JP4570980B2 - 試料台及び試料加工方法 - Google Patents
試料台及び試料加工方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4570980B2 JP4570980B2 JP2005044604A JP2005044604A JP4570980B2 JP 4570980 B2 JP4570980 B2 JP 4570980B2 JP 2005044604 A JP2005044604 A JP 2005044604A JP 2005044604 A JP2005044604 A JP 2005044604A JP 4570980 B2 JP4570980 B2 JP 4570980B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- stage
- fixing
- processing
- uppermost
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
- G01N1/32—Polishing; Etching
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
また、本発明の試料台は、試料部分がかからないように半切りメッシュ上に貼着されている。
また、本発明の試料台の形状は、雛壇形態とし、試料固定部分は雛壇の最上段に設けるようにしたものであるから、シリコン基板をエッチッグする領域をステップ状に狭くしていくことで容易に作成することが出来る。
また、本発明の試料台は、試料部分がかからないように半切りメッシュ上に試料台を貼着したので、試料台そのものが微小であっても取り扱いが容易であると共に、試料片部分にはメッシュが存在しないので、バックグランドノイズとならない。
また、本発明の試料台は、試料が取り付けられる箇所が同一基板上に複数個配置されるようにしたので、関連する一連の試料を1つの試料台上に載置することができ、比較観察等の試験が短時間で容易に実施できるし、試料の管理利用にも便利である。更に、追加工するときにも複数の試料片が1つの試料台に固定されているため、真空状態などチャンバ内環境条件を保ったまま順次複数試料の加工が出来、加工時間の短縮となる。
以上のプロセスによってシリコン加工工程を終えるので、レジスト剥離液を用いてレジストを除去し、つづいてマスク膜2を除去する。このようにして本実施例のシリコン試料台が基板1のベース層11上に多数形成されることになる。
雛壇の最上段にピンポイントサンプリングした微細試料切片を固定する。例えば本発明の試料台に微細試料切片を固定した後、TEM観察用試料の場合Gaイオンを用いたFIBで薄片化加工を行うが、その加工によってイオン残留などの問題が残る。その対策としてArイオンを用いたFIBで残留するGaイオンを除去する仕上げ加工をするが、その際、本発明の試料台は極めて薄く作製できるので、図6に示すように下方からのイオン照射でこの加工を行うことが出来る。すなわち10度以下であれば試料台が存在しても試料へのArイオンビームの照射が可能であり、この方向からの照射できることにより、再付着はほとんどないものとなる。
12 ベース層 2 マスク膜
3 レジスト膜 31 現像されたレジスト膜
4 MEMS試料台 5 メッシュ
Claims (8)
- 試料を取り付け固定し、試料の加工面に対して傾斜した角度からイオンビームを照射し、加工面を加工するための試料台において、
前記試料台の基部と、
前記基部の一方の面に前記基部と同一部材で一体に形成され、かつ、互いに離間して配置された複数の試料固定部と、を有し、
前記複数の試料固定部は、それぞれ前記基部と反対側の端部に向かい突出し、かつ、前記端部に向かい厚さが小さくなる段構造を有し、
前記段構造は、前記端部側に前記試料を固定するための最上段を有する試料台。 - 前記厚さ方向の断面において、前記段構造を有する側の前記最上段の角と前記基部の前記一方の面の角を結ぶ直線と、前記一方の面と略垂直な方向の直線とのなす角度が10度以下である請求項1に記載の試料台。
- 前記段構造は、前記最上段と前記最上段に隣接する段を備え、
前記最上段に隣接する段の高さは、前記最上段の高さより大きく、前記基部の高さよりも小さい請求項1または2に記載の試料台。 - 前記端部の厚さが、10μm以下である請求項1から3のいずれか一つに記載の試料台。
- 請求項1から4のいずれか一つに記載の試料台の前記試料固定部に試料を取り付け固定する固定工程と、
イオンビームを照射し、前記試料を加工する加工工程と、からなる試料加工方法。 - 前記固定工程は、前記試料を前記最上段に取り付け固定する請求項5に記載の試料加工方法。
- 前記加工工程は、前記基部の前記試料固定部が形成された面と略垂直な方向に対して、10度以下の方向から前記イオンビームを前記試料に照射する請求項5または6に記載の試料加工方法。
- 前記加工工程は、Gaイオンを用いたFIBで前記試料を薄片化する薄片化工程と、
Arイオンビームを照射して、前記試料に残留する前記Gaイオンを除去する仕上げ加工工程と、からなる請求項5または6に記載の試料加工方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005044604A JP4570980B2 (ja) | 2005-02-21 | 2005-02-21 | 試料台及び試料加工方法 |
US11/356,698 US7345289B2 (en) | 2005-02-21 | 2006-02-17 | Sample support prepared by semiconductor silicon process technique |
DE102006007431.9A DE102006007431B4 (de) | 2005-02-21 | 2006-02-17 | Durch Halbleitersilizium-Verfahrenstechnik gebildeter Probenträger sowie Verfahren zur Herstellung |
CN2006100739339A CN1834608B (zh) | 2005-02-21 | 2006-02-21 | 以半导体硅加工技术制备的样品支架 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005044604A JP4570980B2 (ja) | 2005-02-21 | 2005-02-21 | 試料台及び試料加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006226970A JP2006226970A (ja) | 2006-08-31 |
JP4570980B2 true JP4570980B2 (ja) | 2010-10-27 |
Family
ID=36794325
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005044604A Active JP4570980B2 (ja) | 2005-02-21 | 2005-02-21 | 試料台及び試料加工方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7345289B2 (ja) |
JP (1) | JP4570980B2 (ja) |
CN (1) | CN1834608B (ja) |
DE (1) | DE102006007431B4 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4937775B2 (ja) * | 2007-01-26 | 2012-05-23 | アオイ電子株式会社 | 微小試料台、その作成方法、微小試料台集合体、および試料ホルダ |
EP1953789A1 (en) * | 2007-02-05 | 2008-08-06 | FEI Company | Method for thinning a sample and sample carrier for performing said method |
EP2130086A4 (en) * | 2007-03-02 | 2012-03-14 | Protochips Inc | MEMBRANE SUPPORTS WITH REINFORCING FUNCTIONS |
JP5101563B2 (ja) * | 2009-05-20 | 2012-12-19 | アオイ電子株式会社 | 微小試料台の製造方法 |
EP2755226B1 (en) * | 2013-01-15 | 2016-06-29 | Fei Company | Sample carrier for an electron microscope |
US9281163B2 (en) * | 2014-04-14 | 2016-03-08 | Fei Company | High capacity TEM grid |
JP6231461B2 (ja) * | 2014-10-31 | 2017-11-15 | アオイ電子株式会社 | 試料固定装置 |
CN107678098B (zh) * | 2016-08-01 | 2019-09-03 | 华为技术有限公司 | 光开关和光交换系统 |
CN111537529A (zh) * | 2020-04-09 | 2020-08-14 | 中国科学院微电子研究所 | 一种用于附着穿透式电子显微镜样品的硅网及其制备方法 |
CN114464516A (zh) * | 2020-10-21 | 2022-05-10 | 长鑫存储技术有限公司 | 栅格 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06180277A (ja) * | 1992-12-14 | 1994-06-28 | Matsushita Electron Corp | 透過電子顕微鏡用試料の作成方法 |
JPH10221227A (ja) * | 1997-02-06 | 1998-08-21 | Matsushita Electron Corp | 透過電子顕微鏡用試料およびその製造方法 |
JP2001141620A (ja) * | 1999-11-18 | 2001-05-25 | Seiko Instruments Inc | 透過電子顕微鏡用試料の切り込み加工法 |
JP2001242051A (ja) * | 2000-02-29 | 2001-09-07 | Hitachi Ltd | 集束イオンビーム加工装置用試料台および試料固定方法 |
JP2002190269A (ja) * | 2000-12-21 | 2002-07-05 | Jeol Ltd | 試料台 |
JP2003035682A (ja) * | 2001-07-24 | 2003-02-07 | Hitachi Ltd | 試料ホルダ及び試料分析方法 |
JP2004179038A (ja) * | 2002-11-28 | 2004-06-24 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 透過電子顕微鏡用試料の固定方法および試料台 |
JP2004212304A (ja) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料作製装置および試料作製方法 |
JP2004271393A (ja) * | 2003-03-10 | 2004-09-30 | Toshiba Corp | ペデスタル基板、電子顕微鏡用測定治具、測定試料組み立て体、測定試料の作製方法及び測定方法 |
JP2005195353A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-21 | Tdk Corp | 試料評価方法、評価用基板及び評価用基板形成方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AUPQ980700A0 (en) * | 2000-08-31 | 2000-09-21 | Unisearch Limited | Fabrication of nanoelectronic circuits |
US7195872B2 (en) * | 2001-11-09 | 2007-03-27 | 3D Biosurfaces, Inc. | High surface area substrates for microarrays and methods to make same |
TW556256B (en) * | 2002-07-08 | 2003-10-01 | Chartered Semicoductor Mfg Ltd | Method for a plan-view transmission electron microscopy sample preparation technique for via and contact characterization |
US7922795B2 (en) * | 2005-04-29 | 2011-04-12 | University Of Rochester | Ultrathin nanoscale membranes, methods of making, and uses thereof |
-
2005
- 2005-02-21 JP JP2005044604A patent/JP4570980B2/ja active Active
-
2006
- 2006-02-17 US US11/356,698 patent/US7345289B2/en active Active
- 2006-02-17 DE DE102006007431.9A patent/DE102006007431B4/de active Active
- 2006-02-21 CN CN2006100739339A patent/CN1834608B/zh active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06180277A (ja) * | 1992-12-14 | 1994-06-28 | Matsushita Electron Corp | 透過電子顕微鏡用試料の作成方法 |
JPH10221227A (ja) * | 1997-02-06 | 1998-08-21 | Matsushita Electron Corp | 透過電子顕微鏡用試料およびその製造方法 |
JP2001141620A (ja) * | 1999-11-18 | 2001-05-25 | Seiko Instruments Inc | 透過電子顕微鏡用試料の切り込み加工法 |
JP2001242051A (ja) * | 2000-02-29 | 2001-09-07 | Hitachi Ltd | 集束イオンビーム加工装置用試料台および試料固定方法 |
JP2002190269A (ja) * | 2000-12-21 | 2002-07-05 | Jeol Ltd | 試料台 |
JP2003035682A (ja) * | 2001-07-24 | 2003-02-07 | Hitachi Ltd | 試料ホルダ及び試料分析方法 |
JP2004179038A (ja) * | 2002-11-28 | 2004-06-24 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 透過電子顕微鏡用試料の固定方法および試料台 |
JP2004212304A (ja) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料作製装置および試料作製方法 |
JP2004271393A (ja) * | 2003-03-10 | 2004-09-30 | Toshiba Corp | ペデスタル基板、電子顕微鏡用測定治具、測定試料組み立て体、測定試料の作製方法及び測定方法 |
JP2005195353A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-21 | Tdk Corp | 試料評価方法、評価用基板及び評価用基板形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102006007431B4 (de) | 2016-03-03 |
US7345289B2 (en) | 2008-03-18 |
CN1834608A (zh) | 2006-09-20 |
CN1834608B (zh) | 2010-10-13 |
US20060189021A1 (en) | 2006-08-24 |
DE102006007431A1 (de) | 2006-08-31 |
JP2006226970A (ja) | 2006-08-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4570980B2 (ja) | 試料台及び試料加工方法 | |
US6420722B2 (en) | Method for sample separation and lift-out with one cut | |
US20060017016A1 (en) | Method for the removal of a microscopic sample from a substrate | |
US10546719B2 (en) | Face-on, gas-assisted etching for plan-view lamellae preparation | |
EP2778652B1 (en) | Multiple Sample Attachment to Nano Manipulator for High Throughput Sample Preparation | |
JP2003194681A (ja) | Tem試料作製方法 | |
US10401265B1 (en) | Methods for acquiring planar view stem images of device structures | |
JP4357347B2 (ja) | 試料加工方法及び試料観察方法 | |
KR100889921B1 (ko) | 투과 전자현미경용 시편 제조방법 | |
JP2003156418A (ja) | 分析用試料の作製方法および分析方法並びにその分析用試料 | |
JP4644470B2 (ja) | イオンビーム加工装置および試料作製方法 | |
US7394075B1 (en) | Preparation of integrated circuit device samples for observation and analysis | |
JP5101563B2 (ja) | 微小試料台の製造方法 | |
US6251782B1 (en) | Specimen preparation by focused ion beam technique | |
EP1612836B1 (en) | Method for the removal of a microscopic sample from a substrate | |
KR100694580B1 (ko) | 투과 전자현미경 분석용 시편 제조방법 | |
KR20110123007A (ko) | 투과 전자 현미경용 시편 제조 방법 | |
KR100655581B1 (ko) | 투과 전자현미경 분석용 시편의 코팅 장치 및 이를 이용한시편 코팅 방법 | |
Anderson et al. | Practical Aspects of FIB Tem Specimen Preparation: With Emphasis On Semiconductor Applications | |
JP2009025127A (ja) | 試料の作製方法 | |
KR100620728B1 (ko) | 투과 전자현미경 분석용 시편 제조방법 | |
KR20050033699A (ko) | 투과전자현미경 분석용 시편의 제작 방법 | |
KR20040031279A (ko) | 투과 전자현미경 분석용 시편 제조방법 | |
KR20050112261A (ko) | 투과전자현미경 분석용 시편의 제작 방법. | |
EP1436601B1 (en) | Method for sample separation and lift-out |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071206 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20091105 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20091113 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20091118 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100302 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100316 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100512 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100622 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100722 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100810 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100811 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130820 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4570980 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130820 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130820 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |