JPH07333846A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム - Google Patents
感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルムInfo
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- JPH07333846A JPH07333846A JP12718594A JP12718594A JPH07333846A JP H07333846 A JPH07333846 A JP H07333846A JP 12718594 A JP12718594 A JP 12718594A JP 12718594 A JP12718594 A JP 12718594A JP H07333846 A JPH07333846 A JP H07333846A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 凹凸への追従性良好で、埋込部の現像性を向
上させた感光性樹脂組成物。 【構成】 ポリマーとして低分子量ポリマー／高分子量
ポリマーをブレンドして用い、モノマーとしてポリプロ
ピレングリコールジアクリレートを用いることにより、
７０μｍの凹凸に追従し、しかもその部分の最少現像時
間が３５〜４０秒程度で更にレジスト形状も良好となる
感光性樹脂組成物。
上させた感光性樹脂組成物。 【構成】 ポリマーとして低分子量ポリマー／高分子量
ポリマーをブレンドして用い、モノマーとしてポリプロ
ピレングリコールジアクリレートを用いることにより、
７０μｍの凹凸に追従し、しかもその部分の最少現像時
間が３５〜４０秒程度で更にレジスト形状も良好となる
感光性樹脂組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はプリント配線板等の製造
に用いられる感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性
フィルムに関する。
に用いられる感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性
フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】印刷配線板の製造に用いられるレジスト
として感光性樹脂組成物が用いられており、特に支持体
上に感光性樹脂組成物をあらかじめ塗布しフィルム状に
した感光性フィルムを用いることは広く知られている。
この感光性樹脂組成物又は感光性フィルムをレジストと
して印刷配線板を作成する工法として、近年、省資源、
工程短縮等の面から部分めっき法が注目されている。こ
の工法は、適当な方法を用いて銅パターンを作成した印
刷配線板上に、更に感光性フィルムをラミネートし露
光、現像工程を経た後めっきすることにより所望の銅パ
ターン上のみにめっきを施す方法である。この工法によ
り、銅パターン上に部分的に半田、金等の金属を析出
し、部品搭載性、耐摩耗性等の品質を向上させることが
できる。
として感光性樹脂組成物が用いられており、特に支持体
上に感光性樹脂組成物をあらかじめ塗布しフィルム状に
した感光性フィルムを用いることは広く知られている。
この感光性樹脂組成物又は感光性フィルムをレジストと
して印刷配線板を作成する工法として、近年、省資源、
工程短縮等の面から部分めっき法が注目されている。こ
の工法は、適当な方法を用いて銅パターンを作成した印
刷配線板上に、更に感光性フィルムをラミネートし露
光、現像工程を経た後めっきすることにより所望の銅パ
ターン上のみにめっきを施す方法である。この工法によ
り、銅パターン上に部分的に半田、金等の金属を析出
し、部品搭載性、耐摩耗性等の品質を向上させることが
できる。
【０００３】初期には粘着テープをレジストとして用い
てこの様な印刷配線板を作成していたが、テープを配線
板に付着する作業は人手を用いて行っているため、精度
向上、能率向上などの面から感光性フィルムを用いる工
法が考えられている。しかし、従来の感光性フィルムを
用いると、銅パターンに感光性フィルムを追従させるた
め感光性樹脂層を厚くする必要があったり、また、薄膜
の感光性樹脂層を何らかの方法で埋め込ませた場合で
も、銅パターン間の感光性樹脂層が厚くなり、現像時間
が長くなり生産性が低下してしまう問題があった。
てこの様な印刷配線板を作成していたが、テープを配線
板に付着する作業は人手を用いて行っているため、精度
向上、能率向上などの面から感光性フィルムを用いる工
法が考えられている。しかし、従来の感光性フィルムを
用いると、銅パターンに感光性フィルムを追従させるた
め感光性樹脂層を厚くする必要があったり、また、薄膜
の感光性樹脂層を何らかの方法で埋め込ませた場合で
も、銅パターン間の感光性樹脂層が厚くなり、現像時間
が長くなり生産性が低下してしまう問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記した従来
の技術の問題を解決し、パターンへの埋め込み性が向上
した、現像性の良好な感光性樹脂組成物及びこれを用い
た感光性フィルムを提供するものである。
の技術の問題を解決し、パターンへの埋め込み性が向上
した、現像性の良好な感光性樹脂組成物及びこれを用い
た感光性フィルムを提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）カルボ
キシル基含有ポリマー、（Ｂ）重合可能な二重結合を分
子内に少なくとも２個以上持つ化合物及び（Ｃ）光重合
開始剤を含有し、前記（Ａ）成分に数平均分子量５，０
００〜２０，０００、重量平均分子量２０，０００〜５
０，０００、分散度１．５〜３．０の成分（Ａ−１）及
び数平均分子量２０，０００〜８０，０００、重量平均
分子量７０，０００〜１６０，０００、分散度１．５〜
３．０の成分（Ａ−２）を含み、かつ成分（Ａ−１）の
配合量が成分（Ａ−２）の配合量より多く、前記（Ｂ）
成分にポリプロピレングリコールジアクリレートを含む
感光性樹脂組成物並びに支持体上にこの感光性樹脂組成
物を塗布乾燥してなる感光性フィルムに関する。
