JPH0745580B2 - 芳香族ポリイミドフィルム - Google Patents
芳香族ポリイミドフィルムInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、表面に凹凸が形成された芳香族ポリイミドフ
ィルムに関するものである。
ィルムに関するものである。
［従来技術］ 従来より、磁気記録媒体の基板（支持体）としては、比
較的に耐熱性、機械的強度が良いこと、平面性が良いこ
と、安価であることなどの理由からポリエチレンテレフ
タレートフィルムが使用されてきている。一方最近で
は、情報の高密度記録化、記録可能時間の長時間化、記
録画像の高画質化、また媒体の小型軽量化などを可能と
するために、Co、Cr、Ni、Feなどの金属またはこれ等の
合金の薄膜層をスパッタリングや真空蒸着などの方法を
用いてフィルム基板上に形成させた磁気記録媒体の開発
が活発に行なわれている。
較的に耐熱性、機械的強度が良いこと、平面性が良いこ
と、安価であることなどの理由からポリエチレンテレフ
タレートフィルムが使用されてきている。一方最近で
は、情報の高密度記録化、記録可能時間の長時間化、記
録画像の高画質化、また媒体の小型軽量化などを可能と
するために、Co、Cr、Ni、Feなどの金属またはこれ等の
合金の薄膜層をスパッタリングや真空蒸着などの方法を
用いてフィルム基板上に形成させた磁気記録媒体の開発
が活発に行なわれている。
フィルム基板上にスパッタリングなどの方法で金属薄膜
を形成する際のフィルム温度は、フィルムを常温におい
て特に加熱しなくとも、フィルムに衝突する粒子がもた
らすエネルギーによって200℃以上の高温になる。さら
に金属薄膜の種類によっては、保持力などの磁気特性の
向上や薄膜と基板の付着力を向上する目的でフィルム基
板を200℃以上に加熱しながら金属薄膜を形成する場合
もある。従って、スパッタリングや蒸着などの方法によ
り磁性層を形成するタイプの磁気記録媒体のフィルム基
板としては、ポリエチレンテレフタレートフィルムは耐
熱性が充分でなく、適当とはいえない。なお、ポリエチ
レンテレフタレートフィルムなどのような耐熱性が充分
でないフィルム基板上にスパッタリングなどにより磁性
層を形成するに際しては、フィルム基板を強力に冷却し
ながら磁性層の形成を行なう方法もあるが、このような
方法により形成した磁性層は磁気特性が低下したり、付
着力が十分でない場合があるため、好ましい方法という
ことはできない。
を形成する際のフィルム温度は、フィルムを常温におい
て特に加熱しなくとも、フィルムに衝突する粒子がもた
らすエネルギーによって200℃以上の高温になる。さら
に金属薄膜の種類によっては、保持力などの磁気特性の
向上や薄膜と基板の付着力を向上する目的でフィルム基
板を200℃以上に加熱しながら金属薄膜を形成する場合
もある。従って、スパッタリングや蒸着などの方法によ
り磁性層を形成するタイプの磁気記録媒体のフィルム基
板としては、ポリエチレンテレフタレートフィルムは耐
熱性が充分でなく、適当とはいえない。なお、ポリエチ
レンテレフタレートフィルムなどのような耐熱性が充分
でないフィルム基板上にスパッタリングなどにより磁性
層を形成するに際しては、フィルム基板を強力に冷却し
ながら磁性層の形成を行なう方法もあるが、このような
方法により形成した磁性層は磁気特性が低下したり、付
着力が十分でない場合があるため、好ましい方法という
ことはできない。
以上のような理由から磁気記録媒体のフィルム基板とし
て、耐熱性の高い芳香族ポリイミドフィルムの使用が既
に提案されている。
て、耐熱性の高い芳香族ポリイミドフィルムの使用が既
に提案されている。
芳香族ポリイミドフィルム、特にビフェニルテトラカル
ボン酸類を主成分とする芳香族カルボン酸成分と芳香族
ジアミン成分とから得られる芳香族ポリイミドフィルム
は300℃以上の高温に耐えるため、金属薄膜型の磁気記
録媒体用のフィルム基板として有望な素材である。
ボン酸類を主成分とする芳香族カルボン酸成分と芳香族
ジアミン成分とから得られる芳香族ポリイミドフィルム
は300℃以上の高温に耐えるため、金属薄膜型の磁気記
録媒体用のフィルム基板として有望な素材である。
磁気記録媒体の電磁変換特性、すべり性及び走行耐久性
などの磁気記録媒体の特性は、その磁性層の表面状態に
大きく依存していることが知られており、磁性層の表面
状態の改良を主題とした研究も数多く行なわれている。
などの磁気記録媒体の特性は、その磁性層の表面状態に
大きく依存していることが知られており、磁性層の表面
状態の改良を主題とした研究も数多く行なわれている。
ところで金属薄膜型磁気記録媒体の磁性層は、その層厚
が1000〜5000Å程度であって、従来の塗布型の磁気記録
媒体に比較して極めて薄いため、磁性層表面の形態は、
支持体のフィルム基板の表面形態にほぼ等しくなる。従
って、支持体のフィルム基板の表面形態を好ましい形態
とすることによって、金属薄膜磁性層の電磁変換特性
や、すべり性及び走行耐久性を改良することができる。
すなわち、フィルム基板の表面粗さが粗すぎると記録再
生時に磁性層とヘッドとの距離が大き過ぎて、いわゆる
スペーシングロスにより出力が低下し、また粗大な突起
がフィルム基板に存在するとドロップアウトになる等の
問題がある。一方、フィルム基板が平滑過ぎた場合に
は、これらの電磁変換特性上の問題はないが、フィルム
の製膜、加工時の走行性や磁気テープ及びフロッピーデ
ィスクの形態に加工して磁気記録媒体として使用する際
のすべり性、走行耐久性、磁気ヘッドの目づまり回復機
能等が著しく低くなるという問題がある。
が1000〜5000Å程度であって、従来の塗布型の磁気記録
媒体に比較して極めて薄いため、磁性層表面の形態は、
支持体のフィルム基板の表面形態にほぼ等しくなる。従
って、支持体のフィルム基板の表面形態を好ましい形態
とすることによって、金属薄膜磁性層の電磁変換特性
や、すべり性及び走行耐久性を改良することができる。
すなわち、フィルム基板の表面粗さが粗すぎると記録再
生時に磁性層とヘッドとの距離が大き過ぎて、いわゆる
スペーシングロスにより出力が低下し、また粗大な突起
がフィルム基板に存在するとドロップアウトになる等の
問題がある。一方、フィルム基板が平滑過ぎた場合に
は、これらの電磁変換特性上の問題はないが、フィルム
の製膜、加工時の走行性や磁気テープ及びフロッピーデ
ィスクの形態に加工して磁気記録媒体として使用する際
のすべり性、走行耐久性、磁気ヘッドの目づまり回復機
能等が著しく低くなるという問題がある。
上記のような磁気記録媒体の走行性能などに関係する問
題を解決するために、従来から無機物質あるいは有機物
質の微粒子をフィルム基板に充填してフィルム表面に多
数の微小な突起を形成させる方法が提案されている。
題を解決するために、従来から無機物質あるいは有機物
質の微粒子をフィルム基板に充填してフィルム表面に多
数の微小な突起を形成させる方法が提案されている。
しかしながら、本発明者の研究によると、これまでに提
案された微粒子の充填系では、フィルム表面の突起がス
ペーシングロスを増大させない程度の超微小でないこ
と、また平均突起径は小さくとも突起径の分布が広く粗
大な突起が共存するため、ドロップアウトの発生が目立
つなどの電磁変換特性上のトラブルの発生を充分に解決
することができないことが判明した。
案された微粒子の充填系では、フィルム表面の突起がス
ペーシングロスを増大させない程度の超微小でないこ
