JPH0820172A - 凸版及びこれを用いた印刷方法 - Google Patents

凸版及びこれを用いた印刷方法

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JPH0820172A
JPH0820172A JP6155834A JP15583494A JPH0820172A JP H0820172 A JPH0820172 A JP H0820172A JP 6155834 A JP6155834 A JP 6155834A JP 15583494 A JP15583494 A JP 15583494A JP H0820172 A JPH0820172 A JP H0820172A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】バーコードパターン等微細パターンの形成に適
した凸版及びこれを用いた印刷方法を提供する。 【構成】版本体凸部11の少なくともインキ受容部表面
が加水硬化型シリコーン樹脂により構成されている。こ
れによれば、表面は未硬化のインキに対し親和性である
ため凸部へのインキングが可能であり、硬化後のインキ
に対し離型性であるため適宜粘着剤を介し硬化後のイン
キを被印刷体へ転移可能となる。この際、インキは硬化
しているためマージナルゾーンの発生を抑制でき、かつ
インキの膜厚が厚く設定できてピンホールも生じ難くな
リ、硬化後のインキ全量が転移されてインキ膜厚に定量
性を有し微細パターンの印刷が可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は微細パターンを印刷形成
する技術に係り、特に、バーコードパターン、プリント
回路板のレジストパターン、プリント配線基板の配線若
しくは抵抗パターン、カラーフィルターの着色層パター
ン等微細パターンの形成に適した凸版及びこれを用いた
印刷方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、上述した微細パターンを印刷形成
するための手段としては凸版及び凸版印刷はほとんど使
用されていなかった。その主な理由は、マージナルゾー
ンの発生によって微細パターンを正確に形成することが
難しかったからであった。すなわち、凸版印刷方式にお
いては図10に示すように版本体aの凸部a1に供給さ
れたインキbを被印刷体cへ転写させる際、その印圧に
よりインキbはつぶされて凸部a1と被印刷体cとの隙
間部から外方へ押し出されるため、図11に示すように
被印刷体cに転写形成されるインキパターンは上記凸部
a1のパターンより一回り大きくなってしまい(この現
象により発生した本来のパターンより外方へ拡がった領
域をマージナルゾーンと称する)、かつ、そのインキ膜
厚も印圧が作用した部位とそうでない部位とで不均一に
なることからインキ膜厚一定の微細パターンを正確に形
成できなかったためであった。
【0003】尚、インキの厚さを薄く設定して上記マー
ジナルゾーンの発生を低減させる方法も知られている
が、この様な方法を採った場合、インキの膜厚が薄くな
る分ピンホール等が発生し易くなり上述した用途には適
用困難な問題を有していた。
【0004】このため、上述したプリント回路板のレジ
ストパターンやバーコードパターン等の微細パターンを
印刷形成するための手段としては、通常、スクリーン印
刷法や凹版印刷法が利用されていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、電子技術の
進歩に伴い素子類のサイズは益々小さくなっており、こ
れに伴って配線パターンのより微細化(例えば配線パタ
ーンの線幅が20〜30μm程度)が求められている。
【0006】また、光学的あるいは磁気的に読取られる
バーコードの分野においても小面積で多量の情報を記録
できるようその微細化が求められており、同様に、証
券、カード等に印刷パターンを形成しこの印刷パターン
を電子機器で読取る分野においても記録密度並びに偽造
防止の向上を図る観点から上記印刷パターンの微細化と
設計仕様に対する高忠実化が求められている。
【0007】しかし、この様な微細化の要求に対し上記
スクリーン印刷方式においてはその解像度が高々70〜
100μm程度に過ぎないため、このスクリーン印刷に
より線幅20〜30μm程度のパターンを形成すること
は困難であった。
【0008】一方、凹版印刷方式においても印刷すべき
パターンの線幅が20〜30μm程度になると凹版内部
に充填されたインキが被印刷体へ転移され難くなり、か
つ、この現象は被印刷体表面が凹凸を有する場合に顕著
であった。
【0009】この様にスクリーン印刷や凹版印刷による
従来の方法では上述した配線パターンやバーコードパタ
ーン等の微細化に対応困難な問題点を有していた。
【0010】本発明はこの様な問題点に着目してなされ
たもので、その課題とするところは、線幅20〜30μ
m程度の微細パターンを含み設計仕様に忠実な印刷パタ
ーンの形成の要求に対応可能な印刷版並びに印刷方法を
提供することにある。
【0011】また、一般の樹脂を用いた場合、その製造
方法において加熱加圧等を必要とするため、単に工程が
容易になったのみならず、他の部材の温度や受光による
物理的寸法変化や変形、化学的変化により良質な版を容
易に得ることが困難であった。
