JPH05230686A - 電気めっき方法および電気めっき用分割型不溶性電極 - Google Patents
電気めっき方法および電気めっき用分割型不溶性電極Info
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- JPH05230686A JPH05230686A JP4056815A JP5681592A JPH05230686A JP H05230686 A JPH05230686 A JP H05230686A JP 4056815 A JP4056815 A JP 4056815A JP 5681592 A JP5681592 A JP 5681592A JP H05230686 A JPH05230686 A JP H05230686A
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- C25D1/00—Electroforming
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Abstract
を被覆した複数の電極片1を用い、バックプレート5上
に電極片1と陰極ドラムの回転軌跡に沿って順次配置
し、バッキングプレート5と導通させるとともに、前記
電極片1を陰極ドラム側から着脱可能とした陽極を陰極
ドラムの回転駆動方向の所定位置に、所定間隙を隔てて
対向配置し、これに通電して陰極ドラムに銅等の金属を
析出させて剥離して電解銅箔等の金属箔を得る方法。 【効果】保守、補修その製造、組立が容易となり、寸法
形状等の精度が高いものとなり、良好な膜質の銅箔が得
られ、その膜厚むらと連続運転時の膜厚むら上昇とがき
わめて少なく、寿命の長い電極が得られる。
Description
めっき方法と、それに使用される分割型不溶性電極の改
良に関するものである。
採用されてる。プリント配線基板には銅箔を必要とする
が、その製造には通常電解銅箔が用いられている。電解
銅箔の製造に際しては、ピンホール・異常析出物等の点
欠陥が発生せず、均一な厚みをもつようにする必要があ
る。
て説明するならば、陰極としてTiあるいはSUS製回
転ドラムを用い、陽極として、例えば陰極ドラム7のほ
ぼ1/4円周の断面円弧状の電極10として鉛板を2枚
下方に設置し、電極10、10間から電解液を供給し、
この間隙内にめっき液を流す構造としている。この装置
に直流電流を流し陰極ドラム7に銅を析出させ、この析
出銅を連続的に剥離し巻き取っている。
あるいはPbとSb、Sn、Ag、In、Caその他の
二元あるいは多元合金である。このため陽極表面に生成
した酸化鉛が、電解浴中にPbイオンとして溶け込み、
電解浴中の硫酸イオンと反応して、硫酸鉛を形成し浴中
に懸濁してしまう。この硫酸鉛のスラツジは濾過器を設
置して除去することができるが、この保守作業には多大
な労力を要する。スラツジの除去が不十分であると、ス
ラッジは電解槽や配管の内壁面に堆積して液の流に悪影
響を及ぼす。さらに、陰極ドラムに硫酸鉛のスラツジが
付着すると、その箇所にピンホールもしくは異常析出物
等の点欠陥が発生する。これは前記のとおり銅箔の致命
的欠陥となる。
エロージョンにより局部的に鉛が損耗するため極間距離
が場所により異なってくる。この対策として定期的に鉛
陽極の表面を切削しているが、製造稼働率の低下もさる
ことながら、極間の距離の増大のため槽電圧の上昇すな
わち製造コストの上昇につながってしまう。そして、極
間距離の不均一により、銅箔幅方向の厚みむらが生じて
しまう。
ンホールや、異常析出物の発生を防止し、鉛の損耗によ
る極間距離の不均一化により生じる銅箔幅方向の厚みむ
らを解決するなどのため、陰極ドラムに対向する円弧板
状陽極として、Ti、Ta、Nb、Zr等の弁金属基体
表面に主として白金族の金属あるいはその酸化物を触媒
として被覆した電極を不溶性陽極を使用する旨の提案が
なされている(特公平1−56153号公報)。
法でも、局部的な陽極の損耗や、陰極側の銅の異常析出
によるショートは生じてしまう。しかし一体化した陽極
円弧板を用いているため、これらの補修は、陽極全体を
取り替えずには行なうことができず、陽極を装置に放置
するハンドリングなど、保守ないし補修作業やそのコス
ト、設備コスト等を高め、めっき設備の稼働率を下げる
要因となっている。
板を用いると、通電時に電流密度のいわゆるエッジ効果
が生じる。そして、このエッジ効果は、特にめっき液供
給口付近の陽極板端部付近に電流を集中させ、一体化し
た陽極板の一部分のみの電極触媒被覆層の消耗をひきお
こし、銅箔の幅方向の膜厚が不均一となり、膜厚むらが
生じる。また、膜厚むらは連続運転とともに増大し、や
がて実用に耐えないものとなるので、陽極の寿命も短い
ものとなっている。そして、このような現象は特に20
μm 以下と膜厚の薄い銅箔の製造において重大なものと
なる。実際、上記特公平1−56153号公報でも、1
8μm の銅箔を得る際に、膜厚むらは2%以内であると
記載されており、膜厚むらを1%以内にはできていな
い。この他、円弧状の基体には被覆形成がしにくく、製
造が困難で被覆厚さも均一化が難しいという欠点もあ
る。
いし補修を容易に行なうことができ、しかも膜厚むらが
少なく、陽極寿命の長い電解銅箔等の金属箔を得るため
の電気めっき方法と、それに用いる分割型不溶性電極を
提供することにある。
(1)〜(8)の本発明により達成される。
位置に、所定の間隙を隔てて陽極を対向配置し、これに
通電して前記陰極ドラムに金属を析出させて剥離して電
解金属箔を得る場合において、弁金属基体に、白金属の
金属またはその酸化物を被覆した複数の電極片を用い、
この電極片をバックプレート上に前記陰極ドラムの回転
軌跡に沿って順次配置し、前記バックプレートと導通さ
せるとともに、前記電極片を着脱可能として前記陽極と
する電気めっき方法。
が70μm 以下である上記(1)の電気めっき方法。
めっき液を流す上記(1)または(2)の電気めっき方
法。
互いの陰極ドラム側表面が5mm以下の距離で離間ないし
接続されている上記(1)ないし(3)のいずれかの電
気めっき方法。
離して電解金属箔を製造する際に、陰極ドラムの回転駆
動方向の所定の位置に、所定間隙を隔てて対向配置して
用いる陽極であって、前記陰極ドラムの駆動方向に対し
て垂直に分割された複数の電極片を有し、この電極片は
弁金属基体に、白金族の金属またはその酸化物を被覆し
たものであって、この電極片をバックプレート上に導電
性固定具により着脱自在に連結した電気めっき用分割型
不溶性電極。
が70μm 以下である上記(5)の電気めっき用分割型
不溶性電極。
めっき液を流す上記(5)または(6)の電気めっき用
分割型不溶性電極。
互いの陰極ドラム側表面が5mm以下の距離で離間ないし
接続されている上記(5)ないし(7)のいずれかの電
気めっき用分割型不溶性電極。
分割型不溶性電極の採用によってきわめて容易となる。
分割の仕方は、円弧板を、軸に平行な所定円弧ごとのス
トライプ片とするので電極片の製造も陽極組み立ても容
易であり、組み立て精度も高い。また、電極片の形状寸
法精度や、被覆厚の均一性も高い。
箔を得る際の膜厚むらの低減は、陽極板を複数の電極片
に分割して、陽極表面の端縁長を大とし、エッジを多数
作ることで、エッジ効果を減少させ、電流分布を均一化
することによって達成される。同時に連続運転によるエ
ッジ効果の増大率も減少し、電極片寿命も増大する。そ
して、これらから陽極寿命はきわめて長いものとなる。
分割型の電極を用いることは従来知られている。例え
ば、実開平1−149465号公報では、電気めっき鋼
板を製造する際に、めっき槽内にて鋼帯を連続的に直線
的に移動させながら、これに対向して陽極を配置する場
合において、陽極を鋼帯搬送方向に平行に分割したもの
が示されている(同公報第4図、第5図参照)。しか
し、本発明のように、回転する陰極ドラムの回転駆動方
向に平行に分割しようとすると、各分割片は等しく円弧
状としなければならず、特に弁金属基体上に白金族の金
属ないし酸化物被覆を設けるようなときには、製造がき
わめて困難である。また被覆厚を均一にすることも難し
い。しかも、これに加えて重要なことは、めっき基体
(鋼帯あるいは陰極ドラム)の搬送ないし回転方向と平
行に電極片を分割すると、電流密度の不均一が生じ、め
っき膜の長手方向にすじ状の欠陥や、幅方向の膜厚むら
が生じてしまい実用には耐えないが、この公報ではこの
点について着眼されていない。
開平2−136058号公報では、鋼帯を連続的に直線
移動させながらめっきを行なう場合において、鋼帯方向
および搬送(長手)方向に複数分割して電極小片を多数
組み合わせて形成した分割型電極が提案されている。し
かし、円弧状の電極を、その円弧方向(軸方向)および
幅方向双方とも分割しようとすると、組み立て作業に労
力を要し、組み立て精度が低く、各電極片の局部的損耗
や銅の異常析出が生じ、かえって保守、補修が難しくな
ってしまうことになる。また、幅方向の分割は膜厚むら
の発生に寄与してしまう。
れら平板型の分割型電極を円弧状電極にそのまま応用し
たときの欠点をすべて解消するものである。
は、磁性薄膜の製造において、陰極ローラに沿って、環
状の電解槽を設け、この電解槽を仕切板によって複数個
の分離槽として、各分離槽に個別に陽極を配置した例が
開示されている。このものは、陽極を分離するという点
では本発明と一見類似しているが、陽極を分割一体化し
ていないので、分離陽極の間隙でめっき液のうず流が生
じ膜厚の不均一が生じてしまう。このため、この公報で
は分離槽としているが、かえって液組成の不均一化を招
き、装置が複雑化し、その制御も難しいものとなってい
る。
をさらに詳細に説明する。
の電極を複数個に分割した電極片の各々を、形状保持、
補強および導電のためのバックプレートへ導電性固定具
により着脱自在に取り付けている。以下、本発明の分割
不溶性電極について詳述する。
不溶性電極10の実施例が示される。図2、図4および
図6は、それぞれ図1、図4および図5の矢線方向の断
面図である。これらの図において不溶性のアノードであ
る電極10は、複数個の電極片1に分割されており、そ
の電極片1各々は、バックプレート5に導電性のボルト
3により着脱自在に取り付けられている。バックプレー
ト5は、単板であっても、種々の構造をもつものであっ
てもよいが、その内周ないし内周包絡面は、円筒内周面
のうち、所定の円弧成分をもち軸方向に平行なわん曲面
をなしている。この結果、図8に示されるように曲率半
径500〜2000mm程度で、45〜120°程度の円
弧状をなす電極10の内周面は、陰極ドラム7の外周面
と所定の間隔を隔てて対向配置可能となる。なお、図8
では、本発明の分割型不溶性電極10を陰極ドラム7に
2個対向配置している。そして、電極10、10間から
めっき液を供給し、ドラム−電極間隙間にめっき液を流
している。
タル、ニオブ、ジルコン等やそれらの合金など、耐食性
を有する弁金属の導電金属板の陰極ローラ7と対向する
側の面にインジウムオキサイドなど白金族および/また
は酸化物をコーティングしたコーティングタイプのもの
を用いている。電極片1の陰極ドラム7に対向する側の
表面形状は、単純に平面状にする他、表面積を大にする
ために、凹凸状、格子状にすることができる。電極片1
0は、陰極ドラム7の回転駆動方向に複数個(2個以
上)、好ましくは3〜100個程度、例えば10個程度
の電極片1に分割されており、図1、図2に示される例
では、電極片1の各々の陰極ドラムと反対側(バックプ
レート側)の面には、チタン等の耐食性を有する導電性
金属のボルト3が溶接等によって固定されている。
よび導電のための基板で、チタン等の耐食性を有する導
電金属板からなっている。また、バックプレート5は、
間隙内のめっき液流にうず流を生じさせず、膜厚むらを
防止する作用もあわせもつ。バックプレート5と複数の
不溶性電極片1とは図1、図2に示されるようなボルト
3等の給電導体で取り付けられている。すなわち、図
1、図2ではバックプレート5には、不溶性の電極片1
に固定したボルト3位置に対応して、貫通孔が設けられ
ており、バックプレート5の陰極ドラムと反対側の所要
箇所にて、電極片1に一体化された給電導体としてのボ
ルト3が、座金65を介してナット6で締め付けられて
いる。したがって、不溶性の電極片1はバックプレート
5から着脱自在に着脱することができる。取りはずされ
た電極片1は、必要とする補修を施したり、新しい電極
片1と交換する。なお、図1、図2の例では、バックプ
レート5と電極片1の間には、締め付けによる電極片1
の変形を防ぐために絶縁性のゴム4を介挿して、電極片
1の端面とゴム4とを、接触させている。
ート5の所定位置に、ボルト3に対応するタップ穴55
が、また電極片の所定位置に、ボルト3の貫通を可能と
し、ボルト3の頭部を係止する孔35が設けられてお
り、電極片1を所定位置に設置して、陰極ドラム側より
ボルト3にて電極片1を締め付けている。この場合は、
締め付け時に、電極片1の変形のないように締め付けト
ルクを管理する。
同様バックプレート5の所定位置にボルト3に対応する
タップ穴55が設けられている。また電極片1bには、
バックプレート側に突出し、孔35を有するボス15が
設けられており、この電極片1bのボス15をタップ穴
55に対応する位置に設置して、陰極ドラム側からボル
ト3にて電極片1を締め付ける。この際、締め付け時に
隣り合う電極片1aの隣接部にはつば17が設けられて
おり、電極片1a、1bのボス15とつば17とを係止
した状態で、ボス穴55にボルト3を螺合することによ
り、両電極片1a、1bが接触係止した状態でつなぎ合
わされて固定されている。これらの場合、陰極ドラム側
からのボルトの螺合や取りはずしにより、電極片1を自
由自在に着脱できる。
置された各電極片1は、ある程度相互に離間してエッジ
の数を増やすことが好ましい。ただし、本発明では、電
極片1への給電は、その後方のバックプレート5側から
行われるので、各電極片1がきわめて近接しても、各電
極片1の端縁はエッジとして働く。このため、各電極片
1の離間距離は、電極片1ごとの交換補修が容易である
ような距離とすればよく、一般に0.1mm以上とする。
一方、バックプレート5の後端面(陰極ドラムと反対側
の面)は全面閉止されていても、一部に透孔等が存在し
ていてもよいが、通常は少なくとも電極片1の接続部後
方は閉止されていて、うず流の発生を防止して膜厚むら
を防止することが好ましい。うず流は、各電極片1、1
間の表面の間隙でも生じうるので、膜厚むらを極力小さ
くするために、その表面離間距離は5mm程度以内、特に
3mm程度以内とすることが好ましい。なお、逆T字状の
絶縁部材を用い、この上に隣接する電極片10を載置
し、電極片表面位置と、電極対間間隙との位置決めを行
うように構成してもよい。
0は、図8に示されるように、めっき槽内にて、回転駆
動される陰極ドラム7と所定間隙長隔てて対向配置さ
れ、バックプレート5に接続されたブスバー2から供電
され、めっきが行なわれる。陰極ドラム7上に堆積した
鋼8は陰極ドラム7から剥離され、巻き取りドラム9に
巻き取られる。
てきたが、本発明の効果は他の金属箔でも同様に実現す
る。ただ、特に本発明の膜厚むら減少効果は、70μm
以下、特に20μm 以下の電解銅箔の作製において顕著
であり、2%以内、特に1%以内の膜厚むらを容易に実
現できる。また、このような小さな膜厚むらを例えば1
年以上にわたって維持できる。
割した電極片1を用いており、この分割した電極片1を
バックプレート5に着脱自在に取り付けているので、陽
極面の局部的な損傷の補修や、陰極ドラム7側の銅等の
金属の異常析出によるショートによる陽極の補修を、電
極片1ごとに部分的に行なうことができるので、従来の
ようにアノード全体を取り替える必要がない。従って、
陽極の保守、修理が容易であり、また、陽極自体の寿命
も延びる。
に円周方向に垂直に分割するので形状加工が容易であ
り、不溶性電極とするための触媒被覆のコーティングも
容易であり、電極片1の形状寸法や被覆厚の精度がきわ
めて高くなる。そして、組み立てや取りはずし作業も容
易であり、組み立ての寸法精度もきわめて高い。これら
から寸法形状や被覆厚の精度のきわめて高い不溶性電極
10が実現し、得られる銅箔等の金属箔の欠陥もきわめ
て少なく、膜厚や膜質もきわめて均一となる。この際、
円周方向に分割するときのような膜厚の不均一や欠陥も
なく、また円周方向およびそれと垂直な方向に多数分割
するときのような組み立て時の労力や組み立て精度の低
下も格段と減少し、電解銅箔等の金属箔の膜質はきわめ
て良好なものとなる。
を増加することにより、エッジ効果を相対的に減少さ
せ、同時にめっき液のうず流の発生を減少させ、膜厚む
らをきわめて少ないものとし、連続運転による膜厚むら
の増大を減少し、寿命を長いものとすることができる。
このような効果を確認するための実験を以下に示す。
陽極ドラム7には約2m 径のTi回転円筒体を用いた。
また、アノード電極10、10としては、IrO2 を主
成分とする被覆をTi基板上に設けたものを用い、これ
を陰極ドラム7の周上に約10mmの間隙で、75°の円
弧成分長を占めるよう2個配置した。各電極10、10
は、図1、図2に示されるようにドラム軸方向に10分
割し、各電極片10の離間距離は0.5mmとした。
電極間隙を上方に流れるようにして循環した。めっき液
はCuSO4 、5H2 O 240g/l 、H2 SO4 1
20g/l を含み、浴温45℃、電流密度40A/m2とし、
18μm 厚の銅箔を連続製造した。
ところ1%以内であり、1年連続運転後も1%以内が維
持された。なお、ピンホールや異常析出物等の膜欠陥は
全くなかった。
一体化した断面円弧状のものとした他は上記と全く同一
の条件で連続運転を行ったところ、開始時は2%以内の
膜厚むらで、3ケ月後には2%をこえる以上の膜厚むら
となってしまった。これらから、本発明の効果が明らか
である。
である。
図である。
図である。
正面図である。
分割型不溶性電極
めっき方法と、それに使用される分割型不溶性電極の改
良に関するものである。
採用されてる。プリント配線基板には銅箔を必要とする
が、その製造には通常電解銅箔が用いられている。電解
銅箔の製造に際しては、ピンホール・異常析出物等の点
欠陥が発生せず、均一な厚みをもつようにする必要があ
る。
て説明するならば、陰極としてTiあるいはSUS製回
転ドラムを用い、陽極として、例えば陰極ドラム7のほ
ぼ1/4円周の断面円弧状の電極10として鉛板を2枚
下方に設置し、電極10、10間から電解液を供給し、
この間隙内にめっき液を流す構造としている。この装置
に直流電流を流し陰極ドラム7に銅を析出させ、この析
出銅を連続的に剥離し巻き取っている。
あるいはPbとSb、Sn、Ag、In、Caその他の
二元あるいは多元合金である。このため陽極表面に生成
した酸化鉛が、電解浴中にPbイオンとして溶け込み、
電解浴中の硫酸イオンと反応して、硫酸鉛を形成し浴中
に懸濁してしまう。この硫酸鉛のスラツジは濾過器を設
置して除去することができるが、この保守作業には多大
な労力を要する。スラツジの除去が不十分であると、ス
ラッジは電解槽や配管の内壁面に堆積して液の流に悪影
響を及ぼす。さらに、陰極ドラムに硫酸鉛のスラツジが
付着すると、その画所にピンホールもしくは異常析出物
等の点欠陥が発生する。これは前記のとおり銅箔の致命
的欠陥となる。
エロージョンにより局部的に鉛が損耗するため極間距離
が場所により異なってくる。この対策として定期的に鉛
陽極の表面を切削しているが、製造稼働率の低下もさる
ことながら、極間の距離の増大のため槽電圧の上昇すな
わち製造コストの上昇につながってしまう。そして、極
間距離の不均一により、銅箔幅方向の厚みむらが生じて
しまう。
ンホールや、異常折出物の発生を防止し、鉛の損耗によ
る極間距離の不均一化により生じる銅箔幅方向の厚みむ
らを解決するなどのため、陰極ドラムに対向する円弧板
状陽極として、Ti、Ta、Nb、Zr等の弁金属基体
表面に主として白金族の金属あるいはその酸化物を触媒
として被覆した電極を不溶性陽極を使用する旨の提案が
なされている(特公平1−56153号公報)。
法でも、局部的な陽極の損耗や、陰極側の銅の異常析出
によるショートは生じてしまう。しかし一体化した陽極
円弧板を用いているため、これらの補修は、陽極全体を
取り替えずには行なうことができず、陽極を装置に放置
するハンドリングなど、保守ないし補修作業やそのコス
ト、設備コスト等を高め、めっき設備の稼働率を下げる
要因となっている。
板を用いると、通電時に電流密度のいわゆるエッジ効果
が生じる。そして、このエッジ効果は、特にめっき液供
給口付近の陽極板端部付近に電流を集中させ、一体化し
た陽極板の一部分のみの電極触媒被覆層の消耗をひきお
こし、銅箔の幅方向の膜厚が不均一となり、膜厚むらが
生じる。また、膜厚むらは連続運転とともに増大し、や
がて実用に耐えないものとなるので、陽極の寿命も短い
ものとなっている。そして、このような現象は特に20
μm以下と膜厚の薄い銅箔の製造において重大なものと
なる。実際、上記特公平1−56153号公報でも、1
8μmの銅箔を得る際に、膜厚むらは2%以内であると
記載されており、膜厚むらを1%以内にはできていな
い。この他、円弧状の基体には被覆形成がしにくく、製
造が困難で被覆厚さも均一化が難しいという欠点もあ
る。
いし補修を容易に行なうことができ、しかも膜厚むらが
少なく、陽極寿命の長い電解銅箔等の金属箔を得るため
の電気めっき方法と、それに用いる分割型不溶性電極を
提供することにある。
(1)〜(8)の本発明により達成される。
位置に、所定の間隙を隔てて陽極を対向配置し、これに
通電して前記陰極ドラムに金属を析出させて剥離して電
解金属箔を得る場合において、弁金属基体に、白金属の
金属またはその酸化物を被覆した複数の電極片を用い、
この電極片をバックプレート上に前記陰極ドラムの回転
軌跡に沿って順次配置し、前記バックプレートと前記陰
極ドラム側から固定して導通させるとともに、前記電極
片を着脱可能として前記陽極とする電気めっき方法。
が70μm以下である上記(1)の電気めっき方法。
めっき液を流す上記(1)または(2)の電気めっき方
法。
互いの陰極ドラム側表面が5mm以下の距離で離間ない
し接続されている上記(1)ないし(3)のいずれかの
電気めっき方法。
離して電解金属箔を製造する際に、陰極ドラムの回転駆
動方向の所定の位置に、所定間隙を隔てて対向配置して
用いる陽極であって、前記陰極ドラムの駆動方向に対し
て垂直に分割された複数の電極片を有し、この電極片は
弁金属基体に、白金族の金属またはその酸化物を被覆し
たものであって、この電極片をバックプレート上に前記
陰極ドラム側から導電性固定具により着脱自在に連結し
た電気めっき用分割型不溶性電極。
が70μm以下である上記(5)の電気めっき用分割型
不溶性電極。
めっき液を流す上記(5)または(6)の電気めっき用
分割型不溶性電極。
互いの陰極ドラム側表面が5mm以下の距離で離間ない
し接続されている上記(5)ないし(7)のいずれかの
電気めっき用分割型不溶性電極。
分割型不溶性電極の採用によってきわめて容易となる。
分割の仕方は、円弧板を、軸に平行な所定円弧ごとのス
トライプ片とするので電極片の製造も陽極組み立ても容
易であり、組み立て精度も高い。また、電極片の形状寸
法精度や、被覆厚の均一性も高い。
箔を得る際の膜厚むらの低減は、陽極板を複数の電極片
に分割して、陽極表面の端縁長を大とし、エッジを多数
作ることで、エッジ効果を減少させ、電流分布を均一化
することによって達成される。同時に連続運転によるエ
ッジ効果の増大率も減少し、電極片寿命も増大する。そ
して、これらから陽極寿命はきわめて長いものとなる。
分割型の電極を用いることは従来知られている。例え
ば、実開平1−149465号公報では、電気めっき鋼
板を製造する際に、めっき槽内にて鋼帯を連続的に直線
的に移動させながら、これに対向して陽極を配置する場
合において、陽極を鋼帯搬送方向に平行に分割したもの
が示されている(同公報第4図、第5図参照)。しか
し、本発明のように、回転する陰極ドラムの回転駆動方
向に平行に分割しようとすると、各分割片は等しく円弧
状としなければならず、特に弁金属基体上に白金族の金
属ないし酸化物被覆を設けるようなときには、製造がき
わめて困難である。また被覆厚を均一にすることも難し
い。しかも、これに加えて重要なことは、めっき基体
(鋼帯あるいは陰極ドラム)の搬送ないし回転方向と平
行に電極片を分割すると、電流密度の不均一が生じ、め
っき膜の長手方向にすじ状の欠陥や、幅方向の膜厚むら
が生じてしまい実用には耐えないが、この公報ではこの
点について着眼されていない。
開平2−136058号公報では、鋼帯を連続的に直線
移動させながらめっきを行なう場合において、鋼帯方向
および搬送(長手)方向に複数分割して電極小片を多数
組み合わせて形成した分割型電極が提案されている。し
かし、円弧状の電極を、その円弧方向(軸方向)および
幅方向双方とも分割しようとすると、組み立て作業に労
力を要し、組み立て精度が低く、各電極片の局部的損耗
や銅の異常折出が生じ、かえって保守、補修が難しくな
ってしまうことになる。また、幅方向の分割は膜厚むら
の発生に寄与してしまう。
れら平板型の分割型電極を円弧状電極にそのまま応用し
たときの欠点をすべて解消するものである。
は、磁性薄膜の製追において、陰極ローラに沿って、環
状の電解槽を設け、この電解槽を仕切板によって複数個
の分離槽として、各分離槽に個別に陽極を配置した例が
開示されている。このものは、陽極を分離するという点
では本発明と一見類似しているが、陽極を分割一体化し
ていないので、分離陽極の間隙でめっき液のうず流が生
じ膜厚の不均−が生じてしまう。このため、この公報で
は分離槽としているが、かえって液組成の不均一化を招
き、装置が複雑化し、その制御も難しいものとなってい
る。
46697号公報には、本発明と同様、複数の電極片を
用い、この電極片をバックプレート上に陰極ドラムの回
転軌跡に沿って順次配置し、各電極片をバックプレート
と導通させるとともに、電極片を着脱可能とする構成が
開示されている。しかし、この公報では各電極片はすべ
て陰極ドラムと反対側から、バックプレートにボード等
によって固定されている。しかし、このような固定法で
は保守に際し陰極ドラムとバックプレートをともに電解
槽から取りはずし取り出さなければならず、保守作業が
大がかりになってしまい、稼働率が低下する。
をさらに詳細に説明する。
の電極を複数個に分割した電極片の各々を、形状保持、
補強および導電のためのバックプレートへ導電性固定具
により着脱自在に取り付けている。以下、本発明の分割
不溶性電極について詳述する。
電極10の実施例が示される。図2および図4は、それ
ぞれ図1および図3の矢線方向の断面図である。図5は
図3の電極片1の平面図である。これらの図において不
溶性のアノードである電極10は、複数個の電極片1に
分割されており、その電極片1各々は、バックプレート
5に導電性のボルト3により着脱自在に取り付けられて
いる。ボルト3は陰極ドラム側から締めつけられる。こ
れにより保守に際してバックプレートを取りはずす必要
はなくなるので、保守作業がきわめて容易となる。バッ
クプレート5は、単板であっても、種々の構造をもつも
のであってもよいが、その内周ないし内周包絡面は、円
筒内周面のうち、所定の円弧成分をもち軸方向に平行な
わん曲面をなしている。この結果、図6に示されるよう
に曲率半径500〜2000mm程度で、45〜120
°程度の円弧状をなす電極10の内周面は、陰極ドラム
7の外周面と所定の間隔を隔てて対向配置可能となる。
なお、図6では、本発明の分割型不溶性電極10を陰極
ドラム7に2個対向配置している。そして、電極10、
10間からめっき液を供給し、ドラムー電極間隙間にめ
っき液を流している。
タル、ニオブ、ジルコン等やそれらの合金など、耐食性
を有する弁金属の導電金属板の陰極ローラ7(図6)と
対向する側の面にインジウムオキサイドなど白金族およ
び/または酸化物をコーティングしたコーティングタイ
プのものを用いている。電極片1の陰極ドラム7に対向
する側の表面形状は、単純に平面状にする他、表面積を
大にするために、凹凸状、格子状にすることができる。
電極片1は、陰極ドラム7の回転駆動方向に複数個(2
個以上)、好ましくは3〜100個程度、例えば10個
程度の電極片1に分割されている。
よび導電のための基板で、チタン等の耐食性を有する導
電金属板からなっている。また、バックプレート5は、
間隙内のめっき液流にうず流を生じさせず、膜厚むらを
防止する作用もあわせもつ。バックプレート5と複数の
不溶性電極片1とは図2、図4に示されるようなボルト
3等の給電導体で取り付けられている。すなわち、図
1、図2に示される例では、バックプレート5の所定位
置に、ボルト3に対応するタップ穴55が、また電極片
の所定位置に、ボルト3の貫通を可能とし、ボルト3の
頭部を係止する孔35が設けられており、電極片1を所
定位置に設置して、陰極ドラム側よりボルト3にて電極
片1を締め付けている。この場合は、締め付け時に、電
極片1の変形のないように締め付けトルクを管理する。
同様バックプレート5の所定位置にボルト3に対応する
タップ穴55が設けられている。また電極片1bには、
バックプレート側に突出し、孔35を有するボス15が
設けられており、この電極片1bのボス15をタップ穴
55に対応する位置に設置して、陰極ドラム側からボル
ト3にて電極片1を締め付ける。この際、締め付け時に
隣り合う電極片1aの隣接部にはつば17が設けられて
おり、電極片1a、1bのボス15とつば17とを係止
した状態で、ボス穴55にボルト3を螺合することによ
り、両電極片1a、1bが接触係止した状態でつなぎ合
わされて固定されている。これらの場合、陰極ドラム7
を取りはずしたのち、バックプレート5をそのままにし
て、陰極ドラム側からボルトを螺合したり取りはずした
りすることにより、電極片1を自由自在に着脱できる。
置された各電極片1は、ある程度相互に離間してエッジ
の数を増やすことが好ましい。ただし、本発明では、電
極片1への給電は、その後方のバックプレート5側から
行われるので、各電極片1がきわめて近接しても、各電
極片1の端縁はエッジとして働く。このため、各電極片
1の離間距離は、電極片1ごとの交換補修が容易である
ような距離とすればよく、一般に0.1mm以上とす
る。一方、バックプレート5の後端面(陰極ドラムと反
対側の面)は全面閉止されていても、一部に透孔等が存
在していてもよいが、通常は少なくとも電極片1の接続
部後方は閉止されていて、うず流の発生を防止して膜厚
むらを防止することが好ましい。うず流は、各電極片
1、1間の表面の間隙でも主じうるので、膜厚むらを極
力小さくするために、その表面離間距離は5mm程度以
内、特に3mm程度以内とすることが好ましい。なお、
逆T字状の絶縁部材を用い、この上に隣接する電極片1
を載置し、電極片表面位置と、電極対間間隙との位置決
めを行うように構成してもよい。
0は、図6に示されるように、めっき槽内にて、回転駆
動される陰極ドラム7と所定間隙長隔てて対向配置さ
れ、バックプレート5に接続されたブスバー2から供電
され、めっきが行なわれる。陰極ドラム7上に堆積した
鋼8は陰極ドラム7から剥離され、巻き取りドラム9に
巻き取られる。
てきたが、本発明の効果は他の金属箔でも同様に実現す
る。ただ、特に本発明の膜厚むら減少効果は、70μm
以下、特に20μm以下の電解銅箔の作製において顕著
であり、2%以内、特に1%以内の膜厚むらを容易に実
現できる。また、このような小さな膜厚むらを例えば1
年以上にわたって維持できる。
割した電極片1を用いており、この分割した電極片1を
バックプレート5に着脱自在に取り付けているので、陽
極面の局部的な損傷の補修や、陰極ドラム7側の銅等の
金属の異常析出によるショートによる陽極の補修を、電
極片1ごとに部分的に行なうことができるので、従来の
ようにアノード全体を取り替える必要がない。また、電
極片の取り替えに際し、陰極ドラム7のみをとり外せば
よく、バックプレート5をとり外す必要がない。従っ
て、陽極の保守、修理が容易であり、また、陽極自体の
寿命も延びる。
に円周方向に垂直に分割するので形状加工が容易であ
り、不溶性電極とするための触媒被覆のコーティングも
容易であり、電極片1の形状寸法や被覆厚の精度がきわ
めて高くなる。そして、組み立てや取りはずし作業も容
易であり、組み立ての寸法精度もきわめて高い。これら
から寸法形状や被覆厚の精度のきわめて高い不溶性電極
10が実現し、得られる銅箔等の金属箔の欠陥もきわめ
て少なく、膜厚や膜質もきわめて均一となる。この際、
円周方向に分割するときのような膜厚の不均一や欠陥も
なく、また円周方向およびそれと垂直な方向に多数分割
するときのような組み立て時の労力や組み立て精度の低
下も格段と減少し、電解銅箔等の金属箔の膜質はきわめ
て良好なものとなる。
を増加することにより、エッジ効果を相対的に減少さ
せ、同時にめっき液のうず流の発生を減少させ、膜厚む
らをきわめて少ないものとし、連続運転による膜厚むら
の増大を減少し、寿命を長いものとすることができる。
このような効果を確認するための実験を以下に示す。
陽極ドラム7には約2m径のTi回転円筒体を用いた。
また、アノード電極10、10としては、IrO2を主
成分とする被覆をTi基板上に設けたものを用い、これ
を陰極ドラム7の周上に約10mmの間隙で、75°の
円弧成分長を占めるよう2個配置した。各電極10、1
0は、図1、図2に示される例において、ドラム軸方向
に10分割し、各電極片1の離間距離は0.5mmとし
た。
電極間隙を上方に流れるようにして循環した。めっき液
はCuSO4、5H2O 240g/1、H2SO4
120g/1を含み、浴温45℃、電流密度40A/m
2とし、18μm厚の銅箔を連続製造した。
ところ1%以内であり、1年連続運転後も1%以内が維
持された。なお、ピンホールや異常析出物等の膜欠陥は
全くなかった。
一体化した断面円弧状のものとした他は上記と全く同一
の条件で連続運転を行ったところ、開始時は2%以内の
膜厚むらで、3ケ月後には2%をこえる以上の膜厚むら
となってしまった。これらから、本発明の効果が明らか
である。
である。
図である。
正面図である。
Claims (8)
- 【請求項1】 陰極ドラムの回転駆動方向の所定の位置
に、所定の間隙を隔てて陽極を対向配置し、これに通電
して前記陰極ドラムに金属を析出させて剥離して電解金
属箔を得る場合において、 弁金属基体に、白金属の金属またはその酸化物を被覆し
た複数の電極片を用い、この電極片をバックプレート上
に前記陰極ドラムの回転軌跡に沿って順次配置し、前記
バックプレートと導通させるとともに、前記電極片を着
脱可能として前記陽極とする電気めっき方法。 - 【請求項2】 前記金属箔が銅箔であり、その厚さが7
0μm 以下である請求項1の電気めっき方法。 - 【請求項3】 前記陰極ドラムと前記陽極との間にめっ
き液を流す請求項1または2の電気めっき方法。 - 【請求項4】 隣接配置される前記電極片は、互いの陰
極ドラム側表面が5mm以下の距離で離間ないし接続され
ている請求項1ないし3のいずれかの電気めっき方法。 - 【請求項5】 陰極ドラム上に金属を析出させて剥離し
て電解金属箔を製造する際に、陰極ドラムの回転駆動方
向の所定の位置に、所定間隙を隔てて対向配置して用い
る陽極であって、 前記陰極ドラムの駆動方向に対して垂直に分割された複
数の電極片を有し、 この電極片は弁金属基体に、白金族の金属またはその酸
化物を被覆したものであって、この電極片をバックプレ
ート上に導電性固定具により着脱自在に連結した電気め
っき用分割型不溶性電極。 - 【請求項6】 前記金属箔が銅箔であり、その厚さが7
0μm 以下である請求項5の電気めっき用分割型不溶性
電極。 - 【請求項7】 前記陰極ドラムと前記陽極との間にめっ
き液を流す請求項5または6の電気めっき用分割型不溶
性電極。 - 【請求項8】 隣接して配置される前記電極片は、互い
の陰極ドラム側表面が5mm以下の距離で離間ないし接続
されている請求項5ないし7のいずれかの電気めっき用
分割型不溶性電極。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05681592A JP3207909B2 (ja) | 1992-02-07 | 1992-02-07 | 電気めっき方法および電気めっき用分割型不溶性電極 |
TW082100405A TW275089B (ja) | 1992-02-07 | 1993-01-21 | |
DE69314972T DE69314972T3 (de) | 1992-02-07 | 1993-01-28 | Galvanisierverfahren, Vorrichtung zur Herstellung einer Metallfolie und dabei verwendete geteilte unlösliche Elektrode |
EP93101305A EP0554793B2 (en) | 1992-02-07 | 1993-01-28 | Electroplating method and apparatus for the preparation of metal foil and split insoluble electrode used therein |
KR1019930001350A KR100196095B1 (ko) | 1992-02-07 | 1993-02-01 | 전기도금방법, 금속박의 제조장치 및 전기도금용 분할형 불용성전극 |
US08/245,076 US5628892A (en) | 1992-02-07 | 1994-05-17 | Electroplating method and apparatus for the preparation of metal foil and split insoluble electrode used therein |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05681592A JP3207909B2 (ja) | 1992-02-07 | 1992-02-07 | 電気めっき方法および電気めっき用分割型不溶性電極 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05230686A true JPH05230686A (ja) | 1993-09-07 |
JP3207909B2 JP3207909B2 (ja) | 2001-09-10 |
Family
ID=13037877
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP05681592A Expired - Lifetime JP3207909B2 (ja) | 1992-02-07 | 1992-02-07 | 電気めっき方法および電気めっき用分割型不溶性電極 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5628892A (ja) |
EP (1) | EP0554793B2 (ja) |
JP (1) | JP3207909B2 (ja) |
KR (1) | KR100196095B1 (ja) |
DE (1) | DE69314972T3 (ja) |
TW (1) | TW275089B (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07331496A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-12-19 | Comptoir Lyon Alemand Louyot | 電気メッキ装置用の可溶性陽極 |
JPH08209396A (ja) * | 1994-12-30 | 1996-08-13 | Ishifuku Metal Ind Co Ltd | 電解用複合電極 |
JP2001164395A (ja) * | 2000-02-04 | 2001-06-19 | Mifune Tekkosho:Kk | 電解銅箔の製造装置 |
JP2010242129A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 電解金属箔製造装置並びに電解金属箔製造装置に用いる薄板状不溶性金属電極の製造方法及びその電解金属箔製造装置を用いて得られた電解金属箔 |
JP2018188679A (ja) * | 2017-04-28 | 2018-11-29 | 株式会社大阪ソーダ | 電極構造体 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW318320B (ja) * | 1995-08-07 | 1997-10-21 | Eltech Systems Corp | |
JP3388693B2 (ja) * | 1996-12-04 | 2003-03-24 | 日本ステンレス工材株式会社 | 電着ドラム |
WO1999067448A1 (fr) * | 1998-06-22 | 1999-12-29 | Daiso Co., Ltd. | Anode insoluble pouvant se detacher librement |
US6183607B1 (en) * | 1999-06-22 | 2001-02-06 | Ga-Tek Inc. | Anode structure for manufacture of metallic foil |
US6278210B1 (en) | 1999-08-30 | 2001-08-21 | International Business Machines Corporation | Rotary element apparatus with wireless power transfer |
DE10100297A1 (de) * | 2001-01-04 | 2002-07-18 | Gesimat Gmbh | Vorrichtung und Verahren zur elektrochemischen Beschichtung |
KR100554736B1 (ko) * | 2001-09-10 | 2006-02-24 | 주식회사 포스코 | 강판 도금셀내의 아노드 돌출피막 자동 제거장치 |
US7494576B2 (en) * | 2004-08-26 | 2009-02-24 | General Electric Company | Electroplating apparatus and method for making an electroplating anode assembly |
CN102534696B (zh) * | 2011-11-21 | 2015-05-27 | 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 | 一种改进型生箔机 |
DE102012103846A1 (de) * | 2012-05-02 | 2013-11-07 | Ipt International Plating Technologies Gmbh | Verstellbare Anode |
CN106039966B (zh) * | 2016-07-13 | 2019-01-04 | 煤科集团沈阳研究院有限公司 | 煤矿井下机载式同步硫化氢处理装置及处理方法 |
KR101879080B1 (ko) * | 2016-12-21 | 2018-07-16 | 주식회사 포스코 | 철-니켈 합금 포일 제조장치 |
CN111411383B (zh) * | 2020-03-31 | 2021-10-29 | 上海天马微电子有限公司 | 一种不锈钢箔的加工方法、不锈钢箔及柔性显示装置 |
CN112251780B (zh) * | 2020-09-07 | 2021-11-05 | 浙江大学 | 一种改进的平板电沉积铜箔制备方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA682872A (en) * | 1964-03-24 | A. Mcneill John | Apparatus for electroplating cylinders | |
US3853739A (en) * | 1972-06-23 | 1974-12-10 | Electronor Corp | Platinum group metal oxide coated electrodes |
JPS535036A (en) * | 1976-07-06 | 1978-01-18 | Toppan Printing Co Ltd | Electrocasting device |
JPS53100138A (en) * | 1977-02-15 | 1978-09-01 | Mitsui Mining & Smelting Co | Device of producing metal foil or metal sheet by high speed electrolytic method |
US4119515A (en) † | 1977-03-28 | 1978-10-10 | National Steel Corporation | Apparatus for electroplating sheet metals |
US4218794A (en) † | 1979-03-23 | 1980-08-26 | Illinois Tool Works Inc. | Hole-drilling and fastener-driving combination tool |
US4318794A (en) † | 1980-11-17 | 1982-03-09 | Edward Adler | Anode for production of electrodeposited foil |
AU602673B2 (en) * | 1985-12-24 | 1990-10-25 | Gould Electronics Inc | Electroplating metal foil |
JPH0620076B2 (ja) * | 1987-12-04 | 1994-03-16 | 日本電気株式会社 | ヘテロ接合バイポーラトランジスタ |
JPS6456153A (en) * | 1987-08-27 | 1989-03-03 | Yoshikage Oda | Low-temperature cold reserving device |
US4936971A (en) * | 1988-03-31 | 1990-06-26 | Eltech Systems Corporation | Massive anode as a mosaic of modular anodes |
US4956053A (en) * | 1988-05-26 | 1990-09-11 | Olin Corporation | Apparatus and process for the production of micro-pore free high ductility metal foil |
JPH02136059A (ja) * | 1988-11-16 | 1990-05-24 | Toshiba Corp | リニアモータ |
US5019221A (en) * | 1989-01-18 | 1991-05-28 | Yates Industries | Electroplating drum cathode with high current-carrying capability |
US5017275A (en) * | 1989-10-23 | 1991-05-21 | Eltech Systems Corporation | Electroplating cell anode |
DE3940044C2 (de) * | 1989-12-04 | 1994-08-11 | Heraeus Elektrochemie | Anodenanordnung für elektrolytische Prozesse |
-
1992
- 1992-02-07 JP JP05681592A patent/JP3207909B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-01-21 TW TW082100405A patent/TW275089B/zh not_active IP Right Cessation
- 1993-01-28 DE DE69314972T patent/DE69314972T3/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-01-28 EP EP93101305A patent/EP0554793B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-02-01 KR KR1019930001350A patent/KR100196095B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1994
- 1994-05-17 US US08/245,076 patent/US5628892A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07331496A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-12-19 | Comptoir Lyon Alemand Louyot | 電気メッキ装置用の可溶性陽極 |
JPH08209396A (ja) * | 1994-12-30 | 1996-08-13 | Ishifuku Metal Ind Co Ltd | 電解用複合電極 |
WO1997034029A1 (fr) * | 1994-12-30 | 1997-09-18 | Ishifuku Metal Industry Co., Ltd. | Electrode composite pour electrolyse |
US6051118A (en) * | 1994-12-30 | 2000-04-18 | Ishifuku Metal Industry Co., Ltd. | Compound electrode for electrolysis |
KR100391839B1 (ko) * | 1994-12-30 | 2003-11-28 | 이시후꾸 긴조꾸 고오교 가부시끼가이샤 | 전해용복합전극 |
JP2001164395A (ja) * | 2000-02-04 | 2001-06-19 | Mifune Tekkosho:Kk | 電解銅箔の製造装置 |
JP2010242129A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 電解金属箔製造装置並びに電解金属箔製造装置に用いる薄板状不溶性金属電極の製造方法及びその電解金属箔製造装置を用いて得られた電解金属箔 |
JP4642120B2 (ja) * | 2009-04-01 | 2011-03-02 | 三井金属鉱業株式会社 | 電解金属箔製造装置並びに電解金属箔製造装置に用いる薄板状不溶性金属電極の製造方法及びその電解金属箔製造装置を用いて得られた電解金属箔 |
KR101157340B1 (ko) * | 2009-04-01 | 2012-06-15 | 페르메렉덴꾜꾸가부시끼가이샤 | 전해금속박 제조장치 및 전해금속박 제조장치에 사용하는 박판형 불용성 금속전극의 제조방법 및 그 전해금속박 제조장치를 이용하여 얻어진 전해금속박 |
JP2018188679A (ja) * | 2017-04-28 | 2018-11-29 | 株式会社大阪ソーダ | 電極構造体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69314972D1 (de) | 1997-12-11 |
KR930018058A (ko) | 1993-09-21 |
DE69314972T2 (de) | 1998-06-10 |
EP0554793B2 (en) | 2003-10-29 |
EP0554793B1 (en) | 1997-11-05 |
DE69314972T3 (de) | 2004-07-22 |
US5628892A (en) | 1997-05-13 |
EP0554793A1 (en) | 1993-08-11 |
TW275089B (ja) | 1996-05-01 |
KR100196095B1 (ko) | 1999-06-15 |
JP3207909B2 (ja) | 2001-09-10 |
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