と、また平均突起径は小さくとも突起径の分布が広く粗
大な突起が共存するため、ドロップアウトの発生が目立
つなどの電磁変換特性上のトラブルの発生を充分に解決
することができないことが判明した。
［発明の目的］ 本発明の目的は、表面に適度な凹凸が形成された芳香族
ポリイミドフィルムを提供することにある。
ポリイミドフィルムを提供することにある。
また本発明は特に、磁気記録媒体の支持体として用いら
れた際に、その電磁変換特性を低下させることなく、走
行性及び走行耐久性、磁気ヘッド目づまり回復性などが
良好な磁気記録媒体を提供することのできる芳香族ポリ
イミドフィルムを提供することを目的とする。
れた際に、その電磁変換特性を低下させることなく、走
行性及び走行耐久性、磁気ヘッド目づまり回復性などが
良好な磁気記録媒体を提供することのできる芳香族ポリ
イミドフィルムを提供することを目的とする。
［発明の構成］ 本発明は、平均粒子径が40〜1000Åの不活性無機物質粒
子を0.02〜6.0重量％含有する50モル％以上、85モル％
以下のビフェニルテトラカルボン酸類と15モル％以上、
50モル％未満のピロリメット酸とを含む芳香族テロラカ
ルボン酸成分と、フェニレンジアミン類を主成分として
含む芳香族ジアミン成分とから得られる芳香族ポリイミ
ドフィルムであって、該フィルムの少なくとも片面に、
最大粗さが50〜500Åの範囲、平均突起径が50〜2000Å
の範囲、そして突起数が２×105〜１×108個/mm2の範囲
にある微小突起が形成されており、かつ突起径が平均突
起径の1.5倍以上の突起の数が全突起数の５％如何であ
ることを特徴とする芳香族ポリイミドフィルムからなる
ものである。
子を0.02〜6.0重量％含有する50モル％以上、85モル％
以下のビフェニルテトラカルボン酸類と15モル％以上、
50モル％未満のピロリメット酸とを含む芳香族テロラカ
ルボン酸成分と、フェニレンジアミン類を主成分として
含む芳香族ジアミン成分とから得られる芳香族ポリイミ
ドフィルムであって、該フィルムの少なくとも片面に、
最大粗さが50〜500Åの範囲、平均突起径が50〜2000Å
の範囲、そして突起数が２×105〜１×108個/mm2の範囲
にある微小突起が形成されており、かつ突起径が平均突
起径の1.5倍以上の突起の数が全突起数の５％如何であ
ることを特徴とする芳香族ポリイミドフィルムからなる
ものである。
なお本発明における最大粗さとは、触針式粗さ計（たと
えば、タリステップ、ランクテーラホブソン社製のも
の）を用い、カットオフ0.33Hz、縦倍率20万倍、横倍率
２千倍、測定長さ50μｍで、JIS−Ｂ−0601に準じた方
法により測定した値を意味する。
えば、タリステップ、ランクテーラホブソン社製のも
の）を用い、カットオフ0.33Hz、縦倍率20万倍、横倍率
２千倍、測定長さ50μｍで、JIS−Ｂ−0601に準じた方
法により測定した値を意味する。
またフィルム表面の突起は、走査型電子顕微鏡を用いて
１〜３万倍（特に２万倍付近）の観察倍率で５視野撮影
して、各突起の径を計算し、その個数分布を求め、その
分布曲線から平均突起径、およびその平均突起径に対し
て突起径が1.5倍以上の突起の個数を求める方法を利用
して確認することができる。なお、観察倍率は突起の径
の大きさに基づいて適宜変更することが望ましい。
１〜３万倍（特に２万倍付近）の観察倍率で５視野撮影
して、各突起の径を計算し、その個数分布を求め、その
分布曲線から平均突起径、およびその平均突起径に対し
て突起径が1.5倍以上の突起の個数を求める方法を利用
して確認することができる。なお、観察倍率は突起の径
の大きさに基づいて適宜変更することが望ましい。
本発明のポリイミドフィルムは、2,3,3′,4′−、また
は3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸、その酸
二無水物などのビフェニルテトラカルボン酸類を、50モ
ル％以上、85モル％以下、好ましくは60モル％以上、そ
してピロメリット酸類を15モル％以上、50モル％未満の
量で含有する芳香族テトラカルボン酸成分とフェニレン
ジアミン類（例、ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレンジア
ミン）を主成分として含む芳香族ジアミン成分とから得
られる芳香族ポリイミドからなるものである。
は3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸、その酸
二無水物などのビフェニルテトラカルボン酸類を、50モ
ル％以上、85モル％以下、好ましくは60モル％以上、そ
してピロメリット酸類を15モル％以上、50モル％未満の
量で含有する芳香族テトラカルボン酸成分とフェニレン
ジアミン類（例、ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレンジア
ミン）を主成分として含む芳香族ジアミン成分とから得
られる芳香族ポリイミドからなるものである。
なお芳香族テトラカルボン酸成分として、ビフェニルテ
トラカルボン酸類とピロメリット酸類のほかに、3,3′,
4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,2−ビス
（3,4−ジカルボキシフェニル）エーテル、2,3,6,7−ナ
フタレンジカルボン酸、ビス（3,4−ジカルボキシフェ
ニル）メタン、2,2−ビス（3,4−ジカルボキシフェニ
ル）プロパン、またはそれらの酸二無水物、あるいはそ
れらの混合物を用いることができる。芳香族ジアミンと
しては、たとえば4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,4−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミ
ノジフェニルチオエーテル、4,4′−ジアミノジフェニ
ルメタン、3,4′−ジアミノジフェニルメタン、4,4′−
ジアミノジフェニルプロパン、4,4′−ジアミノベンゾ
フェノン、あるいはそれらの混合物を併用することがで
きる。
トラカルボン酸類とピロメリット酸類のほかに、3,3′,
4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,2−ビス
（3,4−ジカルボキシフェニル）エーテル、2,3,6,7−ナ
フタレンジカルボン酸、ビス（3,4−ジカルボキシフェ
ニル）メタン、2,2−ビス（3,4−ジカルボキシフェニ
ル）プロパン、またはそれらの酸二無水物、あるいはそ
れらの混合物を用いることができる。芳香族ジアミンと
しては、たとえば4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,4−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミ
ノジフェニルチオエーテル、4,4′−ジアミノジフェニ
ルメタン、3,4′−ジアミノジフェニルメタン、4,4′−
ジアミノジフェニルプロパン、4,4′−ジアミノベンゾ
フェノン、あるいはそれらの混合物を併用することがで
きる。
本発明のポリイミドは、3,3′,4,4′−ビフェニルテト
ラカルボン酸もしくはその酸二無水物、あるいは2,3,
3′,4′−ビフェニルテトラカルボン酸もしくは酸二無
水物を50モル％以上、特に60モル％以上含有し、残部が
主としてピロメリット酸類からなる芳香族テトラカルボ
ン酸とフェニレンジアミン類を主成分とし、かつジアミ