【0012】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者等は線
幅20〜30μm程度の微細パターンに対応可能な印刷
版並びに印刷方法を求めるため鋭意研究した結果、従
来、上述した理由からこの種のパターン形成にあまり利
用されていなかった上記凸版印刷方式に着目するに至っ
た。
【0013】すなわち、この凸版印刷方式は上述のマー
ジナルゾーン等の問題を有している反面、スクリーン印
刷方式と相違して微細パターンの形成に対応可能な解像
度を有し、かつ、凹版印刷方式と相違して微細パターン
であってもインキの転写性に支障を来すことがなくしか
も被印刷体表面に多少の凹凸が存在しても印刷可能な特
性を有している。
【0014】従って、この凸版印刷方式においてインキ
の膜厚を厚く設定しても上記マージナルゾーンの発生が
最小限に抑えられる何らかの手段を工夫することにより
上記目的に対処できることが予測されるからである。発
明者等のこの様な予測のもと試行錯誤を繰り返しながら
本発明は完成されるに至ったものである。
【0015】すなわち、請求項1に係る発明は、版本体
の凸部に供給されたインキを被印刷体へ転写する凸版を
前提とし、少なくとも上記凸部のインキ受容部表面が加
水硬化型シリコーン樹脂により構成されていることを特
徴とするものである。
【0016】加水硬化型シリコーン樹脂は別の表現とし
て縮合型シリコーン樹脂と言われるものである。硬化機
構は次式に示す様に、組成物中のSiOH基とSiX基
の縮合反応である。
【0017】−Si−O−H + X−Si ⇒ −S
i−O−Si− + HX (但し Xはメトキシ、ケトオキシム、アセトキシで代
表される加水分解性の有機基を示す)
【0018】なお、硬化途中で硬化に必要なSiOH基
が加水分解によって供給され続けるためには水分(H2
O)が不可欠であり、これゆえ加水硬化型とか加湿硬化
型と呼ばれる。
【0019】この請求項1記載の発明に係る凸版におい
ては凸部の少なくともインキ受容部表面が加水硬化型シ
リコーン樹脂により構成されており、この加水硬化型シ
リコーン樹脂は未硬化の硬化性インキに対し親和性を有
しているため凸部へのインキングが可能であり、かつ、
この加水硬化型シリコーン樹脂は硬化後の硬化性インキ
に対しては離型性を有するため適宜粘着剤を介し上記硬
化後の硬化性インキを被印刷体へ転移させることが可能
となる。そして、転移されるインキに対し印圧が作用し
てもこの転移時のインキは硬化しているためインキの膜
厚が厚く設定されていても凸部と被印刷体との隙間部か
らこのインキが外方へ押し出され難くなる。
【0020】従って、上述したマージナルゾーンの発生
を抑制でき、かつ、インキの膜厚を厚く設定できること
からピンホールも生じ難くなると共に硬化後のインキが
凸部から離型し易くインキの全量が転移されることから
インキ膜厚に定量性を有し、更に、凸版印刷の特性に起
因して微細パターンの印刷が可能となる。
【0021】シリコーン樹脂が凸版のインキ受容部の少
なくとも一部に使用されている例はない。但し、シリコ
ーン樹脂の一種であるシリコーンゴムがオフセット印刷
のブランケットに使用されていることはある。シリコー
ン樹脂といっても一概に未硬化インキをはじくものでは
ない。
【0022】本発明者等は各種シリコーン樹脂について
検討した結果、未硬化型インキに対する受容性が高く、
硬化したインキに対する離型性が優れているものとして
加水硬化型シリコーン樹脂を見出した。
【0023】この場合のインキとしては、従来使用され
ている硬化型インキを試験対象とした。従って本願発明
に使用できるインキは乾油(アマニ油など)系、アクリ
ル樹脂系、アルキッド樹脂系、エポキシ樹脂系である。
これ以外の樹脂系であっても後に述べるインキの未硬化
時の版との濡れ接着と硬化インキと版の間の固体間の接
着の作用機構によれば他の硬化インキでも本願発明の
版、印刷方法を適用し得るものが多い。
【0024】この様な作用を有するインキ受容部表面を
加水硬化型シリコーン樹脂により構成されると未硬化の
硬化性インキと加水硬化型シリコーン樹脂間の付着エネ
ルギーが、これ等未硬化の硬化性インキ又は加水硬化型
シリコーン樹脂の凝集エネルギーより大きいため、未硬
化の硬化性インキと親和性(すなわち濡れ性)を有す
る。
【0025】また、硬化インキ離型性材料の表面に硬化
性インキと化合結合をする活性基がなく、更に水酸基や
カルボキシル基等の水素結合を発生させ得る基を有しな
い版本体凸部の少なくともインキ受容部表面へ表面平滑
に製膜される材料である。
【0026】更に、加水硬化型シリコーン樹脂は、加熱
もしくは露光を必要とせず、水もしくは湿気により容易
に硬化するために、加熱もしくは露光による他の部材へ
の影響を最小限に抑えることが可能である。
【0027】次に、加水硬化型シリコーン樹脂で構成す
る部位は上述したように版本体凸部の少なくともインキ
受容部表面である。従って、図1(B)に示すように版
本体10における凸部11のインキ受容部表面のみを加
水硬化型シリコーン樹脂12で覆う構成にしてもよい
し、図1(D)に示すように版本体10表面を一様に加
水硬化型シリコーン樹脂12で覆う構成にしてもよい。
【0028】また、図1(C)に示すように版本体10
における凸部11のみを加水硬化型シリコーン樹脂で構
成してもよいし、図1(E)に示すように加水硬化型シ
リコーン樹脂で構成された凸部11が接着剤20を介し
