JPH08209396A - 電解用複合電極 - Google Patents
電解用複合電極Info
- Publication number
- JPH08209396A JPH08209396A JP6340373A JP34037394A JPH08209396A JP H08209396 A JPH08209396 A JP H08209396A JP 6340373 A JP6340373 A JP 6340373A JP 34037394 A JP34037394 A JP 34037394A JP H08209396 A JPH08209396 A JP H08209396A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- electrode base
- base body
- cathode
- anode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 31
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 title claims abstract description 15
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 69
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 19
- 239000011162 core material Substances 0.000 claims description 12
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims description 8
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims 1
- 239000010411 electrocatalyst Substances 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 47
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 3
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- YMGPQLQONLLWJR-UHFFFAOYSA-N diethyl-methyl-[2-(1,1,6-trimethylpiperidin-1-ium-2-carbonyl)oxyethyl]azanium Chemical compound CC[N+](C)(CC)CCOC(=O)C1CCCC(C)[N+]1(C)C YMGPQLQONLLWJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/10—Electrodes, e.g. composition, counter electrode
- C25D17/12—Shape or form
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
- C25D1/04—Wires; Strips; Foils
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 陽極を陰極に対して正確に位置付ける。
【構成】 陽極が、第１の電極基体と第２の電極基体と
の間において、ボルトの周辺部分に設けられた第１の中
間材と、第１の電極基体と第２の電極基体との間におい
て、該第２の電極基体の該中心軸に対し直角な方向の端
部の近傍設けられた第２の中間材とを備えている。
の間において、ボルトの周辺部分に設けられた第１の中
間材と、第１の電極基体と第２の電極基体との間におい
て、該第２の電極基体の該中心軸に対し直角な方向の端
部の近傍設けられた第２の中間材とを備えている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、大電流を通電する鋼板
への錫めつき、亜鉛めつき、電気めつき法による銅箔製
造等に用いられる電解用不溶性陽極を備えた電解用複合
電極に関する。
への錫めつき、亜鉛めつき、電気めつき法による銅箔製
造等に用いられる電解用不溶性陽極を備えた電解用複合
電極に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、電気めつき分野では、高速めつき
化と共にめつき電流も高くなつてきた。鋼板への亜鉛め
つきや錫めつき、電気めつき法による金属箔の製造等に
おいては、３０〜２５０Ａ／ｄｍ2という高いめつき電
流密度が採用されている。しかも、帯状でその幅が５０
０〜２０００ｍｍの大きなサイズの材料にめつきするこ
と、もしくは電気めつきによつて金属箔を得ることが要
求されている。そのため、そのように大きなサイズの材
料のめつきを得るためには、使用する不溶性電極も大型
のものとならざるをえない。また、電気めつき品製造、
金属箔製造では、それら製品の益々の品質の向上が求め
られ、製品を製造する時のめつき電流密度をさらに均一
にするために、陽極と陰極の電極間距離のバラツキを５
％以内にすることが要求されている。
化と共にめつき電流も高くなつてきた。鋼板への亜鉛め
つきや錫めつき、電気めつき法による金属箔の製造等に
おいては、３０〜２５０Ａ／ｄｍ2という高いめつき電
流密度が採用されている。しかも、帯状でその幅が５０
０〜２０００ｍｍの大きなサイズの材料にめつきするこ
と、もしくは電気めつきによつて金属箔を得ることが要
求されている。そのため、そのように大きなサイズの材
料のめつきを得るためには、使用する不溶性電極も大型
のものとならざるをえない。また、電気めつき品製造、
金属箔製造では、それら製品の益々の品質の向上が求め
られ、製品を製造する時のめつき電流密度をさらに均一
にするために、陽極と陰極の電極間距離のバラツキを５
％以内にすることが要求されている。
【０００３】このように高電流密度で操作される大型の
不溶性電極には、電導性及び経済性等の観点から、銅、
鉄、アルミニウム、鉛、錫等の電導性金属材料を芯材と
し、この芯材にチタン板で被覆した複合電極基体の使用
が試みられた。
不溶性電極には、電導性及び経済性等の観点から、銅、
鉄、アルミニウム、鉛、錫等の電導性金属材料を芯材と
し、この芯材にチタン板で被覆した複合電極基体の使用
が試みられた。
【０００４】しかしながら、そのような大型の複合電極
基体はかなりの重量があり、さらに加工処理をする場合
の取扱が困難であるのみならず、電極触媒物質の被覆処
理を施す場合に、次のような問題を生ずる。
基体はかなりの重量があり、さらに加工処理をする場合
の取扱が困難であるのみならず、電極触媒物質の被覆処
理を施す場合に、次のような問題を生ずる。
【０００５】（イ）大型重量電極基体は、その熱容量が
大きく、特に、３５０〜７００℃の高温での熱処理を繰
返すことにより白金族金属又はその酸化物等の電極触媒
物質を被覆し製造する不溶性陽極では、熱処理時のエネ
ルギー損失が大きく、また、昇温及び冷却にも多大な時
間がかかる。
大きく、特に、３５０〜７００℃の高温での熱処理を繰
返すことにより白金族金属又はその酸化物等の電極触媒
物質を被覆し製造する不溶性陽極では、熱処理時のエネ
ルギー損失が大きく、また、昇温及び冷却にも多大な時
間がかかる。
【０００６】（ロ）複合電極基体は、電極触媒物質を被
覆処理する場合に、異種金属の接合部分に歪が発生した
り、損傷を生じたりしやすい。
覆処理する場合に、異種金属の接合部分に歪が発生した
り、損傷を生じたりしやすい。
【０００７】（ハ）電極触媒物質の被覆加工には、数ミ
