JPH0763626A - 薄膜ロードセル - Google Patents

薄膜ロードセル

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Publication number
JPH0763626A
JPH0763626A JP23547693A JP23547693A JPH0763626A JP H0763626 A JPH0763626 A JP H0763626A JP 23547693 A JP23547693 A JP 23547693A JP 23547693 A JP23547693 A JP 23547693A JP H0763626 A JPH0763626 A JP H0763626A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
load cell
thin film
strain generating
generating body
strain
Prior art date
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Pending
Application number
JP23547693A
Other languages
English (en)
Inventor
Sadaaki Miyauchi
宮内貞章
Tetsuo Mori
哲夫 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teraoka Seiko Co Ltd
Tama Electric Co Ltd
Original Assignee
Teraoka Seiko Co Ltd
Tama Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Teraoka Seiko Co Ltd, Tama Electric Co Ltd filed Critical Teraoka Seiko Co Ltd
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Pending legal-status Critical Current

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  • Measurement Of Force In General (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 精密な形状の、薄膜歪素子を利用したロード
セルの作製。 【構成】 起歪体1上に絶縁塗装を施し、その上に機能
性金属薄膜を作製し、ウエットエッチング法を用いて抵
抗パターンを作製するロードセルにおいて、起歪体1表
面に無電解ニッケルメッキを施した、薄膜ロードセル。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は薄膜歪素子を利用したロ
ードセルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の薄膜を用いたロードセルは金属起
歪体上に絶縁塗装を施し、その上に機能性金属薄膜、電
極薄膜をスパッタリングや蒸着等の方法を用いて作製し
これをウエットエッチング法を用いて所望のパターンを
作製していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来の方法ではウエッ
トエッチング時に酸を使用するために起歪体が溶解され
る問題があり、起歪体や機能性金属薄膜の材質の選択幅
が少なく精密な形状で高特性のロードセル作製に問題が
あった。例えば、起歪体の材質としてアルミニウム合金
を用いた場合、使用可能な機能性金属薄膜の材質として
は、ニクロム系合金に限定されてしまう。また、機能性
金属薄膜の材質として固有抵抗の大きい鉄−クロム系合
金を用いようとすると起歪体の材質としてはアルミニウ
ム合金を用いることができず高価で加工が困難なステン
レス等を用いる必要がある。このように従来において
は、アルミニウム合金の起歪体上に、鉄−クロム系合金
を機能性薄膜に使用したロードセルを作製することがで
きなかった。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、エッチングの
際に起歪体が溶解しないように起歪体全面に無電解ニッ
ケルメッキを施し、エッチングバリアとするために精密
な形状のロードセルの作製を可能とした。
【0005】
【実施例】本発明の実施例を図面を用いて説明する。
【0006】図1は本発明によるロードセルの斜視図、
図2は本発明によるロードセルの表面部分の構成の断面
図、図3、4はパターン図、図5はロードセルの斜視図
である。
【0007】図1に於て、アルミニウム合金A2024
を機械加工により起歪部を有する起歪体1に加工し、パ
ターンの形成面を研磨し、エッチングバリアとして全面
にニッケルメッキ2を無電解メッキ法にて13μmの厚
さに形成した後、絶縁塗装としてポリイミド3を5μm
の厚さにスピンコート、加熱処理を行った。
【0008】この表面に機能性金属薄膜として鉄−クロ
ム系合金4をスパッタリング法にて2000A着膜し
た。更に電極膜として真空蒸着法を用いてパラジウム5
を2000A、金6を5000A着膜し図2に示す構造
の着膜基体を得た。
【0009】該着膜基体上にフォトレジストにより第3
図に示す様なパターンを形成した。この基体をヨウ化カ
リウム溶液中に120秒間浸し金、パラジウムをエッチ
ングし、水洗を行い電極とした。
【0010】この電極を作製した基板上にフォトレジス
トにより図4に示すようなパターンを作製し、弗化水素
酸10ml、硝酸10ml、水500mlを混合した溶
液中に90秒間浸し、パターニングを行った後、水洗、
300℃1時間の熱処理にて温度係数を調整し図5に示
すようなロードセルを得た。
【0011】
【発明の効果】本発明により、従来作製が難しかったア
ルミニウム合金の起歪体上に、鉄−クロム系合金を機能
性薄膜に使用したロードセルの作製が可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1におけるロードセルの斜視図である。
【図2】実施例1におけるロードセルの断面図である。
【図3】実施例1におけるパターンの上面図である。
【図4】実施例1におけるパターンの上面図である。
【図5】実施例1におけるロードセルの斜視図である。
【符号の説明】
1 アルミニウム合金(起歪体) 2 ニッケル 3 ポリイミド 4 鉄−クロム系合金 5 パラジウム 6 金 7 フォトレジスト

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 起歪体上に絶縁塗装を施し、その上に機
    能性金属薄膜を作製し、ウエットエッチング法を用いて
    抵抗パターンを作製するロードセルにおいて起歪体表面
    に無電解ニッケルメッキを施すことを特徴とする薄膜ロ
    ードセル。
  2. 【請求項2】 起歪体をアルミニウム合金とすることを
    特徴とする請求項1記載の薄膜ロードセル。
  3. 【請求項3】 機能性金属薄膜を鉄−クロム系合金とす
    る事を特徴とする請求項1記載の薄膜ロードセル。
JP23547693A 1993-08-27 1993-08-27 薄膜ロードセル Pending JPH0763626A (ja)

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0255925A (ja) * 1988-08-23 1990-02-26 Ishida Scales Mfg Co Ltd ロードセル
JPH04155993A (ja) * 1990-10-19 1992-05-28 Hitachi Chem Co Ltd 多層プリント配線板の製造法
JPH04191603A (ja) * 1990-11-27 1992-07-09 Tama Electric Co Ltd 金属薄膜抵抗ひずみゲージ
JPH04274720A (ja) * 1991-03-01 1992-09-30 Teraoka Seiko Co Ltd 歪ゲージ式ロードセル

Patent Citations (4)

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