て版ベース13に接着された構造にしてもよい。
【0029】更に、図1(A)に示すように版本体10
の全体を加水硬化型シリコーン樹脂で構成する構造にし
てもよい。請求項2及び請求項3に係る発明は加水硬化
型シリコーン樹脂で構成する部位を特定した発明に関す
る。
【0030】すなわち、請求項2に係る発明は、請求項
1記載の発明に係る凸版を前提とし、上記凸部の全体が
加水硬化型シリコーン樹脂により構成されていることを
特徴としており、また、請求項3に係る発明は、請求項
1記載の発明に係る凸版を前提とし、上記版本体の全体
が加水硬化型シリコーン樹脂により構成されていること
を特徴とするものである。
【0031】次に、請求項4に係る発明は上記版本体に
おける凸部の形成材料を特定した発明に関する。
【0032】すなわち、請求項4に係る発明は、請求項
1記載の発明に係る凸版を前提とし、上記凸部が感光性
樹脂により構成されていることを特徴とするものであ
る。
【0033】また、請求項5〜6に係る発明は、上記版
本体若しくは版本体における凸部等が加水硬化型シリコ
ーン樹脂で構成される場合の手段を特定した発明に関す
る。
【0034】すなわち、請求項5に係る発明は、請求項
2記載の発明に係る凸版を前提とし、上記凸部が、加水
硬化型シリコーン樹脂をレーザ加工機により加工するレ
ーザ加工法又は凸部形状にパターン化された加水硬化型
シリコーン樹脂を転写する転写法により形成されている
ことを特徴とし、また、請求項6に係る発明は、請求項
3記載の発明に係る凸版を前提とし、上記版本体が、加
水硬化型シリコーン樹脂膜をレーザ加工機により加工す
るレーザ加工法又は液状の加水硬化型シリコーン樹脂を
型材に注入しこれを硬化させる型取り法により形成され
ていることを特徴とするものである。
【0035】すなわち、図1(A)に示された構造の凸
版を製造するには、液状の加水硬化型シリコーン樹脂を
型材に注入しこれを硬化させる型取り法により製造する
ことができ、あるいは加水硬化型シリコーン樹脂膜をレ
ーザ加工機により加工するレーザ加工法により製造する
ことも可能である。また、サンドブラスト法、機械的な
加工法、並びにエッチング法等により製造することも当
然のことながら可能である。
【0036】また、図1(B)に示された構造の凸版を
製造するには、通常の方法により凸版を予め形成してお
き、凸部11表面に加水硬化型シリコーン樹脂を塗布若
しくは転写して加水硬化型シリコーン樹脂層12を形成
し製造することができる。尚、転写手段を用いる場合、
接着剤層を凸部に形成することも版本体全体に形成する
ことも可能である。
【0037】また、凸部のインキ受容部表面のみに加水
硬化型シリコーン樹脂層12を形成する以外に、図1
(D)に示すように版本体10の全面に加水硬化型シリ
コーン樹脂層12を形成してもよいし、あるいは、図1
(B)と図1(D)の中間の状態に形成してもよい。
【0038】但し、図1(D)の構造を採った場合に
は、印刷されるパターンが加水硬化型シリコーン層12
の分だけ大きくなるため、その分を予め見込んで最初の
凸部寸法を設定することを要する。
【0039】また、図1(C)に示された構造の凸版を
製造するには、版ベース13上に加水硬化型シリコーン
樹脂層を製膜しておき、加水硬化型シリコーン樹脂層の
不要部をレーザ加工機等で機械的熱的に除去する方法が
挙げられる。また転写法を用いることができ、更にリフ
トオフ法を用いることも可能である。この場合、平版印
刷に用いられる水なし版のように『こすり現像』を行う
必要が生ずる場合がある。
【0040】次に、上記版ベース(凸版基板)として
は、通常の凸版に用いられるもの以外に、板状のもの、
フィルム状のものを用いることができる。材質も、金
属、高分子等が使用できる。金属としては、鉄、ステン
レス、銅、ニッケル、アンバー、アルミニウム等が例示
できる。
【0041】高分子材としては、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリイミド等が挙げられる。尚、図1
(A)〜(E)において版の機械的強度(特に抗張力)
と可撓性を得るため版基板15を組み込んだ構造となっ
ているが、この版基板15は本発明に係る凸版において
必須の構成部材ではなく必要に応じて適宜組み込まれる
ものである。
【0042】次に、請求項7〜請求項9に係る発明は、
上述した請求項1記載の発明に係る凸版を用いた印刷方
法に関するものである。
【0043】すなわち、請求項7に係る発明は、請求項
1記載の凸版を用いた印刷方法を前提とし、版本体の凸
部に未硬化の硬化性インキを供給し、かつ、版本体上で
この硬化性インキを硬化させた後、硬化した硬化性イン
キ層上に粘着性を有する物質を供給し、次いで、この粘
着性を有する物質層を介して被印刷体上へ硬化性インキ
層の全量を転写することを特徴とし、他方、請求項8に
係る発明は、版本体の凸部に未硬化の硬化性インキを供
給し、かつ、版本体上でこの硬化性インキを硬化させた
後、粘着性を有する物質層が形成された被印刷体上へこ
の粘着性を有する物質層を介して硬化性インキ層の全量
を転写することを特徴とし、また、請求項9に係る発明
は、版本体の凸部に未硬化の硬化性インキを供給すると
共にこの未硬化の硬化性インキ層上に粘着性を発現し得
る物質を供給し、かつ、版本体上で上記硬化性インキを
硬化させ、更に、上記物質の粘着性を発現させた後、粘