クロンオーダーの精密加工が要求されるので、大型の電
極基体を加工するためにかなりの設備コストがかかる。
クロンオーダーの精密加工が要求されるので、大型の電
極基体を加工するためにかなりの設備コストがかかる。
【０００８】実公平３−４２０４３号公報では上記の問
題を解決する考案を開示している。その考案によると、
複合電極基体を第１の電極基体として、その第１の電極
基体とは別に作製した電極触媒物質で被覆処理されたチ
タン板からなる第２の電極基体を第１の電極基体にボル
トにて支持し、第２の電極基体を着脱できる。
題を解決する考案を開示している。その考案によると、
複合電極基体を第１の電極基体として、その第１の電極
基体とは別に作製した電極触媒物質で被覆処理されたチ
タン板からなる第２の電極基体を第１の電極基体にボル
トにて支持し、第２の電極基体を着脱できる。
【０００９】また、特公平６−４７７５８号公報では、
円弧形状型の不溶性陽極において、着脱可能な陽極帯板
（第１の電極基体）を支持する支持装置を有する円弧形
状の電解槽（第２の電極基体）で陽極帯板を支持し、陽
極帯板を撓ませる技術を開示している。
円弧形状型の不溶性陽極において、着脱可能な陽極帯板
（第１の電極基体）を支持する支持装置を有する円弧形
状の電解槽（第２の電極基体）で陽極帯板を支持し、陽
極帯板を撓ませる技術を開示している。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、電極が
円弧形状になると、実公平３−４２０４３号公報及び特
公平６−４７７５８号公報の技術では、第１の電極基体
が平板の時と異なり高い精度の円弧形状をだすことが困
難であることにより、第２の電極基体を第１の電極基体
で支持しても陽極と陰極の電極間距離のバラツキを小さ
くすることが難しい。また、円弧形状の電極では回転駆
動する陰極ドラムの回転軸からのわずかなズレにより、
電極間距離にバラツキが生じたりする問題がある。
円弧形状になると、実公平３−４２０４３号公報及び特
公平６−４７７５８号公報の技術では、第１の電極基体
が平板の時と異なり高い精度の円弧形状をだすことが困
難であることにより、第２の電極基体を第１の電極基体
で支持しても陽極と陰極の電極間距離のバラツキを小さ
くすることが難しい。また、円弧形状の電極では回転駆
動する陰極ドラムの回転軸からのわずかなズレにより、
電極間距離にバラツキが生じたりする問題がある。
【００１１】それら問題を解決するため、さらに特公平
６−４７７５８号公報には、陰極と不溶性電極の間隙を
一定にする調整機構を開示しているが、電解槽（第１の
電極基体）の外側からの調整となつているため次の問題
があつた。
６−４７７５８号公報には、陰極と不溶性電極の間隙を
一定にする調整機構を開示しているが、電解槽（第１の
電極基体）の外側からの調整となつているため次の問題
があつた。
【００１２】第１に、陽極帯板（第２の電極基体）を電
解槽（第１の電極基体）で支持する支持装置に液濡れ対
策が必要であり、さらに陽極帯板（第２の電極基体）の
調整する機構を設ける場合にはより複雑な構造になる。
解槽（第１の電極基体）で支持する支持装置に液濡れ対
策が必要であり、さらに陽極帯板（第２の電極基体）の
調整する機構を設ける場合にはより複雑な構造になる。
【００１３】第２に、不溶性電極を電解槽（第１の電極
基体）に撓ませて支持した場合、電極触媒の被覆層に撓
みによる応力がかかり、高い電流密度領域で使用すると
電極触媒層の劣化を生じる。
基体）に撓ませて支持した場合、電極触媒の被覆層に撓
みによる応力がかかり、高い電流密度領域で使用すると
電極触媒層の劣化を生じる。
【００１４】第３に、陰極と向合う不溶性電極面の位置
調整を回転駆動する陰極ドラムの回転軸から距離によつ
て行う場合、不溶性電極面の位置調整作業が複合電極基
体側と不溶性電極側の両方で行う必要があり、調整作業
時間を要したり、微調整が困難である。
調整を回転駆動する陰極ドラムの回転軸から距離によつ
て行う場合、不溶性電極面の位置調整作業が複合電極基
体側と不溶性電極側の両方で行う必要があり、調整作業
時間を要したり、微調整が困難である。
【００１５】第４に、電解槽（第１の電極基体）側にて
調整作業をするための広い空間が必要である。
調整作業をするための広い空間が必要である。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明に従うと、上記の
とおりの課題を解決するために、回転駆動されるドラム
から形成された陰極と、該陰極と一定間隔で向きあう円
弧形状内面を有する陽極とを具備し、該陽極と該陰極と
の間に電解液を維持できる電解用複合電極において、該
陽極が、電導性金属材料から形成された芯材と、該芯材
を、電解液と接する箇所において被覆しているチタンで
形成された被覆部材とを有し、該ドラムの回転軸に対し
平行な線に沿って設けられた複数個のめねじ部を備えて
いる第１の電極基体と、片面が電極触媒で被覆され、該
ドラムの回転軸に対し平行な複数の分割面において分割
されたチタン帯板で形成されており、該分割面と平行で
ある中心軸上に複数個設けられた穴を有する第２の電極
基体と、該第２の電極基体の穴を介して延び、該第１の
電極基体の該めねじ部に螺合して、該第２の電極基体を
該第１の電極基体に固定するボルトと、該第１の電極基
体と該第２の電極基体との間において、該ボルトの周辺
部分に設けられた第１の中間材と、該第１の電極基体と
該第２の電極基体との間において、該第２の電極基体の
該上記中心軸に対し直角な方向の端部の近傍設けられた
第２の中間材とを備えていることを特徴とする電解用複
合電極が提供される。
とおりの課題を解決するために、回転駆動されるドラム
から形成された陰極と、該陰極と一定間隔で向きあう円
弧形状内面を有する陽極とを具備し、該陽極と該陰極と
の間に電解液を維持できる電解用複合電極において、該
陽極が、電導性金属材料から形成された芯材と、該芯材
を、電解液と接する箇所において被覆しているチタンで
形成された被覆部材とを有し、該ドラムの回転軸に対し
平行な線に沿って設けられた複数個のめねじ部を備えて
いる第１の電極基体と、片面が電極触媒で被覆され、該
ドラムの回転軸に対し平行な複数の分割面において分割
されたチタン帯板で形成されており、該分割面と平行で
ある中心軸上に複数個設けられた穴を有する第２の電極
基体と、該第２の電極基体の穴を介して延び、該第１の
電極基体の該めねじ部に螺合して、該第２の電極基体を
該第１の電極基体に固定するボルトと、該第１の電極基
体と該第２の電極基体との間において、該ボルトの周辺
部分に設けられた第１の中間材と、該第１の電極基体と
該第２の電極基体との間において、該第２の電極基体の
該上記中心軸に対し直角な方向の端部の近傍設けられた
第２の中間材とを備えていることを特徴とする電解用複
合電極が提供される。
【００１７】第１の電極基体の厚さは、使用する材料の
電気抵抗と電流によつて決められる。第１の電極基体の
湾曲の精度は、陰極ドラムの回転軸からの所定の長さに
対して±２ｍｍ以内にあれば十分である。第１の電極基
体に用いられるチタン板の最小厚さは、めつき液との接
触による芯材の腐食が防げれば良く、０.５ｍｍ以上が
適当である。但し、第２の電極基体をボルトで固定する
ためのめねじ部は、チタン板の厚さが薄いと耐食性を有
しない芯材までの深さが必要となるため、そのめねじ穴
箇所はチタン材を埋め込む方法もしくはボルト固定時に
めねじ穴部へシーリング樹脂充填等により、電解液の侵
入を防止する必要が有る。また、チタン板を厚くして、
そのチタン部材だけにめねじ部を設けることもできる。
電気抵抗と電流によつて決められる。第１の電極基体の
湾曲の精度は、陰極ドラムの回転軸からの所定の長さに
対して±２ｍｍ以内にあれば十分である。第１の電極基
体に用いられるチタン板の最小厚さは、めつき液との接
触による芯材の腐食が防げれば良く、０.５ｍｍ以上が
適当である。但し、第２の電極基体をボルトで固定する
ためのめねじ部は、チタン板の厚さが薄いと耐食性を有
しない芯材までの深さが必要となるため、そのめねじ穴
箇所はチタン材を埋め込む方法もしくはボルト固定時に
めねじ穴部へシーリング樹脂充填等により、電解液の侵
入を防止する必要が有る。また、チタン板を厚くして、
そのチタン部材だけにめねじ部を設けることもできる。
【００１８】第２の電極基体の厚さは２〜２０ｍｍ、望
ましくは５〜１５ｍｍ程度の厚さで設計することができ
る。第１の電極基体に取付ける前の第２の電極基体の湾
曲形状の曲率半径の加工精度は、第２の電極基体を取付
けた時の所定半径（５００〜２０００ｍｍ）に対して、
同一の曲率半径で加工することが最も望ましいが、実際
はその加工は不可能である。したがつて、第２の電極基
体の曲率半径の精度は、プラス３００％以内が好まし
く、さらにプラス２００％以内にすることがより好まし
い。曲率の値がこの値より大きいと、第２の電極基体を
第１の電極基体に取付けにより発生する応力が第１の電
極基体に加わり、第１の電極基体が変形し精度の低下を
まねいたりしたり、第２の電極基体に被覆した電極触媒
層が撓みにより、劣化する恐れが生じたりする問題があ
る。また、加工精度が所定の半径に対してマイナス値を
取ると、第２の電極基体の高さ調整が十分にできない問
題を生じる。第２の電極基体の陰極ドラムの回転軸に対
し平行方向の分割は、その分割した長さが２００〜５０
０ｍｍ、好ましくは２５０〜４００ｍｍ程度になるよう
にするのが精度面及び取付け調整作業面に適している。
また、第２の電極基体は、陰極回転方向で任意に分割す
ることが望ましい。その分割の仕方は、分割した第２の
電極基体の１つに設けるボルト穴の数は２つ以上とな
り、望ましくは２〜３つになるように設計することが好
ましい。その理由は、中間材を用いた第２の電極基体の
高さ調整機構を設けたことにより、高さ調整から発生す
る陰極と陽極間の間隔精度には全く影響しないわずかな
歪を、第２の電極基体を陰極回転方向で任意に分割する
ことにより除去でき、組立作業が容易になるからであ
る。更に、第２の電極基体を陰極回転方向で分割する際
には、他に並べられた第２の電極基体の分割する線とが
一直線とならないように、例えば段階状になるように分
割し、配置する必要がある。
ましくは５〜１５ｍｍ程度の厚さで設計することができ
る。第１の電極基体に取付ける前の第２の電極基体の湾
曲形状の曲率半径の加工精度は、第２の電極基体を取付
けた時の所定半径（５００〜２０００ｍｍ）に対して、
同一の曲率半径で加工することが最も望ましいが、実際
はその加工は不可能である。したがつて、第２の電極基
体の曲率半径の精度は、プラス３００％以内が好まし
く、さらにプラス２００％以内にすることがより好まし
い。曲率の値がこの値より大きいと、第２の電極基体を
第１の電極基体に取付けにより発生する応力が第１の電
極基体に加わり、第１の電極基体が変形し精度の低下を
まねいたりしたり、第２の電極基体に被覆した電極触媒
層が撓みにより、劣化する恐れが生じたりする問題があ
る。また、加工精度が所定の半径に対してマイナス値を
取ると、第２の電極基体の高さ調整が十分にできない問
題を生じる。第２の電極基体の陰極ドラムの回転軸に対
し平行方向の分割は、その分割した長さが２００〜５０
０ｍｍ、好ましくは２５０〜４００ｍｍ程度になるよう
にするのが精度面及び取付け調整作業面に適している。
また、第２の電極基体は、陰極回転方向で任意に分割す
ることが望ましい。その分割の仕方は、分割した第２の
電極基体の１つに設けるボルト穴の数は２つ以上とな
り、望ましくは２〜３つになるように設計することが好
ましい。その理由は、中間材を用いた第２の電極基体の
高さ調整機構を設けたことにより、高さ調整から発生す
る陰極と陽極間の間隔精度には全く影響しないわずかな
歪を、第２の電極基体を陰極回転方向で任意に分割する
ことにより除去でき、組立作業が容易になるからであ
る。更に、第２の電極基体を陰極回転方向で分割する際
には、他に並べられた第２の電極基体の分割する線とが
一直線とならないように、例えば段階状になるように分
割し、配置する必要がある。
【００１９】また、第１の電極基体に第２の電極基体を
固定するための第２の電極基体のボルト穴は、片面が電
極触媒で被覆された第３の電極基体を用いて、第２の電
極基体の電極触媒面と第３の電極基体の電極触媒面とが
同一面となり、且つ第３の電極基体へ通電できるように
ふさぐことにより、第２の電極基体のボルト穴部の電流
分布の不均一は解消できる。第３の電極基体の固定及び
第３の電極基体への通電は、φ１〜５ｍｍ程度のチタン
製の皿ねじ等を用いて、第２の電極基体もしくは第２の
電極基体を固定するボルト頭に固定する方法が採れる。
また、第３の電極基体をボルト頭にはめ込む方法も有効
である。
固定するための第２の電極基体のボルト穴は、片面が電
極触媒で被覆された第３の電極基体を用いて、第２の電
極基体の電極触媒面と第３の電極基体の電極触媒面とが
同一面となり、且つ第３の電極基体へ通電できるように
ふさぐことにより、第２の電極基体のボルト穴部の電流
分布の不均一は解消できる。第３の電極基体の固定及び
第３の電極基体への通電は、φ１〜５ｍｍ程度のチタン
製の皿ねじ等を用いて、第２の電極基体もしくは第２の
電極基体を固定するボルト頭に固定する方法が採れる。
また、第３の電極基体をボルト頭にはめ込む方法も有効
である。
【００２０】穴の周辺に使用する第１の中間材の材質
は、チタン、タンタル、ニオブ、ジコリニウム及びそれ
らを主成分とした合金が使用できる。第１の中間材が、
第１の電極基体、第２の電極基体及び中間材同士で接す
る面は接触抵抗を下げるためにサブミクロンから数ミク
ロンの白金等の被覆をすることが望ましい。第１の中間
材の厚さは、任意な厚さが使用できるが、実質的には
０.０５〜３０ｍｍが使用され、第１の中間材がボルト
の締めつけで撓まない厚い平板である場合、通電性面か
ら、第１の中間材と接する箇所の第１の電極基体及び第
２の電極基体の向合う面は、平行に向合うように平坦と
する必要がある。第１の中間材の形状は、平板、湾曲
板、凹凸板等、電極基体との接触抵抗等を考慮し自由に
選定することができる。また、第２の電極基体の両端に
使用する第２の中間材は、高さ調整ができ、耐食性を持
ち、そして第２の電極基体を支持できる形状と強度を有
していれば、材質の制限は特にない。更に、第１及び第
２の中間材を配置する数は、もとめる精度によつて異な
るが、１ｍ2当り３０〜３００箇所、望ましくは６０〜
２１０箇所程度が望ましい。第１の中間材と第２の中間
材の数の比率は、１：２から１：１０が望ましく、第２
の中間材は陰極ドラムの回転方向と平行で第１の中間材
の中心を通る直線上に必ず第２の中間材の１組を配置す
る必要があり、残りの第２の中間材は先に設置した第２
の中間材を基準にして、均等な配置になるように設置す
れば良い。尚、所定の精度が得られている箇所について
は、第１及び第２の中間材の挿入は必要としない。
は、チタン、タンタル、ニオブ、ジコリニウム及びそれ
らを主成分とした合金が使用できる。第１の中間材が、
第１の電極基体、第２の電極基体及び中間材同士で接す
る面は接触抵抗を下げるためにサブミクロンから数ミク
ロンの白金等の被覆をすることが望ましい。第１の中間
材の厚さは、任意な厚さが使用できるが、実質的には
０.０５〜３０ｍｍが使用され、第１の中間材がボルト
の締めつけで撓まない厚い平板である場合、通電性面か
ら、第１の中間材と接する箇所の第１の電極基体及び第
２の電極基体の向合う面は、平行に向合うように平坦と
する必要がある。第１の中間材の形状は、平板、湾曲