キシル基含有ポリマー、（Ｂ）重合可能な二重結合を分
子内に少なくとも２個以上持つ化合物及び（Ｃ）光重合
開始剤を含有し、前記（Ａ）成分に数平均分子量５，０
００〜２０，０００、重量平均分子量２０，０００〜５
０，０００、分散度１．５〜３．０の成分（Ａ−１）及
び数平均分子量２０，０００〜８０，０００、重量平均
分子量７０，０００〜１６０，０００、分散度１．５〜
３．０の成分（Ａ−２）を含み、かつ成分（Ａ−１）の
配合量が成分（Ａ−２）の配合量より多く、前記（Ｂ）
成分にポリプロピレングリコールジアクリレートを含む
感光性樹脂組成物並びに支持体上にこの感光性樹脂組成
物を塗布乾燥してなる感光性フィルムに関する。
【０００６】次に、本発明の感光性樹脂組成物に含まれ
る成分について詳述する。本発明に（Ａ）成分（成分
（Ａ−１）及び成分（Ａ−２）を含む）として用いられ
るカルボキシル基含有ポリマーとしては、例えば、（メ
タ）アクリル酸アルキルエステル〔（メタ）アクリル酸
とはメタクリル酸及びアクリル酸を意味する。以下同
じ〕と（メタ）アクリル酸とこれらと共重合しうるビニ
ルモノマーとの共重合体等が挙げられる。これらの共重
合体は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いられ
る。
る成分について詳述する。本発明に（Ａ）成分（成分
（Ａ−１）及び成分（Ａ−２）を含む）として用いられ
るカルボキシル基含有ポリマーとしては、例えば、（メ
タ）アクリル酸アルキルエステル〔（メタ）アクリル酸
とはメタクリル酸及びアクリル酸を意味する。以下同
じ〕と（メタ）アクリル酸とこれらと共重合しうるビニ
ルモノマーとの共重合体等が挙げられる。これらの共重
合体は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いられ
る。
【０００７】（メタ）アクリル酸アルキルエステルとし
ては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、
（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル
酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキ
シルエステル等が挙げられる。また、（メタ）アクリル
酸アルキルエステルや（メタ）アクリル酸と共重合しう
るビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル
酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル
酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸
ジエチルアミノエチルエステル、メタクリル酸グリシジ
ルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）
アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピ
ル（メタ）アクリレートアクリルアミド、ジアセトンア
クリルアミド、スチレン、ビニルトルエン等が挙げられ
る。
ては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、
（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル
酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキ
シルエステル等が挙げられる。また、（メタ）アクリル
酸アルキルエステルや（メタ）アクリル酸と共重合しう
るビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル
酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル
酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸
ジエチルアミノエチルエステル、メタクリル酸グリシジ
ルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）
アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピ
ル（メタ）アクリレートアクリルアミド、ジアセトンア
クリルアミド、スチレン、ビニルトルエン等が挙げられ
る。
【０００８】共重合体の製造は、公知の溶液重合法、懸
濁重合法、乳化重合法等を用いて行うことができ、分子
量の調整は、重合開始剤量、連鎖移動剤量等の量を調整
することにより行われる。現像性は、酸価、共重合モノ
マの吸水率により調整でき、最終的には、感光性樹脂組
成物を作成し実際に現像して比較可能である。現像性、
レジスト形状、追従性、耐めっき性、密着性等の観点か
ら、成分（Ａ−１）の数平均分子量は５，０００〜２
０，０００、重量平均分子量は２，０００〜５０，００
０、分散度は１．５〜３．０とされ、成分（Ａ−２）の
数平均分子量は２０，０００〜８０，０００、重量平均
分子量は７０，０００〜１６０，０００、分散度は１．
５〜３．０とされる。また、レジスト形状などの観点か
ら、成分（Ａ−１）及び成分（Ａ−２）が、分子量を等
しくし、（Ａ）カルボキシル基含有ポリマーとして各々
単独に用い別々の感光性樹脂組成物を作成した場合、希
アルカリ現像液に対する現像性が（Ａ−２）を用いた感
光性樹脂組成物の方が（Ａ−１）を用いた感光性樹脂組
成物よりも大であることが好ましい。現像性は、最少現
象時間の測定によって求められる。
濁重合法、乳化重合法等を用いて行うことができ、分子
量の調整は、重合開始剤量、連鎖移動剤量等の量を調整
することにより行われる。現像性は、酸価、共重合モノ
マの吸水率により調整でき、最終的には、感光性樹脂組
成物を作成し実際に現像して比較可能である。現像性、
レジスト形状、追従性、耐めっき性、密着性等の観点か
ら、成分（Ａ−１）の数平均分子量は５，０００〜２
０，０００、重量平均分子量は２，０００〜５０，００
０、分散度は１．５〜３．０とされ、成分（Ａ−２）の
数平均分子量は２０，０００〜８０，０００、重量平均
分子量は７０，０００〜１６０，０００、分散度は１．
５〜３．０とされる。また、レジスト形状などの観点か
ら、成分（Ａ−１）及び成分（Ａ−２）が、分子量を等
しくし、（Ａ）カルボキシル基含有ポリマーとして各々
単独に用い別々の感光性樹脂組成物を作成した場合、希
アルカリ現像液に対する現像性が（Ａ−２）を用いた感
光性樹脂組成物の方が（Ａ−１）を用いた感光性樹脂組
成物よりも大であることが好ましい。現像性は、最少現
象時間の測定によって求められる。
【０００９】本発明において、（Ａ）成分の配合量は、
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対して
４０〜８０重量部の範囲とすることが好ましい。４０重
量部未満では光硬化物が脆くなり易く、また感光性フィ
ルムとして用いた場合、塗膜性に劣る傾向があり、８０
重量部を超えると感度が不充分となる傾向がある。
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対して
４０〜８０重量部の範囲とすることが好ましい。４０重
量部未満では光硬化物が脆くなり易く、また感光性フィ
ルムとして用いた場合、塗膜性に劣る傾向があり、８０
重量部を超えると感度が不充分となる傾向がある。
【００１０】本発明に（Ｂ）成分として用いられる重合
可能な二重結合を分子内に少なくとも２個以上持つ化合
物（光重合性モノマ）としては、例えば、ウレタンアク
リレートビスコート＃８３１（大阪有機化学工業社製商
品名）、ポリエーテル型ウレタンアクリレートＢＴＧ−
Ａ（共栄社油脂化学工業社製商品名）、ポリエステル型
ウレタンアクリレートＤ−２００Ａ（共栄社油脂化学工
業社製商品名）、ウレタンアクリレートフォトマー６０
０８（サンノプコ社製商品名）、ウレタンジアクリレー
トケムリンク９５０３（サートマ社製商品名）、これら
のウレタンメタクリレート等が用いられる。また、トリ
メチルヘキサンメチレンジイソシアネート等のイソシア
ネート化合物と必要に応じて用いられるシクロヘキサン
ジメタノール等のジアルコール化合物と２−ヒドロキシ
エチルアクリレート等のヒドロキシル基含有（メタ）ア
クリレートとを反応させ得られる化合物、トリメチロー
ルプロパンエトキシトリアクリレート（ＳＲ−４５４、
サートマ社製商品名）、トリメチロールプロパンプロポ
キシトリアクリレート（Ｒ−９２４、日本化薬社製商品
名）、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート
（エチレン基の数が２〜１４のもの）、トリメチロール
プロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタ
ントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタン
テトラ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ（メタ）アクリレート等の多価アルコールにα，β
−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、ビス
フェノールＡジオキシエチレンジ（メタ）アクリレー
ト、ビスフェノールＡトリオキシエチレンジ（メタ）ア
クリレート、ビスフェノールＡデカオキシエチレンジ
（メタ）アクリレート等のビスフェノールＡジオキシエ
チレンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリグリシジルエーテルトリアクリレート、ビスフェ
ノールＡジグリシジルエーテルアクリレート等のグリシ
ジル基含有化合物にα，β−不飽和カルボン酸を付加し
て得られる化合物、無水フタル酸等の多価カルボン酸と
β−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の水酸基
及びエチレン性不飽和基を有する物質とのエステル化
物、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アク
リル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエス
テル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル
等の（メタ）アクリル酸のアルキルエステルなどが挙げ
られる。これらのうちで、レジスト形状の観点からポリ
プロピレングリコールジアクリレートを必ず用い、他の
化合物については任意に用いることが可能である。
可能な二重結合を分子内に少なくとも２個以上持つ化合
物（光重合性モノマ）としては、例えば、ウレタンアク
リレートビスコート＃８３１（大阪有機化学工業社製商
品名）、ポリエーテル型ウレタンアクリレートＢＴＧ−
Ａ（共栄社油脂化学工業社製商品名）、ポリエステル型
ウレタンアクリレートＤ−２００Ａ（共栄社油脂化学工
業社製商品名）、ウレタンアクリレートフォトマー６０
０８（サンノプコ社製商品名）、ウレタンジアクリレー
トケムリンク９５０３（サートマ社製商品名）、これら
のウレタンメタクリレート等が用いられる。また、トリ
メチルヘキサンメチレンジイソシアネート等のイソシア
ネート化合物と必要に応じて用いられるシクロヘキサン
ジメタノール等のジアルコール化合物と２−ヒドロキシ
エチルアクリレート等のヒドロキシル基含有（メタ）ア
クリレートとを反応させ得られる化合物、トリメチロー
ルプロパンエトキシトリアクリレート（ＳＲ−４５４、
サートマ社製商品名）、トリメチロールプロパンプロポ
キシトリアクリレート（Ｒ−９２４、日本化薬社製商品
名）、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート
（エチレン基の数が２〜１４のもの）、トリメチロール
プロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタ
ントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタン
テトラ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ（メタ）アクリレート等の多価アルコールにα，β
−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、ビス
フェノールＡジオキシエチレンジ（メタ）アクリレー
ト、ビスフェノールＡトリオキシエチレンジ（メタ）ア
クリレート、ビスフェノールＡデカオキシエチレンジ
（メタ）アクリレート等のビスフェノールＡジオキシエ
チレンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリグリシジルエーテルトリアクリレート、ビスフェ
ノールＡジグリシジルエーテルアクリレート等のグリシ
ジル基含有化合物にα，β−不飽和カルボン酸を付加し
て得られる化合物、無水フタル酸等の多価カルボン酸と
β−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の水酸基
及びエチレン性不飽和基を有する物質とのエステル化
物、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アク
リル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエス
テル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル
等の（メタ）アクリル酸のアルキルエステルなどが挙げ
られる。これらのうちで、レジスト形状の観点からポリ
プロピレングリコールジアクリレートを必ず用い、他の
化合物については任意に用いることが可能である。
【００１１】また、（Ｂ）成分の配合量は、（Ａ）成分
及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対し、２０〜６０
重量部の範囲とすることが好ましい。この配合量が２０
重量部未満では感度が不充分となる傾向があり、６０重
量部を超えると光硬化物が脆くなる傾向がある。なお、
（Ｂ）成分中の必須成分であるポリプロピレングリコー
ルジアクリレート配合量は５〜３０重量部の範囲
（（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対し
て）とすることが好ましい。
及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対し、２０〜６０
重量部の範囲とすることが好ましい。この配合量が２０
重量部未満では感度が不充分となる傾向があり、６０重
量部を超えると光硬化物が脆くなる傾向がある。なお、
（Ｂ）成分中の必須成分であるポリプロピレングリコー
ルジアクリレート配合量は５〜３０重量部の範囲
（（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対し
て）とすることが好ましい。
【００１２】本発明に（Ｃ）成分として用いられる光重
合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′
−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン
（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ−テトラメチル−４，４′
ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチ
ルアミノベンゾフェノン、２−エチルアントラキノン、
フェナントレンキノン等の芳香族ケトン、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン
フェニルエーテル等のベンゾインエーテル、メチルベン
ゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン、ベンジルジ
メチルケタール等のベンジル誘導体、２−（ｏ−クロロ
フェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、
２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキ
シフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロ
フェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、
２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイ
ミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−
４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，４−ジ
（ｐ−メトキシフェニル）−５−ジフェニルイミダゾー
ル二量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，
５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メチル
メルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾー
ル二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二
量体、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，
９′−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体な
どが挙げられる。これらは、単独で又は２種以上を組み
合わせて用いられる。
合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′
−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン
（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ−テトラメチル−４，４′
ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチ
ルアミノベンゾフェノン、２−エチルアントラキノン、
フェナントレンキノン等の芳香族ケトン、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン
フェニルエーテル等のベンゾインエーテル、メチルベン
ゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン、ベンジルジ
メチルケタール等のベンジル誘導体、２−（ｏ−クロロ
フェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、
２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキ
シフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロ
フェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、
２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイ
ミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−
４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，４−ジ
（ｐ−メトキシフェニル）−５−ジフェニルイミダゾー
ル二量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，
５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メチル
メルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾー
ル二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二
量体、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，
９′−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体な
どが挙げられる。これらは、単独で又は２種以上を組み
合わせて用いられる。
【００１３】光重合開始剤である（Ｃ）成分の配合量
は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対
して０．０５〜１０重量部の範囲とすることが好まし
い。０．０５重量部未満では感度が不充分となる傾向が
あり、１０重量部を超えると露光の際に組成物の表面で
の吸収が増大して内部の光硬化が不充分となる傾向があ
る。
は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００重量部に対
して０．０５〜１０重量部の範囲とすることが好まし
い。０．０５重量部未満では感度が不充分となる傾向が
あり、１０重量部を超えると露光の際に組成物の表面で
の吸収が増大して内部の光硬化が不充分となる傾向があ
る。
【００１４】本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じ
て可塑剤、染料、顔料レベリング剤、充填剤、イメージ
ング剤、密着性向上剤等を添加して用いても良い。
て可塑剤、染料、顔料レベリング剤、充填剤、イメージ
ング剤、密着性向上剤等を添加して用いても良い。
【００１５】本発明の感光性樹脂組成物は、金属面、例
えば、銅、ニッケル、クロム等の表面、好ましくは銅表
面上に、液状レジストとして塗布して乾燥後、保護フィ
ルムを被覆して用いるか、あるいは感光性フィルムとし
て用いられる。感光性フィルム中の感光性樹脂組成物の
厚みは用途により異なるが、乾燥後の厚みで１０〜１０
０μｍ程度であることが好ましい。液状レジストの場合
は、保護フィルムとしてポリエチレン、ポリプロピレン
等の不活性なポリオレフィンフィルム、ポリエステルフ
ィルム等が用いられる。
えば、銅、ニッケル、クロム等の表面、好ましくは銅表
面上に、液状レジストとして塗布して乾燥後、保護フィ
ルムを被覆して用いるか、あるいは感光性フィルムとし
て用いられる。感光性フィルム中の感光性樹脂組成物の
厚みは用途により異なるが、乾燥後の厚みで１０〜１０
０μｍ程度であることが好ましい。液状レジストの場合
は、保護フィルムとしてポリエチレン、ポリプロピレン
等の不活性なポリオレフィンフィルム、ポリエステルフ
ィルム等が用いられる。
【００１６】感光性フィルムは、ポリエステル等の支持
体フィルム上に感光性樹脂組成物を塗布、乾燥すること
により積層し、必要に応じてポリオレフィン等の保護フ
ィルムを積層して得られる。感光性樹脂組成物は、必要
に応じてアセトン、メチルエチルケトン、塩化メチレ
ン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール、メチルグリコール、エチルグリコー
ル、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメ
チルエーテル等の溶剤又はこれらの混合溶剤と混合して
溶液として塗布してもよい。
体フィルム上に感光性樹脂組成物を塗布、乾燥すること
により積層し、必要に応じてポリオレフィン等の保護フ
ィルムを積層して得られる。感光性樹脂組成物は、必要
に応じてアセトン、メチルエチルケトン、塩化メチレ
ン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール、メチルグリコール、エチルグリコー
ル、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメ
チルエーテル等の溶剤又はこれらの混合溶剤と混合して
溶液として塗布してもよい。
【００１７】前記の感光性樹脂組成物層は、アートワー
クと呼ばれるネガ又はポジマスクパターンを通して活性
光線が照射された後、現像液で現像され、レジストパタ
ーンとされる。この際用いられる活性光線としては、例
えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、
キセノンランプ等の紫外線を有効に放射するものが用い
られる。
クと呼ばれるネガ又はポジマスクパターンを通して活性
光線が照射された後、現像液で現像され、レジストパタ
ーンとされる。この際用いられる活性光線としては、例
えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、
キセノンランプ等の紫外線を有効に放射するものが用い
られる。
【００１８】現像液としては、安全かつ安定であり、操
作性が良好なものが用いられ、アルカリ現像型のフォト
レジストでは炭酸ナトリウムの希薄溶液等が用いられ
る。現像の方法には、ディップ方式、スプレー方式等が
あり、高圧スプレー方式が解像度向上のためには最も適
している。
作性が良好なものが用いられ、アルカリ現像型のフォト
レジストでは炭酸ナトリウムの希薄溶液等が用いられ
る。現像の方法には、ディップ方式、スプレー方式等が
あり、高圧スプレー方式が解像度向上のためには最も適
している。
【００１９】現像後に行われる電気めっきには、硫酸銅
めっき、ピロリン酸銅めっき等の銅めっき、ハイスロー
はんだめっき等のはんだめっき、ワット浴（硫酸ニッケ
ル−塩化ニッケル）めっき、スルファミン酸ニッケルめ
っき等のニッケルめっき、ハード金めっき、ソフト金め
っき等の金めっきなどがある。
めっき、ピロリン酸銅めっき等の銅めっき、ハイスロー
はんだめっき等のはんだめっき、ワット浴（硫酸ニッケ
ル−塩化ニッケル）めっき、スルファミン酸ニッケルめ
っき等のニッケルめっき、ハード金めっき、ソフト金め
っき等の金めっきなどがある。
【００２０】
【実施例】次に本発明を実施例により詳しく説明する
が、本発明はこれらにより制限されるものではない。 実施例１〜７及び比較例１〜２ マラカイトグリーン０．０５ｇ、メチルエチルケトン１
０ｇ、トルエン１０ｇ、メタノール３ｇ及び１，７−ビ
ス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン〔（Ｂ）成分〕
０．２ｇ、４，４′−ビス〔（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミ
ノ）メチル〕ベンゾフェノン０．０５ｇ、トリブロモメ
チルフェニルスルホン０．５ｇ、３−ジエチルアミノ−
６−メチル−７−アルキル（Ｃ8〜Ｃ16）アミノフルオ
ラン０．５ｇを配合し溶液を得た。
が、本発明はこれらにより制限されるものではない。 実施例１〜７及び比較例１〜２ マラカイトグリーン０．０５ｇ、メチルエチルケトン１
０ｇ、トルエン１０ｇ、メタノール３ｇ及び１，７−ビ
ス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン〔（Ｂ）成分〕
０．２ｇ、４，４′−ビス〔（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミ
ノ）メチル〕ベンゾフェノン０．０５ｇ、トリブロモメ
チルフェニルスルホン０．５ｇ、３−ジエチルアミノ−
６−メチル−７−アルキル（Ｃ8〜Ｃ16）アミノフルオ
ラン０．５ｇを配合し溶液を得た。
【００２１】この溶液に、表１に示す組成のＡ成分及び
Ｂ成分を、表２に記載の量を溶解させて感光性樹脂組成
物の溶液を得た。
Ｂ成分を、表２に記載の量を溶解させて感光性樹脂組成
物の溶液を得た。
【００２２】
【表１】
【００２３】
【表２】
【００２４】次いで、この感光性樹脂組成物の溶液を２
５μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に均
一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で約１０分間
乾燥して感光性フィルムを得た。感光性樹脂組成物層の
乾燥後の膜厚は、５０μｍであった。
５μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に均
一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で約１０分間
乾燥して感光性フィルムを得た。感光性樹脂組成物層の
乾燥後の膜厚は、５０μｍであった。
【００２５】一方、銅箔（厚さ３５μｍ）を両面に積層
したガラスエポキシ材である銅張り積層板（日立化成工
業社製商品名、ＭＣＬ−Ｅ−６１）及び０．５mm間隔で
銅ラインを形成した銅張積層板（銅厚３５、５０、７０
μｍの３種類）の銅表面を＃６００相当のブラシを持つ
研磨機（三啓社製）を用いて研磨し、水洗後、空気流で
乾燥し、得られた銅張り積層板を８０℃に加温し、その
銅表面上に前記感光性樹脂組成物層を１２０℃に加熱し
ながらラミネートした。
したガラスエポキシ材である銅張り積層板（日立化成工
業社製商品名、ＭＣＬ−Ｅ−６１）及び０．５mm間隔で
銅ラインを形成した銅張積層板（銅厚３５、５０、７０
μｍの３種類）の銅表面を＃６００相当のブラシを持つ
研磨機（三啓社製）を用いて研磨し、水洗後、空気流で
乾燥し、得られた銅張り積層板を８０℃に加温し、その
銅表面上に前記感光性樹脂組成物層を１２０℃に加熱し
ながらラミネートした。
【００２６】次いで、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム上に、ネガフィルムを載置し、３kW高圧水銀灯（オ
ーク製作所社製、ＨＭＷ−２０１Ｂ）で６０mJ/cm2の露
光を行った。この際、光感度を評価できるように、ネガ
フィルムに光透過量が段階的に少なくなる領域（光学密
度０．０５を１段目とし、１段ごとに光学密度が０．１
５ずつ増加するステップタブレット（ＳＴ））を設け
た。
ルム上に、ネガフィルムを載置し、３kW高圧水銀灯（オ
ーク製作所社製、ＨＭＷ−２０１Ｂ）で６０mJ/cm2の露
光を行った。この際、光感度を評価できるように、ネガ
フィルムに光透過量が段階的に少なくなる領域（光学密
度０．０５を１段目とし、１段ごとに光学密度が０．１
５ずつ増加するステップタブレット（ＳＴ））を設け
た。
【００２７】次いで、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを除去し、３０℃で１重量％炭酸ナトリウム水溶液
を５０秒間スプレーすることにより、未露光部分を除去
した。さらに、銅張り積層板上に形成された光硬化膜の
ステップタブレットの段数を測定することにより、感光
性樹脂組成物の光感度を評価した。その結果を表３に示
した。光感度は、ステップタブレットの段数で示され、
このステップタブレットの段数が高いほど、光感度が高
いことを示す。ステップタブレットの１段部分（光学密
度０．０５）を走査形電子顕微鏡で観察し、レジスト形
状の評価をした。その結果を表３に示す。
ルムを除去し、３０℃で１重量％炭酸ナトリウム水溶液
を５０秒間スプレーすることにより、未露光部分を除去
した。さらに、銅張り積層板上に形成された光硬化膜の
ステップタブレットの段数を測定することにより、感光
性樹脂組成物の光感度を評価した。その結果を表３に示
した。光感度は、ステップタブレットの段数で示され、
このステップタブレットの段数が高いほど、光感度が高
いことを示す。ステップタブレットの１段部分（光学密
度０．０５）を走査形電子顕微鏡で観察し、レジスト形
状の評価をした。その結果を表３に示す。
【００２８】また一方、感光性フィルムをラミネートし
た基板の最少現像時間を測定し、その結果を表３に合わ
せて記載した。最少現像時間は、１２５mm×２００mmの
銅張積層板に前記感光性フィルムをラミネートし、未露
光の状態でポリエチレンテレフタレートフィルムをはが
し、圧力１．８kgf/cm2を有するスプレー式現像機で現
像（１重量％の炭酸ナトリウム水溶液、３０℃）し、次
いで水洗、乾燥した後観察し、表面に感光性樹脂層の存
在が認められなくなる最少の時間を示す。この最少現像
時間が短い程、現像性が大きい。また、０．５mm間隔の
銅パターンを形成した銅張積層板（銅厚３５μｍ、５０
μｍ、７０μｍ）に感光性フィルムをラミネートした基
板は、その断面形状を観察し、感光性樹脂層の凹凸への
追従性（銅厚７０μｍでの埋め込み性）及びその最少現
像時間を測定し表３に合わせて記載した。
た基板の最少現像時間を測定し、その結果を表３に合わ
せて記載した。最少現像時間は、１２５mm×２００mmの
銅張積層板に前記感光性フィルムをラミネートし、未露
光の状態でポリエチレンテレフタレートフィルムをはが
し、圧力１．８kgf/cm2を有するスプレー式現像機で現
像（１重量％の炭酸ナトリウム水溶液、３０℃）し、次
いで水洗、乾燥した後観察し、表面に感光性樹脂層の存
在が認められなくなる最少の時間を示す。この最少現像
時間が短い程、現像性が大きい。また、０．５mm間隔の
銅パターンを形成した銅張積層板（銅厚３５μｍ、５０
μｍ、７０μｍ）に感光性フィルムをラミネートした基
板は、その断面形状を観察し、感光性樹脂層の凹凸への
追従性（銅厚７０μｍでの埋め込み性）及びその最少現
像時間を測定し表３に合わせて記載した。
【００２９】
【表３】
【００３０】表３より、カルボキシル基含有ポリマーと
して低分子量と高分子量を程良くブレンドすることで埋
込み性と凹凸部の最少現像時間が短縮できることが分か
る。更に、重合可能な二重結合を分子内に少なくとも２
個以上持つ化合物（光重合性モノマー）としてポリプロ
ピレングリコールジアクリレートを用いることで、レジ
スト形状が良好になることが分かる。
して低分子量と高分子量を程良くブレンドすることで埋
込み性と凹凸部の最少現像時間が短縮できることが分か
る。更に、重合可能な二重結合を分子内に少なくとも２
個以上持つ化合物（光重合性モノマー）としてポリプロ
ピレングリコールジアクリレートを用いることで、レジ
スト形状が良好になることが分かる。
【００３１】
【発明の効果】本発明により、追従性が良好で埋込部の
現像性良好な感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性
フィルムが提供できる。
現像性良好な感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性
フィルムが提供できる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｊ Ｈ 3/18 Ｄ 7511−4Ｅ 3/24 Ａ 7511−4Ｅ
Claims (3)
- 【請求項１】 （Ａ）カルボキシル基含有ポリマー、
（Ｂ）重合可能な二重結合を分子内に少なくとも２個以
上持つ化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有し、前記
（Ａ）成分に数平均分子量５，０００〜２０，０００、
重量平均分子量２０，０００〜５０，０００、分散度
１．５〜３．０の成分（Ａ−１）及び数平均分子量２
０，０００〜８０，０００、重量平均分子量７０，００
０〜１６０，０００、分散度１．５〜３．０の成分（Ａ
−２）を含み、かつ成分（Ａ−１）の配合量が成分（Ａ
−２）の配合量より多く、前記（Ｂ）成分にポリプロピ
レングリコールジアクリレートを含む感光性樹脂組成
物。 - 【請求項２】 成分（Ａ−１）及び成分（Ａ−２）が、
分子量を等しくし、（Ａ）カルボキシル基含有ポリマー
として各々単独に用い別々の感光性樹脂組成物を作成し
た場合、希アルカリ現像液に対する現像性が（Ａ−２）
を用いた感光性樹脂組成物の方が（Ａ−１）を用いた感
光性樹脂組成物よりも大である請求項１記載の感光性樹
脂組成物。 - 【請求項３】 支持体上に請求項１又は２記載の感光性
樹脂組成物を塗布、乾燥してなる感光性フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12718594A JP3415928B2 (ja) | 1994-06-09 | 1994-06-09 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12718594A JP3415928B2 (ja) | 1994-06-09 | 1994-06-09 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07333846A true JPH07333846A (ja) | 1995-12-22 |
| JP3415928B2 JP3415928B2 (ja) | 2003-06-09 |
Family
ID=14953790
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12718594A Expired - Lifetime JP3415928B2 (ja) | 1994-06-09 | 1994-06-09 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3415928B2 (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10161308A (ja) * | 1996-11-26 | 1998-06-19 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光重合性樹脂組成物およびその用途 |
| JPH10198027A (ja) * | 1997-01-14 | 1998-07-31 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光重合性樹脂及びその用途 |
| JPH1124259A (ja) * | 1997-07-04 | 1999-01-29 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | フォトレジストフィルム |
| US5962190A (en) * | 1997-08-27 | 1999-10-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions having improved sidewall geometry and development latitude |
| JP2001255653A (ja) * | 2001-01-09 | 2001-09-21 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
| JP2001305730A (ja) * | 2000-04-25 | 2001-11-02 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
| JP2011123505A (ja) * | 2000-06-22 | 2011-06-23 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
| CN103076719A (zh) * | 2011-10-26 | 2013-05-01 | 日立化成工业株式会社 | 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷配线板的制造方法 |
| JP2013109321A (ja) * | 2011-10-26 | 2013-06-06 | Hitachi Chemical Co Ltd | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
| CN104407500A (zh) * | 2014-12-12 | 2015-03-11 | 杭州福斯特光伏材料股份有限公司 | 一种具有良好侧边形貌的光敏性树脂组合物 |
| CN104730863A (zh) * | 2014-11-03 | 2015-06-24 | 杭州福斯特光伏材料股份有限公司 | 一种干膜抗蚀剂 |
| CN104407500B (zh) * | 2014-12-12 | 2018-02-09 | 杭州福斯特应用材料股份有限公司 | 一种具有良好侧边形貌的光敏性树脂组合物 |
-
1994
- 1994-06-09 JP JP12718594A patent/JP3415928B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (18)
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| US6180323B1 (en) | 1997-08-27 | 2001-01-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions having improved sidewall geometry and development latitude |
| JP2001305730A (ja) * | 2000-04-25 | 2001-11-02 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
| JP2011123505A (ja) * | 2000-06-22 | 2011-06-23 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
| JP2011128629A (ja) * | 2000-06-22 | 2011-06-30 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
| JP4779284B2 (ja) * | 2000-06-22 | 2011-09-28 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
| JP4529289B2 (ja) * | 2001-01-09 | 2010-08-25 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
| JP2001255653A (ja) * | 2001-01-09 | 2001-09-21 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
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| JP3415928B2 (ja) | 2003-06-09 |
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