着性が発現された上記物質層を介して被印刷体上へ硬化
性インキ層の全量を転写することを特徴とするものであ
る。
【0044】これら請求項7〜請求項9に係る発明にお
いて『版本体上で硬化性インキを硬化させる』との意味
は、硬化性インキを完全に硬化させる場合以外に、硬化
は完了してはいないが版本体における凸部からの離型性
が発現されかつ印圧が作用してもマージナルゾーンを発
生させない程度の硬度を具備する硬化状態をも含まれる
意味である。また、上記凸部への硬化性インキの供給方
法は任意であり、通常の凸版へのインキング方式がその
まま適用可能である。
【0045】同様に、粘着性を有する物質若しくは粘着
性を発現し得る物質の供給方式についても任意である。
そして、これ等物質としては、目的に応じて適宜選定さ
れ、最終的に粘着でなく接着を望む場合には、紫外線硬
化型粘着性材料(例えばアクリル系紫外線硬化型粘着
剤)を使用したり、インキ中に粘着剤を硬化させる成分
(例えば重合開始剤、付加重合のための第二成分等)を
含有させて利用することもできる。
【0046】また、粘着性が経時的に消失しながら硬化
する樹脂を使用しこの粘着性を具備する内に使用するこ
とも可能である。また、空気中の水分やその他雰囲気中
の成分で硬化するものを適用してもよい。
【0047】一方、これ等印刷方法に適用できる硬化性
インキとしては、通常、オフセット印刷に利用される乾
性油(アマニ油等)系、アクリル樹脂系、アルキッド樹
脂系、エポキシ樹脂系等が挙げられる。
【0048】また、インキの硬化方法としては、紫外線
硬化、電子線硬化等の放射線硬化が即硬化性があり好ま
しいが、乾燥硬化、重合硬化、加湿硬化等の硬化であっ
てもよく、更に融点を利用した冷却凝固硬化であっても
よい。請求項10に係る発明はこの硬化性インキを特定
した発明に関する。
【0049】すなわち、請求項10に係る発明は、請求
項7、8又は9記載の発明に係る印刷方法を前提とし、
上記硬化性インキが、紫外線硬化型インキ、電子線硬化
型インキ、溶剤蒸発硬化型インキ、重合硬化型インキ、
及び、冷却凝固硬化型インキのいずれかであることを特
徴とするものである。
【0050】また、請求項11〜請求項14に係る発明
は、上述した請求項7〜請求項9記載の印刷方法を適用
した場合に顕著な効果を有する被印刷体若しくは印刷パ
ターンを特定した発明に関する。
【0051】すなわち、請求項11に係る発明は、請求
項7、8又は9記載の発明に係る印刷方法を前提とし、
上記硬化性インキが磁気バーコード用インキで構成さ
れ、かつ、印刷パターンが磁気バーコードパターンであ
ることを特徴とし、請求項12に係る発明は、上記硬化
性インキがレジストパターン用インキで構成され、か
つ、印刷パターンがプリント回路板のレジストパターン
であることを特徴とし、請求項13に係る発明は、上記
硬化性インキが導電性インキ又は電気抵抗性インキで構
成され、かつ、印刷パターンがプリント配線基板の配線
パターン又は抵抗体パターンであることを特徴とし、ま
た、請求項14に係る発明は、上記硬化性インキが顔料
若しくは染料配合の着色インキで構成され、かつ、印刷
パターンがカラーフィルターの着色層パターンであるこ
とを特徴とする。
【0052】
【作用】請求項1〜請求項6記載の発明に係る凸版によ
れば、凸部の少なくともインキ受容部表面が加水硬化型
シリコーン樹脂により構成されており、この加水硬化型
シリコーン樹脂は未硬化の硬化性インキに対し親和性を
有しているため凸部へのインキングが可能であり、か
つ、この加水硬化型シリコーン樹脂は硬化後の硬化性イ
ンキに対しては離型性を有するため適宜粘着剤を介し上
記硬化後の硬化性インキを被印刷体へ転移させることが
可能となる。
【0053】そして、転移されるインキに対し印圧が作
用してもこの転移時のインキは硬化しているため、イン
キの膜厚を厚く設定していても凸部と被印刷体との隙間
部からこのインキが外方へ押し出され難くなる。
【0054】従って、マージナルゾーンの発生を抑制で
き、かつ、インキの膜厚を厚く設定できることからピン
ホールも生じ難くなると共に硬化後のインキが凸部から
離型し易くインキの全量が転移されることからインキ膜
厚に定量性を有し、更に、凸版印刷の特性に起因して微
細パターンの印刷が可能となる。
【0055】また、請求項7〜請求項10記載の発明に
係る印刷方法によれば、請求項1〜請求項6記載の凸版
を用いて印刷を行う方式のため、多少の表面凹凸を有す
る被印刷体に対してもマージナルゾーンの発生が少な
く、インキ膜厚の定量性に優れかつピンホールも少ない
微細パターンの印刷が可能となる。
【0056】更に、請求項11〜請求項14記載の発明
に係る印刷方法によれば、請求項7〜請求項19記載の
印刷方法を適用しているため、幅寸法並びに厚み寸法精
度に優れた磁気バーコードパターン、レジストパター
ン、配線パターン若しくは抵抗体パターン、及び、カラ
ーフィルターの着色層パターンを形成することが可能と
なる。
【0057】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て詳細に説明する。
【0058】[実施例1]図1(A)に示した構造の凸
版を作成し、この凸版を用いてカードに対し線幅25μ
mと50μm、間隔25μm、磁気インキの膜厚10μ
mの磁気バーコードを印刷した実施例について説明す
る。
【0059】尚、磁気バーコードとは、通常のバーコー
