JP2009025127A - 試料の作製方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の試料の作製方法は、基板に溝加工を施す事により島状構造体を形成する工程と、前記島状構造体に等方性エッチング処理を施し針状体を形成する工程と、前記針状体の少なくとも先端部に分析対象を膜状に形成する工程と、を備える。本発明の構成によれば、等方性エッチング処理による全面エッチングを行うことにより、島状構造体を針状に形状調整すると同時に異物の除去を行うため、レジストなどの異物が残留しにくいという効果を奏する。
【選択図】 図3
Description
本発明の構成によれば、溝加工を施す事により島状構造体を形成するため、多数の針状体を列ごとに多数一括生産することが出来、針状体生産の加工時間を短縮することが出来る。また、等方性エッチング処理による全面エッチングを行うことにより、島状構造体を針状に形状調整すると同時に異物の除去を行うため、レジストなどの異物が残留しにくいという効果を奏する。
これにより、試料作製に対する加工時間が短く、試料に異物が混入しないような試料作製方法を提供することが可能となる。
本発明の試料の作製方法は、
基板に溝加工を施す事により島状構造体を形成する工程と、
前記島状構造体に等方性エッチング処理を施し針状体を形成する工程と、
前記針状体の少なくとも先端部に分析対象を膜状に形成する工程と、
を備える。
まず、基板を用意し、溝加工を施す。
これにより、碁盤目形状に整列した島状構造体形成する事が出来る。ここで、碁盤目形状とは、連続した直線または曲線により閉じた図形が一定間隔に並んでいる形状の事であり、例えば、図2(A)に示す四角形が並んだ形状、図2(B)に示す三角形が並んだ形状の他、任意の頂点数を持つ図形が並んだ形状を含むものとする。
基板に溝を設け、列ごとに島状構造体を形成する事により、列ごとに加工が行われる事になり、針状体を複数一括して作製する事が出来、針状体がアレイ状に整列された構造体を容易に形成する事が可能となる。
次に、島状構造体11を有した基板10に等方性エッチング処理を施す。等方性エッチング処理による全面エッチングを行うことにより、島状構造体を針状に形状調整することが出来、また、同時に異物の除去を行うことが出来る。このため、レジストなどの異物が残留しにくいという効果を奏する。
なお、ここで「等方性エッチング」とは、完全な等方性を示すエッチングのみならず、わずかに異方性の傾向を示す等方性の傾向が強いエッチングをも含むものとして定義する。
次に、針状体12の少なくとも先端部に分析対象を膜状に形成する。膜の成膜方法は、例えばCVD、スパッタリング、MBE、抵抗加熱蒸着、EB蒸着等の方法が挙げられる。
まず、基板として、525μm厚さの単結晶シリコン基板を用意した。
以上より、先端径1μm、根元径8μm、高さ150μm、の針状体を基板上にアレイ状に形成する事ができた。
以上より、三次元アトムプローブの分析に用いる試料を作製することが出来た。
11……島状構造体
12……針状体
13……溝加工部
14……ダイシングブレード
15……分析対象膜
Claims (4)
- 三次元アトムプローブによる分析に用いる試料の作製方法であって、
基板に溝加工を施す事により島状構造体を形成する工程と、
前記島状構造体に等方性エッチング処理を施し針状体を形成する工程と、
前記針状体の少なくとも先端部に分析対象を膜状に形成する工程と、
を備えた事を特徴とする試料の作製方法。 - 請求項1に記載の試料の作製方法であって、
基板に溝加工を施す事により島状構造体を形成する工程は、ダイシングブレードを用いた機械加工により溝加工を施す工程であること
を特徴とする試料の作製方法。 - 請求項1または2のいずれかに記載の試料の作製方法を用いて作製された三次元アトムプローブの分析に用いる試料。
- 請求項1または2のいずれかに記載の試料の作製方法にて用いる針状体。
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