JP2003510812A - 基板を供給しかつ排出する装置 - Google Patents

基板を供給しかつ排出する装置

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JP2003510812A JP2001525753A JP2001525753A JP2003510812A JP 2003510812 A JP2003510812 A JP 2003510812A JP 2001525753 A JP2001525753 A JP 2001525753A JP 2001525753 A JP2001525753 A JP 2001525753A JP 2003510812 A JP2003510812 A JP 2003510812A
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ヴェーバー クラウス
ゼマン マルティン
カリス ユルゲン
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Steag Hamatech AG
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Abstract

(57)【要約】 基板（１；１ａ；１ｂ）を供給しかつ排出する装置であって、基板を直線的に搬送するための搬送装置（３；３ａ；３ｂ）と、基板を搬送装置（３；３ａ；３ｂ）と少なくとも１つのプロセスステーション（６ＡからＤ、７ＡからＤ、８０ＡからＨ）との間で搬送するための回転可能な操作装置（４，５；４ａ）とを有する形式のものを改良してコンポーネントの数及び所要スペースを減じるために、搬送装置（３；３ａ；３ｂ）が少なくとも２つのプロセスステーション（６ＡからＤ、７ＡからＤ、８０ＡからＨ）の間にかつ少なくとも１つの操作装置（４，５；４ａ）が搬送装置（３；３ａ；３ｂ）の上方に配置されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は基板を供給しかつ排出するための装置であって、基板を直線的に搬送
するための搬送装置と基板を搬送装置と少なくとも１つのプロセスステーション
との間で搬送するための少なくとも１つの回転可能な操作装置とを有している形
式のものに関する。
【０００２】 前記形式の基板を供給しかつ排出する装置は例えば、基板を処理するための設
備にて、特に基板をニス掛けもしくはコーティングする設備にて公知である。そ
こでは基板、例えばＣＤ／ＣＤ−Ｒ／ＤＶＤと他のデータメモリもしくはデータ
担体は、ニス掛けもしくはコーティングのために、第１の操作装置で供給装置か
ら取出されかつプロセスステーション、例えばニス掛けステーションへ供給され
る。処理後、基板は再び第２の操作装置によって受取られかつ排出する装置へ供
給されるかもしくは他のプロセスステーションへ供給される。
【０００３】 ＵＳ−Ａ−４８２４３０９号明細書によれば真空前室と緩衝室とプロセス室と
を有する真空プロセスユニットが公知である。このユニットは緩衝室における第
１のウェハ保持体並びにウェハを真空前室から緩衝室内の第１のウェハ保持体へ
搬送するための第２のウェハ保持体を有している。さらにウェハを第１のウェハ
保持体からプロセス室へ搬送する第３のウェハ保持体が設けられている。この場
合、第２と第３のウェハ保持体は搬送ベルトを有している。
【０００４】 Ｌｅｙｂｏｌｄ社のＳｐｅｅｄｌｉｎｅ Ｐｒｏｓｐｅｋｔ ２／９７、ペー
ジ６から９までにはＣＤを製造するための種々のプロセスユニットが１つの設備
に統合されている統合されたＣＤ製造装置が開示されている。ＣＤを形成するエ
レメントを搬送するためには搬送ベルトも機械的なグリッパも使用されている。
【０００５】 ＤＥ−Ｃ−１９７２２４０８号明細書には２つの分離した搬送区間の上で基板
を別々に搬送する装置と方法であって、２つの供給ステーションと少なくとも２
つのプロセスステーションと２つの放出ステーションとが使用されているものが
示されている。基板を搬送するための１つの搬送装置は１つの回転軸線を中心と