ドが細・太の二種の幅をもった平行線のパターンをその
細・太の順序を光学的に読み取るのに対し、磁気を有す
るインキを用いて細・太の平行線のパターンを形成し、
磁気ヘッドによりその細・太の順序を磁気的に読み取る
ものである。
【0060】そして、光学式のバーコードは印刷された
パターンの色(通常、黒色)の濃度と幅、間隔に厳しい
仕様がある。一方、磁気式のバーコードは磁気量と共に
パターンの断面形状が重要となる。この理由は、磁気ヘ
ッドが検出する対象がバーコードの磁気量ではなく磁束
の時間変化であるからである。
【0061】尚、パターンの幅間隔についての仕様の厳
しさは光学式と同程度である。そして、通常実用されて
いる磁気バーコードのパターンは、図2(A)と(B)
に示すように線幅100μmと200μmの二種が10
0μm間隔で平行に並んだパターンである。
【0062】このパターンの形成方法は、従来、上述し
たスクリーン印刷で行われている。また、線幅が100
μmと200μmに設定されている理由はスクリーン印
刷で安定して印刷ができる下限に近い範囲だからであ
る。
【0063】但し、上記磁気ヘッドの読み取り解像度は
1μm以下も可能なことより、今後、記入すべき情報量
が増加した場合に備えて上記磁気バーコードのパターン
を微細化することが要請される。
【0064】そこで、この実施例においては、被印刷体
であるカードに対し上述したように線幅25μmと50
μm、間隔25μm、磁気インキの膜厚10μmの磁気
バーコードを印刷した。
【0065】『凸版の製造』以下、図1(A)に示され
た凸版を型取り法により製造する工程について説明す
る。
【0066】まず、型材基板30として厚さ0.3mm
のアンバー材を用いこの上に感光性樹脂(ヘキストジャ
パン社製 商品名AZLP−10)31を乾燥膜厚が2
0μmになるようにコートし、乾燥後、所定の磁気バー
コードパターンを有する露光用マスク32を介して露光
処理し(図3A参照)、かつ、所定の現像液を用いて現
像処理して図3(B)に示すような型材33を得た。
【0067】次に、加水硬化型シリコーン樹脂34(東
芝シリコーン株式会社製 商品名XR−31−A993
0)を上記型材33上に載置し(図3C参照)、かつ、
その表面を平坦にならした。
【0068】次いで、凸版の版ベース37として厚さ
0.3mmのアンバー材を使用し、この一面にプライマ
ー36として塩素化ポリオレフィン(山陽国策パルプ社
製 商品名スーパークロン822)を塗布し、このプラ
イマー36を間に介し加水硬化型シリコーン樹脂34上
に版ベース37を重ねた後、所定の厚さである30μm
間隔までプレスした(図3D参照)。
【0069】次に、上記型材33から引き剥がすと、加
水硬化型シリコーン樹脂35は上記プライマー36に接
着して型材33から離型し所望の凸版1が得られた。
【0070】以上の工程において上記感光性樹脂の種類
については、露光処理後現像可能なことが必要である。
ここで現像とは、不要部位を除去して必要部位のみのパ
ターンを得ることである。実際の材料としては、この実
施例において適用された塗布型のものとフィルム状にな
っているものがある。
【0071】この実施例のように厚さが30μmと厚い
ときにはフィルム状のものを適用する場合が多い。ま
た、上記感光性樹脂の必要な他の特性としては型材基板
30との接着性を有し、一方、上記型材基板30として
は感光性樹脂との密着性が良好であることが必要であ
る。また、後工程で硬化後の加水硬化型シリコーン樹脂
が引き離される際に曲げ応力が加わるため可撓性を有す
ることが望ましい。
【0072】これ等の特性を有する型材基板材料として
はアンバー材が適しているが、これ以外にもステンレス
板、42鉄合金、リン青銅板、感光性樹脂との接着性を
有するプラスチックフィルム等が挙げられる。また、上
記プレス工程には、通常のプレス機以外にいわゆるイン
ジェクション方式も適用可能である。
【0073】『凸版を用いた磁気バーコードの印刷』次
に、この様にして製造された凸版1を用いカード材料に
対し磁気バーコードを印刷した実施例を図4を用いて説
明する。
【0074】まず、図4に示す巻き出し部40から予め
必要パターンが印刷されたカード材料41を巻き出し、
このカード材料41の表面にUV硬化性粘着剤塗布部4
2でUV硬化性粘着剤43を塗布した。
【0075】次に、上記凸版1が巻き付けられた版胴4
4に対しUV硬化性磁気バーコード用インキ供給部45
にてUV硬化性磁気バーコード用インキを供給し、供給
されたUV硬化性磁気バーコード用インキをUV第一ラ
ンプ46にて光硬化させると共に、光硬化された磁気バ
ーコード用インキ上にUV硬化性粘着インキ供給部47
にてUV硬化性粘着インキを供給した。
【0076】そして、磁気バーコード印刷部48にてU
V硬化性粘着剤43が塗布されたカード材料41上にU
V硬化性粘着インキと光硬化された磁気バーコード用イ
ンキ(磁気バーコード52を構成する)とを転移させ、
かつ、UV第二ランプ49で上記UV硬化性粘着剤43
とUV硬化性粘着インキとを硬化させた後、磁気バーコ
ード52が付されたカード材料41を巻き取り部50で
巻き取った。
【0077】尚、カード材料41の表面にUV硬化性粘
着剤塗布部42でUV硬化性粘着剤43を塗布している
理由は、磁気バーコードパターンをカード材料41へ確
実に転移させるためとカード表面の保護層として機能さ
せるためである。従って、要求される仕様によっては上
記UV硬化性粘着剤43を省略してもよい。
【0078】また、この実施例においては磁気バーコー
ド用インキとしてUV硬化樹脂をビヒクル分としたイン
キを用いているが、熱硬化型や乾燥硬化型、重合硬化型
のビヒクル分としたインキを用いてもよい。
【0079】但し、熱硬化型とした場合にはUVランプ
を赤外線ランプに交換することを要する。また、インキ
ングの方式は通常の凸版印刷に使用する方式が適用され
るが、この実施例においてはインキの厚さを10μm程
度まで充分に変化させ得る構造にしている。
【0080】また、上記UV硬化性粘着インキのインキ
ング機構も上述した機構と同様であって版の凸部だけに
供給することができる。尚、供給後に溶剤を蒸発させる
ための加熱ランプを付設する場合もある。また、この実
施例における印刷装置は、印刷位置を調節するための印
刷位置検出センサと印刷位置調節機構(共に図示せず)
が設置されている。
【0081】このようにして図5に示すような線幅25
μmと50μm、間隔25μm、磁気インキの膜厚10
μmの磁気バーコード52を有するカード51を製造す
ることができた。
【0082】[実施例2]図1(B)に示した構造の凸
版を作成し、この凸版を用いてプリント基板のレジスト
パターンを形成した。
【0083】『凸版の製造』図4に示したシリンダータ
イプの凸版印刷機に樹脂凸版(バスフ社製 商品名ナイ
ロプリント)をセットした。その版には所要のプリント
基板用のレジストパターンが形成してある。印刷物を通
さない状態で版を回転させながらシリコーン樹脂系接着
用プライマー(東芝シリコーン株式会社製 商品名 M
E123)を塗布し、更に加水硬化型シリコーン樹脂
(東芝シリコーン株式会社製 商品名TSE3502)
を塗布し所望の凸版を得た。硬化後の厚さは約3μmで
あった。
【0084】このように作成した版の凸部を検査したと
ころ樹脂膜が形成されていないピンホール部があったの
で刷毛で該樹脂をその部位へ供給しピンホールのない凸
版を完成した。
【0085】『凸版を用いたレジストパターンの印刷』
図4の凸版印刷機と同様の構造の印刷機を用いた。但
し、プリント基板はロール状でなくシート状なので巻き
出し部40についてはシート状のものが供給可能な構造
のものに変更し、また、UV硬化性粘着剤塗布部42は
取り外した。
【0086】尚、レジストインキとしてはUV硬化型レ
ジストインキ(東洋インキ製造社製商品名FD−赤)を
用いた。また、UV硬化性粘着インキは上記UV硬化型
レジストインキのビヒクル成分を同一樹脂系でかつ粘着
性を有するものに換えたものを調製し使用した。UV硬
化後のレジストインキと粘着インキの合計の厚さは3μ
mであった。
【0087】そして、プリント基板の銅層上に粘着イン
キを介して硬化後のレジストインキから成るレジストパ
ターンを印刷し、プリント回路を形成するためこのプリ
ント基板を塩化第二鉄液に浸漬してプリント基板表面の
上記銅層をエッチング処理した。形成された銅パターン
は、線幅が所定値(30μm〜500μm)±10μm
と仕様値内に納まり、また、周辺部が直線状でギザツキ
がなく、更に、ピンホールの発生も確認されなかった。
【0088】[比較例]実施例2と同一の印刷機を用
い、かつ、ナイロンプリント版を適用すると共に、同一
のUV硬化型レジストインキを使用した。但し、上記ナ
イロンプリント版には何の処理も施さずにそのまま適用
した。そして、印刷したプリント基板をエッチング処理
したところ、出来上がった銅配線パターンにおいてその
線幅は所定値(50μm〜500μm)+(10μm〜
30μm)となった。特に、周辺にパターンがない孤立
したパターン部での線幅の太さが大きかった。また、そ
の様な場所ではピンホールが多く発生していた。
【0089】尚、ピンホールの減少を図るためレジスト
パターンの印刷を2回繰り返した後、UVを照射して硬
化させたが、ピンホールをゼロにすることはできなかっ
た。また、2回目のインキングでは線幅が更に10μm
程度太くなってしまった。
【0090】[実施例3]図1(C)に示した構造の凸
版を作成し、この凸版を用いて液晶ディスプレイ用のカ
ラーフィルターを製造した。
【0091】『凸版の製造』凸版は図6(A)〜(D)
に示す工程に従って製造した。すなわち、版ベース(凸
版基板)60として厚さ0.3mmのSUS304を使
用し、この上に接着剤61としてシリコーン樹脂接着用
プライマー(東芝シリコーン株式会社製 商品名ME1
21)を所定の方法で塗布し、この上へ厚さ10μmの
加水硬化型シリコーン樹脂(東芝シリコーン株式会社製
商品名TSE3508(硬化剤添加))を塗布して材
料層62を製膜した(図6A参照)。
【0092】次に、カラーフィルターの三色の内の一色
のパターンが上記材料層62の凸部として残るように不
要部を炭酸ガスレーザのビームを照射して順次除去し凸
版1を完成した(図6B〜D参照)。尚、シリカ等の粉
末が除去部に多少残ったため水洗により除去した。しか
し、完全に除去することはできなかったが印刷に使用し
た際には支障を来さなかった。
【0093】『凸版を用いたカラーフィルターの製造』
この凸版1に第一色目のUV硬化アクリル樹脂系カラー
フィルター用インキ70を供給しかつUV照射して硬化
した(図7A参照)。次に、カラーフィルター用ガラス
基板71上に透明なUV硬化粘着剤72を塗布し、この
基板71に対して上記凸版1を所定の位置に重ね合わ
せ、両側から加圧した(図7B参照)。
【0094】次いでカラーフィルター用ガラス基板71
を凸版1から引き離すと、第一色目のUV硬化アクリル
樹脂系カラーフィルター用インキ70はUV硬化粘着剤
72を介してカラーフィルター用ガラス基板71側へ転
写された(図7C参照)。
【0095】同様にして二色目のカラーフィルター用イ
ンキ73を硬化させこれを上記カラーフィルター用基板
71へ転写させた(図7D参照)。この場合、凸版は第
一色目に使用したものを用い、かつ、転写位置を調整す
るため左右方向へ適宜移動させながら用いた。但し、各
色別に対応した凸版をそれぞれ作成して印刷を行った方
が実際上は効率的である。
【0096】同様にして三色目のカラーフィルター用イ
ンキ74を所定の位置に転写し(図7E参照)、次いで
カラーフィルター用ガラス基板71側からUV光を照射
してUV硬化粘着剤72を硬化させ、カラーフィルター
を完成させた。
【0097】このカラーフィルターにはピンホールが存
在しなかった。また、インキのダレがなく厚さが均一で
あり、かつ、その特性が各色別揃ったカラーフィルター
を得ることができた。
【0098】[実施例4]図1(D)に示した構造の凸
版を作成し、この凸版を用いて厚膜回路板の配線パター
ンと抵抗体パターンを印刷形成した。
【0099】『凸版の製造』版ベース(凸版基板)80
としてリン青銅板(厚さ0.5mm)を用い、この版ベ
ース80上に保護フィルム81で保護された感光硬化性
接着レジスト材(東洋インキ製造社製 商品名ドライフ
ィルムLIODRY DF−S−2511:感光層の厚
さ20μm)82を使用説明書に従い115℃でラミネ
ートした(図8A参照)。
【0100】所定時間放置後、印刷すべき配線パターン
よりパターンサイズを6μm少なく設定したフォトマス
ク83を重ね、超高圧水銀灯を用いて露光処理した(図
8B参照)。
【0101】次に、保護フィルム81を剥がした(図8
C参照)後、所定の有機溶剤系現像剤を用いて現像し
(図8D参照)、かつ、加水硬化型シリコーン樹脂(東
芝シリコーン株式会社製 商品名XS66−A684
7)を硬化後厚さが3μmとなるようロールコートして
加水硬化型シリコーン樹脂層84を得た(図8E参
照)。
【0102】この凸版1のパターンサイズはドライフィ
ルムでは所定値より6μm少なかったがスプレーコート
により所定値になった。
【0103】尚、同様の工程に従って抵抗体パターン用
の凸版(図示せず)も製造した。
【0104】『凸版を用いた配線パターンと抵抗体パタ
ーンの印刷』まず、配線パターン用の上記凸版1に対し
UV硬化性導電Ag−Pdインキ(アクリル系UV硬化
性樹脂をビヒクル分としたもの)90をロールインキン
グした後、UV光を照射して上記インキ90を硬化した
(図9A参照)。
【0105】次に、厚膜回路板用アルミナ基板91の上
にアクリル系粘着剤92を塗布し、上記インキ90が載
った凸版1に対してその位置を所定通りに合わせて配置
し、図9(B)に示すように上側から加圧ロール93、
下側から加圧台94により加圧した後、両者を引き剥が
すと上記UV硬化導電性Ag−Pdインキ90はアクリ
ル系粘着剤92を介して厚膜回路板用アルミナ基板91
へ転写された(図9C参照)。
【0106】また、抵抗体パターン用の凸版1’に対し
てUV硬化性RuO2 系抵抗体インキをインキングし、
かつ同様の工程に従ってこのUV硬化性抵抗体インキが
硬化したものを上記厚膜回路板用アルミナ基板91へ転
写した(図9D参照)。
【0107】そして、焼成処理すると上記アクリル系粘
着剤とインキ中のアクリル樹脂は燃えてなくなり、イン
キ中のガラスフリット分やAg−Pd粉及びRuO2
が焼結して導電パターン95と抵抗体パターン96が形
成された(図9E参照)。尚、両者の抵抗値は仕様値±
5%に納まっており、かつ、線幅も仕様値±5%に納ま
っていることが確認できた。
【0108】
【発明の効果】請求項1〜請求項6に係る発明によれ
ば、凸版であるにも拘らずマージナルゾーンの発生を抑
制でき、かつ、インキの膜厚を厚く設定できることから
ピンホールも生じ難くなると共に硬化後のインキが凸部
から離型し易くインキの全量が転移されることからイン
キ膜厚に定量性を有し、更に、凸版印刷の特性に起因し
て微細パターンの印刷が可能となる効果を有している。
【0109】また、請求項7〜請求項10に係る発明に
よれば、多少の表面凹凸を有する被印刷体に対してもマ
ージナルゾーンの発生が少なく、インキ膜厚の定量性に
優れかつピンホールも少ない微細パターンの印刷が可能
となる効果を有している。
【0110】更に、請求項11〜請求項14に係る発明
によれば、幅寸法並びに厚み寸法精度に優れた磁気バー
コードパターン、レジストパターン、配線パターン若し
くは抵抗体パターン、及び、カラーフィルターの着色層
パターンを形成することが可能となる効果を有してい
る。
【0111】殊に加水硬化型シリコーン樹脂を用いてい
るため、その製造方法において加熱加圧等を必要とせず
硬化成形することができる様になったため、単に工程が
容易になったのみならず、他の部材の温度や受光による
物理的寸法変化や変形、化学的変化を考慮にいれること
なく製造できるため、物理的寸法変化や変形、化学的変
化のない良質な版を容易に得ることが可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(A)〜(E)は本発明に係る凸版の断面
図。
【図2】図2(A)は従来例に係る磁気バーコードの平
面図、図2(B)は図2(A)の断面図。
【図3】図3(A)〜(E)は実施例1に係る凸版の製
造工程を示す説明図。
【図4】実施例1に係る凸版が適用された印刷装置の説
明図。
【図5】実施例1に係る凸版を用いて印刷した磁気バー
コードが付されたカード材の平面図。
【図6】図6(A)〜(D)は実施例3に係る凸版の製
造工程を示す説明図。
【図7】図7(A)〜(E)は実施例3に係る凸版を用
いたカラーフィルターの製造工程を示す説明図。
【図8】図8(A)〜(E)は実施例4に係る凸版の製
造工程を示す説明図。
【図9】図9(A)〜(E)は実施例4に係る凸版を用
いた配線パターンと抵抗体パターンの形成工程を示す説
明図。
【図10】従来の凸版印刷の説明図。
【図11】従来の凸版印刷により形成された印刷パター
ンの断面図。
【符号の説明】
1 凸版 10 版本体 11 凸部 12 加水硬化型シリコーン樹脂層 13 版ベース(凸版基板) 15 版基板

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】版本体の凸部に供給されたインキを被印刷
    体へ転写する凸版において、 少なくとも上記凸部のインキ受容部表面が未硬化の硬化
    性インキと親和性を有するが硬化後の硬化性インキとは
    離型性を有する加水硬化型シリコーン樹脂により構成さ
    れていることを特徴とする凸版。
  2. 【請求項2】上記凸部の全体が加水硬化型シリコーン樹
    脂により構成されていることを特徴とする請求項1記載
    の凸版。
  3. 【請求項3】上記版本体の全体が加水硬化型シリコーン
    樹脂により構成されていることを特徴とする請求項1記
    載の凸版。
  4. 【請求項4】上記凸部が感光性加水硬化型シリコーン樹
    脂により構成されていることを特徴とする請求項1記載
    の凸版。
  5. 【請求項5】上記凸部が、加水硬化型シリコーン樹脂を
    レーザ加工機により加工するレーザ加工法又は凸部形状
    にパターン化された加水硬化型シリコーン樹脂を転写す
    る転写法により形成されていることを特徴とする請求項
    2記載の凸版。
  6. 【請求項6】上記版本体が、加水硬化型シリコーン樹脂
    をレーザ加工機により加工するレーザ加工法又は液状の
    加水硬化型シリコーン樹脂を型材に注入しこれを硬化さ
    せる型取り法により形成されていることを特徴とする請
    求項3記載の凸版。
  7. 【請求項7】請求項1記載の凸版を用いた印刷方法にお
    いて、 版本体の凸部に未硬化の硬化性インキを供給し、かつ、
    版本体上でこの硬化性インキを硬化させた後、硬化した
    硬化性インキ層上に粘着性を有する物質を供給し、次い
    で、この粘着性を有する物質層を介して被印刷体上へ硬
    化性インキ層の全量を転写することを特徴とする印刷方
    法。
  8. 【請求項8】請求項1記載の凸版を用いた印刷方法にお
    いて、 版本体の凸部に未硬化の硬化性インキを供給し、かつ、
    版本体上でこの硬化性インキを硬化させた後、粘着性を
    有する物質層が形成された被印刷体上へこの粘着性を有
    する物質層を介して硬化性インキ層の全量を転写するこ
    とを特徴とする印刷方法。
  9. 【請求項9】請求項1記載の凸版を用いた印刷方法にお
    いて、 版本体の凸部に未硬化の硬化性インキを供給すると共に
    この未硬化の硬化性インキ層上に粘着性を発現し得る物
    質を供給し、かつ、版本体上で上記硬化性インキを硬化
    させ、更に、上記物質の粘着性を発現させた後、粘着性
    が発現された上記物質層を介して被印刷体上へ硬化性イ
    ンキ層の全量を転写することを特徴とする印刷方法。
  10. 【請求項10】上記硬化性インキが、紫外線硬化型イン
    キ、電子線硬化型インキ、溶剤蒸発硬化型インキ、重合
    硬化型インキ、及び、冷却凝固硬化型インキのいずれか
    であることを特徴とする請求項7、8又は9記載の印刷
    方法。
  11. 【請求項11】上記硬化性インキが磁気バーコード用イ
    ンキで構成され、かつ、印刷パターンが磁気バーコード
    パターンであることを特徴とする請求項7、8又は9記
    載の印刷方法。
  12. 【請求項12】上記硬化性インキがレジストパターン用
    インキで構成され、かつ、印刷パターンがプリント回路
    板のレジストパターンであることを特徴とする請求項
    7、8又は9記載の印刷方法。
  13. 【請求項13】上記硬化性インキが導電性インキ又は電
    気抵抗性インキで構成され、かつ、印刷パターンがプリ
    ント配線基板の配線パターン又は抵抗体パターンである
    ことを特徴とする請求項7、8又は9記載の印刷方法。
  14. 【請求項14】上記硬化性インキが顔料若しくは染料配
    合の着色インキで構成され、かつ、印刷パターンがカラ
    ーフィルターの着色層パターンであることを特徴とする
    請求項7、8又は9記載の印刷方法。
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