板、凹凸板等、電極基体との接触抵抗等を考慮し自由に
選定することができる。また、第２の電極基体の両端に
使用する第２の中間材は、高さ調整ができ、耐食性を持
ち、そして第２の電極基体を支持できる形状と強度を有
していれば、材質の制限は特にない。更に、第１及び第
２の中間材を配置する数は、もとめる精度によつて異な
るが、１ｍ2当り３０〜３００箇所、望ましくは６０〜
２１０箇所程度が望ましい。第１の中間材と第２の中間
材の数の比率は、１：２から１：１０が望ましく、第２
の中間材は陰極ドラムの回転方向と平行で第１の中間材
の中心を通る直線上に必ず第２の中間材の１組を配置す
る必要があり、残りの第２の中間材は先に設置した第２
の中間材を基準にして、均等な配置になるように設置す
れば良い。尚、所定の精度が得られている箇所について
は、第１及び第２の中間材の挿入は必要としない。
【００２１】第２の電極基体の高さ測定は、陰極ドラム
回転軸に取付けられ、その回転軸を中心にして回転する
定尺測定棒と第２の電極基体の隙間を図る方法、その測
定棒の先端にダイヤルゲージを取付けて行う方法等があ
る。第２の電極基体の高さ調整は、これら第２の電極基
体の高さ測定方法を用いて高さを実測しながら、第１及
び第２の中間材の厚さもしくは高さを変えることによつ
て行われる。
回転軸に取付けられ、その回転軸を中心にして回転する
定尺測定棒と第２の電極基体の隙間を図る方法、その測
定棒の先端にダイヤルゲージを取付けて行う方法等があ
る。第２の電極基体の高さ調整は、これら第２の電極基
体の高さ測定方法を用いて高さを実測しながら、第１及
び第２の中間材の厚さもしくは高さを変えることによつ
て行われる。
【００２２】
【作用】本発明による電解用複合電極は、上記のとおり
の構造を有するので、従来の複合電極が有している作用
を失うことなく、新たに次の作用が得られた。
の構造を有するので、従来の複合電極が有している作用
を失うことなく、新たに次の作用が得られた。
【００２３】１）陽極面の位置調整作業が回転駆動する
陰極ドラム側からでも調整出来る機構となり、簡単な構
造で陰極と陽極間との間隔を高い精度で調整できる作用
が得られた。
陰極ドラム側からでも調整出来る機構となり、簡単な構
造で陰極と陽極間との間隔を高い精度で調整できる作用
が得られた。
【００２４】２）不溶性電極面の位置調整作業が回転駆
動する陰極ドラム側からできるため、陰極と向合う不溶
性電極面の位置調整が回転駆動する陰極ドラムの回転軸
からの距離測定をしながら容易に出来る作用が得られ
た。
動する陰極ドラム側からできるため、陰極と向合う不溶
性電極面の位置調整が回転駆動する陰極ドラムの回転軸
からの距離測定をしながら容易に出来る作用が得られ
た。
【００２５】３）第２の電極基体を撓ませることから発
生する第２の電極基体の取付け調整上の問題（第１の電
極基体が歪、第２の電極基体の電極触媒層の撓みによる
劣化）が発生しない作用が得られた。
生する第２の電極基体の取付け調整上の問題（第１の電
極基体が歪、第２の電極基体の電極触媒層の撓みによる
劣化）が発生しない作用が得られた。
【００２６】４）さらに、第２の電極基体を固定するた
めのボルト穴部での電流不均一の発生を第３の電極基体
で塞ぐことにより、均一化が図れる。
めのボルト穴部での電流不均一の発生を第３の電極基体
で塞ぐことにより、均一化が図れる。
【００２７】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
を詳細に説明する。
を詳細に説明する。
【００２８】図１は、本発明の好適実施例に従う複合電
極２０の陽極の斜視図を示す。図２及び図３は、図１の
複合電極２０の陰極ドラム回転方向の断面図である。図
４は、第２の電極基体２の第１の電極基体１への取付け
平面図である。図５、図６及び図７は、第３の電極基体
３の取付け断面図である。図８は、複合電極２０、陰極
ドラム回転軸１１及び第２の電極基体２の高さ測定装置
１２の陰極ドラム回転方向の断面図である。
極２０の陽極の斜視図を示す。図２及び図３は、図１の
複合電極２０の陰極ドラム回転方向の断面図である。図
４は、第２の電極基体２の第１の電極基体１への取付け
平面図である。図５、図６及び図７は、第３の電極基体
３の取付け断面図である。図８は、複合電極２０、陰極
ドラム回転軸１１及び第２の電極基体２の高さ測定装置
１２の陰極ドラム回転方向の断面図である。
【００２９】図１、図２、図３及び図４に示したとお
り、複合電極２０は、複数に分割された第２の電極基体
２が、第１の電極基体１に第１の中間材４及び第２の中
間材５を介してボルト６により固定される構成からな
る。第一及び第２の電極基体１及び２は、湾曲せしめら
れた略長方形の板から形成され、その内面は、円弧形
状、即ち、一定の曲率で湾曲せしめられ、円柱形状の側
壁一部を形成する形状である。
り、複合電極２０は、複数に分割された第２の電極基体
２が、第１の電極基体１に第１の中間材４及び第２の中
間材５を介してボルト６により固定される構成からな
る。第一及び第２の電極基体１及び２は、湾曲せしめら
れた略長方形の板から形成され、その内面は、円弧形
状、即ち、一定の曲率で湾曲せしめられ、円柱形状の側
壁一部を形成する形状である。
【００３０】第１の電極基体１の芯材７は銅と鉄のクラ
ツド材からなり、チタンの薄板８で覆われている。銅と
鉄のクラツド材は、爆着法で作製され、通電性と機械的
強度を有している。第１の電極基体１の第２の電極基体
２をボルト６で固定するためのめねじ部９は第１の電極
基体１に埋め込まれたチタンからなり、薄板８とめねじ
部９の隙間は溶接により完全にシールされ、芯材７への
電解液等の侵入を防ぎ、そしてめねじ部９の表面（第１
の中間材４と接する面）は白金で被覆され、第１の中間
材４との接触電気抵抗を下げている。第１の電極基体１
へのめつき電流の供給は、ブスバー１３から行われる。
一方、第１の電極基体１の曲率半径の精度は、所定の半
径に対して２ｍｍ以内のバラツキの範囲に入るように作
製されれば十分である。このバラツキ２ｍｍの値の程度
は、陰極と陽極の電極間距離を平均的な値である１０ｍ
ｍとすると、最大２０％の電極間距離のバラツキとして
表れ、求められているバラツキ５％以内には遠くおよば
ない値である。
ツド材からなり、チタンの薄板８で覆われている。銅と
鉄のクラツド材は、爆着法で作製され、通電性と機械的
強度を有している。第１の電極基体１の第２の電極基体
２をボルト６で固定するためのめねじ部９は第１の電極
基体１に埋め込まれたチタンからなり、薄板８とめねじ
部９の隙間は溶接により完全にシールされ、芯材７への
電解液等の侵入を防ぎ、そしてめねじ部９の表面（第１
の中間材４と接する面）は白金で被覆され、第１の中間
材４との接触電気抵抗を下げている。第１の電極基体１
へのめつき電流の供給は、ブスバー１３から行われる。
一方、第１の電極基体１の曲率半径の精度は、所定の半
径に対して２ｍｍ以内のバラツキの範囲に入るように作
製されれば十分である。このバラツキ２ｍｍの値の程度
は、陰極と陽極の電極間距離を平均的な値である１０ｍ
ｍとすると、最大２０％の電極間距離のバラツキとして
表れ、求められているバラツキ５％以内には遠くおよば
ない値である。
【００３１】第２の電極基体２は、チタン材から陰極回
転ドラムと向合う表面が酸化イリジウムを主成分とする
電極触媒で被覆される。そして第２の電極基体２は、陰
極ドラム側からボルト６により、第１の中間材４を介し
て、第１の電極基体１に埋め込まれたチタンのめねじ部
９によつて固定されると同時に、第２の電極基体２の両
端の１部が第２の中間材５によつて支持される。第２の
電極基体２は自由に着脱でき、容易に第１の中間材４と
第２の中間材５の厚さもしくは高さを変えることによ
り、第２の電極基体はその円弧形状を損うことなく０.
０１〜０.１ｍｍ程度の精度で高さ調整することができ
る。その結果、第２の電極基体２と対になる陰極回転ド
ラム間の距離も０.０１〜０.１ｍｍの精度で調整可能と
なり、第１の電極基体１の精度での電極間距離のバラツ
キが最大２０％であつたものが、第１の中間材４と第２
の中間材５を挿入した箇所での電極間距離のバラツキは
最大１％以内となり、第１の中間材４と第２の中間材５
を挿入されていない箇所でも５％以内のバラツキにする
ことが容易にできた。
転ドラムと向合う表面が酸化イリジウムを主成分とする
電極触媒で被覆される。そして第２の電極基体２は、陰
極ドラム側からボルト６により、第１の中間材４を介し
て、第１の電極基体１に埋め込まれたチタンのめねじ部
９によつて固定されると同時に、第２の電極基体２の両
端の１部が第２の中間材５によつて支持される。第２の
電極基体２は自由に着脱でき、容易に第１の中間材４と
第２の中間材５の厚さもしくは高さを変えることによ
り、第２の電極基体はその円弧形状を損うことなく０.
０１〜０.１ｍｍ程度の精度で高さ調整することができ
る。その結果、第２の電極基体２と対になる陰極回転ド
ラム間の距離も０.０１〜０.１ｍｍの精度で調整可能と
なり、第１の電極基体１の精度での電極間距離のバラツ
キが最大２０％であつたものが、第１の中間材４と第２
の中間材５を挿入した箇所での電極間距離のバラツキは
最大１％以内となり、第１の中間材４と第２の中間材５
を挿入されていない箇所でも５％以内のバラツキにする
ことが容易にできた。
【００３２】第２の中間材５の固定は、ボルト６の締め
付けによる第２の電極基体２からの抑え付け、もしくは
ボルト１０によつておこなわれる。ボルト１０は、第２
の電極基体２の穴を介して延び、第１の電極基体１の設
けられためねじ部９に螺合する。図２に示したとおり、
第２の電極基体２の穴は、ボルト１０のヘッド２１の底
部が接触する肩部２２を有する。
付けによる第２の電極基体２からの抑え付け、もしくは
ボルト１０によつておこなわれる。ボルト１０は、第２
の電極基体２の穴を介して延び、第１の電極基体１の設
けられためねじ部９に螺合する。図２に示したとおり、
第２の電極基体２の穴は、ボルト１０のヘッド２１の底
部が接触する肩部２２を有する。
【００３３】第２の電極基体２への通電は、ブスバー１
３から供給された電流が第１の電極基体１、めねじ部
９、第１の中間材４を通り又その電流の一部がめねじ部
９からボルト１０を通り、第２の電極基体２へ通電され
る。
３から供給された電流が第１の電極基体１、めねじ部
９、第１の中間材４を通り又その電流の一部がめねじ部
９からボルト１０を通り、第２の電極基体２へ通電され
る。
【００３４】図５乃至７は、第３の電極基体３の取付け
例の断面を示し、その第３の電極基体３の陰極と向き合
う表面は第２の電極基体２と同様に酸化イリジウムを主
成分とした電極触媒で被覆されている。図５は、その第
３の電極基体３の裏面の中心に六角穴付ボルト６の六角
穴にはめ込むための突起１５が設けられ、その突起１５
を六角穴に打込むことにより、第３の電極基体３はボル
ト６に取付けられる。また、図６は、第３の電極基体３
の中心に穴を設け、六角穴付ボルト６の六角穴の中心に
めねじを設けて、チタンの皿ねじ１６を用いて、第３の
電極基体３をボルト６に取付けた例である。この際に使
用される皿ねじ１６の直径は３〜５ｍｍ程度で十分であ
ることより、皿ねじ１６によるめつき電流の不均一発生
は、非常に微小な領域であり、めつき品の品質には影響
しない。更に、図７は、第３の電極基体３を複数の皿ね
じ１６を用いて第２の電極基体２に取付けた例である。
図７の取付け方法は、陰極と向き合う第２の電極基体２
の面と第３の電極基体３の面との段差の発生が少なく、
高いめつき電流の均一性を求める場合には、有効な取付
法である。
例の断面を示し、その第３の電極基体３の陰極と向き合
う表面は第２の電極基体２と同様に酸化イリジウムを主
成分とした電極触媒で被覆されている。図５は、その第
３の電極基体３の裏面の中心に六角穴付ボルト６の六角
穴にはめ込むための突起１５が設けられ、その突起１５
を六角穴に打込むことにより、第３の電極基体３はボル
ト６に取付けられる。また、図６は、第３の電極基体３
の中心に穴を設け、六角穴付ボルト６の六角穴の中心に
めねじを設けて、チタンの皿ねじ１６を用いて、第３の
電極基体３をボルト６に取付けた例である。この際に使
用される皿ねじ１６の直径は３〜５ｍｍ程度で十分であ
ることより、皿ねじ１６によるめつき電流の不均一発生
は、非常に微小な領域であり、めつき品の品質には影響
しない。更に、図７は、第３の電極基体３を複数の皿ね
じ１６を用いて第２の電極基体２に取付けた例である。
図７の取付け方法は、陰極と向き合う第２の電極基体２
の面と第３の電極基体３の面との段差の発生が少なく、
高いめつき電流の均一性を求める場合には、有効な取付
法である。
【００３５】それら第３の電極基体３の取付けは、第２
の電極基体２の高さ調整完了後に行い、ボルト６の近傍
で発生する僅かなめつき電流の不均一を更に低減でき
る。
の電極基体２の高さ調整完了後に行い、ボルト６の近傍
で発生する僅かなめつき電流の不均一を更に低減でき
る。
【００３６】また、図２に示したとおりに、第１の電極
基体１及び第２の電極基体２とが、第１の中間材４及び
第２の中間材５によて、離間せしめられており、これら
の間に空隙２３が存在する。この空隙２３内に存在する
電解液が存在する。このため、電解液の対流により、第
１の電極基体１及び第２の電極基体２において、発生す
る熱を放散させることができる。例えばポンプ等を用い
て、積極的に電解液をこの空隙内を流すことによって、
第１の電極基体１及び第２の電極基体２において、発生
する熱を効果的に放散させることができる。一方、低い
電流密度での操業で発生する熱を放散させる必要がない
場合、空隙２３に塩化ビニールやエポキシ系等の樹脂、
シリコンゴムまたは空気袋等を挿入し、熱の放散を防ぐ
こともできる。
基体１及び第２の電極基体２とが、第１の中間材４及び
第２の中間材５によて、離間せしめられており、これら
の間に空隙２３が存在する。この空隙２３内に存在する
電解液が存在する。このため、電解液の対流により、第
１の電極基体１及び第２の電極基体２において、発生す
る熱を放散させることができる。例えばポンプ等を用い
て、積極的に電解液をこの空隙内を流すことによって、
第１の電極基体１及び第２の電極基体２において、発生
する熱を効果的に放散させることができる。一方、低い
電流密度での操業で発生する熱を放散させる必要がない
場合、空隙２３に塩化ビニールやエポキシ系等の樹脂、
シリコンゴムまたは空気袋等を挿入し、熱の放散を防ぐ
こともできる。
【００３７】
【発明の効果】本発明の電解用複合電極は、上記のとお
りの構成を有するので、従来の複合電極が有している効
果を失うことなく、新たに次の効果が得られた。
りの構成を有するので、従来の複合電極が有している効
果を失うことなく、新たに次の効果が得られた。
【００３８】１）陽極面の位置調整作業が回転駆動する
陰極ドラム側からでも調整出来る機構となり、簡単な構
造で陰極と陽極間との間隔を高い精度で調整できるよう
になり、従来の機械加工技術の範囲で、回転ドラムの陰
極とそれと向合う陽極の電極間距離を高い精度で均一に
出来るようになる。その結果、経済性にも優れた大型の
電解用複合電極が得られ、第２の電極基体の高さ調整機
構からのめつき液の漏れの心配もなくなり、容易な陽極
のメンテナンスにより、めつき電流の均一化が図られ、
品質の均一なめつき品を得る効果が得られる。更に、め
つき電流の均一化が図れることにより、陽極への局部的
な電流集中が低減し、陽極寿命の延長が期待できる効果
も得られる。
陰極ドラム側からでも調整出来る機構となり、簡単な構
造で陰極と陽極間との間隔を高い精度で調整できるよう
になり、従来の機械加工技術の範囲で、回転ドラムの陰
極とそれと向合う陽極の電極間距離を高い精度で均一に
出来るようになる。その結果、経済性にも優れた大型の
電解用複合電極が得られ、第２の電極基体の高さ調整機
構からのめつき液の漏れの心配もなくなり、容易な陽極
のメンテナンスにより、めつき電流の均一化が図られ、
品質の均一なめつき品を得る効果が得られる。更に、め
つき電流の均一化が図れることにより、陽極への局部的
な電流集中が低減し、陽極寿命の延長が期待できる効果
も得られる。
【００３９】２）不溶性電極面の位置調整作業が回転駆
動する陰極ドラム側からできるため、陰極と向合う不溶
性電極面の位置調整が回転駆動する陰極ドラムの回転軸
からの距離測定をしながら容易に出来るようになる。そ
の結果、電解用複合電極組立、調整が容易となると同時
に、組立精度も向上する効果が得られる。
動する陰極ドラム側からできるため、陰極と向合う不溶
性電極面の位置調整が回転駆動する陰極ドラムの回転軸
からの距離測定をしながら容易に出来るようになる。そ
の結果、電解用複合電極組立、調整が容易となると同時
に、組立精度も向上する効果が得られる。
【００４０】３）第２の電極基体を撓ませることから発
生する第２の電極基体の取付け調整上の問題（第１の電
極基体が歪、第２の電極基体の電極触媒層の撓みによる
劣化）が発生しない。その結果、第１の電極基体の構造
が簡素化しても、第２の電極基体発生する電解用複合電
極全体の歪発生も著しく減少し、陰極と陽極間との間隔
を一定に保持でき、容易にめつき電流の均一化が図ら
れ、品質の均一なめつき品を得る効果が得られる。ま
た、第２の電極基体の電極触媒層の撓みによる劣化も解
消する効果が得られる。
生する第２の電極基体の取付け調整上の問題（第１の電
極基体が歪、第２の電極基体の電極触媒層の撓みによる
劣化）が発生しない。その結果、第１の電極基体の構造
が簡素化しても、第２の電極基体発生する電解用複合電
極全体の歪発生も著しく減少し、陰極と陽極間との間隔
を一定に保持でき、容易にめつき電流の均一化が図ら
れ、品質の均一なめつき品を得る効果が得られる。ま
た、第２の電極基体の電極触媒層の撓みによる劣化も解
消する効果が得られる。
【図１】本発明の好適実施例に従う複合電極の一例を示
す斜視図。
す斜視図。
【図２】本発明の好適実施例に従う複合電極の一例を示
す陰極ドラム回転方向の断面図。
す陰極ドラム回転方向の断面図。
【図３】本発明の複合電極の一例を示す陰極ドラム回転
方向の断面図。
方向の断面図。
【図４】本発明の複合電極の一例を示す部分平面図。
【図５】第３の電極基体の固定例を示す断面図。
【図６】第３の電極基体の固定例を示す断面図。
【図７】第３の電極基体の固定例を示す断面図。
【図８】本発明の第２の電極基体の高さ測定を示す陰極
ドラム回転方向からの断面図。
ドラム回転方向からの断面図。
１ 第１の電極基体 ２ 第２の電極基体 ３ 第３の電極基体 ４ 第１の中間材 ５ 第２の中間材 ６ ボルト ７ 芯材 ８ 薄板 ９ めねじ部 １０ ボルト １２ 高さ測定装置 １３ ブスバー １４ ボルト穴 １５ 突起 １６ 皿ねじ ２０ 複合電極基体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森 利実 埼玉県草加市青柳２丁目12番30号石福金属 興業株式会社草加第一工場内 (72)発明者 高安 輝樹 奈良県生駒市北田原町2443−１株式会社昭 和内
Claims (2)
- 【請求項１】 回転駆動されるドラムから形成された陰
極と、該陰極と一定間隔で向きあう円弧形状内面を有す
る陽極とを具備し、該陽極と該陰極との間に電解液を維
持できる電解用複合電極において、 該陽極が、 電導性金属材料から形成された芯材と、該芯材を、電解
液と接する箇所において被覆しているチタンで形成され
た被覆部材とを有し、該ドラムの回転軸に対し平行な線
に沿って設けられた複数個のめねじ部を備えている第１
の電極基体と、 片面が電極触媒で被覆され、該ドラムの回転軸に対し平
行な複数の分割面において分割されたチタン帯板で形成
されており、該分割面と平行である中心軸上に複数個設
けられた穴を有する第２の電極基体と、 該第２の電極基体の穴を介して延び、該第１の電極基体
の該めねじ部に螺合して、該第２の電極基体を該第１の
電極基体に固定するボルトと、 該第１の電極基体と該第２の電極基体との間において、
該ボルトの周辺部分に設けられた第１の中間材と、 該第１の電極基体と該第２の電極基体との間において、
該第２の電極基体の該上記中心軸に対し直角な方向の端
部の近傍設けられた第２の中間材とを備えていることを
特徴とする電解用複合電極。 - 【請求項２】 該第１の電極基体にボルトで固定された
該第２の電極基体の穴をふさぐため、片面が電極触媒で
被覆された第３の電極基体が、該第２の電極基体の電極
触媒面と該第３の電極基体の電極触媒面とが同一面とな
り、且つ第３の電極基体へ通電できるように取付けられ
ていることを特徴とする請求項１の電解用複合電極。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34037394A JP3606932B2 (ja) | 1994-12-30 | 1994-12-30 | 電解用複合電極 |
| US09/142,662 US6051118A (en) | 1994-12-30 | 1996-03-14 | Compound electrode for electrolysis |
| KR10-1998-0705715A KR100391839B1 (ko) | 1994-12-30 | 1996-03-14 | 전해용복합전극 |
| CA002248777A CA2248777C (en) | 1994-12-30 | 1996-03-14 | Electrolytic composite electrode |
| CN96180216A CN1100894C (zh) | 1994-12-30 | 1996-03-14 | 电解用复合电极 |
| EP96906009A EP0887441B1 (en) | 1994-12-30 | 1996-03-14 | Compound electrode for electrolysis |
| PCT/JP1996/000633 WO1997034029A1 (fr) | 1994-12-30 | 1996-03-14 | Electrode composite pour electrolyse |
| TW085103370A TW389795B (en) | 1994-12-30 | 1996-03-20 | A compound electrolytic electrode |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34037394A JP3606932B2 (ja) | 1994-12-30 | 1994-12-30 | 電解用複合電極 |
| CA002248777A CA2248777C (en) | 1994-12-30 | 1996-03-14 | Electrolytic composite electrode |
| CN96180216A CN1100894C (zh) | 1994-12-30 | 1996-03-14 | 电解用复合电极 |
| PCT/JP1996/000633 WO1997034029A1 (fr) | 1994-12-30 | 1996-03-14 | Electrode composite pour electrolyse |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08209396A true JPH08209396A (ja) | 1996-08-13 |
| JP3606932B2 JP3606932B2 (ja) | 2005-01-05 |
Family
ID=27170832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34037394A Expired - Lifetime JP3606932B2 (ja) | 1994-12-30 | 1994-12-30 | 電解用複合電極 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6051118A (ja) |
| EP (1) | EP0887441B1 (ja) |
| JP (1) | JP3606932B2 (ja) |
| KR (1) | KR100391839B1 (ja) |
| CN (1) | CN1100894C (ja) |
| CA (1) | CA2248777C (ja) |
| TW (1) | TW389795B (ja) |
| WO (1) | WO1997034029A1 (ja) |
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11302900A (ja) * | 1998-04-17 | 1999-11-02 | Ishifuku Metal Ind Co Ltd | 電解装置及びその組立て方法 |
| WO1999067448A1 (fr) * | 1998-06-22 | 1999-12-29 | Daiso Co., Ltd. | Anode insoluble pouvant se detacher librement |
| JP2001164395A (ja) * | 2000-02-04 | 2001-06-19 | Mifune Tekkosho:Kk | 電解銅箔の製造装置 |
| JP2002038291A (ja) * | 2001-09-03 | 2002-02-06 | Daiso Co Ltd | 金属箔製造用陽極 |
| JP2004332102A (ja) * | 2003-04-18 | 2004-11-25 | Nippon Stainless Kozai Kk | 金属箔製造用不溶性電極 |
| JP2005281849A (ja) * | 2004-03-03 | 2005-10-13 | Nozaki Kogyo Kk | 不溶性電極及びそれに使用される電極板並びにその使用方法 |
| JP2009256772A (ja) * | 2008-03-17 | 2009-11-05 | Akahoshi Kogyo Kk | 電解金属箔製造装置における電極基体 |
| JP2010242129A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 電解金属箔製造装置並びに電解金属箔製造装置に用いる薄板状不溶性金属電極の製造方法及びその電解金属箔製造装置を用いて得られた電解金属箔 |
| JP5175992B1 (ja) * | 2012-07-06 | 2013-04-03 | Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 | 極薄銅箔及びその製造方法、並びに極薄銅層 |
| JP5347074B1 (ja) * | 2013-01-17 | 2013-11-20 | Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 | 極薄銅箔及びその製造方法、極薄銅層、並びにプリント配線板 |
| JP2015001006A (ja) * | 2013-06-14 | 2015-01-05 | カヤバ工業株式会社 | 給電部材及びそれを備えた高速めっき装置 |
| US10006137B2 (en) | 2013-06-14 | 2018-06-26 | Kyb Corporation | Holding device and high-speed plating machine provided with the same |
| JP2018188679A (ja) * | 2017-04-28 | 2018-11-29 | 株式会社大阪ソーダ | 電極構造体 |
| KR20190038325A (ko) | 2017-09-29 | 2019-04-08 | 가부시키가이샤 오사카소다 | 도금용 전극 및 전해금속박의 제조장치 |
| JP2019099898A (ja) * | 2017-12-08 | 2019-06-24 | 日鉄住金工材株式会社 | 金属箔製造装置 |
| JP2019099897A (ja) * | 2017-12-08 | 2019-06-24 | 日鉄住金工材株式会社 | 金属箔製造装置，電極板及び金属箔の製造方法 |
