JPH08255821A - シリコンウェハー搬送装置 - Google Patents

シリコンウェハー搬送装置

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JPH08255821A
JPH08255821A JP5609795A JP5609795A JPH08255821A JP H08255821 A JPH08255821 A JP H08255821A JP 5609795 A JP5609795 A JP 5609795A JP 5609795 A JP5609795 A JP 5609795A JP H08255821 A JPH08255821 A JP H08255821A
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JP
Japan
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arm
silicon wafer
shaft
rotated
wafer transfer
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JP5609795A
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Hiroshi Fukushima
弘史 福島
Hiroshi Okamoto
弘 岡本
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Mex KK
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Mex KK
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 シリコンウェハーに塵埃の付着を少なくし、
クリーンルーム内の省スペースかを図れるようなシリコ
ンウェハー搬送装置を提供すること。 【構成】 オリフラ位置合わせ装置を搬送装置1内に組
み込む様にするものであり、機台2に回転及び上下動可
能な副軸3と、副軸3の内面に枢着される主軸4と、主
軸4の回転で回動される第1アーム7、第2アーム3
2、ハンドアーム33を有していて、前記各々の駆動に
よりウェハーを直線的に移動する様に構成された搬送装
置であって、主軸4の内部にウェハー29を保持する保
持軸6が遊嵌されている。保持軸6は機台2の下方に配
設された駆動装置5によって、X方向、Y方向、Z方
向、及び軸に対する回転方向に駆動される。また第1ア
ーム7の上面にはオリフラ位置検出装置30が取り付け
られていて、カセット装置31から直線的に移動された
ウェハー29が保持軸6じょうに吸着されると、オリフ
ラ位置検出装置によりオリフラ位置が検出される。更に
ウェハーが位置を修正されると、再びウェハーはカセッ
ト装置に移動され収納される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、カセット装置内に収
納されているシリコンウェハーをロボットによって取り
出し、シリコンウェハーのオリフラの位置を合わせて再
びカセット内に収納するシリコンウェハー搬送装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、ウェハー搬送装置はそのシステム
として、シリコンウェハーを搬送するロボット、シリコ
ンウェハーが収納されているカセット装置、シリコンウ
ェハーのオリフラの位置合わせをするオリフラ位置合わ
せ装置が各々配置されていた。
【0003】そしてカセット装置内に収納されているシ
リコンウェハーをロボットによって1枚づつ取り出し、
ロボットの位置と別に配置されたオリフラ合わせ装置の
場所に搬送してオリフラの位置合わせをし、またオリフ
ラの位置合わせを終わるとロボットが再度シリコンウェ
ハーを取りに行き再びカセット装置内に収納していた。
【0004】またロボットの構成は、シリコンウェハー
を吸着するハンドアーム、前記ハンドアームに連結され
ている中間アーム、前記中間アームに連結され機台に軸
支された第1アームの3個のアームを有し、機台の内部
に配設された駆動装置により駆動され、各々のアームを
ベルトあるいはチェーン等で駆動を伝えることによっ
て、シリコンウェハーを直線的に移動するようにしてい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】通常、シリコンウェハ
ーの作業工程にあたっては塵埃を避けるためクリーンル
ーム内で作業が行われている。しかしシリコンウェハー
の搬送距離が多くなればなるほど塵埃が付着する可能性
が多いため、少しでも搬送距離を少なくする必要に迫ら
れていた。また限られたクリーンルーム内で、設置する
機械が増えているためルーム内が煩雑になり、各装置か
ら発生する塵埃も多くなりルーム内の省スペース化が求
められていた。
【0006】しかし、従来のシリコンウェハー搬送装置
では、カセット装置と、ロボットと、オリフラ位置合わ
せ装置が別々に配置されていたので、搬送距離、省スペ
ース化については問題が残されていた。
【0007】この発明は、上述の課題を解決するもので
あり、クリーンルーム内での省スペース化を図り、シリ
コンウェハーの搬送距離を少なくするシリコンウェハー
搬送装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明にかかわるシリ
コンウェハー搬送装置では、第1アームにスペースを持
たせ、オリフラ位置合わせ装置を搬送装置内に組み込む
ようにするものであり、機台の中央部に配設され機台に
対して回転及び上下動可能な副軸の内面に主軸が回転可
能に支持され、前記主軸によって回動される第1アーム
と、前記主軸によって回動され前記第1アームの一端に
回転可能に支持された第2アームと、前記第2アームの
回動により回動されて前記第2アームの一端に回転可能
に支持されたハンドアームを有することによって、シリ
コンウェハーを所定の位置から直線的に移動することが
できるシリコンウェハー搬送装置であって、前記第1ア
ームが中空部を有する円盤状に形成されているものであ
る。
【0009】また前記第1アームが中空部を有する略円
盤状に形成されているものである。
【0010】また前記第1アームが中空部を有する多角
形状に形成されているものである。
【0011】また前記主軸の内部に前記シリコンウェハ
ーを保持する保持軸が遊嵌され、前記保持軸は前記機台
の下方に配置された駆動装置によってX方向、Y方向、
Z方向及び軸心に対する回転方向に駆動され、前記シリ
コンウェハーのオリフラの位置合わせするための検出装
置が、前記第1アームに固着されるように構成されたも
のであであればなお好ましい。
【0012】
【発明の作用・効果】請求項1のシリコンウェハー搬送
装置においては、第1アームが中空部を有する円盤状に
形成されているため、作業エリアが広くなり、オリフラ
位置検出装置等の各機能を、取り付けたり中空部に収納
することができる。
【0013】請求項2のシリコンウェハー搬送装置にお
いては、第1アームが中空部を有する略円盤状に形成さ
れているため、作業エリアが広くなり、オリフラ位置検
出装置等の格機能を、取り付けたり中空部に収納するこ
とができる。
【0014】請求項3のシリコンウェハー搬送装置にお
いては、第1アームが中空部を有する多角形状に形成さ
れているので、作業エリアが広くなり、オリフラ位置検
出装置等の格機能を、取り付けたり中空部に収納するこ
とができる。
【0015】請求項4のシリコンウェハー搬送装置にお
いては、搬送装置の主軸にシリコンウェハーを保持する
保持軸を遊嵌し、搬送装置の機台の下方に配置された駆
動装置によって前記保持軸をX方向、Y方向、Z方向及
び軸心に対する回転方向に駆動させ、更にオリフラの位
置検出装置を第1アームに取りつける。そしてベルトま
たはチェーン等により連結された第1アーム、第2アー
ム、ハンドアームの各々の動きによってシリコンウェハ
ーをカセット装置内から取り出し、直線的移動させて前
記保持軸上に載置させるようにしたので、オリフラ位置
合わせ装置を搬送装置内に組みつけることができる。そ
のためルーム内の省スペース化を達成することができ、
また同時にシリコンウェハーの搬送距離を少なくするこ
とができる。
【0016】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図面に基づいて
説明する。
【0017】図1はシリコンウェハー搬送装置1(以
下、搬送装置という。)の主要断面図を示すものであ
り、機台2の中央部に筒状の副軸3が機台2に対して回
転及び上下動可能に、軸受を介して支持されている。ま
た副軸3の内周面に軸支されるように筒状に形成された
主軸4が軸受けを介して配設されている。さらに筒状の
主軸4の穴部を貫通するように機台2の下部に配設され
た駆動装置5から延設された保持軸6が主軸4に遊嵌さ
れている。
【0018】機台2の上方には円盤状の第1アーム7が
副軸3に支持され、副軸3に対し軸受を介して枢着可能
に配設されている。また、第1アーム7の下端にはシー
ルを嵌合しているシールケース8が固着されている。シ
ールケース8はその内周部が副軸3に対しシールを介し
て嵌合されている。
【0019】また副軸3の上端にはプーリー9が固着さ
れ副軸3の回転を伝えるためのベルト10、11がプー
リー9に巻装されている。プーリー9はその中心穴が主
軸4に対して回転可能に嵌合されている。
【0020】主軸4の上部にアーム12が固着され、ア
ーム12は第1アームに主軸4の回転を伝えるために、
第1アームに固着されたピン13を介して連結されてい
る。
【0021】一方、副軸3の下部には副軸3と一体にな
ったプレート14が装着されていて、副軸3が軸に対し
上下動できるようにボールねじ15を介してモーター1
6に連結されている。
【0022】副軸3の下端はプーリー17が固着され、
副軸3が回転できるようにモーター18が連結されてい
る。
【0023】主軸4の下端にはプーリー19が固着さ
れ、主軸4が回転できるようにモーター20に連結され
ている。
【0024】保持軸6の駆動装置5は本出願人がすでに
出願した「ウエハーの位置決め装置」(特開平6−22
4285号参照)に示される公知技術を採用している。
【0025】保持軸6は駆動装置5の上機枠51に支持
され、またモーター21に連結されていて、モーター2
1によって軸回りに回転される。
【0026】駆動装置5は、プレート14に連結棒を介
して固定された上機枠51と、上機枠51の下方でねじ
軸23及びガイドで連結されている中機枠52と、中機
枠52にねじ軸25とガイドで連結されている下機枠5
3とから構成されている。
【0027】またねじ軸23にはモーター22が連結さ
れて上機枠51をX方向(図2における左右方向)に作
動させ、ねじ軸25にはモーター24が連結されて中機
枠52をY方向(図2における紙面に対する垂直方向)
に作動させる。
【0028】また保持軸回転駆動用モーター21は、上
機枠51にボールねじ27を介して螺着された保持軸支
持プレート26に固着されている。ボールねじ27はプ
ーリーを介してモーター28に連結されていて、保持軸
6をZ方向(図2における上下方向)に作動させる。
【0029】また保持軸6の上部にはシリコンウェハー
29が載置されるようにボス部61が保持軸6より広め
に形成されている。ボス部61の上面には吸着用の吸気
穴が複数個穿設され、保持軸6内の管路を介して図示し
ない吸気装置に接続されている。
【0030】また第1アーム7には、シリコンウェハー
29が保持軸6のボス部61に載置された時に、シリコ
ンウェハーのオリフラ位置を光学的に検出するためのオ
リフラ位置検出装置30が固定されている。
【0031】図3は搬送装置1及びカセット装置31の
全体を示すものであり、機台2に副軸3を介して支持さ
れた円盤状の第1アーム7の一端に第2アーム32の一
端が支承され、また第2アーム32の他端にはハンドア
ーム33が支承されている。
【0032】第1アーム7と第2アーム32及びハンド
アーム33の図示しない連結は、プーリーとベルトを使
ってシリコンウェハー29を直線的に移動できるような
一般的に知られる構成による。(特開平2−17268
9号) なお、ハンドアーム33は図示しない吸着穴が配設され
ていて図示しない吸気着装置に接続されている。
【0033】31はシリコンウェハー29が1枚づつ複
数段に載置されているカセット装置であり、搬送装置1
と相対して設置されている。
【0034】次に本発明の搬送装置1の作動について説
明する。
【0035】主軸4の駆動モーター20により主軸4が
回転すると、アーム12、ピン13に連結された第1ア
ーム7が副軸3に対して回転する。
【0036】第1アーム7と副軸3に固定された回転し
ないプーリー9は位相差を生じ、この差で、プーリー9
に対応する図示しない一方のプーリーが回転する。前記
プーリーに第2アーム32が固着されているので、第2
アーム32が回転を始める。同様にハンドアーム33も
回転を始めるので、ハンドアーム33に載置されるシリ
コンウェハーは直線運動を行うことができる。
【0037】副軸3に支持されている第1アーム7、第
1アーム7に支持されている第2アーム32、第2アー
ム32に支持されているハンドアーム33は、副軸3の
上下駆動用モーター16の駆動によりボールネジ15を
介してZ方向(図1における上下方向)に移動する。
【0038】また第1アーム7は、モーター18の駆動
により副軸3が回転することによって機台2に対して回
転することができる。
【0039】保持軸6は、モーター22の駆動によって
ねじ軸23が回転すると上機枠51と共にX方向(図2
における左右方向)に動き、モーター24の駆動によっ
てねじ軸25が回転すると中機枠52と共にY方向(図
2における紙面に対する垂直方向)に動く。またモータ
ー28の駆動によってボールねじ27が回転されると保
持軸6は保持軸支持プレート板26と共にZ方向(図2
における上下方向)に移動する。
【0040】保持軸6のX方向、Y方向の動きができる
ように、主軸4と主軸4に遊嵌されている保持軸6との
間に隙間が作られている。
【0041】次にシリコンウェハーをカセット装置から
取り出してオリフラの位置合わせを行い、再びカセット
装置に搬送する動きを図4に従って説明する。
【0042】(1)は各アームが伸びてカセット装置3
1のシリコンウェハー29を取り出す位置を示してい
る。この時は円盤状の第1アーム7、第2アーム32、
ハンドアーム33が作動してシリコンウェハー29の位
置に合うように主軸回転用モーター20、副軸回転用モ
ータ18が駆動する。
【0043】次に副軸3のZ方向駆動用モーター16が
駆動してシリコンウェハー29を上方に持ち上げる。こ
の時、吸気装置が作動してシリコンウェハー29をハン
ドアーム33に吸着する。
【0044】(2)はモーター20、モーター18が更
に駆動して各アームを作動させシリコンウェハー29を
カセット装置31から抜き出した位置に移動させた状態
である。
【0045】同様に各アームが作動され(3)、(4)
に示されるように円盤状の第1アーム7上に移動後、第
1アーム7の中心位置である保持軸6上に達する。
【0046】この移動時、シリコンウェハー29はカセ
ット装置31に載置されていた位置から第1アーム7の
中心に向かって直線状に移動する。またシリコンウェハ
ー29がオリフラ位置検出装置30に干渉しないように
モーター18の駆動によって副軸3を介してハンドアー
ム33がZ方向に作動される。
【0047】シリコンウェハー29が保持軸6上に達す
ると、モーター28が駆動し、保持軸6を上方に作動さ
せシリコンウェハー29を持ち上げ、吸気装置の作動に
よりシリコンウェハー29が保持軸6のボス部61上面
に吸着保持される。
【0048】保持軸6上に吸着保持されたシリコンウェ
ハー29は、その位置でモーター21の駆動で回転さ
れ、オリフラ位置検出装置30によってシリコンウェハ
ー29の位置が検出される。検出後は、新たな指令が発
せられ、モーター22、モーター24、モーター21の
駆動により保持軸6はX方向、Y方向、回転方向に作動
され、シリコンウェハー29の位置が正確な位置に修正
される。
【0049】位置が修正されたシリコンウェハー29は
再びハンドアーム33に吸着され前述の動きと逆に作動
され、カセット装置31に収納される。
【0050】本実施例におけるシリコンウェハーの位置
修正の詳細説明ついては前述の特開平6−224285
号を参照すれば良い。
【0051】以上のように構成され作動されるのでシリ
コンウェハー29の移動距離は従来に比べてかなり短縮
される。
【0052】なお、シリコンウェハー29がハンドアー
ム33に吸着される際、前述の実施例ではシリコンウェ
ハー29がハンドアーム33の上に吸着されているが、
シリコンウェハー29をハンドアーム33の下側に吸着
されるようにしても良い。その場合、オリフラ位置検出
装置30のシリコンウェハー29が入り込む位置を予め
合わせて設計すれば良い。
【0053】また本実施例の第1アーム7は円盤状に形
成されているため作業エリアが広くなり、そのためオリ
フラ位置検出装置30の設置場所を自由に設定でき、さ
らに他の機能を追加することもができる。
【0054】また本実施例の第1アーム7は円盤状に形
成されているが、オリフラ位置検出装置30の位置がシ
リコンウェハー29移動時に干渉しない位置に設置でき
れば必ずしも円盤状に形成しなくても良い。
【0055】この場合、略円盤状が考えられる。略円盤
状とは、歪状の円盤、あるいは一部切欠を有する円盤、
またはドーナツ状の円盤等を言う。
【0056】また多角形状が考えられる。多角形状と
は、3角形以上であり必ずしも正多角形でなくても良
い。
【0057】なお本実施例においては、各駆動部の構成
について、考えられる設計変更は認められるものであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による1実施例を示す搬送装置の主要断
面図
【図2】図1における保持軸の駆動装置を示す詳細図
【図3】搬送装置とカセット装置の全体図
【図4】シリコンウェハーの作動図
【符号の説明】
1……搬送装置 2……機台 3……副軸 4……主軸 5……保持軸の駆動装置 6……保持軸 7……第1アーム 16、18、20、22、24、28……モーター 29……シリコンウェハー 30……オリフラ位置検出装置 31……カセット装置 32……第2アーム 33……ハンドアーム

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 機台の中央部に配設され機台に対して回
    転及び上下動可能な副軸の内面に、主軸が回転可能に支
    持され、前記主軸によって回動される第1アームと、前
    記主軸によって回動され前記第1アームの一端に回転可
    能に支持される第2アームと、前記第2アームの回動に
    より回動されて前記第2アームの一端に回転可能に支持
    されたハンドアームを有することによって、前記シリコ
    ンウェハーを所定の位置から直線的に移動することがで
    きるシリコンウェハー搬送装置であって、 前記第1アームが中空部を有する円盤状に形成されてい
    ることを特徴とするシリコンウェハー搬送装置。
  2. 【請求項2】 前記第1アームが中空部を有する略円盤
    状に形成されていることを特徴とする請求項1記載のシ
    リコンウェハー搬送装置。
  3. 【請求項3】 前記第1アームが中空部を有する多角形
    状に形成されていることを特徴とする請求項1記載のシ
    リコンウェハー搬送装置
  4. 【請求項4】 前記主軸の内部に前記シリコンウェハー
    を保持する保持軸が遊嵌され、前記保持軸は前記機台の
    下方に配置された駆動装置によってX方向、Y方向、Z
    方向及び軸心に対する回転方向に駆動され、 前記シリコンウェハーのオリフラの位置合わせするため
    の検出装置が、前記第1アームに固着されたことを特徴
    とする請求項1または請求項2または請求項3記載のシ
    リコンウェハーの搬送装置。
JP5609795A 1995-03-15 1995-03-15 シリコンウェハー搬送装置 Withdrawn JPH08255821A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999052142A1 (fr) * 1998-04-04 1999-10-14 Tokyo Electron Limited Dispositif de transfert pour corps a traiter
JP2002217268A (ja) * 2001-01-19 2002-08-02 Yaskawa Electric Corp 基板搬送方法および基板搬送装置
JP2009021504A (ja) * 2007-07-13 2009-01-29 Ryusyo Industrial Co Ltd ウエハ搬送ロボット
JP2009269122A (ja) * 2008-05-07 2009-11-19 Shindengen Electric Mfg Co Ltd ワーク搬送用ロボット
KR20190087883A (ko) * 2018-01-17 2019-07-25 정상곤 기판 반송 로봇용 동력 전달 어셈블리

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999052142A1 (fr) * 1998-04-04 1999-10-14 Tokyo Electron Limited Dispositif de transfert pour corps a traiter
JP2002217268A (ja) * 2001-01-19 2002-08-02 Yaskawa Electric Corp 基板搬送方法および基板搬送装置
JP2009021504A (ja) * 2007-07-13 2009-01-29 Ryusyo Industrial Co Ltd ウエハ搬送ロボット
JP2009269122A (ja) * 2008-05-07 2009-11-19 Shindengen Electric Mfg Co Ltd ワーク搬送用ロボット
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Effective date: 20020604