JPH07335992A - 配線基板と配線基板の製造方法 - Google Patents

配線基板と配線基板の製造方法

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JPH07335992A
JPH07335992A JP6154146A JP15414694A JPH07335992A JP H07335992 A JPH07335992 A JP H07335992A JP 6154146 A JP6154146 A JP 6154146A JP 15414694 A JP15414694 A JP 15414694A JP H07335992 A JPH07335992 A JP H07335992A
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electrode
wiring board
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sheet
projecting
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Masayoshi Iida
眞義 飯田
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  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】低コストで高密度実装が可能な配線基板と配線
基板の製造方法を提供すること。 【構成】第1の突状電極5を有する電子部品4を電気的
に接続するための配線基板1であり、第2の突状電極3
を収容するための突状電極収容部2と、前記突状電極収
容部内に配置される電極16であって、前記突状電極収
容部に収容された前記第2の突状電極3を介して、前記
電子部品4の前記第1の突状電極5に接続される前記電
極16と、を備える配線基板。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、バンプを有するICの
ような第1の突状電極を有する電子部品を電気的に接続
するための配線基板とその配線基板の製造方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】従来、基板へのはんだバンプあるいは、
はんだコート形成法には、溶融したはんだ槽内に基板を
浸漬するはんだディップ法がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この方法は、はんだ膜
厚のバラツキが大きいと共に、バンプピッチが300μ
mより狭いものにおいては、はんだブリッジが発生する
ため、フリップチップIC接続には問題があった。ま
た、通常のスクリーンを用いたクリームはんだ印刷法で
も、狭ピッチで定量のはんだを供給することは困難であ
る。
【0004】また基板上に、フォトソンダーレジストを
施して凹部を形成する方法があるが、数多くの化学的な
処理を行うため、基板の品質、信頼性を低下させると共
に極めて価格高となる。さらにはんだ蒸着法や電気メッ
キ法等があるが、前者は20μmを超える厚いはんだを
マスク蒸着法で供給することは極めて価格高となる。後
者では電気メッキのための導通引出し線(ランド)を別
途形成しなければならないため高密度実装基板には不向
きとなる。
【0005】そこで本発明は上記課題を解消するために
なされたものであり、低コストで高密度実装が可能な配
線基板と配線基板の製造方法を提供することを目的とし
ている。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的は、第1の発明
にあっては、第1の突状電極を有する電子部品を電気的
に接続するための配線基板であり、第2の突状電極を収
容するための突状電極収容部と、前記突状電極収容部内
に配置される電極であって、前記突状電極収容部に収容
された前記第2の突状電極を介して、前記電子部品の前
記第1の突状電極に接続される前記電極と、を備える配
線基板により、達成される。
【0007】第1の発明にあっては、好ましくは前記第
1の突状電極と前記第2の突状電極は、バンプである。
第1の発明にあっては、好ましくは前記突状電極収容部
は断面矩形であり、前記突状電極収容部の底部に前記電
極が配置されている。第1の発明にあっては、配線基板
が好ましくはセラミックス多層基板である。第1の発明
にあっては、好ましくは前記第1の突状電極と前記第2
の突状電極は、はんだバンプである。第1の発明にあっ
ては、好ましくは前記第1の突状電極と前記第2の突状
電極は、導電性樹脂である。
【0008】この目的は、第2の発明にあっては、第1
の突状電極を有する電子部品を電気的に接続するため
に、少なくとも第1のシートと第2のシートを積層して
なる配線基板の製造方法であり、前記第1のシートに穴
を形成して、前記第1のシートを前記第2のシートに積
層して、前記第1のシートの前記穴を、前記第2のシー
トにおける第2の突状電極を収容するための突状電極収
容部として用い、前記突状電極収容部内に前記第2の突
状電極を形成する配線基板の製造方法により、達成され
る。
【0009】第2の発明にあっては、好ましくは前記第
1のシートと前記第2のシートは、同じ材質のセラミッ
クスであり、前記第1のシートに配線電極を形成し、前
記第2のシートに配線電極を形成する。第2の発明にあ
っては、好ましくは前記突状電極収容部内に配置された
配線電極を、前記第2の突状電極を介して、前記第1の
突状電極に接続する。第2の発明にあっては、好ましく
は前記第1の突状電極と前記第2の突状電極は、はんだ
である。第2の発明にあっては、好ましくは前記第2の
突状電極は、導電性樹脂である。
【0010】この目的は、第3の発明にあっては、第1
の突状電極を有する電子部品を電気的に接続するための
配線基板であり、前記電子部品の第1の突状電極に対応
する位置に形成された突状電極収容部と、前記突状電極
収容部に配置されて、前記第1の突状電極に接続される
第2の突状電極と、を備える配線基板により、達成され
る。
【0011】第3の発明にあっては、好ましくは前記第
2の突状電極は、はんだあるいは導電性樹脂である。第
3の発明にあっては、好ましくは前記突状電極収容部は
穴であり、この穴を画成している材質とそれ以外の基板
の部分の材質が同じである。
【0012】
【作用】第1の発明の配線基板では、電子部品を実装す
る際には、突状電極収容部内に配置された電極は、突状
電極収容部に収容された第2の突状電極を介して、電子
部品の第1の突状電極に接続する。この第2の突状電極
としては、はんだバンプあるいは導電性樹脂を用いる。
【0013】第2の発明の配線基板の製造方法では、第
1のシートに穴を形成して、第1のシートを第2のシー
トに積層する。これにより、第1のシートの穴を、第2
のシートにおける第2の突状電極を収容するための突状
電極収容部として用いる。そして、この突状電極収容部
内に、第2の突状電極を形成する。
【0014】第3の発明の配線基板では、電子部品の第
1の突状電極に対応する位置に形成された突状電極収容
部内に、第1の突状電極に接続される第2の突状電極を
配置する。突状電極収容部は穴であり、好ましくはこの
穴を画成している材質とそれ以外の基板の部分の材質が
同じである。
【0015】
【実施例】以下、本発明の好適な実施例を添付図面に基
づいて詳細に説明する。なお、以下に述べる実施例は、
本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種
々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説
明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、
これらの態様に限られるものではない。
【0016】図1は、本発明の配線基板の好ましい実施
例であるセラミックス多層配線基板1と、この配線基板
1に対して実装しようとする電子部品4,13を示して
いる。図1において、セラミックス多層配線基板1は、
後で詳しく述べるように表層用グリーンシート7、中層
用グリーンシート8および下層用グリーンシート9から
なる3層型のセラミックス多層配線基板である。このセ
ラミックスとしては、通常用いられる材質を用いること
ができる。このセラミックス多層基板1の表層用グリー
ンシート7の上には、電子部品としてのICチップ4
と、別のチップ部品13,13が高密度実装されてい
る。
【0017】図2は、図1におけるICチップ4とチッ
プ部品13の高密度実装例を示している。セラミックス
多層基板ともいうセラミックス多層配線基板1は、上述
したように表層用グリーンシート7、中層用グリーンシ
ート8および下層用グリーンシート9の3層構造であ
る。セラミックス多層基板1には、配線電極6、配線電
極15、16あるいはビアー14等が所定のパターンで
形成されている。
【0018】基板凹部2,2は、突状電極収容部であ
る。この基板凹部2,2は、表層用グリーンシート7に
対してたとえば穴開けにより形成されたものである。基
板凹部2,2の底部は、中層用グリーンシート8の上面
部8aになっている。この中層用グリーンシート8の上
面部8aには、凹部内配線電極16,16がそれぞれ配
置されている。たとえば1つの凹部内配線電極16は、
上述したビアー14や配線電極15に接続されている。
【0019】ICチップ4にはICバンプ5が突出して
必要数形成されている。このICバンプ5は、第1の突
状電極であり、たとえばはんだあるいは導電性樹脂を採
用することができる。このICバンプ5に対して、基板
凹部である突状電極収容部2,2にはそれぞれ第2の突
状電極としての基板バンプ3が形成されている。この基
板バンプ3も、たとえばはんだあるいは導電性樹脂等を
採用することができる。図2において明らかなように、
ICチップ4のICバンプ5は、基板バンプ3を介して
凹部内配線電極16に電気的に接続されている。
【0020】このようにICバンプ5を有するICチッ
プ4をフリップチップ実装する際には、セラミックス多
層基板1の表面においてICバンプ5と対応する位置に
基板凹部2を設けている。そして、この基板凹部2内の
配線電極16は、その配線電極16の上にある基板バン
プ3を介してICバンプ5と接続している。
【0021】基板凹部2を形成している表層用グリーン
シート7は、中層用グリーンシート8および下層用グリ
ーンシート9は、好ましくは同一の基板材料で作られて
おり、一体化している。
【0022】次に、図3に基づいて、配線基板の製造方
法の好ましい実施例を次に説明する。図3において、ま
ず表層用グリーンシート7に対してパンチングPにより
基板凹部2を形成するための穴20を必要な数形成す
る。この穴20を有する表層用グリーンシート7に対し
て、必要な配線電極6を印刷で形成する。他の中層用グ
リーンシート8と下層用グリーンシート9に対しても必
要なビアー14あるいは配線電極16等を形成する。
【0023】次に、図3に示すように、これら表層用グ
リーンシート7、中層用グリーンシート8および下層用
グリーンシート9を重ね合せてラミネートし、焼成す
る。これによりセラミックス多層基板1を得る。そして
図3に示すように基板バンプ3を基板凹部2内に形成す
る。
【0024】次に、図4を参照して基板凹部2に基板バ
ンプ3を形成する方法の好ましい実施例を説明する。図
4において、まず基板凹部2に対して、クリームはんだ
10をスキージ21を用いて印刷(充填)する。基板凹
部2に詰めたクリームはんだ10を加熱して溶融させ
る。これにより基板バンプ3が基板凹部2内に形成され
る。なお、基板バンプ3の形状は、基板凹部2の大きさ
と基板凹部2内の配線電極16の大きさで決定される。
【0025】図4においては、はんだを用いて基板バン
プ3を形成した例を示しているが、図5では基板バンプ
として導電性樹脂11を用いている例を示している。図
5において、ICチップ4のICバンプ5は、配線電極
16に対して導電性樹脂の基板バンプ11を用いて電気
的な接続をすることができる。
【0026】次に図6を参照して、基板凹部2内にはん
だのバンプを形成する方法の例を説明する。セラミック
多層基板1の基板凹部2の底部には、配線電極16が既
に形成されている。はんだボール12は、それぞれ基板
凹部2に整列させる。そしてはんだボール12を加熱し
て溶融することにより、基板バンプ3を形成する。
【0027】上述した実施例では、ICチップとセラミ
ックス多層基板1の電極との接続について説明している
が、ICチップ以外に、図1と図2に示したチップ部品
13とセラミック多層基板1との接続もとることができ
る。
【0028】図7は、チップ部品13とセラミックス多
層基板1との電気的接続例を示している。基板凹部2に
対してクリームはんだ10をスキージ21を用いて印刷
して充填する。次に、チップ部品13をセラミックス多
層基板1の上に実装もしくは搭載する。そしてクリーム
はんだ10を加熱して、はんだを溶融させて、チップ部
品13とセラミック多層基板1の配線電極16を電気的
に接続する。
【0029】本発明の実施例では、基板形成と同時に突
状電極収容部としての基板凹部が形成されるため、基板
製造工程以外の工程が不用である。したがって、低価格
であり、品質・信頼性が向上する。はんだバンプピッチ
が200μm以下で、バンプ高さが20μm以上の基板
のバンプの形成が容易できる。ICバンプ部が基板凹部
で固定されるため、IC位置ズレが生じにくい。チップ
部品の搭載へ応用すると、クリームはんだ印刷時のスク
リーンが不用となる。
【0030】ところで本発明は上記実施例に限定されな
い。たとえば、上述した実施例では基板としてセラミッ
クスの多層基板、特に3層の基板を例にして説明してい
るがこれに限定されるものではなく、2層の基板あるい
は4層以上の基板を用いてもよい。また、セラミックス
以外の基板に対しても本発明は適用することができる。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、低
コストで高密度実装が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の配線基板とそれに搭載されるICチッ
プおよびチップ部品の例を示す斜視図。
【図2】図1における接続例を示す断面図。
【図3】3層構造のセラミックス多層基板の形成例を示
す図。
【図4】セラミックス多層基板の基板凹部にはんだを充
填してバンプを形成する例を示す図。
【図5】導電性樹脂を用いてICチップのバンプと接続
している例を示す図。
【図6】はんだボールを用いて基板バンプとする方法を
示す図。
【図7】クリームはんだを用いてチップ部品を基板に対
して電気的な接続をする方法を説明する図。
【符号の説明】
1 セラミックス多層基板(配線基板) 2 基板凹部(突状電極収容部) 3 基板バンプ(第2の突状電極) 4 ICチップ(第1の突状電極を有する電子部品) 5 ICバンプ(第1の突状電極) 13 チップ部品(電子部品) 16 凹部内配線電極(突状電極収容部内に配置される
配線電極)

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の突状電極を有する電子部品を電気
    的に接続するための配線基板であり、 第2の突状電極を収容するための突状電極収容部と、 前記突状電極収容部内に配置される電極であって、前記
    突状電極収容部に収容された前記第2の突状電極を介し
    て、前記電子部品の前記第1の突状電極に接続される前
    記電極と、を備えることを特徴とする配線基板。
  2. 【請求項2】 前記第1の突状電極と前記第2の突状電
    極は、バンプである請求項1に記載の配線基板。
  3. 【請求項3】 前記突状電極収容部は断面矩形であり、
    前記突状電極収容部の底部に前記電極が配置されている
    請求項1または請求項2に記載の配線基板。
  4. 【請求項4】 セラミックス多層基板である請求項1に
    記載の配線基板。
  5. 【請求項5】 前記第1の突状電極と前記第2の突状電
    極は、はんだバンプである請求項2に記載の配線基板。
  6. 【請求項6】 前記第1の突状電極と前記第2の突状電
    極は、導電性樹脂である請求項2に記載の配線基板。
  7. 【請求項7】 第1の突状電極を有する電子部品を電気
    的に接続するために、少なくとも第1のシートと第2の
    シートを積層してなる配線基板の製造方法であり、 前記第1のシートに穴を形成して、 前記第1のシートを前記第2のシートに積層して、前記
    第1のシートの前記穴を、前記第2のシートにおける第
    2の突状電極を収容するための突状電極収容部として用
    い、 前記突状電極収容部内に前記第2の突状電極を形成する
    ことを特徴とする配線基板の製造方法。
  8. 【請求項8】 前記第1のシートと前記第2のシート
    は、同じ材質のセラミックスであり、前記第1のシート
    に配線電極を形成し、前記第2のシートに配線電極を形
    成する請求項7に記載の配線基板の製造方法。
  9. 【請求項9】 前記突状電極収容部内に配置された配線
    電極を、前記第2の突状電極を介して、前記第1の突状
    電極に接続する請求項7に記載の配線基板の製造方法。
  10. 【請求項10】 前記第1の突状電極と前記第2の突状
    電極は、はんだである請求項7に記載の配線基板の製造
    方法。
  11. 【請求項11】 前記第2の突状電極は、導電性樹脂で
    ある請求項7に記載の配線基板の製造方法。
  12. 【請求項12】 第1の突状電極を有する電子部品を電
    気的に接続するための配線基板であり、 前記電子部品の第1の突状電極に対応する位置に形成さ
    れた突状電極収容部と、 前記突状電極収容部に配置されて、前記第1の突状電極
    に接続される第2の突状電極と、を備えることを特徴と
    する配線基板。
  13. 【請求項13】前記第2の突状電極は、はんだあるいは
    導電性樹脂である請求項12に記載の配線基板。
  14. 【請求項14】前記突状電極収容部は穴であり、この穴
    を画成している材質とそれ以外の基板の部分の材質が同
    じである請求項12に記載の配線基板。
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