| WO2023101419A1 (ko) * | 2021-12-01 | 2023-06-08 | 에이티엑스 주식회사 | 동박 제조장치 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6703560B2 (en) * | 1998-09-15 | 2004-03-09 | International Business Machines Corporation | Stress resistant land grid array (LGA) module and method of forming the same |
| US6579941B1 (en) | 2000-06-12 | 2003-06-17 | Avery Dennison Corporatoin | Adhesive compositions and constructions with outstanding cutting performance |
| CA2720002C (en) * | 2008-03-31 | 2013-10-01 | Michael Steven Georgia | Polymeric, non-corrosive cathodic protection anode |
| EP2456720A4 (en) * | 2009-07-22 | 2013-02-27 | Poolrite Res Pty Ltd | ELECTROLYTIC CELL |
| CN102296344A (zh) * | 2011-09-06 | 2011-12-28 | 奥特斯维能源（太仓）有限公司 | 改善电镀均匀性的太阳能电池片电镀设备 |
| CH707059A1 (de) * | 2012-10-04 | 2014-04-15 | Biostel Schweiz Ag | Elektrolyszelle. |
| ITUB20155510A1 (it) * | 2015-11-12 | 2017-05-12 | Soldo S R L Socio Unico | Interruttore rotativo adatto all?impiego in condizioni ambientali avverse |
| JP7045840B2 (ja) * | 2017-12-08 | 2022-04-01 | 日鉄工材株式会社 | 金属箔製造装置及び電極板取付体 |
| CN110029381B (zh) * | 2019-04-25 | 2020-12-15 | 首钢集团有限公司 | 一种高镀锡量镀锡板的生产方法 |
| KR102548837B1 (ko) * | 2021-04-14 | 2023-06-28 | 주식회사 웨스코일렉트로드 | 전해동박 제조를 위한 불용성 양극어셈블리 |
| KR102498565B1 (ko) * | 2021-04-14 | 2023-02-10 | 주식회사 웨스코일렉트로드 | 전해동박 제조를 위한 불용성 양극 볼트 및 그 제조방법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05230686A (ja) * | 1992-02-07 | 1993-09-07 | Tdk Corp | 電気めっき方法および電気めっき用分割型不溶性電極 |
| JPH06316794A (ja) * | 1993-04-30 | 1994-11-15 | Permelec Electrode Ltd | 電解用電極 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0342043Y2 (ja) * | 1987-02-20 | 1991-09-03 | ||
| JPH01176100A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-12 | Nkk Corp | 鋼ストリップのめつき用不溶性アノード |
| JP2899635B2 (ja) * | 1989-07-07 | 1999-06-02 | 三井化学株式会社 | α―オレフインの二量化触媒 |
| US5017275A (en) * | 1989-10-23 | 1991-05-21 | Eltech Systems Corporation | Electroplating cell anode |
| DE3940044C2 (de) * | 1989-12-04 | 1994-08-11 | Heraeus Elektrochemie | Anodenanordnung für elektrolytische Prozesse |
| US5393396A (en) * | 1990-10-30 | 1995-02-28 | Gould Inc. | Apparatus for electrodepositing metal |
| TW197534B (ja) * | 1991-03-21 | 1993-01-01 | Eltech Systems Corp | |
| JPH0647758A (ja) * | 1992-07-31 | 1994-02-22 | Olympus Optical Co Ltd | 複合光学素子の製造方法及び装置 |
| US5344538A (en) * | 1993-01-11 | 1994-09-06 | Gould Inc. | Thin plate anode |
| JP3207973B2 (ja) * | 1993-06-10 | 2001-09-10 | ティーディーケイ株式会社 | 電気めっき方法および電気めっき用分割型不溶性電極 |
| JPH07316861A (ja) * | 1994-05-24 | 1995-12-05 | Permelec Electrode Ltd | 電極構造体 |
| DE4442388C2 (de) * | 1994-11-29 | 1999-01-07 | Heraeus Elektrochemie | Elektrode mit plattenförmigem Elektrodenträger |
| TW318320B (ja) * | 1995-08-07 | 1997-10-21 | Eltech Systems Corp |
-
1994
- 1994-12-30 JP JP34037394A patent/JP3606932B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-03-14 CA CA002248777A patent/CA2248777C/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-03-14 EP EP96906009A patent/EP0887441B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-14 US US09/142,662 patent/US6051118A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-03-14 KR KR10-1998-0705715A patent/KR100391839B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-03-14 CN CN96180216A patent/CN1100894C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-14 WO PCT/JP1996/000633 patent/WO1997034029A1/ja active IP Right Grant
- 1996-03-20 TW TW085103370A patent/TW389795B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05230686A (ja) * | 1992-02-07 | 1993-09-07 | Tdk Corp | 電気めっき方法および電気めっき用分割型不溶性電極 |
| JPH06316794A (ja) * | 1993-04-30 | 1994-11-15 | Permelec Electrode Ltd | 電解用電極 |
Cited By (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11302900A (ja) * | 1998-04-17 | 1999-11-02 | Ishifuku Metal Ind Co Ltd | 電解装置及びその組立て方法 |
| WO1999067448A1 (fr) * | 1998-06-22 | 1999-12-29 | Daiso Co., Ltd. | Anode insoluble pouvant se detacher librement |
| JP2001164395A (ja) * | 2000-02-04 | 2001-06-19 | Mifune Tekkosho:Kk | 電解銅箔の製造装置 |
| JP2002038291A (ja) * | 2001-09-03 | 2002-02-06 | Daiso Co Ltd | 金属箔製造用陽極 |
| JP2004332102A (ja) * | 2003-04-18 | 2004-11-25 | Nippon Stainless Kozai Kk | 金属箔製造用不溶性電極 |
| JP2005281849A (ja) * | 2004-03-03 | 2005-10-13 | Nozaki Kogyo Kk | 不溶性電極及びそれに使用される電極板並びにその使用方法 |
| JP2009256772A (ja) * | 2008-03-17 | 2009-11-05 | Akahoshi Kogyo Kk | 電解金属箔製造装置における電極基体 |
| JP2010242129A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 電解金属箔製造装置並びに電解金属箔製造装置に用いる薄板状不溶性金属電極の製造方法及びその電解金属箔製造装置を用いて得られた電解金属箔 |
| JP4642120B2 (ja) * | 2009-04-01 | 2011-03-02 | 三井金属鉱業株式会社 | 電解金属箔製造装置並びに電解金属箔製造装置に用いる薄板状不溶性金属電極の製造方法及びその電解金属箔製造装置を用いて得られた電解金属箔 |
| KR101157340B1 (ko) * | 2009-04-01 | 2012-06-15 | 페르메렉덴꾜꾸가부시끼가이샤 | 전해금속박 제조장치 및 전해금속박 제조장치에 사용하는 박판형 불용성 금속전극의 제조방법 및 그 전해금속박 제조장치를 이용하여 얻어진 전해금속박 |
| WO2014006781A1 (ja) * | 2012-07-06 | 2014-01-09 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 極薄銅箔及びその製造方法、並びに極薄銅層 |
| JP5175992B1 (ja) * | 2012-07-06 | 2013-04-03 | Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 | 極薄銅箔及びその製造方法、並びに極薄銅層 |
| US9930776B2 (en) | 2012-07-06 | 2018-03-27 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Ultrathin copper foil and method of manufacturing the same, and ultrathin copper layer |
| JP5347074B1 (ja) * | 2013-01-17 | 2013-11-20 | Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 | 極薄銅箔及びその製造方法、極薄銅層、並びにプリント配線板 |
| JP2015001006A (ja) * | 2013-06-14 | 2015-01-05 | カヤバ工業株式会社 | 給電部材及びそれを備えた高速めっき装置 |
| US10006143B2 (en) | 2013-06-14 | 2018-06-26 | Kyb Corporation | Power supplying member and high-speed plating machine provided with the same |
| US10006137B2 (en) | 2013-06-14 | 2018-06-26 | Kyb Corporation | Holding device and high-speed plating machine provided with the same |
| JP2018188679A (ja) * | 2017-04-28 | 2018-11-29 | 株式会社大阪ソーダ | 電極構造体 |
| KR20190038325A (ko) | 2017-09-29 | 2019-04-08 | 가부시키가이샤 오사카소다 | 도금용 전극 및 전해금속박의 제조장치 |
| JP2019065339A (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-25 | 株式会社大阪ソーダ | めっき用電極および電解金属箔の製造装置 |
| JP2019099898A (ja) * | 2017-12-08 | 2019-06-24 | 日鉄住金工材株式会社 | 金属箔製造装置 |
| JP2019099897A (ja) * | 2017-12-08 | 2019-06-24 | 日鉄住金工材株式会社 | 金属箔製造装置，電極板及び金属箔の製造方法 |
| WO2023101419A1 (ko) * | 2021-12-01 | 2023-06-08 | 에이티엑스 주식회사 | 동박 제조장치 |
| KR20240017876A (ko) * | 2021-12-01 | 2024-02-08 | 에이티엑스 주식회사 | 동박 제조장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0887441A1 (en) | 1998-12-30 |
| KR19990081997A (ko) | 1999-11-15 |
| JP3606932B2 (ja) | 2005-01-05 |
| CN1100894C (zh) | 2003-02-05 |
| CN1214088A (zh) | 1999-04-14 |
| TW389795B (en) | 2000-05-11 |
| EP0887441B1 (en) | 2005-05-11 |
| US6051118A (en) | 2000-04-18 |
| WO1997034029A1 (fr) | 1997-09-18 |
| KR100391839B1 (ko) | 2003-11-28 |
| CA2248777A1 (en) | 1997-09-18 |
| EP0887441A4 (ja) | 1998-12-30 |
| CA2248777C (en) | 2009-04-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH08209396A (ja) | 電解用複合電極 | |
| EP2236653B1 (en) | Production apparatus for electro-deposited metal foil, production method of thin plate insoluble metal electrode used in production apparatus for electro-deposited metal foil, and electro-deposited metal foil produced by using production apparatus for electro-deposited metal foil | |
| KR100196095B1 (ko) | 전기도금방법, 금속박의 제조장치 및 전기도금용 분할형 불용성전극 | |
| JP2963266B2 (ja) | 不溶性電極構造体 | |
| CN109576739B (zh) | 电镀用电极以及电解金属箔的制造装置 | |
| IE913616A1 (en) | Apparatus for electrodepositing metal | |
| KR20200141369A (ko) | 금속박 제조 장치 | |
| TWI445844B (zh) | Electrode for electrolysis | |
| TWI785154B (zh) | 金屬箔製造裝置及電極板安裝體 | |
| JPH06346270A (ja) | 電気めっき方法および電気めっき用分割型不溶性電極 | |
| CN108796591B (zh) | 电极构造体 | |
| US5626730A (en) | Electrode structure | |
| KR20220142106A (ko) | 전해동박 제조를 위한 불용성 양극어셈블리 | |
| JP2022536258A (ja) | 電気化学的プロセス用の電極アセンブリ | |
| JP2002038291A (ja) | 金属箔製造用陽極 | |
| JP3207977B2 (ja) | 電気めっき方法および電気めっき用分割型不溶性電極 | |
| JP2004315937A (ja) | 金属箔製造用不溶性電極 | |
| JPH11302900A (ja) | 電解装置及びその組立て方法 | |
| CN220767203U (zh) | 一种生箔机屏蔽板 | |
| WO1998017845A1 (fr) | Electrolyseur | |
| GB2291070A (en) | Fixing electrode to electrode substrate by welding metal filled in a plurality of holes in the electrode to the electrode and the substrate | |
| JP3028969U (ja) | 電極構造体 | |
| KR20070001048U (ko) | 전기도금의 도금체 고정구 접지구조 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040928 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041006 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071015 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081015 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081015 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091015 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091015 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101015 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111015 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111015 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121015 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121015 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131015 Year of fee payment: 9 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |