JPH0730251A - セラミックス多層配線基板の製造方法及びセラミックス多層配線基板 - Google Patents

セラミックス多層配線基板の製造方法及びセラミックス多層配線基板

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JPH0730251A
JPH0730251A JP6538392A JP6538392A JPH0730251A JP H0730251 A JPH0730251 A JP H0730251A JP 6538392 A JP6538392 A JP 6538392A JP 6538392 A JP6538392 A JP 6538392A JP H0730251 A JPH0730251 A JP H0730251A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 破断面の平滑なセラミックス多層配線基板を
製造する。 【構成】 グリーンシート20の周縁部21を除いた部
分に配線パターン2を所定間隔を以て印刷する。周縁部
21にパターン2と同厚のダミーパターン22をパター
ン2を囲撓するように印刷する。次にパターン2,22
が印刷されたシート20を積層し加熱加圧してグリーン
シート積層体を形成する。次に、グリーンシート積層体
を焼成して積層焼成体を形成する。次に、積層焼成体の
上面にパターン2,22を一個づつ区画する格子状のス
ナップラインを形成する。次に積層焼成体をスナップラ
インの位置で個々に破断する。これにより、セラミック
ス多層配線基板を得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、セラミックス多層配線
基板の製造方法及びセラミックス多層配線基板に関し、
特に、低温焼成セラミックス多層配線基板の製造方法及
び低温焼成セラミックス多層配線基板に関する。
【0002】
【従来の技術】図8は、内部に複数層の配線パターン2
が形成されたセラミックス多層配線基板1を示すもので
ある。
【0003】このようなセラミックス多層配線基板1を
製造するには、まず、図9に示すように、グリーンシー
ト3の表面の周縁部を除いた部分に、配線パターン2を
所定間隔をもって印刷する。ここで、グリーンシート3
としては、通常、アルミナ粉末を主体としたグリーンシ
ート又はアルミナ粉末とガラス粉末(ホウケイ酸ガラ
ス、鉛ホウケイ酸ガラス等)とを複合した低温焼成用グ
リーンシート等が用いられる。また、グリーンシート3
には、上下の配線パターン2を接続するためのビア(図
示せず。)も設けられている。
【0004】次に、配線パターン2が印刷された複数枚
のグリーンシート3を順次積層する。なお、積層された
状態においては、最上層に配線パターン2が印刷されて
いないグリーンシート3aが積層されるようになってい
るが、配線パターン2が印刷されたグリーンシート3を
積層する場合がある。そして、これらのグリーンシート
3,3aを積層した後、プレス装置(図示せず。)等に
より加熱・加圧して積層一体化してグリーンシート積層
体4を形成する(図10参照)。次に、このグリーンシ
ート積層体4を焼成して積層焼成体5を形成する(図1
1参照)。次に、図11及び図12に示すように、積層
焼成体5の上面に複数の配線パターン2を一個ずつ区画
する格子状のスナップライン6を形成する。
【0005】なお、スナップライン6は、通常、グリー
ンシートの状態でナイフカットを行うことによる加工、
レーザースクライブによる加工または焼結ダイヤモンド
カッターによる加工(特願平3−91015号明細書参
照)等によって形成されるが、前二者には焼成時のバラ
ツキ、劈開品質、精度上の問題点が存在し、焼結ダイヤ
モンドカッターによる加工法が最もよい破断品質を与え
る方法である。
【0006】次に、図13に示すように、積層焼成体5
をスナップライン6の位置で個々に破断する。これによ
り、上述したセラミックス多層配線基板1が製造され
る。
【0007】上記セラミックス多層配線基板1の製造方
法においては、グリーンシート3の周縁部には配線パタ
ーン2が印刷されていない。従って、配線パターン2が
印刷された部分の厚さと配線パターン2が印刷されてい
ない周縁部の厚さとでは、配線パターン2の膜厚分だけ
肉厚差が生じる。このため、この状態で複数枚のグリー
ンシート3を積層し加熱加圧してグリーンシート積層体
4を形成すると、グリーンシート積層体4の内部の配線
パターン2の印刷部分と非印刷部分との間で圧力むらや
密度の差が発生してしまう。この結果、グリーンシート
積層体4を焼成して形成された積層焼成体5の内部にも
密度差が発生する。従って、この積層焼成体5をスナッ
プライン6の位置で破断してセラミックス多層配線基板
1を製造するに際し、図13に示すように、破断面の平
滑なセラミックス多層配線基板1を製造することができ
ないという問題があった。
【0008】特に、上述したアルミナ粉末とガラス粉末
とを複合した低温焼成用のグリーンシート3を用いた場
合にはガラス成分が含まれているため劈開性が悪い。こ
のため、上記積層焼成体5の内部の密度の差による影響
がより顕著に現れ、破断面の平滑なセラミックス多層配
線基板1を製造することができないという問題があっ
た。
【0009】さらに、上述したスナップラインを加工す
る方法のうち、最も良い破断品質を与える焼結ダイヤモ
ンドカッターによる加工法においては、積層焼成体5の
内部の密度の差による影響が著しく現れ、やはり破断面
の平滑なセラミックス多層配線基板1を得られないとい
う問題があった。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる不都合
を解消するためになされたものであり、スナップライン
の位置で破断してセラミックス多層配線基板を製造する
に際し、破断面の平滑なセラミックス多層配線基板を製
造することができるセラミックス多層配線基板の製造方
法及びセラミックス多層配線基板を提供することを目的
とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明のセラミックス多
層配線基板の製造方法は、かかる目的を達成するため
に、配線パターンが表面に形成された複数枚のグリーン
シートを少なくともその内部に積層してグリーンシート
積層体を形成し、該グリーンシート積層体を焼成して積
層焼成体を形成し、該積層焼成体に形成されたスナップ
ラインの位置で前記積層焼成体を破断してセラミックス
多層配線基板を製造する方法において、前記配線パター
ンが表面に形成されたグリーンシート内の少なくとも一
枚のグリーンシートには、前記スナップラインを挟んで
前記配線パターンの反対側の前記グリーンシートの表面
に、ダミーパターンが形成されていること特徴とするも
のである。
【0012】また、本発明は、前記セラミックス多層配
線基板の製造方法において、少なくとも一枚の前記グリ
ーンシートの前記配線パターンと前記スナップラインの
位置との間の前記グリーンシートの表面に、さらに他の
ダミーパターンが形成されていることを特徴とするもの
である。
【0013】さらに、本発明は、配線パターンが表面に
形成された複数枚のグリーンシートを少なくともその内
部に積層してグリーンシート積層体を形成し、該グリー
ンシート積層体を焼成して積層焼成体を形成し、該積層
焼成体に形成されたスナップラインの位置で前記積層焼
成体を破断してセラミックス多層配線基板を製造する方
法において、少なくとも一枚の前記グリーンシートの前
記配線パターンと前記スナップラインの位置との間の前
記グリーンシートの表面に、ダミーパターンが形成され
ていることを特徴とするものである。
【0014】さらに、本発明は、複数層の配線パターン
が少なくともその内部に形成されたセラミックス多層配
線基板において、前記配線パターンが形成されていない
部分にダミーパターンが形成されていることを特徴とす
るものである。
【0015】
【作用】本発明のセラミックス多層配線基板の製造方法
によれば、配線パターンが表面に形成されたグリーンシ
ート内の少なくとも一枚のグリーンシートには、スナッ
プラインを挟んで配線パターンの反対側のグリーンシー
トの表面に、ダミーパターンが形成されている。従っ
て、グリーンシートの配線パターン部分とスナップライ
ンを挟んで配線パターンの反対側の部分との厚さの差を
少なくすることができる。このため、この状態で複数の
グリーンシートを積層した後、加熱加圧して形成された
グリーンシート積層体の配線パターン部分とスナップラ
インを挟んで配線パターンの反対側の部分との間の圧力
むらや密度の差の発生を抑制することができる。この結
果、グリーンシート積層体を焼成して形成された積層焼
成体の内部に密度の差が発生するのを抑制することがで
きる。従って、積層焼成体をスナップラインの位置で破
断してセラミックス多層配線基板を製造するに際し、破
断面の平滑なセラミックス多層配線基板を製造すること
ができる。
【0016】また、グリーンシートの配線パターンとス
ナップラインの位置との間の配線パターンの非形成部分
の面積が広い場合には、この間の非形成部分にダミーパ
ターンを形成することで上記積層焼成体の配線パターン
部分と配線パターンの非形成部分との間の密度の差の発
生を抑制することができる。
【0017】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1〜図5を参照
して説明する。なお、本発明にかかるセラミックス多層
配線基板の製造方法によって製造されるセラミックス多
層配線基板10については、その全体構成が従来のセラ
ミックス多層配線基板1と同一であるのでその説明は省
略する。また、従来の例と重複する部分については各図
に同一符号を付して説明する。
【0018】次に、本発明にかかるセラミックス多層配
線基板10の製造方法について説明する。セラミックス
多層配線基板10を製造するには、まず、例えば、スク
リーン印刷等によってグリーンシート20のシート表面
の周縁部21を除いた部分に複数(本実施例では9個)
の配線パターン2を縦横3個ずつ所定間隔をもって印刷
すると共に、周縁部21に複数の配線パターン2を囲撓
するように複数(本実施例では12個)のダミーパター
ン22を周方向に所定間隔をもって印刷する(図1参
照)。このダミーパターン22の膜厚は、配線パターン
2の膜厚と同一になっている。ここで、グリーンシート
20としては、ホウケイ酸ガラス、鉛ホウケイ酸ガラス
等のガラス粉末とアルミナ粉末とを重量比でそれぞれ6
5〜55/35〜45%に、バインダー、可塑剤及び溶
剤を混合した低温焼成用のグリーンシートを使用する。
【0019】次に、配線パターン2及びダミーパターン
22が印刷された複数枚のグリーンシート20を順次積
層する。なお、積層された状態においては、最上層に配
線パターン2及びダミーパターン22が印刷されていな
いグリーンシート20aが積層されるようになっている
(図1参照)。そして、これらのグリーンシート20,
20aを積層した後、プレス装置(図示せず。)等によ
り加熱・加圧して積層一体化し、図2に示すようなグリ
ーンシート積層体10aを形成する。
【0020】次に、グリーンシート積層体10aを焼成
炉(図示せず。)の中に入れて約800〜1000℃で
焼成して積層焼成体30を形成する(図3及び図4参
照)。その後、図3に示すように、積層焼成体30の上
面に、前記複数の配線パターン2と複数のダミーパター
ン22とを一個づつ区画する格子状(縦横方向にそれぞ
れ4本ずつ)のスナップライン40を焼結ダイヤモンド
カッターを用いて形成する。これにより、スナップライ
ン40の位置を挟んで配線パターン2の反対側の部分
に、ダミーパターン22が位置するようになっている。
なお、スナップライン40を形成するに際しては、スナ
ップライン40からダミーパターン22までの寸法が、
0.3〜0.5mm程度となるように形成するのが好ま
しい。
【0021】次に、図5に示すように、この積層焼成体
30をスナップライン40の位置で個々に破断する。こ
れにより、セラミックス多層配線基板10が製造され
る。
【0022】上記セラミックス多層配線基板10の製造
方法においては、スナップライン40の位置を挟んで配
線パターン2の反対側のグリーンシート20の表面、す
なわち周縁部21に、配線パターン2と同厚のダミーパ
ターン22が印刷されている。このため、この状態で複
数のグリーンシート20を積層した後、加熱加圧して製
造されたグリーンシート積層体10aの配線パターン2
部分と周縁部21に設けられたダミーパターン22の部
分との間に圧力むらや密度の差が発生するのを防止する
ことができる。この結果、グリーンシート積層体10a
を焼成して形成された積層焼成体30をスナップライン
40の位置で破断してセラミックス多層配線基板10を
製造するに際し、本実施例のように積層焼成体30の内
部の密度差による影響を受けやすい焼結ダイヤモンドカ
ッターによる加工法を用いた場合においても、破断面の
平滑なセラミックス多層配線基板10を製造することが
できる。
【0023】次に、本発明の他の実施例を図6及び図7
を参照して説明する。すなわち、上記の一実施例では、
周縁部21にのみダミーパターン22が印刷された場合
を例に採ったが、図6に示すように、配線パターン2部
分とスナップライン30の位置との間の配線パターン2
の非印刷部分の面積が広い場合には、この間の非印刷部
分にもグリーンシート20の状態でダミーパターン22
´を印刷することでこのグリーンシート20を積層して
形成されたグリーンシート積層体10aに圧力むらや密
度の差の発生を防止することができる。この結果、図7
に示すように、グリーンシート積層体10aを焼成して
形成された積層焼成体30においてスナップライン40
の両側の密度が均一となり、平滑な破断面が得られるよ
うになる。
【0024】本発明は、上記実施例に限定されるもので
はなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変
更可能である。例えば、上記実施例では、表面に複数の
配線パターン2が印刷されたグリーンシート20にダミ
ーパターン22を印刷した場合を例に採ったが、必ずし
もこれに限定する必要はなく、例えば、表面に一個の配
線パターン2が印刷されたグリーンシート20に上記ダ
ミーパターン22,22´を印刷することも可能であ
る。
【0025】また、上記実施例では、複数枚のグリーン
シート20を順次積層する際に、最上層に配線パターン
2及びダミーパターン22が印刷されていないグリーン
シート20aを積層しているが、必ずしもこのようにす
る必要はなく、最上層に配線パターン2及びダミーパタ
ーン22が印刷されているグリーンシート20を積層す
ることも勿論可能である。
【0026】
【発明の効果】上記の説明から明らかなように、本発明
によれば、配線パターンが表面に形成されたグリーンシ
ート内の少なくとも一枚のグリーンシートには、スナッ
プラインを挟んで配線パターンの反対側のグリーンシー
トの表面に、ダミーパターンが形成されている。従っ
て、グリーンシートの配線パターン部分とスナップライ
ンを挟んで配線パターンの反対側の部分との厚さの差を
少なくすることができる。このため、この状態で複数の
グリーンシートを積層した後、加熱加圧して形成された
グリーンシート積層体の配線パターン部分とスナップラ
インを挟んで配線パターンの反対側の部分との間の圧力
むらや密度の差の発生を抑制することができる。この結
果、グリーンシート積層体を焼成して形成された積層焼
成体の内部に密度の差が発生するのを抑制することがで
きる。従って、積層焼成体をスナップラインの位置で破
断してセラミックス多層配線基板を製造するに際し、破
断面の平滑なセラミックス多層配線基板を製造すること
ができる。
【0027】また、グリーンシートの配線パターンとス
ナップラインの位置との間の配線パターンの非形成部分
の面積が広い場合には、この間の非形成部分にダミーパ
ターンを形成することで上記積層焼成体の配線パターン
部分と配線パターンの非形成部分との間の密度の差の発
生を抑制することができる。この結果、グリーンシート
積層体を焼成して形成された積層焼成体においてスナッ
プラインの両側の密度が均一となり、平滑な破断面が得
られるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】配線パターン及びダミーパターンが印刷された
複数枚のグリーンシートを積層してグリーンシート積層
体を形成する方法を説明するための斜視図である。
【図2】グリーンシート積層体の平面図である。
【図3】積層焼成体の平面図である。
【図4】図3のIV−IV線断面図である。
【図5】積層焼成体をスナップラインの位置で破断した
状態を示す要部断面図である。
【図6】本発明の他の実施例を説明するための平面図で
ある。
【図7】図6のVII−VII線断面図である。
【図8】セラミックス多層配線基板を示す全体斜視図で
ある。
【図9】従来のセラミックス多層配線基板の製造方法を
示す図であり、配線パターンが印刷された複数枚のグリ
ーンシートを積層してグリーンシート積層体を形成する
方法を説明するための斜視図である。
【図10】従来のセラミックス多層配線基板の製造方法
におけるグリーンシート積層体の平面図である。
【図11】従来のセラミックス多層配線基板の製造方法
における積層焼成体の平面図である。
【図12】図11のXII−XII線断面図である。
【図13】従来のセラミックス多層配線基板の製造方法
における積層焼成体をスナップラインの位置で破断した
状態を示す要部断面図である。
【符号の説明】
10…セラミックス多層配線基板、20…グリーンシー
ト、21…周縁部、2…配線パターン、10a…グリー
ンシート積層体、30…積層焼成体、40…スナップラ
イン、22,22´…ダミーパターン

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】配線パターンが表面に形成された複数枚の
    グリーンシートを少なくともその内部に積層してグリー
    ンシート積層体を形成し、該グリーンシート積層体を焼
    成して積層焼成体を形成し、該積層焼成体に形成された
    スナップラインの位置で前記積層焼成体を破断してセラ
    ミックス多層配線基板を製造する方法において、 前記配線パターンが表面に形成されたグリーンシート内
    の少なくとも一枚のグリーンシートには、前記スナップ
    ラインを挟んで前記配線パターンの反対側の前記グリー
    ンシートの表面に、ダミーパターンが形成されているこ
    と特徴とするセラミックス多層配線基板の製造方法。
  2. 【請求項2】請求項1記載のセラミックス多層配線基板
    の製造方法において、少なくとも一枚の前記グリーンシ
    ートの前記配線パターンと前記スナップラインの位置と
    の間の前記グリーンシートの表面に、さらに他のダミー
    パターンが形成されていることを特徴とするセラミック
    ス多層配線基板の製造方法。
  3. 【請求項3】配線パターンが表面に形成された複数枚の
    グリーンシートを少なくともその内部に積層してグリー
    ンシート積層体を形成し、該グリーンシート積層体を焼
    成して積層焼成体を形成し、該積層焼成体に形成された
    スナップラインの位置で前記積層焼成体を破断してセラ
    ミックス多層配線基板を製造する方法において、少なく
    とも一枚の前記グリーンシートの前記配線パターンと前
    記スナップラインの位置との間の前記グリーンシートの
    表面に、ダミーパターンが形成されていることを特徴と
    するセラミックス多層配線基板の製造方法。
  4. 【請求項4】複数層の配線パターンが少なくともその内
    部に形成されたセラミックス多層配線基板において、前
    記配線パターンが形成されていない部分にダミーパター
    ンが形成されていることを特徴とするセラミックス多層
    配線基板。
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