JPH0794461B2 - クロロセファドロキシル1水化物 - Google Patents

クロロセファドロキシル1水化物

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JPH0794461B2
JPH0794461B2 JP59255860A JP25586084A JPH0794461B2 JP H0794461 B2 JPH0794461 B2 JP H0794461B2 JP 59255860 A JP59255860 A JP 59255860A JP 25586084 A JP25586084 A JP 25586084A JP H0794461 B2 JPH0794461 B2 JP H0794461B2
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
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    • C07D501/227-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with radicals containing only hydrogen and carbon atoms, attached in position 3
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Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明の結晶セフアロスポリン1水化物は一般的にはセ
フアロスポリン系抗菌剤の通常特性を有しており、そし
て経口投与に依る細菌性感染治療用の医薬製剤成分とし
て特に有用である。
〈従来の技術〉 セフアロスポリン化合物7−〔D−α−アミノ−α−
(3−クロロ−4−ヒドロキシフエニル)アセトアミ
ド〕−3−メチル−3−セフエム−4−カルボン酸が米
国特許第3,489,751号で開示され、特許請求されてい
る。以下クロロセフアドロキシル(Chloroce fadroxi
l)と称する、この化合物は次の構造式を有している。
クロロセフアドロキシルは非常に様々のグラム陽性及び
グラム陰性微生物に依つてひき起こされる疾病の防止に
効力のある広いスペクトラムの抗生物質として有効であ
る。これは経口的なセフアロスポリン抗生物質として特
に重要である。
米国特許第3,489,751号は、D(−)−α−アミノ−α
−(3−クロロ−4−ヒドロキシフエニル)酢酸のアミ
ノを保護した誘導体を用いる7−アミノデサセトキシセ
フアロスポラン酸(7−ADCA)のアシル化に依るクロロ
セフアドロキシルの製造方法を開示している。開示され
た様々のアミノを保護したアシル化剤中で、所謂、t−
BOC法を利用し、D(−)−α−(3−クロロ−4−ヒ
ドロキシフエニル)−α−(t−ブトキシカルボニルア
ミノ)酢酸を用いて最高の収率が得られた。然し、この
方法での収率は企業化生産で要望される程高くは無く、
そしてt−BOCプロセスで使用された試薬は極めて高価
である。
米国特許第3,985,741号は、そのα−アミノ基がβ−ケ
ト化合物例えばアセト酢酸メチルを用いてブロツクされ
ているD(−)−α−(3−クロロ−4−ヒドロキシフ
エニル)グリシンの混合無水物を用いる7−ADCAのアシ
ル化に依るクロロセフアドロキシルの製法を開示してい
る。この方法はt−BOC法よりもある確実な利点を有し
ているが、企業化可能な生産プロセスとして必要とされ
る程には経済的では無い。この特許ではクロロセフアド
ロキシル1モル当り1.5モルのジメチルホルムアミドを
含有するクロロセフアドロキシルの結晶性ジメチルホル
ムアミド溶媒化物も開示されている。溶媒化物が解離す
る迄、ジメチルホルムアミド溶媒化物を沸騰メタノール
中でスラリー化しておき、生成した懸濁液をついで冷却
して、精製された形態のクロロセフアドロキシルを生じ
る。然し、この特許の方法によつて製造されたクロロサ
フアドロキシルが結晶性の水化物の形態であるとは示さ
れていない。
米国特許第3,781,282号は教示的実施例(実施例7)
で、酸性にした水にクロロセフアドロキシル・DMF溶媒
化物を溶解させ、ついでトリエチルアミンを用いて中和
することに依るクロロセフアドロキシルの製法を開示し
ている。この参考文献からは、クロロセフアドロキシル
生成物が結晶性の1水化物の形態であるのか又は実際に
それが結晶した形であるのかさえも示唆されていない。
米国特許第4,160.863号は、本発明で開示され、そして
特許請求されているクロロセフアドロキシル1水化物と
類似した方法で製造された(セフアドロキシルとも呼ば
れる)7−〔D−α−(p−ヒドロキシフエニル)アセ
トアミド〕−3−メチル−3−セフエム−4−カルボン
酸の結晶1水化物を開示している。
クロロセフアドロキシルの多くの重要な特性を考慮する
と、先行技術の諸方法で得られるよりも、より高い収率
で、そしてより安価な生産経費でこの抗生物質を製造す
る商業生産に利用出来るプロセスを有することが望まし
い。更に、抗菌的用途例えば水性懸濁液用の適切な医薬
製剤にこの抗生物質を調製出来る安定な結晶性形態例え
ば結晶1水化物でクロロセフアドロキシルを提供するの
が望ましい。
〈発明が解決しようとする問題点〉 本発明はクロロセフアドロキシルの新規な結晶1水化物
及び該1水化物の製造方法を提供する。また先行技術の
諸方法に比して、卓越した生成物収率及びより安価な生
産経費となるクロロセフアドロキシル製造用の改良され
たアシル化方法を提供する。
〈問題点を解決するための手段〉 第一の態様によれば、本発明はクロロセフアドロキシル
又はその薬理学的に許容し得る塩の製造方法に於て、 (a)不活性の実質上無水の非プロトン性溶媒中で、7
−アミノデサセトキシセフアロスポラン酸をシリル化
し; (b)不活性の実質上無水の非プロトン性溶媒中、酸受
容体の存在下で、上記の様にシリル化した7−アミノデ
サセトキシセフアロスポラン酸をD(−)−α−アミノ
−α−(3−クロロ−4−ヒドロキシフエニル)アセチ
ルクロライド・塩酸(塩)でアシル化し; (c)加水分解又はアルコーリシスに依つてアシル化生
成物のシリル基を開裂させ;且つ (d)所望のセフアロスポラン酸又はその薬理学的に許
容し得る塩を回収する; 諸工程より成ることを特徴とする改良された製造方法を
提供する。
上で言及された薬理学的に許容し得る塩には、例えば、
(1)酸性カルボン酸基の毒性の無い薬理学的に容許し
得る塩例えばナトリウム、カリウム、カルシウム、アル
ミニウム及びアンモニウム塩及び、アミン類例えばトリ
(低級)アルキルアミン、プロカイン、ジベンジルアミ
ン、N−ベンジル−β−フエネチルアミン、1−エフエ
ナミン、N9N′−ジベンジルエチレンジアミン、ジヒド
ロアビエチルアミン、N,N′−ビスジヒドロアビエチル
エチレンジアミン、N−(低級)アルキルピペリジン例
えばN−エチルピペリジン及びベンジル−ペニシリンの
塩の形成に使用されているその他のアミンで置換された
アンモニウム塩;及び(2)毒性の無い薬理学的に許容
し得る酸付加塩(即ち、塩基性窒素の塩)例えば、
(a)鉱酸付加塩例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水
素酸塩、硫酸塩、スルフアミン酸塩、スルホン酸塩、燐
酸塩等及び、(b)有機酸付加塩例えばマレイン酸塩、
酢酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、シユウ酸塩、コハク酸
塩、安息香酸塩、フマル酸塩、マロン酸塩、マンデル酸
塩、アスコルビン酸塩、β−ナフタレンスルホン酸塩、
及びp−トルエンスルホン酸塩が包含される。本明細書
で使用する用語“(低級)アルキル”には1乃至10個の
炭素を包括的に有する直鎖又は枝分れ鎖の飽和炭化水素
基を包含するものと定義する。
上記プロセス中では、7−ADACを不活性の実質上無水の
非プロトン性溶媒中でシリル化剤との反応に依つて先ず
シリル化する。
シリル化反応に適した溶媒には、メチレンクロライド、
テトラヒドロフラン、クロロホルム、テトラクロロエタ
ン、ニトロメタン、ベンゼン及びジエチルエーテルの様
な不活性の実質上無水の有機溶媒がある。好ましい溶媒
はメチレンクロライドである。
上の工程で有効なシリル化剤は当業界で知られている。
〔例えば米国特許第3,654,266号、第3,575,970号、第3,
499,909号、第3,349,622号、第3,595,855号、第3,249,6
22号及び英国特許第1,339,605号、第959,853号及び第1,
008,468号参照〕。既知のシリル化剤も使用し得るが、
〔但し、R2、R3及びR4は水素、ハロゲン、(低級)アル
キル、ハロ(低級)アルキル、フエニル、ベンジル、ト
リル又はジメチルアミノフエニルであり(該R2、R3及び
R4基がすべてハロゲン又は水素である場合を除く);R1
は(低級)アルキルであり;mは1から2の整数であり、
そしてXはハロゲン又は {式中、R5は水素又は(低級)アルキルであり、そして
R6は(低級)アルキル又は (但し、R2、R3及びR4は上の定義の通りである)であ
る}〕の化合物から選ばれたシリル化剤を使用するのが
好ましい。
適当なシリル化剤の例には、トリメチルクロロシラン、
ヘキサメチルシラザン、トリエチルクロロシラン、メチ
ルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリエ
チルブロモシラン、トリ−n−プロピルクロロシラン、
ブロモメチルジメチルクロロシラン、トリ−n−ブチル
クロロシラン、メチルジエチルクロロシラン、ジメチル
エチルクロロシラン、フエニルジメチルブロモシラン、
ベンジルメチルエチルクロロシラン、フエニルエチルメ
チルクロロシラン、トリフエニルクロロシラン、トリフ
エニルフルオロシラン、トリ−o−トリルクロロシラ
ン、トリ−p−ジメチルアミノフエニルクロロシラン、
N−エチルトリエチルシリルアミン、ヘキサエチルジシ
ラザン、トリフエニルシリルアミン、トリ−n−プロピ
ルシラミン、テトラエチルジジメチルジシラザン、テト
ラメチルジエチルジシラザン、テトラメチルジフエニル
ジシラザン、ヘキサフエニルジシラザン及びヘキサ−p
−トリルジシラザンが包含される。
それ以外の適当なシリル化剤は、ヘキサアルキルシクロ
トリシラザン又はオクタアルキルシクロテトラシラザン
及びシリルアミド及びシリルウレイド例えばトリアルキ
ルシリルアセトアミド及びビス−トリアルキルシリルア
セトアミドである。最も好ましいシリル化剤はトリメチ
ルクロロシラン及びヘキサメチルジシラザンである。
シリル化剤としてシリルハライド、例えばトリメチルク
ロロシランを用いる場合は、シリル化工程を、不活性
の、実質上無水の、非プロトン性溶媒中で、酸(ハロゲ
ン化水素)受容体、好ましくはプロピレンオキシド又は
窒素塩基例えばトリエチルアミン、トリメチルアミン、
ジメチルアニリン、キノリン、ルチジン又はピリジン、
の存在下で実施する。好ましい酸受容体はプロピレンオ
キシド、トリエチルアミン又はトリエチルアミンとジメ
チルアニリンとの混合物である。シラザン、例えばヘキ
サメチルジシラザンを用いる場合には、シラザン及び7
−ADCAを加熱してシリル化工程を都合良く実施して、反
応の副生物として形成したアンモニアあるいはアミン誘
導体を留出させて除く。
上の工程でのシリル化7−ADCAの製造では、モノ−又は
ジ−シリル化7−ADCAあるいはその混合物を得るため
に、1モルの7−ADCA当り、理論的には1乃至2モル当
量のシリル化剤を使用出来る。従つて、7−ADCAが約1
当量のシリル化剤と反応した場合は、モノシリル化7−
ADCAが形成される。例えばトリメチルクロロシラン又は
ヘキサメチルジシラザンを使用した場合、生成物は式 を有することになる。
7−ADCA1モル当り少くとも2当量のシリル化剤をシリ
ル化段階中で使用することに依つて7−ADCAのジシリル
の誘導体を製造することが可能である。好ましいトリメ
チルクロロシラン又はヘキサメチルジシラザンを用いた
時、式 を有するジシリル化7−ADCAが形成される。
シリル化工程は巾広い温度範囲、例えば室温から溶媒系
の還流温度迄、にわたつて実施可能である。有利な結果
は一般に、シリルハライドを用いる室温(20°−30℃)
及び一般に活性の低いシラザンの場合には昇温した温度
例えば還流温度を用いて得られている。
モノ−あるいはジ−シリル化7−ADCA又はその混合物の
いずれでも、次に、(最も好ましくはジオキサン溶媒化
物の形の)D(−)−α−アミノ−α−(3−クロロ−
4−ヒドロキシフエニル)アセチルクロライド・塩酸塩
を用いてアシル化させてシリル化クロロセフアドロキシ
ル中間体をその場で形成する。アシル化後に存在するシ
リル基を次に加水分解又はアルコーリシスに依つて取り
除き、所望のクロロセフアドロキシル最終生成物を、例
えばクロロセフアドロキシルが溶液から沈降析出する等
電点に中和することに依つて、反応媒体から回収する。
シリル化7−ADCAのアシル化に用いられる溶媒はシリル
化工程(a)に関連して先に定義されている。
アシル化工程にとつて好ましい温度範囲は約−20℃乃至
約+70℃である。然し温度は臨界的では無く、好ましい
範囲よりも高いかあるいは低い温度も使用可能である。
最も好ましいアシル化温度は約−10℃と+10℃の間であ
る。
アシル化過程は、シリル化7−ADCAの製造に使用された
ものと同一又は異つていても良い酸受容体の存在下で好
ましくは実施する。最良の結果は弱い(即ちpKa≦7)
第三級アミン塩基例えばジメチルアニリン、ピリジン又
はキノリンを使用した時に得られる。好ましくは、弱い
第三級アミンの鉱酸塩例えばジメチルアニリンの塩酸塩
も包含させて、過剰のアミンを不活性化する(例えば米
国特許第3,678,037号参照)。
使用される反応物のモル比に関係無くある程度の反応は
起るであろうが、アシル化工程で最高の収率を得るため
には、シリル化7−ADCAの1モル当り約1モルのアシル
化剤又はモル比で僅か過剰のアシル化剤を使用するのが
好ましい。
シリル化されているクロロセフアドロキシルのアセチル
化生成物を、シリル保護基を開裂するために加水分解又
はアルコーリシスに依つて処理する。従つてシリル化さ
れた中間体は水の付加によつて加水分解されるかあるい
は、より好ましくは適当なアルコール、好ましくはC1
C4アルカノール例えばメタノール、エタノール、n−プ
ロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール等の付
加によつてアルコーリシスされるであろう。開裂工程で
は水及び低級アルカノール(C1−C4)の混合物も使用し
得る。
クロロセフアドロキシルは類似したセフアロスポリンの
単離に通常使用されている方法に依つて反応溶液から回
収し得る。従つて、所望の酸が溶液から沈降する迄、反
応混合物のpHを高い方に調節する事に依つて、生成物を
中性分子として回収することが可能である。好ましくは
非水性アミン塩基例えばトリエチルアミンが使用され
る。遊離酸の形のクロロセフアドロキシルは適切な塩基
又は酸との反応に依つて薬理学的に許容し得るカルボン
酸あるいは酸付加塩に転化させ得る。
本発明の好ましい実施態様によれば、実質上無水の非プ
ロトン性溶媒、好ましくはメチレンクロライド中で外か
ら加熱、好ましくは溶媒の還流温度に加熱して、7−ア
ミノデサセトキシセフアロスポラン酸はヘキサメチルジ
シラザンを用いてシリル化されて、その場で式 のジシリル化7−ADCAを形成する。
ジシリル化7−ADCAは次に、同一溶液中(好ましくは−
10゜から+10℃で)、好ましくはジオキサン溶媒化物の
形の、D(−)−α−アミノ−α−(3−クロロ−4−
ヒドロキシフエニル)アセチルクロライド・塩酸塩を用
いて酸受容体、好ましくはpKa≦7を持つた第三級アミ
ン塩基例えばジメチルアニリン、ピリジン、あるいはキ
ノリンの存在下で直接アシル化される。アシル化に続い
て、シリル化されているクロロセフアドロキシルのアシ
ル化生成物はC1−C4アルカノール、好ましくはメタノー
ル又はn−ブタノールを用いて処理されてシリル基を開
裂して、(付加的な過工程後)第3級アミン塩基、好
ましくはトリエチルアミンを用いて沈でんを生じさせる
等電点の中和に依つて生成物が回収される。
通常のシリルハライド例えばトリメチルクロロシランの
代りにシリル剤としてヘキサメチルジシラザンを用いる
ことにより、酸ハライドの副生物の生成を無くし、そし
て、その結果、シリル化工程での酸受容体を使用する必
要を無くした。
反応媒体中にこの酸受容体があると、より不溶性の塩例
えばトリエチルアミン−HClが存在して後の回収工程を
邪魔する。従つてヘキサメチルジシラザンを使用するこ
とに依り、従来のトリメチルクロロシランによるシリル
化より、クロロセフアドロキシルのより高い収率が達成
可能である。
本発明の第二の態様は、医薬製剤に好適のセフアロスポ
リン抗生物質の安定な有効な形態であることが見出され
た新規な結晶1水化物の形態のクロロセフアドロキシル
を提供する。
本発明の結晶クロロセフアドロキシル1水化物は、本質
上、次のX線回折特性を示す: X線回折特性の測定方法の詳細は次の通りである。2cm
2及び厚さ1mmの平らな試料をX線粉末自動回折計(Phil
lips PW−1050−70−輻射源CuK−α(1.54178Å))に
使用した。温度=22℃。
極めて少量の結晶性弗化ナトリウムをある試料に混入し
て入れ、内部標準物質とした。更に、純粋なNaFの試料
を同一目的のために全操作を通して使用した。
フイルムはNorelcoデバイーシエラーフイルム読解器
で、0.05mm迄の回折環の位置の記録を読取つた。データ
はフイルムの収縮を補正し、格子面間隔(d−間隔)は
補正したデータから算出した。すべての計算にはコンピ
ユータプログラム(P.Zugenmaierに依るXRAY)を使用し
た。得られたd−間隔データの精度は〜1%であつた。
すべてのフィルムの強度記録は、Joyce−Loeble Mark I
IIC記録式ミクロ濃度計(走査比5:1、0.1 O。D。ウエ
ツジ)を用いて得た。目盛り1−100の相対強度はバツ
クグランドの読みについて補正されているピーク強度を
用いてすべての認知し得る回折環に割付けた。
結晶1水化物生成物の一試料について赤外分析を行い、
試料(KBrデスクとして)のスペクトルを図1に示し
た。
本発明は更に、上記の結晶クロロセフアドロキシル1水
化物の製造方法であつて、 (a)不活性の実質上無水の非プロトン性溶媒中で7−
アミノデサセトキシセフアロスポラン酸をシリル化し; (b)かくして得たシリル化した7−アミノデサセトキ
シセフアロスポラン酸を、不活性の実質上無水の非プロ
トン性溶媒中で、D(−)−α−アミノ−α−(3−ク
ロロ−4−ヒドロキシフエニル)アセチルクロライド塩
酸塩を用いてアシル化し; (c)加水分解又はアルコーリシスに依り、このアシル
化生成物のシリル基を開裂させ;且つ (d)下記の諸方法: (1)過剰のジメチルホルムアミド又はアセトニトリル
の共存下で、工程(c)からの溶液のpHを高い方に調節
して7−〔D−α−アミノ−α−(3−クロロ−4−ヒ
ドロキシフエニル)アセトアミド〕−3−メチル−3−
セフエム−4−カルボン酸のジメチルホルムアミド又は
アセトニトリル溶媒化物を形成し;該溶媒化物を酸性に
した水又は酸性にした水とアセトニトリルとの混合物に
溶解し、且つ該酸性にしてある溶液のpHを高い方に調節
して所望の結晶性1水化物を沈殿させる; (2)過剰のジメチルホルムアミド又はアセトニトリル
の共存下で、工程(c)からの溶液のpHを高い方に調節
して7−〔D−α−アミノ−α−(3−クロロ−4−ヒ
ドロキシフエニル)アセトアミド〕−3−メチル−3−
セフエム−4−カルボン酸のジメチルホルムアミド又は
アセトニトリル溶媒化物を形成し且つ該溶媒化物を水又
は部分的に水性の媒体と接触させて所望の結晶性1水化
物を沈殿させる;あるいは (3)工程(c)からの溶液のpHを高い方に調節して7
−〔D−α−アミノ−α−(3−クロロ−4−ヒドロキ
シフエニル)アセトアミド〕−3−メチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸を形成し且つ該酸を水又は部分的に
水性の媒体と接触させて所望の1水化物の結晶化を行な
わせる; から選ばれた方法に依つて所望の1水化物生成物を形成
することを特徴とする上記の結晶クロロセフアドロキシ
ル1水化物の製造方法を提供する。
上記プロセスによる結晶クロロセフアドロキシル1水化
物の製造方法では、シリル化、アシル化及びシリル基開
裂工程は、クロロセフアドロキシル製造のための改良さ
れたアシル化方法に関連して先に記載されている様に実
施される。
それに、所望の結晶1水化物はそれ以外のいくつかのル
ートのいずれによつても製造されよう。
その第一の方法では、ソルボリシス工程に続いて、クロ
ロセフアドロキシルの溶液を過剰のジメチルホルムアミ
ド又はアセトニトリルの共存下で、塩基性物質、例えば
第三級アミン例えばトリエチルアミンを用いて、クロロ
セフアドロキシルのジメチルホルムアミド又はアセトニ
トリル溶媒化物が溶液から沈殿する迄、中和する。溶媒
化物は次に捕集して(好ましくは乾燥せずに)洗浄して
結晶性物質とする。クロロセフアドロキシル・ジメチル
ホルムアミド又はアセトニトリル溶媒化物は、溶媒化物
を酸性にした水又は酸性にした水とアセトニトリルとの
混合物中に溶解し、そして次に酸性にしてある溶液を中
和して1水化物生成物を沈殿させることに依り、所望の
クロロセフアドロキシル1水化物に変換し得る。
クロロセフアドロキシル・ジメチルホルムアミド又はア
セトニトリル溶媒化物の溶解は約2−2.4のpHで起り、
このpHは水又はアセトニトリル−水混合物と溶媒化物と
の混合物に鉱酸例えばHClを添加することに依つて達成
出来る。固体不純物はプロセスのこの段階で、活性炭及
び/又は過助剤で処理して後、酸性にした溶液を過
することに依つて除去し得る。
酸性にしてある溶液は次に、好ましくは攪拌して、そし
て約35−60℃に加温して、適当な塩基、例えば脂肪族第
三級アミン例えばトリエチルアミンの添加に依り中和さ
せて、溶液のpHをクロロセフアドロキシル1水化物が溶
液から結晶化する点に高める。
中和時に負溶媒(沈殿剤)としてアセトニトリルを好ま
しくは溶液に添加して所望生成物の最高回収率を達成す
る。所望の1水化物の種(たね)結晶を用いて最終中和
段階に先立ち及び/又は同段階中に溶液の種形成をする
ことに依つても収率は改善される。
上のプロセスで、結晶クロロセフアドロキシル1水化物
を製造する第二の方法は、上述の通りにクロロセフアド
ロキシル・ジメチルホルムアミド又はアセトニトリル溶
媒化物を製造し、そして該溶媒化物を所望の1水化物が
溶媒系から結晶化する迄、水又は部分的に水性の媒体と
接触させることを伴う。
クロロセフアドロキシル・ジメチルホルムアミド又はア
セトニトリル溶媒化物は水又は水と有機溶媒例えばアセ
トニトリル、アセトン、C1−C5アルカノール(メタノー
ル、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノー
ル、n−ブタノール、アミルアルコール等)、又はその
混合物、との混合物中に溶解させる。有機溶媒は多くの
不純物を吸収し、より純粋な最終生成物を生ずるので部
分的に水性の有機溶媒系の使用が好ましい。
水及び有機溶剤の混合物が使用される時には、有害な影
響を与えること無く広い範囲にわたつて溶媒成分の比率
を変えることが可能である。いくつかの部分的に水性の
溶媒系については好ましい溶媒比が求められており、次
の通りである: 水:アセトン (1:3)(v/v) 水:イソプロパノール (1:3)(v/v) 水:アセトニトリル (1:3)(v/v) 水: n−ブタノール (1:1)(v/v) 水−アセトニトリル系については、(好ましくは溶媒化
物の可溶化後)n−ブタノールを添加して、結晶化時に
溶媒系を単一の均質相のまゝにしておくのが好ましい。
好ましくは、充分なn−ブタノールをこの結晶化系に加
えて水−アセトニトリル:n−ブタノール(1:2:1)(v/
v)の最終溶媒比に到達させる。
水性又は部分的に水性の結晶化媒体中の溶媒化物の濃度
は臨界的では無い。然し、最良の結果は、溶液1当り
で約400と800gの間の濃度を用いた時に得られた。溶媒
化物は好ましくは溶媒系に少し宛そしてある時間の間
(この時間は使用される溶媒化物の量によつて変り、数
分乃至数時間である)攪拌を行いつつ添加する。
結晶化は広い温度範囲、即ち室温から溶媒系の沸点迄に
わたり実施可能である。良好な結果は、約35°−60℃、
最も好ましくは40°−45℃の温度範囲で得られる。
1水化物の収率は、ジメチルホルムアミド又はアセトニ
トリル溶媒化物の溶液にクロロセフアドロキシル1水化
物の種結晶を用いて種形成させることに依つて改善され
る。
上のプロセスで所望の1水化物を製造する第三の方法
は、(a)上述の様に、シリル化(した)クロロセフア
ドロキシルを製造して、加水分解又はアルコーリシスに
依つてシリル保護基を開裂させ、(b)開裂工程からの
溶液をクロロセフアドロキシルの等電点(〜pH5.7−5.
8)へと、適当な塩基、好ましくは脂肪族第三級アミン
例えばトリエチルアミンを用いて中和して、不純又は一
次品質のクロロセフアドロキシルを沈殿させ、且つ
(c)該不純のクロロセフアドロキシルを、クロロセフ
アドロキシル1水化物が溶液から結晶化する迄、水又は
水と適当な有機溶媒、好ましくはアセトニトリル、アセ
トン、C1−C5アルカノール(例えばメタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタ
ノール、アミルアルコール等)又はその混合物、との混
合物と接触させる諸工程より成る。
不純又は一次品質(無定形)クロロセフアドロキシルを
形成するクロロセフアドロキシル溶液の中和は室温で攪
拌されている溶液に塩基を徐々に添加することに依つて
都合良く実施出来る。不純のクロロセフアドロキシルは
次に、クロロセフアドロキシル・ジメチルホルムアルド
又はアセトニトリル溶媒化物について上述したのと同様
な方法で結晶化させることが可能である。ジメチルホル
ムアミド又はアセトニトリル溶媒化物結晶化方法の場合
には、最も好ましい溶媒系は水:アセトニトリル:n−ブ
タノール(1:2:1)(v/v)である。
本発明の最も好ましい態様は、 (a)7−〔D−α−アミノ−α−(3−クロロ−4−
ヒドロキシフエニル)アセトアミド〕−3−メチル−3
−セフエム−4−カルボン酸のジメチルホルムアミド又
はアセトニトリル溶媒化物を酸性にした水又は酸性にし
た水とアセトニトリルとの混合物に溶解し;かつ該酸性
にした溶液のpHを、溶液から所望の1水化物が結晶化す
る迄、高い方に調節する;又は (b)7−〔D−α−アミノ−α−(3−クロロ−4−
ヒドロキシフエニル)アセトアミド〕−3−メチル−3
−セフエム−4−カルボン酸又はそのジメチルホルムア
ミド又はアセトニトリル溶媒化物を、所望の1水化物が
溶液から結晶化する迄、水又は部分的に水性の媒体と接
触させる; 工程に依る、クロロセフアドキシル・ジメチルホルムア
ミド又はアセトニトリル溶媒化物あるいは不純の(一次
品質の)クロロセフアドロキシルからの、結晶クロロセ
フアドロキシル1水化物の製造方法である。
上のプロセスで使用されるジメチルホルムアミド又はア
セトニトリル溶媒化物及びクロロセフアドロキシル出発
物質は、本発明に記載された方法に依るかあるいは他の
公知の方法、例えば米国特許第3,489,751号及び第3,98
5,741号に開示された方法に依り製造しても良い。
上のプロセスでのクロロセフアドロキシル1水化物の形
成のための好ましい諸条件は先に開示れた総括的反応ス
キーム、即ちシリル化、アシル化及び1水化物製造の組
合わせ工程、に関連して上述したものと同じである。
上述の好ましい反応条件を用いることに依つて、本発明
は、卓越した収率での一次品質のクロロセフアドロキシ
ルの製造及び該クロロセフアドロキシル又はそのジメチ
ルホルムアミド又はアセトニトリル溶媒化物を約85%迄
の活性収率でクロロセフアドロキシル1水化物への引続
いての変換を可能にしている。
上の諸方法のいずれかによつて製造された結晶1水化物
は従来の方法、例えば過及びつづいての洗浄、乾燥に
依つて回収出来、そして様々の細菌性疾病と戦う剤生物
治療での用途に対する医薬製剤に調製出来る。かゝる
(例えばカプセル又は錠剤)の処方例は無定形のクロロ
セフアドロキシルについての米国特許第3,489,751号及
び、第3,985,741号に記載されている。
従つて本発明は、結晶クロロセフアドロキシル1水化物
と適当な不活性の薬理学的に許容し得る担体又は稀釈剤
とから成る医薬組成物、最も好ましくは経口投与に適す
る医薬組成物を包含する。
本発明は更に、対象客体に本明細書中で定義される様な
結晶クロロセフアドロキシル1水化物の有効な用量又は
先に定義された様な医薬組成物を投与することを特徴と
するグラム陽性又はグラム陰性微生物によつてひき起さ
れた疾病について人又は他の動物種(例えば哺乳類)の
治療方法を包含する。
〈実施例〉 以下の実施例は本発明の説明、例示のために示した。温
度はすべて摂氏の度で示す。7−アミノデサセトキシセ
フアロスポラン酸は7−ADCAと、トリエチルアミンはTE
Aと、ジメチルアニリンはDMAと、そしてジメチルホルム
アミドはDMFと略字を用いる。
出発物質の製造法 製造法1 D(−)クロロ−3−ヒドロキシ−4−フエニルグリシ
ンの製造法 試薬 D(−)p−ヒドロキシルフエニルグリシン10Kg(60モ
ル) 酢酸 228l 塩化水素酸(ガス) 6.25Kg スルフリルクロライド 8.1Kg(60モル) メチレンクロライド 100l ソーダ溶液400g/l 3l アセトン 15l 方法 酢酸200l中のD(−)p−ヒドロキシフエニルグリシン
の10Kgの懸濁液を60℃に加熱した。(大約60分間にわた
り)6.25Kgの塩化水素酸をバブルさせることに依りハイ
ドロクロレート(hydrochorate)を形成させた;28lの酢
酸中の8.1Kgのスルフリルクロライドの溶液を次に得ら
れた溶液に加え、65−70℃に90分間保つた。溶液を低圧
下で脱気し、20℃に冷して1晩攪拌した。固体を捕集
し、メチレンクロライド中に2回懸濁させて洗浄した。
これを真空中40℃で乾燥した。
得られたクロロ−3−ヒドロキシ−4−フエニルグリシ
ン・ハイドロクロレート=13Kg。
130lの水にハイドロクロレートを懸濁させて、攪拌しつ
つ30分間混合物を40℃とした。20℃に冷却して400g/lの
ソーダの溶液(大略3l)を添加してpHを1.4に調節し
た。2時間、+5℃で攪拌し、過し、そして固体を3
回蒸留水で洗浄し、(母液中にはイオン化し得る塩素は
無い)、次に大約15lのアセトンで洗い、60℃で乾燥し
た。Frewitt装置で配合してH2O(KF)≦0.1%に乾燥し
た。
得られたクロロ−3−ヒドロキシ−4−フエニルグリシ
ンの重量=8.1Kg(67%収率)。
製造法2 D(−)クロロ−3−ヒドロキシ−4−フエニルグリシ
ンクロライド・塩酸(塩)の製造法 試薬 D(−)クロロ−3−ヒドロキシ−4−フエニルグリシ
ン 50g(0.248モル) ジオキサン 400ml(+洗浄) ホスゲン 60g (0.60モル) 塩化水素酸(ガス) 190g(5.2モル) メチレンクロライド 洗浄用の量 方法 (モレキユラー・シーブ上、KF<0.05%に乾燥した)無
水ジオキサンの410ml、次に(5mmHg/80℃;KF<0.1%恒
量に乾燥し、そして200メツシユのシーブにかけた)無
水のD(−)クロロ−3−ヒドロキシ−4−フエニルグ
リシンの50gを1の反応器に入れた。攪拌しつつ20分
間に60.0gのホスゲンを通した〔20℃の当初温度はホス
ゲンの通過を始めた点で35℃に上昇し、一方固体の変態
があり(攪拌が困難となる)、その後は温度は下る傾向
である〕。必要量のホスゲンを添加した時に、混合物を
70℃に加熱した。温度が60−65℃に達した時、結晶化物
質が溶液中に生じた。10分間70℃で加熱して、加熱を止
め外熱を加えること無く、(過剰のホスゲンを脱離)、
溶液を250mlの容積に濃縮した;(濃縮の終りでは温度
は25℃に近かつた)。溶液を8−10℃に冷却して、塩化
水素酸を出来る限り迅速に通して温度を28−30℃に維持
した。(添加した塩化水素酸の量は大過剰に相当し;反
応は大略化学量論量即ち2モルを通す迄は発熱的であ
る;次いで温度は再び低下する傾向があり、そして20−
25℃の温度が保たれる。)約半分の塩化水素酸を通した
時に、溶液に種を入れて一晩20℃で攪拌した。クロライ
ドのハイドロクロレートは次の日に過して、常圧空気
との接触を防止した。これを無水のジオキサンで1回、
無水のメチレンクロライドで2回洗浄した。大気温度で
真空中で乾燥してモノ−オキサン溶媒物として73g(8
5%)の題記生成物を得た。
実施例1. クロロセフアドロキシル1水化物 A.クロロセフアドロキシル・アセトニトリル溶媒化物 試薬 7−ADCA 7.2Kg(33.6モル) メチレンクロライド(K.F.<0.1%)180.0l
トリメチルクロロシラン(TMCS) 9.0l (71.0モル) N8N−ジメチルアニリン(DMA) 4.35l(34.3モル) トリエチルアミン(TEA) 23.4l N8N−ジメチルアニリン・塩酸(塩) (メチレンクロライド溶液376g/l) 4.24l(10.1モル) クロロ−3−ヒドロキシ−4−フエニル グリシンクロライド・塩酸(塩)・ジオキ サン溶媒化物(純度53.8%) 17.0Kg(34.3モル) メタノール 3.4l アセトニトリル 107.0l 市水 51.0l 方法 500lのガラスライニング反応器に150lの無水のメチレン
クロライド(KF<0.1%)及び7.2Kgの7−ADCAを入れ
た。攪拌している懸濁液に9.0lのTMCS及び4.35lのDMAを
加え、次に温度を20−25℃に保つて15分間かけて9.4lの
TEAを加えた。混合物を20℃で1時間攪拌して、−10℃
に冷却した。
次にDMA・HClの376g/lメチレンクロライド溶液の4.24l
を加え、ついで(温度を−12℃と−8℃の間に保つて)
1時間かけて、D(−)クロロ−3−ヒドロキシ−4−
フエニルグリシンクロライド・塩酸(塩)・ジオキサン
溶媒化物(純度53.8%)の17Kgを10に分割して加えた。
混合物を2時間、−10℃で攪拌して、10分間かけて10l
のメタノールを加え、次に48lの水道水を(充分攪拌し
つつ)加えた。混合物を15分間(温度0℃〜5℃)で攪
拌して、TEA(9.0l)の添加によつてpHを2.3に調整し
た。水溶液を分離して、15lのメチレンクロライドで2
回洗浄した。次に80lのアセトニトリルを加えてTEA(5.
0l)の添加に依り、pHを5.0に調整した。溶液に種を加
えて1晩+10℃で攪拌した。固体を捕集し、15lのアセ
トニトリル−水(8:2)及び15lのアセトニトリルで洗浄
し、次に40℃で乾燥して11.0Kg(7−ADCAから74%の収
量)の題記化合物を得た。
B.クロロセフアドロキシル・アセトニトリル溶媒化物の
精製 試薬 クロロセフアドロキシル・アセトニトリル溶媒化物(粗
製) 21.0Kg 水道水 115 l 33%HCl 5.2 l 木炭 1.5Kg アセトニトリル 250 l トリエチルアミン(TEA) 8.7 l セライト 充分量 方法 粗製クロロセフアドロキシル・アセトニトリル溶媒化物
(21Kg)を100lの水道水中で攪拌して、B3%HClの5.2l
を添加してpHを0.8〜0.9に調節した。この溶液に、1.5K
gの木炭を加え、混合物を30分間攪拌してセライト・パ
ツドで過した。(過)溶液及び洗浄水(10l)を250
lのガラスライニング反応器に入れ、200lのアセトニト
リルを加え、TEA(3.5l)を添加してpHを2.5に調節し
た。溶液に種を加え、40〜45℃に加熱して、TEA(5.2
l)を添加してpHを5.2に調節した。混合物を1時間、40
℃で攪拌し、10℃に冷却して、10℃で攪拌しつつ1晩静
置した。固体を捕集し、30lのアセトニトリル−水(1:
2)及び次に30lのアセトニトリルで洗浄し、そして40℃
で乾燥して、16.6Kg(79%)の精製題記化合物を得た。
C.クロロセフアドロキシル1水化物 試薬 精製クロロセフアドロキシル・アセトニトリル溶媒化物 6.85Kg 水 73.0 l 33%HCl 1.7 l 木炭 0.7 Kg トリエチルアミン(TEA) 2.8 l セライト 充分量 方法 精製したクロロセフアドロキシル・アセトニトリル溶媒
化物(6.85Kg)を50lの水中で攪拌して、33%HClの1.7l
を加えてpHを0.8−0.9に調節した。木炭(0.7Kg)を加
えて、混合物を30分間攪拌してセライト・パツドで過
した。(過)溶液及び洗浄水(5l)を100lのガラスラ
イニング反応器に移して40℃に加熱した。TEA(1.24l)
を添加してpHを1.6〜1.8に調節して、溶液にクロロセフ
アドロキシル1水化物の種を加えた。混合物を40℃で11
/2時間攪拌して、TEA(1.56l)を加えてpHを4.0に調節
した。懸濁液をゆつくりと20℃に冷やして次に+5℃で
2時間攪拌した。固体を捕集し、6lの水で3回洗い、40
℃で乾燥して、5.35Kg(86%)の題記化合物を得た。
実施例2 クロロセフアドロキシル1水化物(種を加えない製造法
の例) 精製したクロロアセドロキシル・アセトニトリル溶媒化
物(352g)を2.8lの水中に懸濁させて、36%HClを加え
て0.9のpHにした(すべての物質は溶液中に入る)。溶
液を36.0gの木炭と11/2時間攪拌して、混合物をセライ
ト・パツドで過した。得られた溶液を40℃に加熱し、
トリエチルアミンの添加でpHを1.8に調節した。この時
点で種を加えなくともクロロセフアドロキシル1水化物
の結晶が形成し始めた。混合物のpHを次にトリエチルア
ミンを用いて4.0に調節し、更に2時間5℃で懸濁液を
攪拌した。結晶性のクロロセフアドロキシル1水化物を
捕集し、水で3回洗浄して45℃で乾燥し、295.5gの題記
化合物を得た。IRスペクトルは実質上図1に示したもの
であり、実施例1によつて製造された試料について得ら
れたものと同一であつた。
本発明のクロロセファドロキシル1水化物はその化学構
造が最も類似する1水化物即ち、セファドキシル1水化
物、に比べて顕著に安定な水性懸濁液を形成することが
明らかにされた。本発明のクロロセファドロキシル1水
化物のこの安定性はこの類似するセファドキシル1水化
物からは全く予測できなかった驚くべきものである。本
発明のクロロセファドロキシル1水化物のこの顕著な安
定性を示すためにクロロセファドロキシル1水化物とセ
ファドキシル1水化物との比較例を以下に示す。
比較例 操作1 500mlの熱湯蒸留水(80℃)中に600mgのニパジンM(me
thylparaben)及び0.112mgのニパゾール(propylparabe
n)と同時に2.625mgのガムトラガントを一定の攪拌条件
下で連続的に溶解させた。溶液を室温まで冷却させ、攪
拌しながら875gのサッカローズを加え、そして2.250gの
アプリコットオレンジの風味(NFA−1800),1.012gのタ
ンジャリンの風味(NF−1580)及びココナッツの風味
(CIV.735134)を加えた。
この基剤に予め100メッシュのステンレススチール製ス
クリーンを通過させておいた159.232gのクロロセファド
ロキシル1水化物をくわえた。全体を攪拌器で15分間均
一化させた。750mlの量を得るために蒸留水を加え、全
量を15分間混合した。得られた懸濁液をストッパーで蓋
をされ且つ密閉されている透明な50mlのガラス瓶に細分
した。
操作1 実施例1と同じ操作を行い、クロロセファドロキシル1
水化物の代わりに159.570gのセファドキシル1水化物を
用いた。
安定性 両溶液をオーブン中で5℃及び30℃の温度でこれら2カ
月の間維持する次の安定化テストに供した。
活性化合物のg/懸濁液のgとして表される次の結果を2
カ月後に得た。
5℃ 37 ℃ a)クロロセファドロキシル1水化物 0.163 0.158 b)セファドロキシル1水化物 0.163 0.135 結果 これらの結果は37℃に維持することによる力価の見掛け
上の損失は2か月後でクロロセファドロキシル1水化物
では2%より少ない。これに対して、セファドロキシル
1水化物でのそれは約20%であった。
【図面の簡単な説明】
添付図面、図1は本発明の方法で得たクロロセフアドロ
キシル1水化物(KBr錠)の固有の赤外スペクトルを示
す。

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】次のX線回折特性: を本質的に示す結晶7−〔D−α−アミノ−α−(3−
    クロロ−4−ヒドロキシフエニル)アセトアミド〕−3
    −メチル−3−セフエム−4−カルボン酸1水化物。
  2. 【請求項2】次のX線回折特性: を本質的に示す結晶7−〔D−α−アミノ−α−(3−
    クロロ−4−ヒドロキシフエニル)アセトアミド〕−3
    −メチル−3−セフエム−4−カルボン酸1水化物の製
    造方法であって、 (a)不活性の実質上無水の非プロトン性溶媒中で、7
    −アミノデサセトキシセファロスポラン酸をシリル化
    し; (b)かくして得たシリル化した7−アミノ−デサセト
    キシセファロスポラン酸を、不活性の実質上無水の非プ
    ロトン性溶媒中、酸受容体の存在下、D(−)−α−ア
    ミノ−α−(3−クロロ−4−ヒドロキシフエニル)ア
    セチルクロライド・塩酸塩を用いてアシル化し; (c)加水分解又はアルコーリシスによりアシル化生成
    物のシリル基を開裂させ;且つ (d)下記の諸方法; (1)過剰のジメチルホルムアミド又はアセトニトリル
    の存在下で、工程(c)からの溶液のpHを高い方に調節
    して7−〔D−α−アミノ−α−(3−クロロ−4−ヒ
    ドロキシフエニル)アセトアミド〕−3−メチル−3−
    セフエム−4−カルボン酸のジメチルホルムアミド又は
    アセトニトリル溶媒化物を形成させ; 該溶媒化物を酸性にした水に又は酸性にした水とアセト
    ニトリルとの混合物に溶解させ、且つ該酸性にしてある
    溶液のpHを高い方に調節して所望の結晶1水化物を沈澱
    させる; (2)過剰のジメチルホルムアミド又はアセトニトリル
    の存在下で、工程(c)からの溶液のpHを高い方に調節
    して7−〔D−α−アミノ−α−(3−クロロ−4−ヒ
    ドロキシフエニル)アセトアミド〕−3−メチル−3−
    セフエム−4−カルボン酸のジメチルホルムアミド又は
    アセトニトリル溶媒化物を形成させ且つ該溶媒化物を水
    又は部分的に水性の媒体と接触させて所望の結晶1水化
    物を沈澱させる;又は (3)工程(c)からの溶液のpHを高い方に調節して7
    −〔D−α−アミノ−α−(3−クロロ−4−ヒドロキ
    シフエニル)アセトアミド〕−3−メチル−3−セフエ
    ム−4−カルボン酸を形成させ、且つ該酸を水又は部分
    的に水性の媒体と接触させて所望の1水化物の結晶化を
    行わせる; から選ばれた方法により所望の1水化物生成物を形成す
    る、 諸工程より成ることを特徴とする該結晶7−〔D−α−
    アミノ−α−(3−クロロ−4−ヒドロキシフエニル)
    アセトアミド〕−3−メチル−3−セフエム−4−カル
    ボン酸1水化物の製造方法。
  3. 【請求項3】シリル化工程(a)を、7−アミノデサセ
    トキシセファロスポラン酸と式 〔同式中、R2,R3及びR4は水素、ハロゲン、(低級)ア
    ルキル、ハロ(低級)アルキル、フエニル、ベンジル、
    トリル又はジメチルアミノフエニルであり、R2,R3及び
    R4の少なくとも一つはハロゲン又は水素以外のものであ
    り;R1は(低級)アルキルであり;mは1から2の整数で
    あり、そしてXはハロゲン又は式 {同式中、R5は水素又は(低級)アルキルであり、そし
    てR6は(低級)アルキル又は式 (式中のR2、R3及びR4は上の定義の通りである)}〕を
    有するものから選ばれたシリル化剤との反応によって達
    成する特許請求の範囲第2項記載の方法。
  4. 【請求項4】工程(a)のシリル化剤がトリメチルクロ
    ロシラン又はヘキサメチルジシラザンである特許請求の
    範囲第3項記載の方法。
  5. 【請求項5】1モルの7−アミノデサセトキシセファロ
    スポラン酸当り少なくとも2当量のシリル化剤を使用し
    て、ジシリル化7−アミノデサセトキシセファロスポラ
    ン酸を工程(a)で製造する特許請求の範囲第2項記載
    の方法。
  6. 【請求項6】実質上無水の非プロトン性溶媒中、酸受容
    体の存在下、トリメチルクロロシランを用いる7−アミ
    ノデサセトキシセファロスポラン酸のシリル化によって
    工程(a)を実施する特許請求の範囲第2項記載の方
    法。
  7. 【請求項7】シリル化工程を、実質上無水のメチレンク
    ロライド溶媒系中、トリエチルアミン又はトリエチルア
    ミンとジメチルアニリンとの混合物より成る酸受容体の
    存在下、約20−30℃の温度に於いて実施する特許請求の
    範囲第6項記載の方法。
  8. 【請求項8】実質上無水の非プロトン性溶媒中、外部加
    熱し、ヘキサメチルジシラザンを用いる7−アミノデサ
    セトキシセファロスポラン酸のシリル化により工程
    (a)を実施する特許請求の範囲第2項記載の方法。
  9. 【請求項9】シリル化工程を実質上無水のメチレンクロ
    ライド溶媒系中、還流温度に於いて実施する特許請求の
    範囲第8項記載の方法。
  10. 【請求項10】アシル化工程(b)を、実質上無水のメ
    チレンクロライド溶媒系中、約−10℃乃至10℃の温度に
    於いて、pKa≦7を持つ第三級アミン塩基から選ばれた
    酸受容体の存在下で実施する特許請求の範囲第2項記載
    の方法。
  11. 【請求項11】該酸受容体がジメチルアニリンである特
    許請求の範囲第10項記載の方法。
  12. 【請求項12】工程(c)で、シリル基を水又はC1−C4
    アルカノール、又はその混合物を用いて処理することに
    より開裂させる特許請求の範囲第2項記載の方法。
  13. 【請求項13】工程(c)で、シリル基をC1−C4アルカ
    ノールを用いて処理することによって開裂させる特許請
    求の範囲第2項記載の方法。
  14. 【請求項14】工程(d)が (1)過剰のジメチルホルムアミド又はアセトニトリル
    の存在下、7−〔D−2−アミノ−α−(3−クロロ−
    4−ヒドロキシフエニル)アセトアミド〕−3−メチル
    −3−セフエム−4−カルボン酸のジメチルホルムアミ
    ド又はアセトニトリル溶媒化物が溶液から沈澱する迄、
    工程(c)からの溶液のpHをトリエチルアミンを用いて
    高い方に調節し; (2)該溶媒化合物を酸性にした水に溶解させ;且つ (3)該溶液のpHをトリエチルアミンを添加して高い方
    に調節して所望の結晶1水化物を沈澱させる; 諸工程よりなる特許請求の範囲第2項記載の方法。
  15. 【請求項15】所望の結晶1水化物を生成させる最終pH
    調節段階を約35−60℃の温度で実施する特許請求の範囲
    第14項記載の方法。
  16. 【請求項16】最終pH調節段階中にアセトニトリルを反
    溶媒として添加する特許請求の範囲第14項記載の方法。
  17. 【請求項17】所望の7−〔D−α−アミノ−α−(3
    −クロロ−4−ヒドロキシフエニル)アセトアミド〕−
    3−メチル−3−セフエム−4−カルボン酸1水化物の
    種結晶を最終pH調節段階に先立って又は該段階中に添加
    する特許請求の範囲第14項記載の方法。
  18. 【請求項18】次のX線回折特性: を本質的に示す結晶7−〔D−α−アミノ−α−(3−
    クロロ−4−ヒドロキシフエニル)アセトアミド〕−3
    −メチル−3−セフエム−4−カルボン酸1水化物を有
    効成分とする抗菌剤。
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