JPH08106146A - ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 - Google Patents

ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法

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JPH08106146A
JPH08106146A JP20575995A JP20575995A JPH08106146A JP H08106146 A JPH08106146 A JP H08106146A JP 20575995 A JP20575995 A JP 20575995A JP 20575995 A JP20575995 A JP 20575995A JP H08106146 A JPH08106146 A JP H08106146A
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group
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silver halide
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JP20575995A
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Shoji Nishio
昌二 西尾
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Konica Minolta Inc
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 現像廃液量の低減された、自動現像機を用い
る黒白ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法とし
て、写真特性の安定した画像が得られるものを提供す
る。 【構成】 ジヒドロキシベンゼン系現像主薬を含有する
現像液を用い、処理開始時のジヒドロキシベンゼン系現
像主薬の濃度DSとランニング平衡時のジヒドロキシベ
ンゼン系現像主薬の濃度DRとが 1.1≦DR/DS≦2.5 となるように、自動現像機を用いて処理するハロゲン化
銀写真感光材料の処理方法、一般式〔A〕(化2)で表
される現像主薬を含有する現像液を用い、処理開始時の
該現像主薬の濃度DS´とランニング平衡時の該現像主
薬の濃度DR′とが 1.1≦DR´/DS´≦2.5 となるように、自動現像機を用いて処理するハロゲン化
銀写真感光材料の処理方法、現像開始時の現像液の成分
と異なる成分を含有する現像補充剤を現像液に直接補充
すること、該現像補充剤が固体処理剤であること。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は黒白ハロゲン化銀写真感
光材料の処理方法に関し、詳しくは現像廃液量が低減さ
れ、且つ写真性能の安定した画像が得られる黒白写真感
光材料の処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】黒白ハロゲン化銀写真感光材料(以下、
感材とも言う。)は、一般に露光後現像・定着・水洗・
乾燥という工程で処理される。最近は、その殆どが自動
現像機(以下、自現機とも略称する。)を用いて処理さ
れるが、その際に感光材料の処理面積に比例した一定量
の処理剤(現像剤等)を補充しながらの処理となるのが
普通である。例えば現像補充液であれば、X線写真感材
やグラフィックアーツ感材の様ないわゆるシート状の感
光材料1m2に対して現像補充液を250ml以上、特
に330ml以上を補充するのが一般的であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら写真処理
廃液は、高いC.O.D.値(化学的酸素要求量)又は
B.O.D.値(生物学的酸素要求量)を有しているた
め、廃液に化学的又は生物学的な処理等を施して無害化
してから廃棄することが行われている。これらの廃液処
理には多大な経済的負担が伴うため、現像廃液量の少な
い処理方法が望まれている。
【0004】特に、テトラゾリウム化合物又はヒドラジ
ン誘導体を硬調化剤として使用した感材では、現像補充
液量を低減した場合、感度、ガンマ及び最大濃度の低下
が大きな問題であり、これらの改良が切に望まれる。
【0005】本発明は上記の事情によりなされたもので
あり、その目的は、現像廃液量の低減された、自動現像
機を用いる黒白ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方
法であって、写真特性の安定した画像が得られる現像処
理方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、ジ
ヒドロキシベンゼン系現像主薬を含有する現像液を用
い、処理開始時のジヒドロキシベンゼン系現像主薬の濃
度DSとランニング平衡時のジヒドロキシベンゼン系現
像主薬の濃度DRとが 1.1≦DR/DS≦2.5 となるように、自動現像機を用いて処理するハロゲン化
銀写真感光材料の処理方法、一般式〔A〕(化2)で表
される現像主薬を含有する現像液を用い、処理開始時の
該現像主薬の濃度DS′とランニング平衡時の該現像主
薬の濃度DR′とが 1.1≦DR′/DS′≦2.5 となるように、自動現像機を用いて処理するハロゲン化
銀写真感光材料の処理方法、現像開始時の現像液の成分
と異なる成分を含有する現像補充剤を現像液に直接補充
すること、該現像補充剤が固体処理剤であること、一般
式〔H〕(化4)で表されるヒドラジン化合物を含有す
るハロゲン化銀写真感光材料を現像処理すること、及
び、一般式〔T〕(化6)で表されるテトラゾリウム化
合物を含有するハロゲン化銀写真感光材料を現像処理す
ること、により達成される。
【0007】即ち、本発明者は現像廃液量を減らして
も、写真性能を保証できる現像活性を維持できる補充量
をランニング平衡時の現像主薬濃度をパラメータにして
評価し、且つそのような補充を具現するのに有利な補充
方法を見出して、本発明に至ったものである。尚、ここ
に言うランニング平衡時の濃度とは、ランニング処理を
続けた時の収斂濃度のことである。
【0008】以下、本発明について詳述する。
【0009】本発明におけるジヒドロキシベンゼン系現
像主薬として、一般式〔I〕、〔II〕又は〔III〕で表
される化合物の具体例としては、ハイドロキノン、クロ
ロハイドロキノン、ブロモハイドロキノン、イソプロピ
ルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2,3−ジ
クロロハイドロキノン、2,5−ジクロロハイドロキノ
ン、2,3−ジブロモハイドロキノン、2,5−ジメチ
ルハイドロキノン等が挙げられるが、最も一般的に用い
られるものはハイドロキノンである。
【0010】ジヒドロキシベンゼン系現像主薬は所望の
感度及び最大濃度を得るために現像液へ0.075モル
/l以上の添加量で用いられ、好ましくは0.1〜1モ
ル/lの範囲で用いる。1モル/lを越えて使用すると
感光材料によってはカブリを生ずることがある。
【0011】前記一般式〔A〕(化2)で示される化合
物は、互変異性構造をとってもよく、またR5とR6が互
いに結合して環を形成した一般式〔A−a〕(化3)で
示される化合物が好ましい。
【0012】前記一般式〔A〕又は一般式〔A−a〕に
おけるアルキル基としては、低級アルキル基が好まし
く、たとえば炭素数1〜5のアルキル基であり、アミノ
基としては無置換のアミノ基あるいは低級アルキル基で
置換されたアミノ基が好ましく、アルコキシ基としては
低級アルコキシ基が好ましく、アリール基としては好ま
しくはフェニル基あるいはナフチル基等であり、これら
の基は置換基を有していてもよく、置換しうる基として
は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、スル
ホ基、カルボキシル基、アミド基、スルホンアミド基等
が好ましい置換基として挙げられる。
【0013】本発明に係る前記一般式〔A〕又は一般式
〔A−a〕で表される現像主薬の具体的化合物例を以下
に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0014】
【化7】
【0015】
【化8】
【0016】
【化9】
【0017】これらの化合物は、代表的にはアスコルビ
ン酸或いはエリソルビン酸又はそれらから誘導される誘
導体であり、市販品として入手できるか或いは容易に公
知の合成法により合成することができる。
【0018】一般式〔A〕又は一般式〔A−a〕で表さ
れる現像主薬は0.02モル/l〜1.50モル/l程
度で用いるが、好ましくは0.15モル/l〜1.50
モル/l、更には0.15モル/l〜0.3モル/lで
ある。
【0019】また本発明に係る前記一般式〔A〕で示さ
れる現像主薬と超加成性を示す補助現像剤としては、3
−ピラゾリドン誘導体及びp−アミノフェノール誘導体
が挙げられる。これらの化合物は従来より補助現像剤と
して良く知られた化合物である。以下に具体的化合物例
を示すがこれらに限定されるものではない。
【0020】1−フェニル−3−ピラゾリドン 1−フェニル−4,4′−ジメチル−3−ピラゾリドン 1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3
−ピラゾリドン 1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン 1−p−アミノフェニル−4,4′−ジメチル−3−ピ
ラゾリドン 1−p−トリル−4,4′−ジメチル−3−ピラゾリド
ン 1−p−トリル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−
3−ピラゾリドン N−メチル−p−アミノフェノール N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノフェノール N−(4−ヒドロキシフェニル)グリシン 2−メチル−p−アミノフェノール p−ベンジルアミノフェノール これらの化合物の添加量は通常0.1〜15g/lで、
好ましくは0.5〜5g/lであり、一般式〔A〕で表
される現像主薬と併用して用いる場合は1.0〜4.0
g/lが好ましい。
【0021】本発明に係る現像液には下記一般式〔Y−
1〕、〔Y−2〕又は〔Y−3〕で表される化合物を含
有せしめることで、処理される感光材料から形成される
画像の写真性能をより安定にすることができる。
【0022】
【化10】
【0023】ここに、Y3は水素原子、アルカリ金属原
子又はメルカプト基を表し、R14及びY4は各々水素原
子、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、ヒ
ドロキシル基、メルカプト基、スルホ基、置換若しくは
未置換のアルキル基、置換若しくは未置換のアルケニル
基、置換若しくは未置換のアルキニル基、置換若しくは
未置換のアルコキシ基、ヒドロキシカルボニル基、アル
キルカルボニル基又はアルコキシカルボニル基を表し、
nは1〜4の整数を表す。
【0024】一般式〔Y−1〕で表される代表的具体例
を以下に挙げるが、これらに限定されない。
【0025】Y−1−1 5−ニトロインダゾール Y−1−2 6−ニトロインダゾール Y−1−3 5−スルホインダゾール Y−1−4 5−シアノインダゾール Y−1−5 6−シアノインダゾール Y−1−6 2−メルカプトインダゾール 一般式〔Y−2〕で表される化合物の代表的具体例を以
下に挙げるが、これらに限定されない。
【0026】Y−2−1 ベンゾトリアゾール Y−2−2 5−メチルベンゾトリアゾール Y−2−3 5−クロロベンゾトリアゾール Y−2−4 5−ニトロベンゾトリアゾール Y−2−5 5−エチルベンゾトリアゾール Y−2−6 5−カルボキシベンゾトリアゾール Y−2−7 5−ヒドロキシベンゾトリアゾール Y−2−8 5−アミノベンゾトリアゾール Y−2−9 5−スルホベンゾトリアゾール Y−2−10 5−シアノベンゾトリアゾール Y−2−11 5−メトキシベンゾトリアゾール Y−2−12 5−エトキシベンゾトリアゾール Y−2−13 5−メルカプトベンゾトリアゾール 前記一般式〔Y−3〕で表される代表的具体例を以下に
挙げるが、これらに限定されない。
【0027】Y−3−1 ベンズイミダゾール Y−3−2 5−スルホベンズイミダゾール Y−3−3 5−メトキシベンズイミダゾール Y−3−4 5−クロロベンズイミダゾール Y−3−5 5−ニトロベンズイミダゾール Y−3−6 2−メルカプト−5−スルホベンズイミダ
ゾール これらの化合物は、写真分野においてカブリ防止として
知られた化合物であり、公知の合成方法で合成すること
ができ、また一部の化合物は化学用試薬として市販され
ている。
【0028】前記一般式〔Y−1〕〜〔Y−3〕で示さ
れる化合物を現像液に添加する場合、その添加量は、現
像液1l当り0.001〜2gが好ましい。上記の添加
量より少ないとカブリ防止に効果なく、また上記の添加
量より多いと感度の低下が大きい。
【0029】本発明に用いる現像液が含有してもよい亜
硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、
亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリ
ウム、メタ重亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫
酸ナトリウム等が挙げられる。亜硫酸塩は0.30モル
/l以上2.5モル/l以下、特に0.40モル/l以
上1.2モル/l以下で用いるのが好ましい。
【0030】本発明に用いる現像液には現像促進のため
に特開昭56−106244号、同61−267759
号、特開平2−208652号等に記載のアミノ化合物
を含有することができる。
【0031】本発明に用いる現像補充液のpH値は9.
5〜12.3であることが好ましく、pH値調整のため
に水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等の水溶性無機ア
ルカリ金属塩を用いることができる。
【0032】現像液にはその他に、硼酸,硼砂,第3リ
ン酸ナトリウム,第3リン酸カリウムや特開昭60−9
3433号に記載のもの等のpH緩衝剤、臭化カリウ
ム,沃化カリウム等の現像抑制剤、ジメチルホルムアミ
ド,メチルセロソルブ,ヘキシレングリコール,エタノ
ール,メタノール等の有機溶剤,インダゾール系化合物
(5−ニトロインダゾール等)やベンツトリアゾール系
化合物(5−メチルベンツトリアゾール等)等のカブリ
&黒ポツ防止剤、色調剤、界面活性剤、硬水軟化剤、硬
膜剤等を含有してもよい。
【0033】現像液中には、第2鉄イオン(Fe3+)に
対するキレート安定度定数が8以上であるキレート剤を
含有することが現像液を安定化できるので好ましい。こ
こにキレート安定度定数は、L.G.Sillen &
A.E.Martell著“Stability C
onstants of Metal Complex
es”The Chemical Society,L
ondon(1964)、S.Chaberek &
A.E.Martell著“OrganicSeque
stering Agents”Willey(195
9)等により一般に知られたものとする。
【0034】該キレート剤としては、有機カルボン酸キ
レート剤、有機リン酸キレート剤、無機リン酸キレート
剤、ポリヒドロキシ化合物等が挙げられる。具体的には
エチレンジアミンジオルトヒドロキシフェニル酢酸、ジ
アミノプロパン4酢酸、ニトリロ3酢酸、ヒドロキシエ
チルエチレンジアミン3酢酸、ジヒドロキシエチルグリ
シン、エチレンジアミン2酢酸、エチレンジアミン2プ
ロピオン酸イミノ2酢酸、ジエチレントリアミン5酢
酸、ヒドロキシエチルイミノ2酢酸、1,3-ジアミノプロ
パノール4酢酸、トランスシクロヘキサンジアミン4酢
酸、エチレンジアミン4酢酸、トリエチレンテトラミン
6酢酸、グリコールエーテルジアミン4酢酸、エチレン
ジアミンテトラキスメチレンホスホン酸、ジエチレント
リアミンペンタメチレンホスホン酸、ニトリロトリメチ
レンホスホン酸、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−
ジホスホン酸、1,1−ジホスホノエタン−2−カルボ
ン酸、2−ホスホノブタン−1,2,4−トリカルボン
酸、1−ヒドロキシ−1−ホスホノプロパン−1,2,
3−トリカルボン酸、カテコール−3,5−ジスルホン
酸、ピロリン酸ナトリウム、テトラポリリン酸ナトリウ
ム、ヘキサメタリン酸ナトリウム等が挙げられる。
【0035】好ましくは、ジエチレントリアミン5酢
酸、トリエチレンテトラミン6酢酸、1,3−ジアミノ
プロパノール4酢酸、グリコールエーテルジアミン4酢
酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン3酢酸、2−ホ
スホノブタン−1,2,4−トリカルボン酸、1,1−
ジホスホノエタン−2−カルボン酸、ニトリロトリメチ
レンホスホン酸、エチレンジアミンテトラホスホン酸、
ジエチレントリアミンペンタホスホン酸、1−ヒドロキ
シプロピリデン−1,1−ジホスホン酸、1−ヒドロキ
シエチリデン−1,1−ジホスホン酸やこれらの塩が挙
げられる。
【0036】これらキレート剤の使用量は現像液1l当
たり、0.01〜50g、好ましくは0.05〜20g
の範囲である。
【0037】現像液のpHは9.5〜11.8、特に
9.7〜10.8が好ましい。pH9.5より小では現
像活性が低下し、pH11.8を越えると現像液の安定
性が劣化して上記キレート剤によっても安定化効果を期
待できなくなるからである。
【0038】現像液に用いてもよい硬膜剤の具体例とし
ては、グルタルアルデヒド、α−メチルグルタルアルデ
ヒド、β−メチルグルタルアルデヒド、マレインジアル
デヒド、サクシンジアルデヒド、メトキシサクシンジア
ルデヒド、メチルサクシンジアルデヒド、α−メトキシ
−β−エトキシグルタルアルデヒド、α−n−ブトキシ
グルタルアルデヒド、α,α−ジメトキシサクシンジア
ルデヒド、β−イソプロピルサクシンジアルデヒド、
α,α−ジエチルサクシンジアルデヒド、ブチルマレイ
ンジアルデヒド及びこれらの重亜硫酸塩付加物等が挙げ
られる。これらの化合物は処理される感光材料の感度が
押さえられない程度に、又、乾燥時間が著しく長くなら
ない程度の量で用いられる。
【0039】この他、L.F.A.メイソン著「フォト
グラフィック・プロセシング・ケミストリー」フォーカ
ル・プレス刊(1966年)の226〜229頁、米国
特許第2,193,015号、同第2,592,364
号、特開昭48−64933号等に記載の添加剤を用い
てもよい。
【0040】本発明の自動現像機による処理は、現像工
程、定着工程を経て水洗又は安定化処理がなされ、乾燥
工程に至る。自動現像機としてはローラー搬送型、ベル
ト搬送型等種々の形式のものを用いることができるが、
ローラー搬送型が好ましい。又、タンクの開口率が小さ
い自動現像機を用いることにより、空気酸化や蒸発が少
なく、処理環境に安定な稼働が可能となり、更に補充量
を低減することができる。
【0041】定着工程の定着液は、定着剤としてチオ硫
酸塩(好ましくはチオ硫酸アンモニウム)を通常0.1
〜3モル/l含有する、pH3.8以上(好ましくは
4.2〜5.5)の水溶液である。
【0042】定着液には硬膜剤として作用する水溶性ア
ルミニウム塩(塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、
カリ明礬等)、酒石酸,クエン酸,グルコン酸あるいは
それらの誘導体、保恒剤(亜硫酸塩、重亜硫酸塩等)、
pH緩衝剤(酢酸、硼酸等)、pH調整剤(硫酸等)、
硬水軟化能のあるキレート剤、特開昭62−78551
号に記載の化合物を含むことができる。
【0043】水洗水の補充量を少なくする方法として多
段向流方式が知られている。このような節水処理には、
水洗水又は安定化液に防黴手段を施すことが好ましい。
【0044】防黴手段としては、特開昭60−2639
39号に記載の紫外線照射法、同60−263940号
に記載の磁場を用いる方法、同61−131632号に
記載のイオン交換樹脂を用いて純水にする方法、同62
−115154号等に記載の防黴剤を用いる方法等があ
る。
【0045】少量の水洗水で水洗するときには、特開昭
63−18350号等に記載のスクイズローラー洗浄槽
を設けたり、同63−143548号に記載の様な水洗
工程の構成をとることも好ましい。
【0046】又、水洗又は安定化工程に防黴手段を施し
た水を処理に応じて補充することによって生ずる水洗又
は安定化工程からのオーバーフローの一部又は全部を、
特開昭60−235133号に記載されているように、
その前の処理工程である定着能を有する処理液に利用す
ることもできる。
【0047】本発明において、必要に応じて現像、定着
槽に水補充してもよい。特に、固体処理剤を用いる場合
有効である。
【0048】本発明においては、現像時間及び温度は5
秒〜3分(より好ましくは8秒〜2分)及び18℃〜5
0℃(より好ましくは20℃〜40℃)、定着温度及び
時間は18℃〜50℃で5秒〜3分(より好ましくは2
0℃〜40℃で6秒〜2分)、水洗温度及び時間は0〜
50℃で6秒〜3分(より好ましくは15℃〜40℃で
6秒〜2分)がそれぞれ好ましい。ここに、「現像時
間」とは、処理する感光材料の先端が自動現像機の現像
タンク液に浸漬してから次の定着液に浸漬するまでの時
間、「定着時間」とは定着タンク液に浸漬してから次の
水洗タンク液(又は安定液)に浸漬するまでの時間、
「水洗時間」とは水洗タンク液に浸漬している時間を言
う。
【0049】現像、定着及び水洗(又は安定化)された
感光材料は水洗水を絞り切って、即ちスクイズローラー
を経て乾燥される。乾燥は約40℃〜100℃で行わ
れ、時間は通常5秒〜3分(好ましくは40℃〜80℃
で5秒〜2分)である。
【0050】Dry to dryで100秒以下の迅
速処理を本発明の処理方法に用いる場合は、迅速処理特
有の現像ムラを防止するために特開昭63−15194
3号公報に記載のゴム材質のローラーを現像タンク出口
のローラーに適用することや、特開昭63−15194
4号公報に記載の現像液撹拌のための吐出速度を10m
/分以上にすることや、特開昭63−264758号公
報に記載の現像処理中は待機中より強い撹拌をするこ
と、等を採用するのが好ましい。又、定着液タンクのロ
ーラー構成は、定着速度を大にし、ローラー本数を少な
くできてタンクを小型にできることから、対向ローラー
であるのが好ましい。
【0051】本発明は、現像液中のジヒドロキシベンゼ
ン系現像主薬又は一般式〔A〕で表されるアスコルビン
酸系現像主薬の処理開始時の濃度とランニング平衡時の
濃度とが 1.1≦ランニング平衡時の濃度/処理開始
時の濃度≦2.5 なる関係を満たすことを特徴とする
が、具体的には現像補充剤の組成と補充形態とによって
この関係を得ることができる。
【0052】本発明に係る現像補充剤は、現像開始時に
現像工程に供給される現像液(スタート液)と組成は同
じであっても異なっていてもよいが、補充剤の成分のう
ち感光材料より現像処理により累積されるものはスター
ト液より少なくすること、逆に感光材料により持ち出さ
れ減少するものはスタート液より多くすることが好まし
い。累積される成分としては、例えばハロゲンイオンが
あり、持ち出される成分としては前述の一般式〔Y−
1〕〜〔Y−3〕で表される現像抑制剤及びメルカプト
基を有する化合物が代表的である。
【0053】又、現像補充剤はスタート液が濃縮された
濃厚液でも固体処理剤でも良いが、本発明におけるラン
ニング平衡時の濃度で処理を安定させるためには固体処
理剤が好ましい。
【0054】ここにいう固体処理剤としては、粉体及び
造粒形成されたものが好ましく、特に造粒形成されたも
のである。
【0055】造粒方式としては、圧縮成形法、押し出し
成形法、撹拌造粒法、流動層造粒法等があり、造粒物の
形状は、粒度の小さい顆粒状、粒度の比較的大きい錠剤
状又は煉瓦状の塊でもよいが、好ましくは、顆粒状及び
錠剤状がよく、最も好ましくは粒径が0.1〜3mmま
での球形の顆粒剤である。造粒物の表面には、酸化防止
あるいはブロッキング(造粒物の2次凝集)防止等の目
的のため水溶性高分子のようなものでコーティングして
あってもよいし、造粒の必要に応じてバインダーを用い
てもよい。
【0056】バインダーとしては、水又は一般に用いら
れている造粒助剤を用いるのが好ましく、水溶性あるい
はアルカリ、酸可溶性高分子が用いられ、具体的には、
ゼラチン、ペクチン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸
塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポ
リビニルピロリドン・ビニルアセテート共重合体、ポリ
エチレンオキサイド、カルボキシメチルセルロースナト
リウム、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロ
ース、エチルセルロース、アルギン酸塩、キタン酸ガ
ム、アラビアガム、トラガカントガム、カラヤガム、カ
ラゲナン、メチルビニルエーテル、無水マレイン酸共重
合体、ポリオキシエチレンエチルエーテルやポリオキシ
エチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンア
ルキルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェノー
ルエーテルやポリオキシエチレンノニルフェノールエー
テル等のポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテ
ル、あるいは特開平4−85535号に記載の水溶性バ
インダーの中から選ばれる1種あるいは2種以上を組み
合わせて用いることができる。
【0057】バインダー量としては、造粒物の20重量
%までがよく、それ以上になるとペースト状になり処理
剤容器に付着し水で洗い流したりして作業上非常に使用
しにくいものになり、造粒するメリットがなくなってし
まう。好ましいバインダー量は、1〜10重量%であ
る。
【0058】本発明に係る固体処理剤は、一度水で溶解
し補充しても良く、又、自動現像機の現像液に直接溶解
させてもよい。補充のタイミングとしては、処理面積に
応じて補充することが好ましく、特には、黒化面積に応
じて補充することである。
【0059】本発明にて現像処理される感光材料が含有
するヒドラジン化合物は一般式〔H〕(化4)で表され
るものであり、特願平4−281181号68頁〜85
頁に記載されているものが好ましく用いられる。
【0060】上記一般式〔H〕で表される代表的な化合
物を以下に示す。
【0061】
【化11】
【0062】
【化12】
【0063】
【化13】
【0064】
【化14】
【0065】
【化15】
【0066】
【化16】
【0067】
【化17】
【0068】
【化18】
【0069】
【化19】
【0070】またヒドラジン誘導体が
【0071】
【化20】
【0072】の形で表される化合物の場合は、特開平4
−114145号18頁右上欄1行〜37頁左上欄21
行に記載されている造核促進化合物の少なくとも1種
を、ハロゲン化銀乳剤層及び/又は支持体上のハロゲン
化銀乳剤層側にある非感光性層に含むことが好ましい。
【0073】造核促進化合物の代表的具体例を以下に示
す。
【0074】
【化21】
【0075】
【化22】
【0076】更に他の具体例としては、特開平4−11
4145号69頁〜72頁に記載されている化合物I−
1〜I−26、73頁〜78頁に記載されている化合物
II−1〜II−29、80頁〜83頁に記載されている化
合物III−1〜III−25、84頁〜90頁に記載されて
いる化合物IV−1〜IV−41、92頁〜96頁に記載さ
れている化合物V−1−1〜V−1−27、98頁〜1
03頁に記載されている化合物V−II−1〜V−II−3
0、105頁〜111頁に記載されている化合物V−II
I−1〜V−III−35、113頁〜121頁に記載され
ている化合物IV−I−1〜IV−I−44、123頁
〜135頁に記載されている化合物VI−II−1〜VI−II
−68及び137頁〜143頁に記載されている化合物
VI−III−1〜VI−III−35の中の上述の代表的具体例
以外のものがある。
【0077】上記以外の具体的化合物としては、特開平
2−841号 542(4)頁〜546(8)頁に記載
されている化合物例(1)〜(61)、及び(65)〜
(75)がある。
【0078】これらの造核促進化合物はハロゲン化銀1
モル当たり5×10−7〜5×10-1モル程度、好まし
くは5×10-6〜1×10-2モルで用いる。
【0079】一般式〔H〕で表されるヒドラジン化合物
は、特開平2−841号 546(8)頁〜550(1
2)頁に示された方法等で合成できる。
【0080】該ヒドラジン化合物の添加位置はハロゲン
化銀乳剤層及び/又は隣接層である。添加量は、銀1モ
ルあたり1×10-6〜1×10-1モルが好ましく、更に
好ましくは銀1モルあたり1×10-5〜1×10-2モル
である。
【0081】本発明にて現像処理される化合物が含有す
るテトラゾリウム化合物は一般式〔T〕(化6)で表さ
れる。
【0082】一般式〔T〕において、R11ないしR13
表す置換基の好ましい例としてアルキル基(例えばメチ
ル、エチル、シクロプロピル、プロピル、イソプロピ
ル、シクロブチル、ブチル、イソブチル、ペンチル、シ
クロヘキシル等)、アミノ基、アシルアミノ基(例えば
アセチルアミノ)、ヒドロキシル基、アルコキシ基(例
えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペン
トキシ等)、アシルオキシ基(例えばアセチルオキ
シ)、ハロゲン原子(例えば弗素、塩素、臭素等)、カ
ルバモイル基、アシルチオ基(例えばアセチルチオ)、
アルコキシカルボニル基(例えばエトキシカルボニ
ル)、カルボキシル基、アシル基(例えばアセチル)、
シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、スルホオキシ基、
アミノスルホキシ基のような基が挙げられる。前記X-
で示されるアニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭
化物イオン、沃化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、
硫酸、過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボ
ン酸等の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的に
はp−トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベ
ンゼンスルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスル
ホン酸アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸ア
ニオン、ラウリルサルフェートアニオン等の高級アルキ
ル硫酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼
酸系アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネ
ートアニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオ
ン、セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等のポ
リエーテルアルコール硫酸エステルアニオン、ステアリ
ン酸アニオン等の高級脂肪酸アニオン、ポリアクリル酸
アニオン等のポリマーに酸根のついたもの等を挙げるこ
とができる。
【0083】以下、一般式〔T〕で表される化合物の具
体例を下記に挙げるが、これらに限定されない。
【0084】
【化23】
【0085】これらテトラゾリウム化合物はハロゲン化
銀乳剤層又はそれに隣接する親水性コロイド層に用い、
その添加量はハロゲン化銀1モル当たり5×10-7〜5
×10-1モル程度、好ましくは5×10-6〜1×10-1
モルである。
【0086】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
【0087】実施例1 コニカ(株)製RSD−3A(硬調化剤を含まないもの
〜感光材料1)及び特開平6−35133号の実施例1
に記載のテトラゾリウム化合物を含有する試料(テトラ
ゾリウム化合物は例示化合物T−6〜感光材料2)を用
いて以下の条件で処理を行った。
【0088】 《現像スタート液の処方(D−1)》 ジエチレントリアミン5酢酸5ナトリウム塩 1.3g ジエチレングリコール 50g 亜硫酸ナトリウム 50g 炭酸カリウム 65g ハイドロキノン 20g 5−メチルベンゾトリアゾール 250mg 5−ニトロインダゾール 120mg 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 50mg 1−フェニル−4−メチル−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 890mg 臭化カリウム 10g 2−メルカプトヒポキサンチン 150mg 水酸化カリウム pHを10.2にする量 これらを純水に溶解して1lにして用いた。
【0089】 《液体補充剤処方(D−1Rep1)》 亜硫酸ナトリウム 50g 炭酸カリウム 80g ハイドロキノン 表1に示す量 5−メチルベンゾトリアゾール 500mg 5−ニトロインダゾール 200mg 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 100mg 1−フェニル−4−メチル−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 890mg 臭化カリウム 1.5g 2−メルカプトヒポキサンチン 300mg 水酸化カリウム pHを10.4にする量 これらを純水に溶解して1lにして用いた。
【0090】 《顆粒状補充剤処方(D−1Rep2)》 組成A ハイドロキノン 表1に示す量 1−フェニル−4−メチル-ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 890mg 水(造粒バインダーとして) 0.4g 組成B 亜硫酸ナトリウム 50g 臭化カリウム 1.5g 炭酸カリウム 80g 5−メチルベンゾトリアゾール 500mg 5−ニトロインダゾール 200mg 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 100mg 2−メルカプトピポキサンチン 300mg 水酸化カリウム 組成AとBを水1lに溶解したときpH10.4になる量 上記組成A及びBをそれぞれ十分に混合し、約2mmの
粒度になるように押し出し造粒法により造粒し、40
℃、20%RHで24時間乾燥した。その後、A剤及び
B剤をそれぞれ10等分して、組成Aと組成Bを滞積さ
せ厚さ20μのポリエステルの袋に入れた。
【0091】補充は、D−1Rep1は、感光材料が1
2処理される毎に、補充タンクよりベローズポンプにて
100ml補充し、D−1Rep2は感光材料が1m2
処理される毎に、一袋分を投入タンク(現像槽と連結し
現像液がポンプにより現像槽から循環されるように構
成。水道水供給口を有する。)に投入し、水道水を表1
に示す量加える。
【0092】自動現像機はコニカ(株)製GR−27を
改造したものを用い、定着液はCFL−871(コニカ
(株)製)を用いて下記の処理条件により処理した。
【0093】 現像 28℃ 30秒 定着 28℃ 20秒 水洗 25℃ 20秒 乾燥 45℃ 20秒 感光材料1では黒化面積率50%、感光材料2では30
%で400m2処理したときの感度(スタート液で処理
したものを100とした相対値)、カブリ、網点品質
(1〜5のランク)、最大濃度についてスタート液で処
理したものからの変化を評価した。又、処理後未露光試
料を通して汚れを観察し銀スラッジを5段階評価した。
(5が汚れが全くないもの、実用に耐えられるレベルは
3以上)現像廃液量はオーバーフローしてきた液量を測
定した。
【0094】結果を表1及び表2に示す。
【0095】
【表1】
【0096】
【表2】
【0097】実施例2 特開平5−241264号の実施例2に記載のヒドラジ
ン(下記構造の化合物)を含有する試料(感光材料3)
を用い、下記現像液処方及び処理条件を採用し、黒化面
積率50%とした以外は実施例1と同様に評価を行っ
た。
【0098】
【化24】
【0099】 《スタート液の現像液処方(D−2)》 ジエチレントリアミン5酢酸5ナトリウム塩 1.4g ジエチレングリコール 40g 亜硫酸ナトリウム 52g 炭酸カリウム 55g ハイドロキノン 20g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.20g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.30g 1−フェニル−4−メチル−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 1.0g 臭化カリウム 7g 2−メルカプトヒポキサンチン 120mg 硼酸 10g 水酸化カリウム pHを10.4にする量 これらを純水に溶解して1lにして用いる。
【0100】 《液体補充剤処方(D−2Rep1)》 亜硫酸ナトリウム 52g 炭酸カリウム 70g ハイドロキノン 表1に示す量 5−メチルベンゾトリアゾール 0.35g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 70mg 1−フェニル−4−メチル−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 1.5g 2−メルカプトヒポキサンチン 200mg 硼酸 5g 水酸化カリウム pHを10.4にする量 これらを純水に溶解して1lにして用いる。
【0101】 《顆粒補充剤処方(D−2Rep2)》 組成A ハイドロキノン 表1に示す量 1−フェニル−4−メチル−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 1.5g 硼酸 5g 水(造粒用バインダー) 0.4g 組成B 亜硫酸ナトリウム 52g 炭酸カリウム 70g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.35g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 70mg 2−メルカプトヒポキサンチン 200mg 水酸化カリウム 組成AとBを水1lに溶解したときpH10.4とする量 造粒方法は実施例1と同様にして、顆粒状補充剤を得
た。
【0102】 《錠剤補充剤処方(D−2Rep3)》 造粒Aパーツの組成 ジエチレントリアミン5酢酸5ナトリウム 1.45g 亜硫酸ナトリウム 52g 8−メルカプトアデニン 0.1g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.35g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.07g ジメゾンS(1−フェニル−4−ヒドロキシメチル−4−メチル−3−ピラゾ リドン) 1.5g ハイドロキノン 表3に示す量 パインフロー(松谷化学社製) 4g 造粒Bパーツの組成 炭酸カリウム 70g D−マンニトール(花王(株)製) 5g 水酸化リチウム 3g 上記組成物をそれぞれ市販のバンダムミル中で30分間
混合し、次いで市販の撹拌造粒機にて室温で10分間造
粒した後、流動層乾燥機にて40℃で2時間乾燥し、そ
れぞれ造粒物Aパーツ及びBパーツを得た。
【0103】両パーツを10分間で完全に混合し、得ら
れた混合物をマシーナ(株)製マシーナUD・DFE3
0・40打錠装置を用いて、打錠圧1.5トン/m2
圧縮打錠して直径30mm、厚さ10mmの錠剤30個
を得た。得られた錠剤を3個づつ厚さ20μmのポリエ
ステル製の袋に入れた。
【0104】《現像条件》 現像 35℃ 30秒 定着 33℃ 20秒 水洗 25℃ 20秒 乾燥 43℃ 20秒 尚、D−2Rep3の補充は、感光材料が1m2処理さ
れる毎に、一袋分を投入タンクに投入し、水道水を表3
に示す量加える。
【0105】結果を表3及び4に示す。
【0106】
【表3】
【0107】
【表4】
【0108】実施例3 現像液と補充剤の処方を以下の様に変更した以外は実施
例1と同様にして評価を行った。
【0109】 《現像スタート液の処方(D−3)》 ジエチレントリアミン5酢酸5ナトリウム塩 1.3g ジエチレングリコール 50g 亜硫酸ナトリウム 50g 炭酸カリウム 65g A−17 35g 5−メチルベンゾトリアゾール 250mg 5−ニトロインダゾール 120mg 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 50mg 1−フェニル−4−メチル−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 890mg 臭化カリウム 10g 2−メルカプトヒポキサンチン 150mg 水酸化カリウム pHを10.2にする量 これらを純水に溶解して1lにして用いた。
【0110】 《液体補充剤処方(D−3Rep1)》 亜硫酸ナトリウム 50g 炭酸カリウム 80g A−17 表5に示す量 5−メチルベンゾトリアゾール 500mg 5−ニトロインダゾール 200mg 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 100mg 1−フェニル−4−メチル−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 890mg 臭化カリウム 1.5g 2−メルカプトヒポキサンチン 300mg 水酸化カリウム pHを10.4にする量 これらを純水に溶解して1lにして用いた。
【0111】 《顆粒状補充剤処方(D−3Rep2)》 組成A A−17 表5に示す量 1−フェニル−4−メチル−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 890mg 水(造粒バインダーとして) 0.4g 組成B 亜硫酸ナトリウム 50g 臭化カリウム 1.5g 炭酸カリウム 80g 5−メチルベンゾトリアゾール 500mg 5−ニトロインダゾール 200mg 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 100mg 2−メルカプトヒポキサンチン 300mg 水酸化カリウム 組成AとBを水1lに溶解したときpH10.4になる量 結果を表5及び6に示す。
【0112】
【表5】
【0113】
【表6】
【0114】実施例4 現像液及び補充剤処方を以下の如く変更した以外は実施
例2と同様にして評価を行った。
【0115】 《スタート液の現像液処方(D−4)》 ジエチレントリアミン5酢酸5ナトリウム塩 1.4g ジエチレングリコール 40g 亜硫酸ナトリウム 52g 炭酸カリウム 55g A−17 30g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.20g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.30g 1−フェニル−4−メチル−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 1.0g 臭化カリウム 7g 2−メルカプトヒポキサンチン 120mg 硼酸 10g 水酸化カリウム pHを10.4にする量 これらを純水に溶解して1lにして用いる。
【0116】 《液体補充剤処方(D−4Rep1)》 亜硫酸ナトリウム 52g 炭酸カリウム 70g A−17 表7に示す量 5−メチルベンゾトリアゾール 0.35g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 70mg 1−フェニル−4−メチル−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 1.5g 2−メルカプトヒポキサンチン 200mg 硼酸 5g 水酸化カリウム pHを10.4にする量 これらを純水に溶解して1lにして用いる。
【0117】 《顆粒補充剤処方(D−4Rep2)》 組成A A−17 表7に示す量 1−フェニル−4−メチル−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン 1.5g 硼酸 5g 水(造粒用バインダー) 0.4g 組成B 亜硫酸ナトリウム 52g 炭酸カリウム 70g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.35g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 70mg 2−メルカプトヒポキサンチン 200mg 水酸化カリウム 組成AとBを水1lに溶解したときpH10.4とする量 《錠剤補充剤処方(D−4Rep3)》 造粒Aパーツの組成 ジエチレントリアミン5酢酸5ナトリウム 1.45g 亜硫酸ナトリウム 52g 8−メルカプトアデニン 0.1g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.35g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.07g ジメゾンS(1−フェニル−4−ヒドロキシメチル−4−メチル−3−ピラゾ リドン) 1.5g A−17 表7に示す量 パインフロー(松谷化学社製) 4g 造粒Bパーツの組成 炭酸カリウム 70g D−マンニトール(花王(株)製) 5g 水酸化リチウム 3g 上記組成物をそれぞれ市販のバンダムミル中で30分間混
合し、次いで市販の撹拌造粒機にて室温で10分間造粒
した後、流動層乾燥機にて40℃で2時間乾燥し、それ
ぞれ造粒物Aパーツ及びBパーツを得た。
【0118】両パーツを10分間で完全に混合し、得ら
れた混合物をマシーナ(株)製マシーナUD・DFE3
0・40打錠装置を用いて、打錠圧1.5トン/m2
圧縮打錠して直径30mm、厚さ10mmの錠剤30個
を得た。得られた錠剤を3個づつ厚さ20μmのポリエ
ステル製の袋に入れた。
【0119】結果を表7及び8に示す。
【0120】
【表7】
【0121】
【表8】
【0122】
【発明の効果】本発明により、現像廃液量を低減する処
理を行っても、写真性能は安定に維持できることが解
る。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ジヒドロキシベンゼン系現像主薬を含有
    する現像液を用い、処理開始時のジヒドロキシベンゼン
    系現像主薬の濃度DSとランニング平衡時のジヒドロキ
    シベンゼン系現像主薬の濃度DRとが 1.1≦DR/DS≦2.5 となるように、自動現像機を用いて処理することを特徴
    とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
  2. 【請求項2】 処理開始時のジヒドロキシベンゼン系現
    像主薬の濃度DSが 0.1モル/l≦DS≦1.0モル/l であることを特徴とする請求項1のハロゲン化銀写真感
    光材料の処理方法。
  3. 【請求項3】 ジヒドロキシベンゼン系現像主薬が下記
    一般式〔I〕、〔II〕又は〔III〕で表される化合物で
    あることを特徴とする請求項1又は2のハロゲン化銀写
    真感光材料の処理方法。 【化1】 〔式中、R1、R2、R3及びR4は各々独立して、水素原
    子、アルキル基、アリール基、カルボキシル基、ハロゲ
    ン原子又はスルホ基を表す。〕
  4. 【請求項4】 下記一般式〔A〕で表される現像主薬を
    含有する現像液を用い、処理開始時の該現像主薬の濃度
    S′とランニング平衡時の該現像主薬の濃度DR′とが 1.1≦DR′/DS′≦2.5 となるように、自動現像機を用いて処理することを特徴
    とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 【化2】 〔式中、R5、R6は各々独立して置換又は未置換のアル
    キル基、置換又は未置換のアミノ基、置換又は未置換の
    アルコキシ基、置換又は未置換のアルキルチオ基を表
    し、R5とR6は互いに結合して環を形成しても良い。M
    は水素原子又はアルカリ金属原子を表す。kは0又は1
    を表し、k=1のときXは−CO−又は−CS−を表す。〕
  5. 【請求項5】 現像主薬が下記一般式〔A−a〕で表さ
    れる化合物であることを特徴とする請求項4のハロゲン
    化銀写真感光材料の処理方法。 【化3】 〔式中、R7は水素原子、置換又は未置換のアルキル
    基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未置換のア
    ミノ基、置換または未置換のアルコキシ基、スルホ基、
    カルボキシル基、アミド基、スルホンアミド基を表し、
    1及びM2はそれぞれ水素原子又はアルカリ金属原子を
    表し、Y1はO又はSを表し、Y2はO、SまたはNR8
    を表す。R8は水素原子、置換又は未置換のアルキル
    基、置換又は未置換のアリール基を表す。〕
  6. 【請求項6】 処理開始時の一般式〔A〕で表される現
    像主薬の濃度DS´が 0.15モル/l≦DS′≦1.50モル/l であることを特徴とする請求項4又は5のハロゲン化銀
    写真感光材料の処理方法。
  7. 【請求項7】 現像液が一般式〔A〕で表される現像主
    薬と超化成性を示す補助現像剤を含有することを特徴と
    する請求項4、5又は6のハロゲン化銀写真感光材料の
    処理方法。
  8. 【請求項8】 3−ピラゾリドン誘導体及びp−アミノ
    フェノール誘導体から選ばれる補助現像剤であることを
    特徴とする請求項7のハロゲン化銀写真感光材料の処理
    方法。
  9. 【請求項9】 現像開始時の現像液の成分と異なる成分
    を含有する現像補充剤を現像液に直接補充することを特
    徴とする請求項1、2、3、4、5、6、7又は8のハ
    ロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
  10. 【請求項10】 現像補充剤が固体処理剤であることを
    特徴とする請求項9のハロゲン化銀写真感光材料の処理
    方法。
  11. 【請求項11】 下記一般式〔H〕で表されるヒドラジ
    ン化合物を含有するハロゲン化銀写真感光材料を現像処
    理することを特徴とする請求項1、2、3、4、5、
    6、7、8、9又は10のハロゲン化銀写真感光材料の
    処理方法。 【化4】 〔式中、R9は脂肪族基または芳香族基を表し、R10
    水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
    リールオキシ基、アミノ基、ヒドラジノ基、カルバモイ
    ル基又はオキシカルボニル基を表し、G1はカルボニル
    基、スルホニル基、スルホキシ基、 【化5】 チオカルボニル基又はイミノメチレン基を表し、A1
    びA2はともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方
    が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置
    換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は置換も
    しくは無置換のアシル基を表す。〕
  12. 【請求項12】 下記一般式〔T〕で表されるテトラゾ
    リウム化合物を含有するハロゲン化銀写真感光材料を現
    像処理することを特徴とする請求項1、2、3、4、
    5、6、7、8、9又は10のハロゲン化銀写真感光材
    料の処理方法。 【化6】 〔式中、R11、R12及びR13は各々水素原子または置換
    基を表し、X-はアニオンを表す。〕
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