ノジフェニルエーテル類を含む芳香族ジアミノ成分とか
ら得られた芳香族ポリイミドであることが望ましい。こ
の芳香族ポリイミドからなるフィルムは耐熱性が高いた
め、フィルム表面に金属薄膜を形成するためのスパッタ
リング、蒸着、イオンプレーティングなどの際に遭遇す
る高熱によるフィルムの変形、シワの発生等が少なく好
適である。
ラカルボン酸もしくはその酸二無水物、あるいは2,3,
3′,4′−ビフェニルテトラカルボン酸もしくは酸二無
水物を50モル％以上、特に60モル％以上含有し、残部が
主としてピロメリット酸類からなる芳香族テトラカルボ
ン酸とフェニレンジアミン類を主成分とし、かつジアミ
ノジフェニルエーテル類を含む芳香族ジアミノ成分とか
ら得られた芳香族ポリイミドであることが望ましい。こ
の芳香族ポリイミドからなるフィルムは耐熱性が高いた
め、フィルム表面に金属薄膜を形成するためのスパッタ
リング、蒸着、イオンプレーティングなどの際に遭遇す
る高熱によるフィルムの変形、シワの発生等が少なく好
適である。
すなわち、本発明の芳香族ポリイミドフィルムは、高い
引張り京強度（約20kg/mm2以上、特に約25kg/mm2以
上）、高い伸び率（約20％以上、特に約40〜120％）、
高い弾性率（約300〜900kg/mm2、特に約350〜750kg/m
m2）などの優れた機械的性質を持つのみならず、高い二
次転移温度（約300℃以上、特に305℃以上、等に310℃
以上）、高い熱分解開始温度（約400℃以上）などの優
れた熱的性質を示すため、電子材料の支持体、磁気記録
媒体の支持体として有用である。特に、本発明の芳香族
ポリイミドフィルムは熱膨張係数が1.0×10-5〜3.0×10
-5cm/cm/℃、特に1.2×10-5〜2.8×10-5cm/cm/℃であ
り、金属フィルムの熱膨張係数と近似しているため、金
属層を支持するためのプラスチック支持体として有用で
あり、たとえば、金属蒸着型の磁気テープの支持体とし
て特に有用である。
引張り京強度（約20kg/mm2以上、特に約25kg/mm2以
上）、高い伸び率（約20％以上、特に約40〜120％）、
高い弾性率（約300〜900kg/mm2、特に約350〜750kg/m
m2）などの優れた機械的性質を持つのみならず、高い二
次転移温度（約300℃以上、特に305℃以上、等に310℃
以上）、高い熱分解開始温度（約400℃以上）などの優
れた熱的性質を示すため、電子材料の支持体、磁気記録
媒体の支持体として有用である。特に、本発明の芳香族
ポリイミドフィルムは熱膨張係数が1.0×10-5〜3.0×10
-5cm/cm/℃、特に1.2×10-5〜2.8×10-5cm/cm/℃であ
り、金属フィルムの熱膨張係数と近似しているため、金
属層を支持するためのプラスチック支持体として有用で
あり、たとえば、金属蒸着型の磁気テープの支持体とし
て特に有用である。
本発明の芳香族ポリイミドフィルムの微小突起は、フィ
ルム内部に高度に分散された平均粒子径が40〜1000Åの
不活性無機物質粒子を芯として形成されている。そのよ
うな不活性無機物質粒子としてはコロイダルシリカが好
ましい。
ルム内部に高度に分散された平均粒子径が40〜1000Åの
不活性無機物質粒子を芯として形成されている。そのよ
うな不活性無機物質粒子としてはコロイダルシリカが好
ましい。
一般に使用される精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造
される超微粒子状無水シリカ、または同様にして気相法
で製造される超微粒子状の二酸化チタン、酸化アルミニ
ウムや他の無機微粒子であって、乾燥され固定で存在す
る粒子は、通常の添加条件で芳香族ポリイミド製造用溶
液に添加する方法を利用する限り、その使用は困難であ
る。すなわち、これらの乾燥粒子は通常、凝集状態にあ
り、芳香族ポリイミド製造用溶液に加える前にホモミキ
サー、サンドミル、超音波ホモジナイザーなどの通常分
散装置で解砕分散しても、その凝集が容易に解けず、従
ってポリイミドフィルムには一次粒子が数個から十数個
凝集した粒子径分布の広い凝集粒子が多数導入される。
またこれらの粒子の粒子径の分布を狭くするために遠心
分離、濾過等の方法て分級した場合でも、一定以上の大
きさの粒子を取り除くオーバカットはできても、本発明
で規定された特定の微小突起を形成する様な鋭い粒径分
布を持つ粒子は得られにくい。
される超微粒子状無水シリカ、または同様にして気相法
で製造される超微粒子状の二酸化チタン、酸化アルミニ
ウムや他の無機微粒子であって、乾燥され固定で存在す
る粒子は、通常の添加条件で芳香族ポリイミド製造用溶
液に添加する方法を利用する限り、その使用は困難であ
る。すなわち、これらの乾燥粒子は通常、凝集状態にあ
り、芳香族ポリイミド製造用溶液に加える前にホモミキ
サー、サンドミル、超音波ホモジナイザーなどの通常分
散装置で解砕分散しても、その凝集が容易に解けず、従
ってポリイミドフィルムには一次粒子が数個から十数個
凝集した粒子径分布の広い凝集粒子が多数導入される。
またこれらの粒子の粒子径の分布を狭くするために遠心
分離、濾過等の方法て分級した場合でも、一定以上の大
きさの粒子を取り除くオーバカットはできても、本発明
で規定された特定の微小突起を形成する様な鋭い粒径分
布を持つ粒子は得られにくい。
従って、本発明において使用する平均粒子径が40〜1000
Åの不活性無機物質粒子はコロイダルシリカあるいは、
コロイダルシリカと同等な粒子分布を有するものが好ま
しい。すなわち、コロイダルシリカは、その分散系中で
狭い粒子径分布を有し、ポリイミドフィルム製造用溶液
内でもその粒子径分布は余り変化しないため、本発明に
おいて規定された突起をフィルム表面に形成するために
特に有利に使用することができる。
Åの不活性無機物質粒子はコロイダルシリカあるいは、
コロイダルシリカと同等な粒子分布を有するものが好ま
しい。すなわち、コロイダルシリカは、その分散系中で
狭い粒子径分布を有し、ポリイミドフィルム製造用溶液
内でもその粒子径分布は余り変化しないため、本発明に
おいて規定された突起をフィルム表面に形成するために
特に有利に使用することができる。
本発明で使用するのが好ましいコロイダルシリカは平均
粒子径が40〜1000Åの範囲にあるものであり、特に平均
粒子径が100〜500Åの範囲にあるものが好ましい。また
コロイダルシリカの分散媒には特に限定はなく、たとえ
ば水、またはアルコール、アミド系溶剤などの有機極性
溶媒、あるいはこれらの混合物を分散媒とするコロイダ
ルシリカを使用することができる。その具体例として
は、スノーテックス［日産化学（株）製］あるいはカタ
ロイド［触媒化成工業（株）製］として販売されている
各種グレード品を挙げることができる。これらは、必要
に応じて、機械的分散あるいは超音波分散を施し、また
濾過、遠心分離等により分級して使用する。
粒子径が40〜1000Åの範囲にあるものであり、特に平均
粒子径が100〜500Åの範囲にあるものが好ましい。また
コロイダルシリカの分散媒には特に限定はなく、たとえ
ば水、またはアルコール、アミド系溶剤などの有機極性
溶媒、あるいはこれらの混合物を分散媒とするコロイダ
ルシリカを使用することができる。その具体例として
は、スノーテックス［日産化学（株）製］あるいはカタ
ロイド［触媒化成工業（株）製］として販売されている
各種グレード品を挙げることができる。これらは、必要
に応じて、機械的分散あるいは超音波分散を施し、また
濾過、遠心分離等により分級して使用する。
本発明の芳香族ポリイミドフィルム内に導入される不活
性無機物質粒子の量は0.02〜6.0重量％の範囲にあり、
好ましくは0.1〜4.0重量％の範囲にある。不活性無機物
質粒子の量が0.02重量％より少ないと充分な滑り性が得
られず、また6.0重量より多いとフィルム表面が粗くな
りすぎ、またフィルムの機械的性質を損ねる。
性無機物質粒子の量は0.02〜6.0重量％の範囲にあり、
好ましくは0.1〜4.0重量％の範囲にある。不活性無機物
質粒子の量が0.02重量％より少ないと充分な滑り性が得
られず、また6.0重量より多いとフィルム表面が粗くな
りすぎ、またフィルムの機械的性質を損ねる。
本発明の芳香族ポリイミドフィルムは、その表面に最大
粗さが50〜500Åの範囲、平均突起径が50〜2000Åの範
囲、そして突起数が２×105〜１×108個/mm2（好ましく
は５×105〜５×107個/mm2）範囲にある微小突起が形成
されており、かつ突起径が平均突起径の1.5倍以上の突
起の数（粗大突起率）が全突起数の５％以下（好ましく
は３％以下）である芳香族ポリイミドフィルムである。
粗さが50〜500Åの範囲、平均突起径が50〜2000Åの範
囲、そして突起数が２×105〜１×108個/mm2（好ましく
は５×105〜５×107個/mm2）範囲にある微小突起が形成
されており、かつ突起径が平均突起径の1.5倍以上の突
起の数（粗大突起率）が全突起数の５％以下（好ましく
は３％以下）である芳香族ポリイミドフィルムである。
突起径が平均突起系の1.5倍以上の突起の数（以下、粗
大突起率ともいう）が全突起数が５％を越えると、粗大
突起による出力の低下やドロップアウトの増加などの電
磁変換特性の悪化につながり、さらに粗大突起が優先し
てヘッドやポストと接触して走行することによる走行耐
久性の低下につながる。
大突起率ともいう）が全突起数が５％を越えると、粗大
突起による出力の低下やドロップアウトの増加などの電
磁変換特性の悪化につながり、さらに粗大突起が優先し
てヘッドやポストと接触して走行することによる走行耐
久性の低下につながる。
またさらに、円相当突起径が平均円相当突起径の1.5倍
以上の突起の数が全突起数の13％以下（特に10％以下）
であることが好ましい。この円相当突起径（円に近似し
て計算された直径）はピアス製画像処理装置PIAS−IIE8
を用い、前記と同様にして得た突起面の写真から算出す
ることができる。
以上の突起の数が全突起数の13％以下（特に10％以下）
であることが好ましい。この円相当突起径（円に近似し
て計算された直径）はピアス製画像処理装置PIAS−IIE8
を用い、前記と同様にして得た突起面の写真から算出す
ることができる。
突起数が２×105個/mm2未満では磁性層の滑り性、走行
耐久性が満足されず、１×108個/mm2を越えると個々の
粒子の重なりがひどくなり表面が粗面になりすぎて電磁
変換特性が悪化する。
耐久性が満足されず、１×108個/mm2を越えると個々の
粒子の重なりがひどくなり表面が粗面になりすぎて電磁
変換特性が悪化する。
またフィルム表面の粗大粗さが50Åより低いと好ましい
滑り性が得られず、500Åを越えると電磁変換特性が悪
化する。
滑り性が得られず、500Åを越えると電磁変換特性が悪
化する。
本発明の芳香族ポリイミドフィルムは、芳香族ポリアミ
ド酸（芳香族ポリアミック酸）または芳香族ポリイミド
の溶液中に、前記のコロイダルシリカのような不活性無
機物質粒子を存在させ、この溶液を用いて製膜すること
により形成することができる。
ド酸（芳香族ポリアミック酸）または芳香族ポリイミド
の溶液中に、前記のコロイダルシリカのような不活性無
機物質粒子を存在させ、この溶液を用いて製膜すること
により形成することができる。
すなわち、まず芳香族ポリイミド製造の重合用溶媒であ
るＮ−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメ
チルホルムアミドなどの有機極性アミド系溶媒またはｐ
−クロルフェノールなどのフェノール系溶媒中にコロイ
ダルシリカなどの微粒子状不活性無機物質粒子の分散液
を添加したのち、ホモミキサー、超音波ホモジナイザー
等で混合分散し、必要に応じて重合を阻害しない程度に
蒸留等の方法を用いて脱水し、さらに必要に応じて再分
散及び濾過、遠心分離等による分級を行ないコロイダル
シリカの芳香族ポリイミド重合用溶媒分散液を得る。こ
の分散液に直接、芳香族テトラカルボン酸成分、芳香族
ジアミン成分などのポリイミド製造原料のモノマーを添
加して重合し、芳香族ポリアミック酸（芳香族ポリアミ
ド酸）または芳香族ポリイミド溶液（製膜液）を得ても
良い。あるいは、あらかじめ重合した芳香族ポリアミド
酸または芳香族ポリイミド溶液に、前記のコロイダルシ
リカ分散液などの微粒子状不活性無機物質粒子の分散液
を添加しても良い。いずれにしても充分に撹拌混合を行
ない、前記の条件を満足するフィルムの形成に適するよ
うに、製膜液中に微粒子状不活性無機物質粒子が高度に
分散された製膜液を得る。
るＮ−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメ
チルホルムアミドなどの有機極性アミド系溶媒またはｐ
−クロルフェノールなどのフェノール系溶媒中にコロイ
ダルシリカなどの微粒子状不活性無機物質粒子の分散液
を添加したのち、ホモミキサー、超音波ホモジナイザー
等で混合分散し、必要に応じて重合を阻害しない程度に
蒸留等の方法を用いて脱水し、さらに必要に応じて再分
散及び濾過、遠心分離等による分級を行ないコロイダル
シリカの芳香族ポリイミド重合用溶媒分散液を得る。こ
の分散液に直接、芳香族テトラカルボン酸成分、芳香族
ジアミン成分などのポリイミド製造原料のモノマーを添
加して重合し、芳香族ポリアミック酸（芳香族ポリアミ
ド酸）または芳香族ポリイミド溶液（製膜液）を得ても
良い。あるいは、あらかじめ重合した芳香族ポリアミド
酸または芳香族ポリイミド溶液に、前記のコロイダルシ
リカ分散液などの微粒子状不活性無機物質粒子の分散液
を添加しても良い。いずれにしても充分に撹拌混合を行
ない、前記の条件を満足するフィルムの形成に適するよ
うに、製膜液中に微粒子状不活性無機物質粒子が高度に
分散された製膜液を得る。
この微粒子状不活性無機物質粒子が高度に分散した製膜
液を用い、金属ドラムや金属エンドレスベルト上にキャ
ストした後、乾燥して自己支持性を付与した後、これを
剥離して乾燥、イミド化して本発明の芳香族ポリイミド
フィルムを得る。
液を用い、金属ドラムや金属エンドレスベルト上にキャ
ストした後、乾燥して自己支持性を付与した後、これを
剥離して乾燥、イミド化して本発明の芳香族ポリイミド
フィルムを得る。
［発明の効果］ 本発明のポリイミドフィルムは、優れた各種の機械的特
性を示すのみならず、高温における総合適耐熱性が充分
に高いレベルにある特定の組成からなるビフェニルテト
ラカルボン酸系の芳香族ポリイミドから形成されている
ので、特に金属薄膜型磁気記録媒体のフィルム基板とし
て約200〜600℃の高温で行われるCo、Cr、Ni、Feなどの
磁性金属あるいは磁性合金のスパッタリング、蒸着、イ
オンプレーティングなどの処理走査においても充分な耐
熱性を示す。
性を示すのみならず、高温における総合適耐熱性が充分
に高いレベルにある特定の組成からなるビフェニルテト
ラカルボン酸系の芳香族ポリイミドから形成されている
ので、特に金属薄膜型磁気記録媒体のフィルム基板とし
て約200〜600℃の高温で行われるCo、Cr、Ni、Feなどの
磁性金属あるいは磁性合金のスパッタリング、蒸着、イ
オンプレーティングなどの処理走査においても充分な耐
熱性を示す。
さらに本発明の芳香族ポリイミドフィルムはその表面が
適度な凹凸を有しているため、その上にスパッタリン
グ、蒸着、イオンプレーティングなどにより磁性層を形
成した場合に、その好ましい凹凸が磁性層の上にも現わ
れる。従って、出力、ドロップアウト等の電磁変換特性
を低下させず、走行性、走行耐久性、磁気ヘッド目づま
り回復機能が優れた磁気記録媒体を得ることができる。
適度な凹凸を有しているため、その上にスパッタリン
グ、蒸着、イオンプレーティングなどにより磁性層を形
成した場合に、その好ましい凹凸が磁性層の上にも現わ
れる。従って、出力、ドロップアウト等の電磁変換特性
を低下させず、走行性、走行耐久性、磁気ヘッド目づま
り回復機能が優れた磁気記録媒体を得ることができる。
すなわち、本発明の芳香族ポリイミドフィルムをフィル
ム基板として用いた磁気記録媒体は、その突起が高度に
均一で、粗大な突起が殆ど存在しないので、ドロップア
ウトの発生が少なく安定した出力が得られ、また磁性層
の表面が適当な範囲の最大粗さを有するための出力の低
下が少ない。さらにまた、その磁性層の表面の突起は均
一で、粗大な突起が少ないが、適当な範囲の最大粗さお
よび突起数であるため、すべり性、走行耐久性、磁気ヘ
ッド目づまり回復機能が優れている。
ム基板として用いた磁気記録媒体は、その突起が高度に
均一で、粗大な突起が殆ど存在しないので、ドロップア
ウトの発生が少なく安定した出力が得られ、また磁性層
の表面が適当な範囲の最大粗さを有するための出力の低
下が少ない。さらにまた、その磁性層の表面の突起は均
一で、粗大な突起が少ないが、適当な範囲の最大粗さお
よび突起数であるため、すべり性、走行耐久性、磁気ヘ
ッド目づまり回復機能が優れている。
［実施例・比較例］ ［実施例１］ ジメチルアセトアミド４重量部にホモミキサーを用い80
00rpmで撹拌しながら、平均粒子径150Å、濃度20重量％
の水分散系コロイダルシリカ１重量部を徐々に加え、ジ
メチルアセトアミドに分散したコロイダルシリカを得
た。この分散液の水分率は15.8容量％であった。次にこ
の分散液を15mmHg、50℃で減圧蒸留した後、出力600Wの
超音波ホモジナイザーで６時間分散処理して、濃度6.3
重量％、水分率0.78容量％のジメチルアセトアミド分散
コロイダルシリカを得た。
00rpmで撹拌しながら、平均粒子径150Å、濃度20重量％
の水分散系コロイダルシリカ１重量部を徐々に加え、ジ
メチルアセトアミドに分散したコロイダルシリカを得
た。この分散液の水分率は15.8容量％であった。次にこ
の分散液を15mmHg、50℃で減圧蒸留した後、出力600Wの
超音波ホモジナイザーで６時間分散処理して、濃度6.3
重量％、水分率0.78容量％のジメチルアセトアミド分散
コロイダルシリカを得た。
3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物30
モル％、ピロメリット酸二無水物20モル％、ジアミノジ
フェニルエーテル15モル％、ｐ−フェニレンジアミン35
モル％をジメチルアセトアミドに溶解し、25℃で５時間
撹拌して重合を行ない、濃度18重量％、粘度530ポイズ
のポリアミド酸溶液を得た。
モル％、ピロメリット酸二無水物20モル％、ジアミノジ
フェニルエーテル15モル％、ｐ−フェニレンジアミン35
モル％をジメチルアセトアミドに溶解し、25℃で５時間
撹拌して重合を行ない、濃度18重量％、粘度530ポイズ
のポリアミド酸溶液を得た。
このポリアミド酸溶液に先に調製したジメチルアセトア
ミド分散コロイダルシリカをポリアミド酸の重量に対し
てシリカ換算で１重量％添加し、充分に撹拌混合してコ
ロイダルシリカが均一に分散した製膜用オリアミド酸溶
液を得た。
ミド分散コロイダルシリカをポリアミド酸の重量に対し
てシリカ換算で１重量％添加し、充分に撹拌混合してコ
ロイダルシリカが均一に分散した製膜用オリアミド酸溶
液を得た。
この溶液をＴダイより回転しているエンドレス金属ベル
ト上に押し出して塗膜を形成した後、その表面に80〜13
0℃の熱風を供給して乾燥し、自己支持性のあるフィル
ムとし、これを連続的に剥離した。
ト上に押し出して塗膜を形成した後、その表面に80〜13
0℃の熱風を供給して乾燥し、自己支持性のあるフィル
ムとし、これを連続的に剥離した。
このフィルムをピンテンターで把持して高温炉内を連続
的に移動させながらその表面に200〜450℃の熱風を供給
して乾燥、イミド化して、厚み12.5μｍの芳香族ポリイ
ミドフィルムを得た。
的に移動させながらその表面に200〜450℃の熱風を供給
して乾燥、イミド化して、厚み12.5μｍの芳香族ポリイ
ミドフィルムを得た。
得られた芳香族ポリイミドフィルムの表面状態を測定し
た結果を以下に示す。
た結果を以下に示す。
最大粗さ:105Å 平均突起径:800Å 突起径の範囲:500〜2000Å 突起数:2.9×107個/mm2 突起径が平均突起径の1.5倍以上の突起の数（粗大突起
率Ｉ）：全突起数の1.2％ 円相当突起径が平均円相当突起径の1.5倍以上の突起
（粗大突起率II）：全突起数の4.8％ 更に、ポリイミドフィルムの物性を測定した。その結果
を以下に示す。
率Ｉ）：全突起数の1.2％ 円相当突起径が平均円相当突起径の1.5倍以上の突起
（粗大突起率II）：全突起数の4.8％ 更に、ポリイミドフィルムの物性を測定した。その結果
を以下に示す。
引張り強度:36.0kg/mm2 伸び率:58％ 弾性率:510kg/mm2 二次転移温度（TMA引張法、試料幅5mm、荷重2g、昇温速
度10℃／分）:360℃ 熱分解開始温度:440℃ 熱膨張係数（100〜300℃）:2.1×10-5cm/cm/℃ ［実施例２］ 平均粒子径が450Åの水分散系コロイダルシリカを用
い、そのコロイダルシリカをポリアミド酸の重量に対し
てシリカ換算で４重量％添加した以外は実施例１と同様
にして厚み12.5μｍの芳香族ポリイミドフィルムを得
た。
度10℃／分）:360℃ 熱分解開始温度:440℃ 熱膨張係数（100〜300℃）:2.1×10-5cm/cm/℃ ［実施例２］ 平均粒子径が450Åの水分散系コロイダルシリカを用
い、そのコロイダルシリカをポリアミド酸の重量に対し
てシリカ換算で４重量％添加した以外は実施例１と同様
にして厚み12.5μｍの芳香族ポリイミドフィルムを得
た。
得られた芳香族ポリイミドフィルムの表面状態を測定し
た結果を以下に示す。
た結果を以下に示す。
最大粗さ:159Å 平均突起径:600Å 突起径の範囲:500〜1500Å 突起数:1.3×107個/mm2 突起径が平均突起径の1.5倍以上の突起の数（粗大突起
率Ｉ）：全突起数の1.6％ 円相当突起径が平均円相当突起率の1.5倍以上の突起
（粗大突起率II）：全突起数の9.5％ 更に、ポリイミドフィルムの物性を測定した。その結果
を以下に示す。
率Ｉ）：全突起数の1.6％ 円相当突起径が平均円相当突起率の1.5倍以上の突起
（粗大突起率II）：全突起数の9.5％ 更に、ポリイミドフィルムの物性を測定した。その結果
を以下に示す。
引張り強度:35.8kg/mm2 伸び率:57％ 弾性率:508kg/mm2 二次転移温度（TMA引張法、試料幅5mm、荷重2g、昇温速
度10℃／分）:360℃ 熱分解開始温度:440℃ 熱膨張係数（100〜300℃）:2.2×10-5cm/cm/℃ ［比較例１］ 気相法で製造された一次粒子径が300Åの極微細二酸化
チタンをジメチルアセトアミド中に４重量％加えてホモ
ミキサーを用い8000rpmで15分間分散した後、この分散
液を、１μｍ以上の粒子を100％カットする複合構造型
フィルターで濾過して分級した。
度10℃／分）:360℃ 熱分解開始温度:440℃ 熱膨張係数（100〜300℃）:2.2×10-5cm/cm/℃ ［比較例１］ 気相法で製造された一次粒子径が300Åの極微細二酸化
チタンをジメチルアセトアミド中に４重量％加えてホモ
ミキサーを用い8000rpmで15分間分散した後、この分散
液を、１μｍ以上の粒子を100％カットする複合構造型
フィルターで濾過して分級した。
上記の二酸化チタン分散液をポリアミド酸の重量に対し
て二酸化チタン換算で１重量％添加した以外は実施例１
と同様にして厚み12.5μｍの芳香族ポリイミドフィルム
を得た。
て二酸化チタン換算で１重量％添加した以外は実施例１
と同様にして厚み12.5μｍの芳香族ポリイミドフィルム
を得た。
得られた芳香族ポリイミドフィルムの表面状態を測定し
た結果を以下に示す。
た結果を以下に示す。
最大粗さ:198Å 平均突起径:1700Å 突起径の範囲:1000〜6500Å 突起数:2.2×106個/mm2 突起径が平均突起径の1.5倍以上の突起の数（粗大突起
率Ｉ）：全突起数の20.2％ 円相当突起径が平均円相当突起径の1.5倍以上の突起
（粗大突起率II）：全突起数の21.3％ ［比較例２］ 気相法で製造された一次粒子径が70Åの極微細酸化ケイ
素をジメチルアセトアミド中に２重量％加えてホモミキ
サーを用いて8000rpmで15分間分散した。この分散液を
１μｍ以上の粒子を100％カットする複合構造型フィル
ターで濾過して分級した。
率Ｉ）：全突起数の20.2％ 円相当突起径が平均円相当突起径の1.5倍以上の突起
（粗大突起率II）：全突起数の21.3％ ［比較例２］ 気相法で製造された一次粒子径が70Åの極微細酸化ケイ
素をジメチルアセトアミド中に２重量％加えてホモミキ
サーを用いて8000rpmで15分間分散した。この分散液を
１μｍ以上の粒子を100％カットする複合構造型フィル
ターで濾過して分級した。
上記の酸化ケイ素分散液をポリアミド酸の重量に対して
酸化ケイ素換算で１重量％添加した以外は実施例１と同
様にして厚み12.5μｍの芳香族ポリイミドフィルムを得
た。
酸化ケイ素換算で１重量％添加した以外は実施例１と同
様にして厚み12.5μｍの芳香族ポリイミドフィルムを得
た。
得られた芳香族ポリイミドフィルムの表面状態を測定し
た結果を以下に示す。
た結果を以下に示す。
最大粗さ:128Å 平均突起径:850Å 突起径の範囲:500〜3000Å 突起数:1.9×106個/mm2 突起径が平均突起径の1.5倍以上の突起の数（粗大突起
率Ｉ）：全突起数の20.7％ 円相当突起径が平均円相当突起径の1.5倍以上の突起
（粗大突起率II）：全突起数の19.8％ ［比較例３］ 気相法で製造された一次粒子径200Åの極微細酸化アル
ミニウムをジメチルアセトアミド中に３重量％加えてホ
モミキサーを用いて8000rpmで15分間分散した後、さら
に出力600Wの超音波ホモジナイザーで６時間分散した、
この分散液を１μｍ以上の粒子を100％カットする複合
構造型フィルターで濾過して分級した。
率Ｉ）：全突起数の20.7％ 円相当突起径が平均円相当突起径の1.5倍以上の突起
（粗大突起率II）：全突起数の19.8％ ［比較例３］ 気相法で製造された一次粒子径200Åの極微細酸化アル
ミニウムをジメチルアセトアミド中に３重量％加えてホ
モミキサーを用いて8000rpmで15分間分散した後、さら
に出力600Wの超音波ホモジナイザーで６時間分散した、
この分散液を１μｍ以上の粒子を100％カットする複合
構造型フィルターで濾過して分級した。
上記の酸化アルミニウム分散液をポリアミド酸の重量に
対して酸化アルミニウム換算で１重量％添加した以外は
実施例１と同様にして厚み12.5μｍの芳香族ポリイミド
フィルムを得た。
対して酸化アルミニウム換算で１重量％添加した以外は
実施例１と同様にして厚み12.5μｍの芳香族ポリイミド
フィルムを得た。
得られた芳香族ポリイミドフィルムの表面状態を測定し
た結果を以下に示す。
た結果を以下に示す。
最大粗さ:154Å 平均突起径:1250Å 突起径の範囲:800〜7000Å 突起数:1.8×106個/mm2 突起径が平均突起径の1.5倍以上の突起の数（粗大突起
率Ｉ）：全突起数の33.8％ 円相当突起径が平均円相当突起径の1.5倍以上の突起
（粗大突起率II）：全突起数の25.6％ ［比較例４］ 芳香族テトラカルボン酸成分として、ピロメリット酸二
無水物（PMDA）10モル％と3,3′,4,4′−ビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物（BPDA）90モル％とを用い、芳
香族ジアミン成分として、4,4′−ジアミノジフェニル
エーテル（DADE）50モル％とｐ−フェニレンジアミン
（PPD）50モル％とを用いた以外は実施例１と同様にし
て、コロイダルシリカを充填して突起を形成した芳香族
ポリイミドフィルムを得た。
率Ｉ）：全突起数の33.8％ 円相当突起径が平均円相当突起径の1.5倍以上の突起
（粗大突起率II）：全突起数の25.6％ ［比較例４］ 芳香族テトラカルボン酸成分として、ピロメリット酸二
無水物（PMDA）10モル％と3,3′,4,4′−ビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物（BPDA）90モル％とを用い、芳
香族ジアミン成分として、4,4′−ジアミノジフェニル
エーテル（DADE）50モル％とｐ−フェニレンジアミン
（PPD）50モル％とを用いた以外は実施例１と同様にし
て、コロイダルシリカを充填して突起を形成した芳香族
ポリイミドフィルムを得た。
得られた芳香族ポリイミドフィルムの表面特性およびフ
ィルム物性を以下に記す。
ィルム物性を以下に記す。
最大粗さ:110Å 平均突起径:730Å 突起径の範囲:550〜1900Å 突起数:1.6×107個/mm2 突起径が平均突起径の1.5倍以上の突起の数（粗大突起
率Ｉ）：全突起数の2.2％ 円相当突起径が平均円相当突起径の1.5倍以上の突起
｛粗大突起率II）：全突起数の6.5％ 引張り強度:35.7kg/mm2 伸び率:46％ 弾性率:430kg/mm2 二次転移温度:290℃ 熱分解開始温度:440℃ 熱膨張係数:3.7×10-5cm/cm/℃ ［比較例５］ 芳香族テトラカルボン酸成分として、ピロメリット酸二
無水物（PMDA）90モル％と3,3′,4,4′−ビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物（BPDA）10モル％とを用い、芳
香族ジアミン成分として、4,4′−ジアミノジフェニル
エーテル（DADE）80モル％とｐ−フェニレンジアミン
（PPD）20モル％とを用いた以外は実施例１と同様にし
て、コロイダルシリカを充填して突起を形成した芳香族
ポリイミドフィルムを得た。
率Ｉ）：全突起数の2.2％ 円相当突起径が平均円相当突起径の1.5倍以上の突起
｛粗大突起率II）：全突起数の6.5％ 引張り強度:35.7kg/mm2 伸び率:46％ 弾性率:430kg/mm2 二次転移温度:290℃ 熱分解開始温度:440℃ 熱膨張係数:3.7×10-5cm/cm/℃ ［比較例５］ 芳香族テトラカルボン酸成分として、ピロメリット酸二
無水物（PMDA）90モル％と3,3′,4,4′−ビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物（BPDA）10モル％とを用い、芳
香族ジアミン成分として、4,4′−ジアミノジフェニル
エーテル（DADE）80モル％とｐ−フェニレンジアミン
（PPD）20モル％とを用いた以外は実施例１と同様にし
て、コロイダルシリカを充填して突起を形成した芳香族
ポリイミドフィルムを得た。
得られた芳香族ポリイミドフィルムの表面特性およびフ
ィルム物性を以下に記す。
ィルム物性を以下に記す。
最大粗さ:140Å 平均突起径:780Å 突起径の範囲:580〜1700Å 突起数:1.8×107個/mm2 突起径が平均突起径の1.5倍以上の突起の数（粗大突起
率Ｉ）：全突起数の1.9％ 円相当突起径が平均円相当突起径の1.5倍以上の突起
（粗大突起率II）：全突起数の7.5％ 引張り強度:17.0kg/mm2 伸び率:75％ 弾性率:284kg/mm2 二次転移温度:290℃ 熱分解開始温度:328℃ 熱膨張係数:5.8×10-5cm/cm/℃ ［比較例６］ 芳香族テトラカルボン酸成分としてピロメリット酸二無
水物（PMDA）100モル％を用い、芳香族ジアミン成分と
して4,4′−ジアミノジフェニルエーテル（DADE）100モ
ル％を用いた以外は実施例１と同様にして、コロイダル
シリカを充填して突起を形成した芳香族ポリイミドフィ
ルムを得た。
率Ｉ）：全突起数の1.9％ 円相当突起径が平均円相当突起径の1.5倍以上の突起
（粗大突起率II）：全突起数の7.5％ 引張り強度:17.0kg/mm2 伸び率:75％ 弾性率:284kg/mm2 二次転移温度:290℃ 熱分解開始温度:328℃ 熱膨張係数:5.8×10-5cm/cm/℃ ［比較例６］ 芳香族テトラカルボン酸成分としてピロメリット酸二無
水物（PMDA）100モル％を用い、芳香族ジアミン成分と
して4,4′−ジアミノジフェニルエーテル（DADE）100モ
ル％を用いた以外は実施例１と同様にして、コロイダル
シリカを充填して突起を形成した芳香族ポリイミドフィ
ルムを得た。
得られた芳香族ポリイミドフィルムの表面特性およびフ
ィルム物性を以下に記す。
ィルム物性を以下に記す。
最大粗さ:130Å 平均突起径:830Å 突起径の範囲:600〜1800Å 突起数:1.7×107個/mm2 突起径が平均突起径の1.5倍以上の突起の数（粗大突起
率Ｉ）：全突起数の2.0％ 円相当突起径が平均円相当突起径の1.5倍以上の突起
（粗大突起率II）：全突起数の7.6％ 引張り強度:24.2kg/mm2 伸び率:70％ 弾性率:280kg/mm2 二次転移温度:373℃ 熱分解開始温度:420℃ 熱膨張係数:3.1×10-5cm/cm/℃ ［ポリイミドフィルムの評価］ 各例で得られた芳香族ポリイミドフィルムの表面に真空
蒸着により厚さ0.2μmCo−Cr金属薄膜を形成したのち、
８ミリ幅に切断してビデオテープを製造した。
率Ｉ）：全突起数の2.0％ 円相当突起径が平均円相当突起径の1.5倍以上の突起
（粗大突起率II）：全突起数の7.6％ 引張り強度:24.2kg/mm2 伸び率:70％ 弾性率:280kg/mm2 二次転移温度:373℃ 熱分解開始温度:420℃ 熱膨張係数:3.1×10-5cm/cm/℃ ［ポリイミドフィルムの評価］ 各例で得られた芳香族ポリイミドフィルムの表面に真空
蒸着により厚さ0.2μmCo−Cr金属薄膜を形成したのち、
８ミリ幅に切断してビデオテープを製造した。
このビデオテープについて、市販の８ミリビデオ再生装
置およびドロップアウトカウンターを用いて行なった滑
り、耐久性（走行耐久性）、出力（再生出力）およびDO
（ドロップアウト）についての評価試験の結果を第１表
に示す。
置およびドロップアウトカウンターを用いて行なった滑
り、耐久性（走行耐久性）、出力（再生出力）およびDO
（ドロップアウト）についての評価試験の結果を第１表
に示す。
評価結果は、市販の８ミリビデオテープ（ポリエチレン
テレフタレートフィルム基板を使用）を基準８ミリビデ
オテープとして、その基準８ミリビデオテープの評価値
を基準として下記のランクに基づいて表示した。
テレフタレートフィルム基板を使用）を基準８ミリビデ
オテープとして、その基準８ミリビデオテープの評価値
を基準として下記のランクに基づいて表示した。
A:基準８ミリビデオテープより優れている B:基準８ミリビデオテープと同等 C:基準８ミリビデオテープより劣っている。
なお、粗大突起率の括弧外の数値は、粗大突起率Ｉを表
わし、括弧内の数値は、粗大突起率IIを表わす。
わし、括弧内の数値は、粗大突起率IIを表わす。
上記の第１表の記載中、Ｃ＊は、ポリイミドフィルムに
蒸着により金属薄膜を形成すると、その金属薄膜側の内
側とする反りが発生したことを意味する。また、比較例
５と６で製造したビデオテープはそれぞれ録画と再生を
繰り返すとテープに伸びが認められた。
蒸着により金属薄膜を形成すると、その金属薄膜側の内
側とする反りが発生したことを意味する。また、比較例
５と６で製造したビデオテープはそれぞれ録画と再生を
繰り返すとテープに伸びが認められた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 楢原 泰次 大阪府枚方市中宮北町３番10号 宇部興産 株式会社枚方研究所内 (56)参考文献 特開 昭61−246919（ＪＰ，Ａ)
Claims (6)
- 【請求項１】平均粒子径が40〜1000Åの不活性無機物質
粒子を0.02〜6.0重量％含有する50モル％以上、85モル
％以下のビフェニルテトラカルボン酸類と15モル％以
上、50モル％未満のピロメリット酸とを含む芳香族テト
ラカルボン酸成分と、フェニレンジアミン類を主成分と
して含む芳香族ジアミン成分とから得られる芳香族ポリ
イミドフィルムであって、該フィルムの少なくとも片面
に、最大粗さが50〜500Åの範囲、平均突起径が50〜200
0Åの範囲、そして突起数が２×105〜１×108個/mm2の
範囲にある微小突起が形成されており、かつ突起径が平
均突起径の1.5倍以上の突起の数が全突起数の５％以下
であることを特徴とする芳香族ポリイミドフィルム。 - 【請求項２】上記不活性無機物質粒子がコロイダルシリ
カである特許請求の範囲第１項記載の芳香族ポリイミド
フィルム。 - 【請求項３】上記微小突起の突起数が５×105〜５×107
個/mm2の範囲にある特許請求の範囲第１項記載の芳香族
ポリイミドフィルム。 - 【請求項４】突起径が平均突起径の1.5倍以上の突起の
数が全突起数の３％以下である特許請求の範囲第１項記
載の芳香族ポリイミドフィルム。 - 【請求項５】芳香族ジアミン成分が更にジアミノジフェ
ニルエーテル類を含む特許請求の範囲第１項記載芳香族
ポリイミドフィルム。 - 【請求項６】引張り強度が20kg/mm2以上、伸び率が20％
以上、弾性率が約300〜900kg/mm2、二次転移温度が300
℃以上、熱分解開始温度が400℃以上、熱膨張係数が1.0
×10-5〜3.0×10-5cm/cm/℃であることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の芳香族ポリイミドフィルム。
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|---|---|---|---|
| JP61-112146 | 1986-05-16 | ||
| JP11214686 | 1986-05-16 |
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|---|---|
| JPS63108038A JPS63108038A (ja) | 1988-05-12 |
| JPH0745580B2 true JPH0745580B2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62118551A Expired - Lifetime JPH0745580B2 (ja) | 1986-05-16 | 1987-05-15 | 芳香族ポリイミドフィルム |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4839217A (ja) |
| JP (1) | JPH0745580B2 (ja) |
| DE (1) | DE3716416A1 (ja) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01235023A (ja) * | 1988-03-16 | 1989-09-20 | Canon Inc | 磁気記録媒体の製造法 |
| JPH0762082B2 (ja) * | 1988-07-29 | 1995-07-05 | 宇部興産株式会社 | 記録媒体用ポリイミドフィルム及びその製法 |
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| JP2761655B2 (ja) * | 1989-11-17 | 1998-06-04 | 鐘淵化学工業株式会社 | フレキシブルプリント基板の製造方法 |
| DE19524220A1 (de) * | 1994-07-04 | 1996-01-11 | Mitsubishi Chem Corp | Magnetisches Aufzeichnungsmedium, Verfahren zu dessen Herstellung, und Aufnahme- und Wiedergabeverfahren |
| CA2198532A1 (en) * | 1996-02-27 | 1997-08-27 | Toshihiro Tsuzuki | Aromatic polyamide and/or aromatic polyimide film and magnetic recording medium having such a film as a base |
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| US5886129A (en) * | 1997-07-01 | 1999-03-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Oxidatively stable rigid aromatic polyimide compositions and process for their preparation |
| US6129982A (en) * | 1997-11-28 | 2000-10-10 | Ube Industries, Ltd. | Aromatic polyimide film having improved adhesion |
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| US6956098B2 (en) * | 2002-09-20 | 2005-10-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | High modulus polyimide compositions useful as dielectric substrates for electronics applications, and methods relating thereto |
| JP2004217907A (ja) * | 2002-12-25 | 2004-08-05 | Du Pont Toray Co Ltd | ポリイミドフィルムおよびその製造方法 |
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| TW200626364A (en) * | 2004-09-29 | 2006-08-01 | Ube Industries | Polyimide film and polyimide composite sheet |
| DE102005021417A1 (de) * | 2005-05-10 | 2006-11-16 | Zf Friedrichshafen Ag | Antriebsstrang eines Kraftfahrzeugs und Verfahren zur Steuerung einer automatisierten Motorkupplung |
| TWI298334B (en) * | 2005-07-05 | 2008-07-01 | Chang Chun Plastics Co Ltd | Polyamic acid resin composition modified with laminate nanometer silica sheet and polyimide prepared therefrom |
| WO2007032051A1 (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-22 | Tadahiro Ohmi | 重合体の製造方法及び重合体材料 |
| KR100845328B1 (ko) * | 2006-01-20 | 2008-07-10 | 주식회사 코오롱 | 폴리이미드 필름 |
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|---|---|---|---|---|
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-
1987
- 1987-05-15 US US07/050,729 patent/US4839217A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-15 JP JP62118551A patent/JPH0745580B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-15 DE DE19873716416 patent/DE3716416A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4839217A (en) | 1989-06-13 |
| DE3716416A1 (de) | 1987-11-19 |
| JPS63108038A (ja) | 1988-05-12 |
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|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |