るので、その後のＦＩＢ装置の試料台への垂直固定も容
易となり、加工精度を高めることができる。ＴＥＭを用
いた試料の観察方法自体は容易であるが、それに先立つ
試料作製作業が極めて困難であり、本発明により初めて
試料作製作業性と、作製後の試料をホルダーに保持する
作業性を向上したものである。
ないので、接着剤を付する位置が、試料の観察部分の反
対側となり、また試料は厚い試料作製台１１に固定され
るので、その後のＦＩＢ装置の試料台への垂直固定も容
易となり、加工精度を高めることができる。ＴＥＭを用
いた試料の観察方法自体は容易であるが、それに先立つ
試料作製作業が極めて困難であり、本発明により初めて
試料作製作業性と、作製後の試料をホルダーに保持する
作業性を向上したものである。
【００１０】
【発明の効果】発明のＴＥＭ用試料ホルダ−は、装置取
付部と試料作製台とに分解でき、この試料作製台に試料
を取り付けたままでＦＩＢ装置による加工が行えるた
め、何度も試料を付けはずしする必要がなくなり、作業
が容易に短時間で行なえ、試料作製歩留りも向上する。
また、試料作製台への試料の取り付けは、そのまま接着
剤などにより行なえるため、従来用いていたメッシュを
使う必要がなくなり、作業性を高めることができる。
付部と試料作製台とに分解でき、この試料作製台に試料
を取り付けたままでＦＩＢ装置による加工が行えるた
め、何度も試料を付けはずしする必要がなくなり、作業
が容易に短時間で行なえ、試料作製歩留りも向上する。
また、試料作製台への試料の取り付けは、そのまま接着
剤などにより行なえるため、従来用いていたメッシュを
使う必要がなくなり、作業性を高めることができる。
【図１】(a) (b) は本発明の一形態例の試料ホルダーの
構成図。
構成図。
【図２】(a) (b) 及び(c) は試料取付け状態説明図、試
料加工後の状態説明図、及び試料を保持した試料作成台
と装置取付部とを合体させた状態図。
料加工後の状態説明図、及び試料を保持した試料作成台
と装置取付部とを合体させた状態図。
【図３】試料作製台の他の例を示す図。
【図４】(a) 及び(b) は従来例の説明図。
１０ ＴＥＭ用試料ホルダ−、１１ 試料作製台、１２
装置取付部、１３ 試料、１４ ＴＥＭ観察部、
装置取付部、１３ 試料、１４ ＴＥＭ観察部、
Claims (2)
- 【請求項１】 断面ＴＥＭ観察に供される試料を保持し
て集束イオンビ−ムにより試料加工を行なう際に用いる
試料作製台と、ＴＥＭに試料を取り付けるための装置取
付部と、から成り、該試料作製台と該装置取付部とを着
脱自在に構成したことを特徴とする断面ＴＥＭ観察用試
料ホルダ−。 - 【請求項２】 上記ホルダ−は、試料作製台と、装置取
付部の少なくとも２部分以上から構成されていることを
特徴とする請求項１記載の断面ＴＥＭ観察用試料ホルダ
−。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02736196A JP3751062B2 (ja) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | 断面ｔｅｍ観察用試料ホルダー及びそれを備えたｔｅｍ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02736196A JP3751062B2 (ja) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | 断面ｔｅｍ観察用試料ホルダー及びそれを備えたｔｅｍ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09199069A true JPH09199069A (ja) | 1997-07-31 |
| JP3751062B2 JP3751062B2 (ja) | 2006-03-01 |
Family
ID=12218918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02736196A Expired - Fee Related JP3751062B2 (ja) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | 断面ｔｅｍ観察用試料ホルダー及びそれを備えたｔｅｍ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3751062B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1503399A1 (en) * | 2003-08-01 | 2005-02-02 | Roper Industries Limited | Specimen tip and tip holder assembly |
| JP2008153239A (ja) * | 2008-03-07 | 2008-07-03 | Hitachi Ltd | 試料作製装置 |
| JP2008294004A (ja) * | 2008-08-13 | 2008-12-04 | Hitachi Ltd | 試料作製装置 |
| US7682844B2 (en) | 2005-05-11 | 2010-03-23 | Ricoh Company, Ltd. | Silicon substrate processing method for observing defects in semiconductor devices and defect-detecting method |
| US7791050B2 (en) | 1997-07-22 | 2010-09-07 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for specimen fabrication |
| JP2011228284A (ja) * | 2010-04-14 | 2011-11-10 | Beijing Funate Innovation Technology Co Ltd | 透過型電子顕微鏡グリッド |
| US8551392B2 (en) | 2010-02-08 | 2013-10-08 | Beijing Funate Innovation Technology Co., Ltd. | Method for manufacturing transmission electron microscope micro-grid |
| US8650739B2 (en) | 2010-04-14 | 2014-02-18 | Beijing Funate Innovation Technology Co., Ltd. | Method for manufacturing transmission electron microscope micro-grid |
| CN104007149A (zh) * | 2013-02-27 | 2014-08-27 | 中国科学院金属研究所 | 一种研究材料腐蚀电化学行为的装置及其原位tem方法 |
| US9184023B2 (en) | 2010-04-14 | 2015-11-10 | Beijing Funate Innovation Technology Co., Ltd. | Transmission electron microscope micro-grid |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06103947A (ja) * | 1992-09-17 | 1994-04-15 | Hitachi Ltd | 集束イオンビーム装置 |
| JPH06325716A (ja) * | 1993-05-14 | 1994-11-25 | Canon Inc | メッシュ |
| JPH07134963A (ja) * | 1993-11-09 | 1995-05-23 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡用試料傾斜装置 |
| JPH0817381A (ja) * | 1994-06-29 | 1996-01-19 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡の試料装置 |
-
1996
- 1996-01-22 JP JP02736196A patent/JP3751062B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06103947A (ja) * | 1992-09-17 | 1994-04-15 | Hitachi Ltd | 集束イオンビーム装置 |
| JPH06325716A (ja) * | 1993-05-14 | 1994-11-25 | Canon Inc | メッシュ |
| JPH07134963A (ja) * | 1993-11-09 | 1995-05-23 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡用試料傾斜装置 |
| JPH0817381A (ja) * | 1994-06-29 | 1996-01-19 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡の試料装置 |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7791050B2 (en) | 1997-07-22 | 2010-09-07 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for specimen fabrication |
| US8569719B2 (en) | 1997-07-22 | 2013-10-29 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for specimen fabrication |
| EP1503399A1 (en) * | 2003-08-01 | 2005-02-02 | Roper Industries Limited | Specimen tip and tip holder assembly |
| US7682844B2 (en) | 2005-05-11 | 2010-03-23 | Ricoh Company, Ltd. | Silicon substrate processing method for observing defects in semiconductor devices and defect-detecting method |
| JP2008153239A (ja) * | 2008-03-07 | 2008-07-03 | Hitachi Ltd | 試料作製装置 |
| JP2008294004A (ja) * | 2008-08-13 | 2008-12-04 | Hitachi Ltd | 試料作製装置 |
| US8551392B2 (en) | 2010-02-08 | 2013-10-08 | Beijing Funate Innovation Technology Co., Ltd. | Method for manufacturing transmission electron microscope micro-grid |
| JP2011228284A (ja) * | 2010-04-14 | 2011-11-10 | Beijing Funate Innovation Technology Co Ltd | 透過型電子顕微鏡グリッド |
| US8650739B2 (en) | 2010-04-14 | 2014-02-18 | Beijing Funate Innovation Technology Co., Ltd. | Method for manufacturing transmission electron microscope micro-grid |
| US8772736B2 (en) | 2010-04-14 | 2014-07-08 | Beijing FUNATE Innovation Co., Ltd. | Transmission electron microscope micro-grid using carbon nanotubes |
| US9184023B2 (en) | 2010-04-14 | 2015-11-10 | Beijing Funate Innovation Technology Co., Ltd. | Transmission electron microscope micro-grid |
| CN104007149A (zh) * | 2013-02-27 | 2014-08-27 | 中国科学院金属研究所 | 一种研究材料腐蚀电化学行为的装置及其原位tem方法 |
| CN104007149B (zh) * | 2013-02-27 | 2016-03-16 | 中国科学院金属研究所 | 一种研究材料腐蚀电化学行为的装置及其原位tem方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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