JPH07273166A - サブストレートを搬送するための装置 - Google Patents

サブストレートを搬送するための装置

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JPH07273166A
JPH07273166A JP7052875A JP5287595A JPH07273166A JP H07273166 A JPH07273166 A JP H07273166A JP 7052875 A JP7052875 A JP 7052875A JP 5287595 A JP5287595 A JP 5287595A JP H07273166 A JPH07273166 A JP H07273166A
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station
substrate
manipulator
rotary
transport device
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Stefan Kempf
ケンプフ シュテファン
Eggo Sichmann
ジッヒマン エッゴ
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 サブストレートホルダを備えた回転搬送装置
が、２つのアームにそれぞれ１つのグリッパを備えた第
１の２アーム式マニプレータと、２つのアームにそれぞ
れ複数のグリッパを備えた第２の２アーム式マニプレー
タとに協働しており、第２のマニプレータが第２の回転
搬送装置から同時に複数のサブストレートを持ち上げ
て、第２のプロセスステーションへ供給し、それと同時
に第１のマニプレータが、第２の回転搬送装置からそれ
ぞれ１つのサブストレート持ち上げて、第１のプロセス
ステーションに供給し、若しくはその逆に搬送する。 【効果】 装置の操作若しくは未処理サブストレートの
堆積が出発ステーション３の領域内だけで行われ、かつ
最も迅速な処理ステップがサブストレートの流れ速度を
規定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は回転搬送装置として形成
された出発ステーションから複数のプロセスステーショ
ンを介してサブストレートを搬送し、かつこの出発ステ
ーションへ戻し搬送するための装置であって、プロセス
ステーションがそれぞれサブストレートの処理、例えば
被覆、塗装、冷却、検査、及び分別を行い、その際、旋
回可能なグリッパアームを備えたマニプレータと、回転
搬送装置とが、ステーションからステーションへのサブ
ストレートの引き続く搬送を可能ならしめる形式のもの
に関する。
【０００２】
【従来の技術】特に例えば光学的又は磁気光学的なデー
タメモリのようなプラスチック製のディスク状の平たい
サブストレートの自動的な注入、被覆、塗装、検査及び
仕分けのための装置が公知であり（ＤＯＳ４１２７３４
１）、この装置はサブストレートを製造ステーション例
えば射出成形機から処理ステーションへ搬送する少なく
とも１つの搬送装置と、サブストレートを合格品と欠陥
品とに分別して堆積するための堆積ステーションとを備
えており、この装置の特徴とするところは、サブストレ
ート搬送装置が、直線に沿って往復運動する搬送スライ
ダと、この搬送スライダの一方の側に設けられた真空被
覆装置と、搬送スライダの他方の側に配置された堆積装
置と、品質検査のための装置と、搬送スライダの運動方
向で射出成形機に対向して位置する回転搬送装置又は回
転テーブルとを備えており、搬送スライダが、これの両
側に配置されサブストレートホルダを備えたそれぞれ３
つの搬送アームを備えており、堆積装置が、サブストレ
ートの合格品と欠陥品とのためのそれぞれ１つの堆積ス
テーションを備えており、かつ回転搬送装置又は回転テ
ーブルが、その周囲に配置された種々の塗装、乾燥、印
刷、像検査及び位置決め装置を備えており、その場合、
回転テーブルはサブストレートを多数の有利には１９回
の搬送ステップで回転テーブルの回転軸線を中心に円軌
道上を３６０度にわたり運動させ、その際、搬送スライ
ダがその一方の方向での運動時に、その第１のアームで
第１のサブストレートをただ１つの搬送ステップで引き
渡しステーションの受け取りステーションから真空被覆
装置の入口若しくは出口スルースゲートへ搬送し、かつ
それと同時に、搬送アームにより第２のサブストレート
を被覆装置から塗装装置へ、かつ同様に第３のサブスト
レートを塗装装置から回転テーブルへ運動せしめる。こ
の回転テーブルは間欠的に同じリズムで回転し、かつそ
の際、搬送スライダは次の逆方向の運動時に、完成され
たワークを検査ステーションへ、かつ検査済みワークを
検査ステーションから第２の堆積ステーションへ搬送す
る。
【０００３】この公知装置の欠点とするところは、その
作業速度若しくは作業サイクルが、最も遅く作動する作
業ステーション、即ち塗装装置によって規定されてしま
い、従って装置全体の作業能力が限定されてしまうこと
にある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、冒頭
に記載した形式の装置において、公知装置の欠点を回避
すると共に、ただ１つの作業場所において堆積しかつ操
作できるようにすることにある。さらに、本発明装置は
直接的に製造ステーション、例えば射出成形機に結合さ
れなければならないと共に、装置全体を運転停止させる
ことなく、個々のプロセスステーションの保守をも可能
ならしめなければならない。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決した本発
明の構成によれば、サブストレートホルダを備えた少な
くとも１つの回転搬送装置が、２つのアームにそれぞれ
１つのグリッパを備えた第１の２アーム式マニプレータ
と、２つのアームにそれぞれ複数のグリッパを備えた第
２の２アーム式マニプレータとに協働しており、第２の
マニプレータが第２の回転搬送装置から１時期に同時に
複数のサブストレートを持ち上げて、複数のサブストレ
ートを同時に処理するように形成された対応する第２の
プロセスステーションへ供給し、同じ時期に第１のマニ
プレータが、第２の回転搬送装置からその両方のグリッ
パアームの複数の旋回運動でそれぞれ１つのサブストレ
ート持ち上げて、それぞれ１つのサブストレートの処理
のために形成された第１のプロセスステーションに供給
し、若しくはこのプロセスステーションから第２の回転
搬送装置へ戻し搬送するように構成されている。
【０００６】本発明の有利な構成では、被覆のためのプ
ロセスステーション及び塗装のためのプロセスステーシ
ョンに付属する第２の回転搬送装置に、付加的な単アー
ム式マニプレータが協働しており、その１つのアームが
複数のグリッパを備えており、このマニプレータが同時
に複数のサブストレートを第２の回転搬送装置に隣合う
１つの供給回転搬送装置から第２の回転搬送装置へ搬送
し、その際、供給回転搬送装置には単アーム式マニプレ
ータを備えた２つの製造ステーション、有利には２つの
射出成形機からサブストレートが供給され、その際、第
２の回転搬送装置が、仕上げのために第２の回転搬送装
置にサブストレートを供給する単アーム式マニプレータ
を介して出発ステーションと協働している。
【０００７】本発明の詳細及び別の特徴が請求項に記載
されている。
【０００８】本発明では種々の実施例が可能である。次
に２つの実施例を図面に示して詳しく説明する。
【０００９】
【実施例】詳しくは図示しない射出成形機から供給され
たサブストレート９，９′，．．．は図１に示す実施例
ではディスク状の平らなプラスチック板の形態で、出発
ステーションを形成している第１の回転搬送装置３上に
載せられ、この回転搬送装置により時計回りに間欠的に
マニプレータ１４のアーム１９の作業範囲内に搬送され
る。マニプレータ１４はサブストレートを上方からつか
み、これをサブストレートホルダ２４，２４′，，，か
ら持ち上げてこのサブストレートをマニプレータ１４の
回転軸線Ｓを中心とする旋回運動で回転搬送装置２０ま
で搬送してこのサブストレートを対応するサブストレー
トホルダ２２，２２′，．．．に載せる。回転搬送装置
２０はこのサブストレートを間欠的にマニプレータ１１
のグリッパアーム１６，１６′，．．．まで搬送する。
その場合、各搬送ステップはほぼ５１．４の角度の角運
動に相応している。他面において回転搬送装置３の各搬
送ステップの角運動は３０度である。マニプレータ１１
のグリッパアームはサブストレートを被覆のためのプロ
セスステーション４の入口／出口スルースゲート上に載
せる。このスルースゲートからサブストレートは被覆の
ためのプロセスステーションのプロセス室内に搬送され
る（この作業過程はＤＥ３７１６４９０特許明細書に記
載されている）。被覆のためのプロセスステーションの
サイクル時間が比較的に極めて短いため、マニプレータ
１１のグリッパアーム１６′はスルースゲートに準備さ
れているすでに述べたサブストレートを、他方のグリッ
パアーム１６が第２の回転搬送装置２０からサブストレ
ートを受けとるのと同じ瞬間に受け取る。その際、第２
の回転搬送装置２０から被覆のためのプロセスステーシ
ョン４へ搬送されたサブストレートの載着の瞬間に、逆
方向に搬送されてきたサブストレートが第２の回転搬送
装置２０上に載着される。第１のマニプレータ１１が都
合２つのサブストレートを回転搬送装置２０上に相次い
で載着した後、第２のマニプレータ１０が作動し、その
際、そのアーム１５′が同時に２つのサブストレートを
受け取り、次いで第２のプロセスステーション、要する
に塗装のためのプロセスステーション５へ搬送し、この
場所に載着する。この塗装のためのプロセスステーショ
ン５には塗装装置が設けられており、この塗装装置は同
時に２つのサブストレートを塗装するように形成されて
いる。その場合、塗装過程に必要な時間はプロセスステ
ーション４における被覆過程の２倍である。
【００１０】グリッパアーム１５′が時計回りに運動す
るあいだ、グリッパアーム１５は同時に２つのサブスト
レートを第３の回転搬送装置２１へ搬送してこの場所に
載せる。回転搬送装置２１は第２の回転搬送装置２０と
同じリズムで時計回りに回転し、サブストレートを１つ
１つ第３のプロセスステーション、要するに乾燥のため
のプロセスステーション６へ運動せしめ、このプロセス
ステーションではサブストレートの塗装後の乾燥が行わ
れる。４つのグリッパアーム１７，１７′，１７′′，
１７′′′を備えた第３のマニプレータ１２は第１のマ
ニプレータ１１と同じ周期で作動し、１つのサブストレ
ートを逆時計回りに第１の運動ステップで第３の回転搬
送装置２１から第４のプロセスステーション、要するに
品質検査のためのプロセスステーション７へ搬送する。
この第４のプロセスステーションでは、サブストレート
が品質検査される。次いでサブストレートは第４のプロ
セスステーションから第２の運動ステップで第５のプロ
セスステーション、要するに冷却のためのプロセスステ
ーション８に設けられたサブストレート冷却装置に搬送
され、次いで第３の運動ステップで第５のプロセスステ
ーション８から待機位置Ｗへ、かつ第４の運動ステップ
で第３の回転搬送装置２１へ戻され、この場所にサブス
トレートが載せられる。次いでサブストレートは回転搬
送装置２１から時計回りで第４のマニプレータ１３の作
用範囲内に搬送される。第４のマニプレータ１３はグリ
ッパアーム１８を１つだけ備えており、このマニプレー
タ１３の鉛直な回転軸線Ｓ′′′は、第１の回転搬送装
置３の最も近くに位置する２つのサブストレートホルダ
に対してそれぞれ同じ間隔を有しており、かつ同様に欠
陥サブストレートのための集積ステーション２７のサブ
ストレートパイル２８に対しても同じ間隔を有してお
り、さらに、第３の回転搬送装置２１の最も近くに位置
するサブストレートホルダに対しても同じ間隔を有して
いる。第４のマニプレータ１３は要するに、サブストレ
ートを第３の回転搬送装置２１から集積ステーション２
７又はこの集積ステーションから第１の回転搬送装置３
へ搬送することのできる位置に在り、選択的に２つのサ
ブストレートホルダのいずれか一方にサブストレートを
載せることができる。
【００１１】水平方向の回転軸線Ｓを備えた第５のマニ
プレータ１４は第１の回転搬送装置３上に位置するサブ
ストレートを反転せしめる。そのことのために、グリッ
パアーム１９はサブストレートホルダー２２，２
２′，．．．の平面を越えて下向きに没入することがで
き、それゆえ、回転する回転搬送装置２０はその半径方
向外側の領域に切欠２６，２６′を備えている。
【００１２】図１に記載した形式の装置を直接的に製造
ステーション、例えば射出成形機３１，３２（図２参
照）に結合することができるように、（ゆっくり作動す
る）射出成形機３１，３２は１つの共通の供給回転搬送
装置３０と付加的な単アーム式マニプレータ２８とを介
して第２の回転搬送装置２０に結合される。その場合に
はマニプレータ１４は遮断される。射出成形機３１，３
２の運転障害時でもサブストレートの処理過程を続行す
ることができる。この場合にはマニプレータ１４を接続
する必要があり、処理すべきサブストレートがサブスト
レートホルダ２４，２４′，．．．に供給される必要が
ある。
【００１３】さらに、供給回転搬送装置３０と第２の回
転搬送装置２０との間に待機ステーション３９若しくは
パイルステーションが配置されている。この待機ステー
ションは、例えばプロセスステーション４，５，６，
８，２７での保守作業時に射出成形機３１，３２を継続
運転させるのに役立てられ、その際、両方の射出成形機
により生産されたサブストレートはグリッパアーム２９
によりステーション３９まで搬送されてその場所で堆積
される。
【００１４】図１に示す装置に対するこの装置の別の相
違点は、マニプレータ１３′のグリッパアーム１８′が
２つのサブストレートホルダを備えており、かつ集積ス
テーション２７′が全体で４つのサブストレート受容部
を備えていることにある。さらに、出発ステーション３
の回転搬送装置３′に、サブストレートホルダ３７，３
７′を備えた別の１つの出発ステーション３′′が対応
して配置されており、これにより、グリッパアーム１
８′は２つのサブストレートを同時に載せることがで
き、それも両方のサブストレートを同時に回転搬送装置
３′又は回転搬送装置３′′に載せるか、又は同時に一
方のサブストレートを一方の回転搬送装置３′に、他方
のサブストレートを他方の回転搬送装置３′′に載せる
ことができる。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明装置の主た
る利点とするところは、装置の操作若しくは未だ処理さ
れていないサブストレートの貯蔵並びに未処理のサブス
トレートのスタックが出発ステーション即ち回転搬送装
置３の領域内だけで行われることにあり、換言すれば本
装置は運転中この領域だけから自由に操作可能であるこ
とにある。別の利点は、サブストレートの連続的な特に
迅速かつ均一な流れ若しくは搬送ができることにあり、
しかもその場合、本装置は最も迅速な処理ステップがサ
ブストレートの流れの速度を規定するように構成されか
つ規定される。
【図面の簡単な説明】
【図１】２つのＣＤ製造装置としての本発明装置の第１
実施例の略示図である。
【図２】サブストレートの製造のための２つの射出成形
機と１つのパイルステーションとを備えた実施例の略示
図である。
【符号の説明】 ３，３′，３′′ 第１の回転搬送装置（出発ステーシ
ョン）、 ４ 被覆のためのプロセスステーション、
５ 塗装のためのプロセスステーション、 ６乾燥のた
めのプロセスステーション、 ７ 品質検査のためのプ
ロセスステーション、 ８ 冷却のためのプロセスステ
ーション、 ９，９′，．．． サブストレート、 １
０，１２，１２，１３，１３′，１４ マニプレータ、
１５，１５′，１６，１６′，１７，１７′，１８，
１８′，１９ グリッパアーム、 ２０ 第２の回転搬
送装置、 ２１ 第３の回転搬送装置、 ２２，２
２′，．．．サブストレートホルダ、 ２３，２
３′，．．． サブストレートホルダ、 ２４，２
４′，．．． サブストレートホルダ、 ２５ 半径方
向外側の縁部、 ２６，２６′，．．． 切欠、 ２
７，２７′ 集積ステーション、２８ マニプレータ、
２９ グリッパアーム、 ３０，３０′，３０′′
供給回転搬送装置、 ３１，３２ 射出成形機、 ３
３，３４ グリッパアーム、３５，３６ マニプレー
タ、 ３７，３７′，．．． サブストレートホルダ、
３８，３８′，．．． サブストレートホルダ、 ３
９ 待機ステーション、 ４０，４０′ サブストレー
トホルダ、 Ｗ 待機位置

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 回転搬送装置として形成された出発ステ
    ーション（３）から複数のプロセスステーション（４，
    ５，６，７，８）を介してサブストレートを搬送し、か
    つこの出発ステーション（３）へ戻し搬送するための装
    置であって、プロセスステーション（４，５，６，７，
    ８）がそれぞれサブストレートの処理を行い、その際、
    旋回可能なグリッパアーム（１５，１５′，１６，１
    ６′，１７，１７′，１７′′，７′′′，１８，１
    ８′，１９）を備えたマニプレータ（１０，１１，１
    ２，１３，１４）と、回転搬送装置とが、ステーション
    からステーションへのサブストレートの引き続く搬送を
    可能ならしめる形式のものにおいて、サブストレートホ
    ルダ（２２，２２′，．．．）を備えた少なくとも１つ
    の回転搬送装置（２０）が、２つのアーム（１６，１
    ６′）にそれぞれ１つのグリッパを備えた第１の２アー
    ム式マニプレータ（１１）と、２つのアーム（１５，１
    ５′）にそれぞれ複数のグリッパを備えた第２の２アー
    ム式マニプレータ（１０）とに協働しており、第２のマ
    ニプレータ（１０）が第２の回転搬送装置（２０）から
    １時期に同時に複数のサブストレート（９，
    ９′，．．．）を持ち上げて、複数のサブストレートを
    同時に処理するように形成された対応する第２のプロセ
    スステーション（５）へ供給し、同じ時期に第１のマニ
    プレータ（１１）が、第２の回転搬送装置（２０）から
    その両方のグリッパアーム（１６，１６′）の複数の旋
    回運動でそれぞれ１つのサブストレート（９，
    ９′，．．．）持ち上げて、それぞれ１つのサブストレ
    ートの処理のために形成された第１のプロセスステーシ
    ョン（４）に供給し、若しくはこのプロセスステーショ
    ン（４）から第２の回転搬送装置（２０）へ戻し搬送す
    るように構成されていることを特徴とするサブストレー
    トを搬送するための装置。
  2. 【請求項２】 回転搬送装置として作動する出発ステー
    ション（３）に、第２の回転搬送装置（２０）が隣合っ
    て配置されており、１つのマニプレータ（１４）が両方
    の回転搬送装置（３，２０）の間のスペース内に配置さ
    れており、このマニプレータのただ１つのグリッパアー
    ム（１９）が１時期に水平な旋回軸線（Ｓ）を中心とし
    て複数の旋回運動を行なって、サブストレート（９，
    ９′，．．．）を出発ステーション（３）から第２の回
    転搬送装置（２０）へ搬送し、このことのために、第２
    の回転搬送装置（２０）の回転テーブルの半径方向外側
    の縁部（２５）がグリッパアーム（１９）の貫通のため
    の切欠（２６，２６′，．．．）を備えている請求項１
    記載の装置。
  3. 【請求項３】 第２のマニプレータ（１０）のグリッパ
    アーム（１５，１５′）の旋回範囲内に１つのプロセス
    ステーション（５）と２つの回転搬送装置（２０，２
    １）とが配置されており、グリッパアーム（１５，１
    ５′）がその鉛直な旋回軸線（Ｓ′）を中心として運動
    し、この運動により一方のグリッパアーム（１５′）に
    より２つのサブストレート（９，９′，．．．）を同時
    に第２の回転搬送装置（２０）からプロセスステーショ
    ン（５）へ搬送することが可能であり、かつ他方のグリ
    ッパアーム（１５）により２つの別のサブストレート
    （９，．．．）をプロセスステーション（５）から第３
    の回転搬送装置（２１）へ搬送することが可能であり、
    この第３の回転搬送装置が第３のプロセスステーション
    （６）の作業範囲内と第３のマニプレータ（１２）のア
    クセス可能範囲内に位置しており、この第３のマニプレ
    ータが４つのグリッパアーム（１７，１７′，１
    ７′′，１７′′′）を備えており、かつ鉛直軸線
    （Ｓ′′）を中心とする逆時計回りの旋回運動時に、そ
    れぞれ１つの第１のサブストレート（９，．．．）を第
    ３の回転搬送装置（２１）から第４のプロセスステーシ
    ョン（７）へ、かつ同時に第４のプロセスステーション
    （７）から第２のサブストレート（９，．．．）を第５
    のプロセスステーション（８）へ、かつ同時に第５のプ
    ロセスステーション（８）から第３のサブストレート
    （９，．．．）を待機位置（Ｗ）へ搬送し、かつ同時に
    この待機位置（Ｗ）から第４のサブストレート
    （９，．．．）を第３の回転搬送装置（２１）へ戻し搬
    送するように構成されている請求項２記載の装置。
  4. 【請求項４】 第３の回転搬送装置（２１）と出発ステ
    ーション（３）との間のスペース内に第４のマニプレー
    タ（１３）が配置されており、鉛直軸線（Ｓ′′′）を
    中心として旋回可能なその１つのグリッパアーム（１
    ８）が１旋回運動中に１つのサブストレート
    （９，．．．）を第３の回転搬送装置（２１）から、欠
    陥のあるサブストレート又は合格品としてのサブストレ
    ートのために旋回範囲内に設けられた１つの集積ステー
    ション（２７）へ搬送するように構成されている請求項
    １から３までのいずれか１項記載の装置。
  5. 【請求項５】 第２及び第３の回転搬送装置（２０，２
    １）がそれぞれ７つのサブストレートホルダ（２２，２
    ２′，．．．）を備えており、出発ステーション（３）
    がそれよりも多い数のサブストレートホルダ（２
    ２，．．．）を備えている請求項１から４までのいずれ
    か１項記載の装置。
  6. 【請求項６】 出発ステーション（３）を形成する回転
    搬送装置及び第２の回転搬送装置（２０）及び第３の回
    転搬送装置（２１）若しくはそれらの回転テーブルが時
    計回りに回転し、その場合、第２及び第３の回転搬送装
    置の回転速度が同じである請求項１から５までのいずれ
    か１項記載の装置。
  7. 【請求項７】 第１のマニプレータ（１１）のグリッパ
    アーム（１６，１６′）の旋回運動の数、及び第３のマ
    ニプレータ（１２）のグリッパアーム（１７，１７′，
    １７′′，１７′′′）の旋回運動の数、及び第４のマ
    ニプレータ（１３）のグリッパアーム（１８）の旋回運
    動の数、及び第５のマニプレータ（１４）のグリッパア
    ーム（１９）の旋回運動の数がそれぞれ第２のマニプレ
    ータ（１０）のグリッパアーム（１５，１５′）の旋回
    運動の数の２倍である請求項１から６までのいずれか１
    項記載の装置。
  8. 【請求項８】 回転搬送装置として形成された出発ステ
    ーション（３）から複数のプロセスステーション（４，
    ５，６，７，８）を介してサブストレートを搬送し、か
    つこの出発ステーション（３）へ戻し搬送するための装
    置であって、プロセスステーション（４，５，６，７，
    ８）がそれぞれサブストレートの処理を行い、その際、
    旋回可能なグリッパアーム（１５，１５′，１６，１
    ６′，１７，１７′，１７′′，７′′′，１８，１
    ８′，１９）を備えたマニプレータ（１０，１１，１
    ２，１３，１４）と、回転搬送装置とが、ステーション
    からステーションへのサブストレートの引き続く搬送を
    可能ならしめるようになっており、サブストレートホル
    ダ（２２，２２′，．．）を備えた第２の回転搬送装置
    （２０）が設けられており、この回転搬送装置が、２つ
    のアーム（１６，１６′）にそれぞれ１つのグリッパを
    備えた第１の２アーム式マニプレータ（１１）と、２つ
    のアーム（１５，１５′）にそれぞれ複数のグリッパを
    備えた第２の２アーム式マニプレータとに協働している
    形式のものにおいて、被覆のためのプロセスステーショ
    ン（４）及び塗装のためのプロセスステーション（５）
    に対応して配置された第２の回転テーブル装置（２０）
    に付加的に単アーム式マニプレータ（２８）が協働して
    おり、その１つのアーム（２９）が複数のグリッパ（２
    ６，２６′）を備えており、かつこのアームが、同時に
    複数のサブストレート（９，９′，．．．）を、第２の
    回転搬送装置（２０）に隣合う供給回転搬送装置（３
    ０）から第２の回転搬送装置（２０）へ搬送し、この供
    給回転搬送装置（３０）には２つの製造ステーションか
    らサブストレート（９，９′，．．．）が供給され、こ
    の両方の製造ステーションが単アーム式マニプレータ
    （３５，３６）を備えており、かつ、第２の回転搬送装
    置（２０）が単アーム式マニプレータ（１４）を介して
    出発ステーション（３）と協働しており、このマニプレ
    ータが仕上げ処理の目的でサブストレート（９，
    ９′，．．．）を第２の回転搬送装置（２０）に供給す
    るように構成されていることを特徴とするサブストレー
    トを搬送するための装置。
  9. 【請求項９】 両方のサブストレート製造装置に対応し
    て配置された供給回転搬送装置（３０）の他に１つの待
    機ステーション（３９）が配置されており、そのサブス
    トレートホルダ（４０，４０′）がサブストレートの中
    間貯蔵に役立てられており、この待機ステーション（３
    ９）のサブストレートホルダ（４０，４０′）がマニプ
    レータのアーム（２９）の旋回範囲内に位置しており、
    このアームが第２の回転搬送装置（２０）のサブストレ
    ートホルダ（２２，２２′，．．．）にアクセス可能で
    ある請求項８記載の装置。
  10. 【請求項１０】 出発ステーション（３）が２つの回転
    搬送装置（３′，３′′）から形成されており、両方の
    サブストレートホルダ（３７，３７′，．．若しくは２
    ４，２４′，．．．）が、第３の回転搬送装置（２１）
    及び集積ステーションにアクセス可能であるマニプレー
    タ（１３′）のアクセス可能範囲内に配置されている請
    求項８記載の装置。
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