して第１の角度だけ回転可能でかつ回転軸線を中心とした円弧の上に所定の角度
間隔をおいて配置された少なくとも２つのグリッパを有している。２つの供給ス
テーションの間、２つのプロセスステーションの間及び２つの放出ステーション
の間の角度間隔はそれぞれ所定の角度間隔と同じでかつ第１の角度は前記所定の
角度よりは大きい。
【０００６】 ＤＥ−Ｃ−４１２７３４１号明細書によれば、１つの工作物にて種々のプロセ
スを実施するための装置が公知である。工作物は、直線的に運動可能な搬送往復
台であって、該搬送往復台の両側に配置されたそれぞれ３つの搬送アームを備え
た搬送往復台を介して、円形送りテーブルへ向かってかつ該円形送りテーブルか
ら外へ搬送される。円形送りテーブルは工作物を種々のプロセスステーションへ
供給する。
【０００７】 さらにＵＳ−Ａ−５７００１２７号明細書には種々のプロセスユニットを有す
る基板処理装置が示されている。基板は種々のプロセスステーションへ操作装置
を介して供給されかつ該プロセスステーションから取出される。操作装置はｘ，
ｙ及びｚ方向に直線的に運動可能でかつｚ軸線を中心として回転可能である基板
グリッパを有している。
【０００８】 このような装置においてはプロセスステーション供給及び排出のためには別個
の操作装置並びに別個の供給及び排出装置が設けられている。これにより装置コ
ンポーネントのための所要スペースが大きくなり、特に清浄空間環境に高い費用
をもたらす。
【０００９】 このような公知の装置から出発して、本発明の装置は、コンポーネントの数が
少なくかつ所要スペースがわずかである費用的に好ましい装置を設けることであ
る。
【００１０】 この課題は搬送装置が少なくとも２つのプロセスステーションの間にかつ少な
くとも１つの操作装置が搬送装置の上方に配置されていることによって解決され
た。搬送装置を少なくとも２つのプロセスステーションの間に配置することは、
搬送装置の上方に配置された回転可能な操作装置によって複数のプロセスステー
ションがわずかな所要スペースで供給されることができるという利点を有してい
る。
【００１１】 本発明の有利な構成では操作装置の回転点は搬送装置の中心軸線の上に位置し
ている。有利な形式で操作装置は１つの円上に配置された複数の受容装置を基板
のために有している。この受容装置は有利には前記円の上に等間隔をおいて配置
されている。これは操作装置の回転運動によって複数のプロセスステーションの
簡単な供給と排出とを可能にする円対称をもたらす。
【００１２】 プロセスステーションが基板の加工中に覆われないことを可能にするためにか
つ媒体のけん引が回避されるようにするためには、受容体は有利には操作装置の
半径方向のアームに配置されて、該アームの間に空間が与えられている。
【００１３】 有利には直線的な搬送装置は有利には供給ステーションと排出ステーションと
の間に延在する搬送ベルトである。これは、基板を供給しかつ排出するために別
個の搬送ベルトしか必要ではなくなり、これによって必要なコンポーネントの数
が減少するという利点をもたらす。
【００１４】 特に有利な実施例によれば搬送ベルトは基板の確実な保持と規定された位置決
めとのために保持体を有している。この場合には保持体が搬送ベルトの運動方向
で等間隔をおいて配置され、変わらない運動インターバルを与えることで搬送ベ
ルトの制御が簡易化されていると有利である。操作装置に対称性を与えるために
は、保持体は搬送ベルトの中心軸線の上に又は少なくとも２つの保持体が搬送ベ
ルトの中心軸線の上に配置されている。これは操作装置の制御を簡易化する。
【００１５】 特に有利であることは複数の基板の受容もしくは排出を同時に可能にするため
に基板の供給と排出を行なう少なくとも２つの保持体を前記円の上に配置するこ
とである。
【００１６】 有利な実施例ではプロセスステーションの受容中心点が前記円の上に、有利に
は該円の直径方向で向き合って対を成して配置されている。
【００１７】 この場合、プロセスステーションは有利には対偶内で同じタイプのものである
。これは装置の対称性を高めかつ操作装置の制御を簡易化する。
【００１８】 特に有利であることは前記円の上で隣り合って配置されたプロセスステーショ
ンが同じ駆動装置を備えることである。これによって必要とされる駆動装置の数
、ひいては駆動装置に関連した費用が減じられる。
【００１９】 有利には操作装置の受容装置の数は前記円の上に配置された保持体とプロセス
ステーションとの数に相応している。これは前記円の上のすべてのプロセスステ
ーションと保持体とを一作業過程で効果的に供給しかつ排出することを可能にす
る。この場合には有利には供給及び排出に際してすべての受容体が搬送装置の保
持体の上に配置されるか又はプロセスステーションの受容点の上に配置されてい
る。
【００２０】 有利な実施例によれば操作装置の受容装置を同時に開閉する制御装置が設けら
れ、基板が同時に保持体とプロセスステーションから受容されるかもしくは保持
体とプロセスステーションに排出されるようになっている。
【００２１】 以下、図面に基づき本発明の有利な実施例を説明する。
【００２２】 図１にはＣＤを加工するための設備が示されている。設備１は本発明による基
板を供給しかつ排出する装置２の第１実施例を有している。該装置２は１つの直
線的な搬送装置３と２つの操作装置４，５とを有している。さらに設備１は８つ
のプロセスステーション６ＡからＤと７ＡからＤを有し、これらのプロセスステ
ーションの上でＣＤが加工される。設備１は例えばミネラル鋳造ブロックである
基体もしくは保持体８の上に配置されている。
【００２３】 操作装置４とプロセスステーション６ＡからＤと直線的な搬送装置３は一緒に
なって設備１の第１のグループを形成する。さらに操作装置５とプロセスステー
ション７ＡからＤは前記直線的な搬送装置３と一緒になって設備１の第１のグル
ープに相当する第２のグループを形成する。第１と第２のグループは共通に前記
搬送装置３を使用している。
【００２４】 第１実施例の装置２の直線的な搬送装置３は軌道１４に沿って走行する搬送ベ
ルト１３を有している。搬送ベルト１３は搬送装置３の偏向端部１５，１６にて
アイドルローラ１７もしくは駆動ローラ１８に支承されている。直線的な搬送装
置３の端部１６には駆動装置１９が設けられている。駆動装置１９は図示されて
いない適当な制御装置を備えたサーボモータであって、搬送ベルト１３を搬送す
るために駆動ローラ１８を駆動する。
【００２５】 直線的な搬送装置３は中心軸線２０を有し、該中心軸線２０は同時に搬送ベル
ト１３の中心軸線でもある。
【００２６】 搬送ベルト１３には図示されていないＣＤのための保持体が配置されている。
図１には８つの保持体２１から２８が示されている。保持体２１から２８は搬送
ベルト１３の中心軸線２０の上に等間隔をおいて配置されている。
【００２７】 搬送装置３の偏向端部１５，１６に隣り合って、ＣＤを供給しかつ排出するた
めの図示されていない操作装置が存在している。図１ではＣＤは偏向端部１５に
て搬送ベルト１３の上へ、適当な図示されていない操作装置によって供給されか
つ偏向端部１６にて加工後に別の図示されていない操作装置で再び取出される。
【００２８】 操作装置４，５は適当な駆動装置を介して回転可能にかつ高さ調節可能にかつ
搬送ベルト１３の上に上から保持されて配置されている。操作装置４，５はほぼ
同じであるので、以後は操作装置４についてだけ記述する。
【００２９】 操作装置４の回転軸線は円４１の中心点４０を通って延びている。操作装置４
の回転軸は直線的な搬送装置３の中心線２０に垂直に位置している。操作装置４
はそれぞれ６つの受容装置もしくは受容体４２から４７を有している。これらの
受容装置もしくは受容体４２から４７は半径方向に延びる６つのアーム４８から
５３の上に配置されている。受容体４２から４７は例えば開放及び閉鎖によって
ＣＤを受容しかつ再び放出するために適し、そのために図示されていない制御装
置により適当に制御される。
【００３０】 図１から判るように操作装置４の受容体４２から４８は円４１の上にありかつ
円４１の上に等間隔をおいて配置されている。６つの受容体４２から４７はそれ
ぞれα＝６０゜の角度で円４１に設けられている。
【００３１】 プロセスステーション６Ａから６Ｄもしくは７Ａから７Ｄは、冒頭で既に述べ
たように両方の操作装置４もしくは５に配属されている。この理由から以後はプ
ロセスステーション６ＡからＤについてだけ記載する。この場合には相応するこ
とは操作装置５と関連したプロセスステーション７ＡからＤにも当嵌まる。
【００３２】 プロセスステーション６Ａと６Ｃはターンテーブルと旋回可能なニス掛けノズ
ルとを有するニス掛けステーションである。さらにプロセスステーション６Ａと
６Ｃは、処理しようとするＣＤのために受容中心点６０Ａと６０Ｃを有する受容
体を有している。プロセスステーション６Ｂと６Ｄはターンテーブルと、ＣＤの
縁をニス掛けのあとで掃除するための縁掻取部材とを有する縁掃除器もしくはエ
ッジクリーナである。プロセスステーション６Ｂと６Ｄは同様にプロセスステー
ションの上にＣＤを受容するために、受容中心点６０Ｂと６０Ｄを有する受容体
を有している。
【００３３】 受容中心点６０Ａから６Ｄは円４１の上に配置されておりかつ円４１の上で対
偶を成して直径方向で向き合っている。このようにして受容中心点６０Ａ及び６
Ｃもしくは受容中心点６０Ｂ及び６０Ｄはそれぞれ１つの対偶を成す。
【００３４】 円４１の上で直径方向で向き合ったプロセスステーションは同タイプのもので
ある。プロセスステーション６Ａ及び６Ｃはそれぞれニス掛けステーションで、
プロセスステーション６Ｂ及び６Ｄはそれぞれ縁掃除ステーションである。
【００３５】 受容中心点６０Ａから６０Ｄは、円の上ですぐ隣り合っているプロセスステー
ションの受容中心点がα＝６０゜の角度の間隔を有しかつ受容中心点がそれぞれ
、円４１と搬送装置の中心軸線２０の交点に対し、同様にα＝６０゜の間隔をお
くように配置されている。
【００３６】 設備１の第１と第２のグループの円４１，６６の中心点４０，６５は直線的な
搬送装置３の上にある隣り合った保持体の間の間隔ｄの３倍の間隔を有している
。両方の円４１と６６の直径は同じであり、搬送ベルト１３の上で隣り合う保持
体の間の間隔ｄの２倍に相応している。
【００３７】 設備１は所定数のプロセスステーションと共に示されているが、これは単なる
例であってかつ変えることができる。さらにプロセスステーションはニス掛け及
び縁掃除ステーションである必要はなく、他のプロセスを実施することもできる
。さらに異なるプロセスを実施することもできる。さらにＣＤの代りに他の基板
を処理することもできる。
【００３８】 図２には別の第３の操作装置を有する設備１ｂの第２実施例が示されている。
この第３の操作装置は図１の第１実施例の操作装置４と５とに相当する。第３の
操作装置は同様に搬送装置３ｂの上に配置されている。この搬送装置３ｂは第１
実施例の直線的な搬送装置３に比較して長く構成されている。第３の操作装置の
回転軸線は搬送装置３ｂの中心軸線２０ｂの上に垂直に位置している。第３の操
作装置は別の４つのプロセスステーションと共に設備１ｂの第３のグループを形
成する。この場合、４つのプロセスステーションは２つのニス掛けステーション
と２つの縁掃除ステーションである。
【００３９】 プロセスステーションのＣＤ受容体の受容中心点並びに各グループの操作装置
の受容体は、搬送装置３ｂの中心軸線２０ｂの上に中心点が配置されかつ該中心
点が操作装置の回転軸線と合致している各円の上に配置されている（図２参照）
。
【００４０】 各円の直径は同じである。図２の実施例では前記円の直径は搬送装置３ｂの隣
り合った保持体２１ｂから３６Ｂの間の間隔ｄの３倍である。隣り合った前記円
の中心点は搬送装置３ｂの中心軸線２０ｂの上に、搬送装置３ｂの隣り合った２
つの保持体の間の間隔ｄの４倍に相当する間隔をおいて位置している。
【００４１】 後で設備１もしくは１ｂの有利な運転形式についての説明と関連して説明する
ように、第１実施例と第２実施例とは、搬送装置３もしくは３ｂの保持体にＣＤ
を供給することに関しても異なっている。
【００４２】 図３には本発明による装置２ａの第３実施例を有する設備１ａが示されている
。前記装置２ａは直線的な搬送装置３ａと回転可能な操作装置４ａとを有してい
る。さらに設備１ａはプロセスステーション８０ＡからＨを有している。
【００４３】 直線的な搬送装置１ａは搬送ベルト１３ａが配置されている軌道１４ａを有し
ている。すでに第１実施例の搬送ベルト１３のために記述したように、搬送ベル
ト１３ａも直線的な搬送装置３ａの２つの偏向端部１５ａと１６ａとの間に延在
しかつ偏向端部１６ａにおける駆動ローラ１８ａを用いて、適当な駆動装置１９
ａ、例えば制御されたサーボモータによって駆動される。
【００４４】 搬送装置３ａは搬送ベルト１３ａの中心軸線でもある中心軸線２０ａを有して
いる。搬送ベルト１３ａの上にはＣＤのための保持体が配置されている。図３に
おいては保持体２１ａから２８ａまでが示されている。保持体は対を成して中心
軸線に対し対称的に配置されている。例えば保持体２１ａと２８ａ又は保持体２
２ａと２７ａは中心軸線２０ａに対し対称的な対偶を成している。
【００４５】 操作装置４ａは適当な駆動装置を介して回転可能にも高さ調節可能にも、搬送
ベルト１３ａの上から保持されている。操作装置４ａの回転軸線は直線的な搬送
装置３ａの中心軸線２０ａの上に垂直に位置している。操作装置４ａは１２の受
容体４００ａから４１１ａを相応する、半径方向に延びるアーム４２０ａから４
３１ａに有している。受容体４００ａから４１１ａはＣＤを受容しかつ供給する
ために役立ち、そのために図示されていない制御装置によって適当に制御される
。
【００４６】 図３に示すように受容体４００ａから４１１ａは円４１ａの上に配置されてい
る。この場合、回転可能な操作装置４ａの回転軸線は円４１ａの中心点４０ａを
通って延びている。受容体４００ａから４１１ａは前記円４１ａの上でα＝３０
゜の角度の間隔を相互において配置されている。
【００４７】 円４１ａの直径は、装置２ａが図３に示された位置にあるときに搬送ベルト１
３ａの上の中心軸線２０ａに対して対称的な、全部で２つの保持体対が円４１ａ
の上に位置するように設定されている。具体的にはこれは図３においては保持体
対２３ａ，２６ａと２２ａ，２７ａである。これに相応して円４１ａの直径は保
持体２２ａと２６ａとの間もしくは保持体２３ａと２７ａとの間の間隔に相応し
ている。
【００４８】 図３に示されたプロセスステーション８０Ａから８０ＨはＣＤにニス掛けする
ニス掛けステーション８０Ａから８０Ｄであるか又は縁掃除ステーション８０Ｅ
から８０Ｈである。ニス掛けステーション８０Ａから８０Ｄはターンテーブルと
旋回可能なニス掛けノズルと処理しようとするＣＤを受容する、それぞれ受容中
心点８１Ａから８１Ｈを有する受容体とを有している。縁掃除ステーション８０
Ｅから８０Ｈはターンテーブルと縁掻取部材と受容中心点８１Ｅから８１Ｈを有
する受容体を有している。
【００４９】 プロセスステーション８０Ａから８０Ｈの各受容中心点８１Ａから８１Ｈは円
４１ａの上に配置されかつ対を成して直径方向で向き合って円４１ａの上に位置
している。この場合、前記対偶内でのプロセスステーションは同じタイプのもの
である。
【００５０】 さらに円４１ａにおいては同じ形式のプロセスステーションが隣り合って配置
されかつ１つの共通の駆動装置を介して駆動される。しかし前記プロセスステー
ションに別個の駆動装置が設けられていることもできる。
【００５１】 以下、第１実施例による前記装置２の運転形式について短く記載する。
【００５２】 プロセスステーションの上にはすでに処理されたＣＤがある。これらのＣＤは
ニス掛けステーション６Ａ，６ＣにてコーティングされかつＣＤの縁は縁掃除装
置にて掃除されている。
【００５３】 操作装置４の半径方向のアームにおける受容体４２から４７は、ＣＤの処理の
間、中間ステーションに位置している。つまり、ＣＤは隣り合ったプロセスステ
ーションの間に位置している。これにより操作装置４，５はプロセスステーショ
ンの上に受容体４２から４７が位置せしめられないように位置している。これは
図１と関連して述べれば、操作装置４，５が図示の位置からα／２＝３０°外へ
回動させられたことを意味する。
【００５４】 搬送ベルトの保持体には偏向端部１５にて供給ステーションによって処理しよ
うとするＣＤが供給される。供給過程のあとでは円４１と６８の上に位置せしめ
られる搬送ベルト１３の保持体だけにＣＤが供給されるようにしたい。図１の設
備においてはこれは、まず１つの保持体に偏向端部１５にて供給ステーションに
よってＣＤが供給され、次の保持体にはＣＤが供給されず、次の２つの保持体に
再びＣＤが供給され、もう１度１つの保持体にＣＤが供給されかつ最終にさらに
１つの保持体に処理しようとするＣＤが供給される。搬送ベルトはこのために常
に１つの間隔ｄだけ、最終的にＣＤが供給されたすべての保持体が１つの円４１
又は８８の上に配置されるまで送られる。図１においてはこれは保持体２２，２
４，２５，２７である。
【００５５】 保持体にＣＤを供給する間、すでに処理されたＣＤは進行した作業サイクルか
ら偏向端部１６にて排出ステーションによって搬送ベルトから取出される。
【００５６】 ＣＤの供給された保持体２２，２４，２５，２７が円４１もしくは６６の上に
配置されると、操作装置４と５は図１に示された位置へ回動させられる。この位
置にて受容体４２から４７は受容中心点６０Ａから６０Ｃの上に配置されるか又
は保持体２２と２４の上に配置される。これに相応することは設備１の操作装置
５と４つのプロセスステーション７Ａから７Ｃと搬送ベルト１３とから成る第２
のグループにも当嵌まる。
【００５７】 この位置では受容体４２から４７はＣＤを掴むために下降させられ、次いで再
び上昇させられる。この場合、未処理のＣＤは保持体によりかつ処理済みのＣＤ
はプロセスステーションにより同時に受取られかつ一緒に持上げられる。
【００５８】 受取られたＣＤと一緒に操作装置４は時計回り方向へα＝６０゜の角度だけ回
動させられる。この場合、例えば保持体２２によって受取られた未処理のＣＤは
プロセスステーション６Ａの受容中心点６０Ａにかつニス掛けステーション６Ａ
により受容されたＣＤは縁掃除ステーション６Ｂに搬送される等。
【００５９】 新しい位置で受容体は下降させられ、ＣＤをプロセスステーションの受容中心
点の上又は搬送ベルト１３の保持体の上へ置かれる。
【００６０】 ＣＤが保持体及びプロセスステーションの上に置かれたあとで、操作装置４は
再び中間もしくはパーク位置へ回動させられ、この中間もしくはパーク位置で操
作装置のアーム４８から５３、ひいては受容体は隣り合ったプロセスステーショ
ンの間に配置される。これは第２の操作装置５とその受容体にも当嵌まる。
【００６１】 ニス掛け及び縁掃除ステーションにてＣＤを加工する間、搬送ベルト１３から
ＣＤは取り去られ、すでに記述したように新たに処理されるＣＤが供給される。
【００６２】 図２の設備１ｂは、第３の操作装置と４つの適当なプロセスステーションから
成る第３のグループが延長された搬送装置３ｂに沿って配置されている点で、図
１の設備とは異なっている。
【００６３】 これによって図１の供給及び排出装置に対し、図３の供給及び排出装置の運転
に際しては、相違が生じる。搬送ベルトの保持体には、偏向端部１５ｂにおける
供給ステーションによってＣＤが供給される。これは、各グループの共通の円上
に配置される、ＣＤの供給された２つの保持体の間に２つの保持体が空のままで
あり、この保持体が搬送ベルトにＣＤが供給された後に操作装置の下に位置する
ように行なわれる。したがって第１の保持体にＣＤが供給されたあとで、２つの
保持体が空に保たれ、次いで再び２つの保持体にＣＤが供給され、そのあとで再
び２つの保持体が空に保たれる等となる。操作装置の受容体によってＣＤを受取
りかつ載置するためには、搬送ベルト１３ｂが図２に示された位置に位置せしめ
られる。この場合、ＣＤの供給された保持体は操作装置の前記各円上に配置され
ている。
【００６４】 次いで図１の設備の運転形式と関連して記述したように３つの操作装置がＣＤ
をプロセスステーションにかつ保持体に搬送するために制御される。
【００６５】 図３の設備１ａでは本発明の思想は１つの操作装置４ａのために全部で１２の
受容体４００ａから４１１ａが設けられることで展開されている。図３に示され
た位置で受容体によって同時に４つの未処理のＣＤが保持体２２ａ，２７ａ，２
３ａと２６ａとプロセスステーション８０Ａから８０Ｈの受容中心点８１Ａから
８１Ｈまでとから受取られる。ＣＤを持上げたあとで操作装置４ａは２α＝６０
゜の角度だけ、つまり前記円４１ａの上の２つの隣り合った受容体の間の２倍の
角度間隔だけ回動させられる。これによって同時に全部で４つのＣＤがニス掛け
ステーション８０Ａから８０Ｄへ、４つのＣＤが縁掃除ステーション８０Ｅから
８０Ｈへかつ４つの処理済みのＣＤが保持体２２ａ，２７ａ，２３ａと２６ａへ
供給される。ＣＤを置いたあとで操作装置４ａは先きの実施例の場合のように中
間位置へ回動させられる。この中間位置では受容体はプロセスステーションもし
くは保持体の間もしくはプレーステーションと保持体との間に配置されている。
次いで処理済みのＣＤは放出ステーションへ搬送され、保持体には供給ステーシ
ョンで新しく処理されるＣＤが供給されかつＣＤがプロセスステーションで処理
される。
【００６６】 本発明は有利な実施例に基づき記述されているが、これに限定されるものでは
ない。
【００６７】 例えば図１と図２の設備は操作装置４と５に似た操作装置と適当な数のプロセ
スステーションから成る別のグループだけ拡大することが直線的な搬送装置の適
当な延長で行なわれることもできる。この場合には各前記円の直径が搬送ベルト
１３，１３ａもしくは１３ｂの上にある隣り合った保持体の間隔ｄに対して適当
な比例関係にあり、相応する前記円の上に配置されることのできる保持体にだけ
ＣＤが供給されるように考慮する必要がある。さらにＣＤの代りに他の基板を加
工するか又は直線的な搬送装置を搬送ベルト１３，１３ａもしくは１３ｂとは別
のものとして実現することもできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 基板を供給しかつ排出する装置を備えた設備の第１実施例の平面図。
【図２】 基板を供給しかつ排出する装置を備えた設備の第２実施例の平面図。
【図３】 基板を供給しかつ排出する装置を備えた設備の第３実施例の平面図。
【符号の説明】
１ 設備、 ２ 供給及び排出装置、 ３ 搬送装置、 ４，５ 操作装置、
１３ 搬送ベルト、 １５，１６ 偏向端部、 １７ アイドリングローラ、
１８ 駆動ローラ、 １９ 駆動装置、 ２１ 保持体
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１３年１０月１８日（２００１．１０．１８）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ユルゲン カリス ドイツ連邦共和国 ミューラッカー ヒン デンブルクシュトラーセ 49／１ Ｆターム(参考） 5F031 CA01 FA12 GA51 GA54 LA08 LA11 MA21

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板を供給しかつ排出するための装置（１；１ａ；１ｂ）で
    あって、基板を直線的に搬送するための搬送装置（３；３ａ；３ｂ）と基板を搬
    送装置（３；３ａ；３ｂ）と少なくとも１つのプロセスステーション（６Ａから
    Ｄ；７ＡからＤ；８０ＡからＨ）との間で搬送するための少なくとも１つの回転
    可能な操作装置（４，５；４ａ）とを有している形式のものにおいて、搬送装置
    （３；３ａ；３ｂ）が少なくとも２つのプロセスステーション（６ＡからＤ；７
    ＡからＤ；８０ＡからＨ）の間にかつ少なくとも１つの操作装置（４，５；４ａ
    ）が搬送装置（３；３ａ；３ｂ）の上方に配置されていることを特徴とする、基
    板を供給しかつ排出する装置。
  2. 【請求項２】 操作装置（４，５；４ａ）の回転点（４０，６５；４ａ）が
    搬送装置（３；３ａ；３ｂ）の中心軸線（２０；２０ｂ；２０ａ）の上に位置し
    ている、請求項１記載の装置。
  3. 【請求項３】 操作装置（４，５；４ａ）が１つの円（４１，６６；４１ａ
    ）の上に配置された複数の受容体（４２から４７；４００ａから４１１ａ）を基
    板のために有している、請求項１又は２記載の装置。
  4. 【請求項４】 受容体（４２から４７；４００ａから４１１ａ）が前記円（
    ４１，６６；４１ａ）の上で等間隔を有している、請求項３記載の装置。
  5. 【請求項５】 受容体（４２から４７；４００ａから４１１ａ）が操作装置
    （４，５；４ａ）の半径方向のアーム（４８から５３；４２０から４３１）に配
    置されている、請求項３又は４記載の装置。
  6. 【請求項６】 搬送装置（３；３ａ；３ｂ）が搬送ベルト（１３；１３ａ；
    １３ｂ）を有している、請求項１から５までのいずれか１項記載の装置。
  7. 【請求項７】 搬送ベルト（１３；１３ａ；１３ｂ）が供給ステーションと
    排出ステーションとの間に延在している、請求項６記載の装置。
  8. 【請求項８】 搬送ベルト（１３；１３ａ；１３ｂ）が基板のための保持体
    （２１から２８；２１ａから２８ａ）を有している、請求項６又は７記載の装置
    。
  9. 【請求項９】 保持体（２１から２８；２１ａから２８ａ）が搬送ベルト（
    １３；１３ａ；１３ｂ）の運動方向で等間隔をおいて配置されている、請求項８
    記載の装置。
  10. 【請求項１０】 保持体（２１から２８）が搬送ベルト（１３；１３ｂ）の
    中心軸線（２０；２０ａ；２０ｂ）の上に配置されている、請求項８又は９記載
    の装置。
  11. 【請求項１１】 少なくとも２つの保持体（２１ａから２８ｂ）が搬送ベル
    ト（１３ａ）の中心軸線（２０ａ）に対し対称的に配置されている、請求項８又
    は９記載の装置。
  12. 【請求項１２】 少なくとも２つの保持体（２１から２８；２１ａから２８
    ａ）が基板の供給及び排出のために１つの円（４１，６６；４１ａ）の上に配置
    されている、請求項１から１１までのいずれか１項記載の装置。
  13. 【請求項１３】 プロセスステーション（６ＡからＤ；８０ＡからＨ）が前
    記円（４１；４１ａ）の上に配置されている、請求項３記載の装置。
  14. 【請求項１４】 プロセスステーション（６ＡからＤ；７ＡからＤ；８０Ａ
    からＨ）が対偶を成して対角線方向で向き合って前記円（４１；６６；４１ａ）
    上に配置されている、請求項１２又は１３記載の装置。
  15. 【請求項１５】 プロセスステーション（６ＡからＤ；７ＡからＤ；８０Ａ
    からＨ）が前記対偶内で同タイプである、請求項１４記載の装置。
  16. 【請求項１６】 １つの円（４１ａ）の上で隣り合って配置されたプロセス
    ステーション（８０ＡからＨ）が同じ駆動装置で駆動される、請求項１から１５
    までのいずれか１項記載の装置。
  17. 【請求項１７】 操作装置（４；４ａ）の受容体（４２から４７，４００ａ
    から４１１ａ）の数が前記円（４１；４１ａ）の上に配置された保持体（２２，
    ２４；２２ａ，２３ａ，２６ａ，２７ａ）とプロセスステーション（６ＡからＤ
    ；８０ＡからＨ）との数に相当している、請求項３から１６までのいずれか１項
    記載の装置。
  18. 【請求項１８】 供給及び排出に際してすべての受容体（４２から４７；４
    ００ａから４１１ａ）が搬送装置（３；３ａ；３ｂ）の保持体（２２，２４，２
    ５，２７；２２ａ，２３ａ，２６ａ，２７ａ）の上に又はプロセスステーション
    （６ＡからＤ；７ＡからＤ；８０ＡからＨ）の受容中心点の上に配置されている
    、請求項１７記載の装置。
  19. 【請求項１９】 受容体（４２から４７；４００ａから４１１ａ）を同時に
    開閉するための制御装置を有している、請求項１から１８までのいずれか１項記
    載の装置。
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